KR101640693B1 - 플라스틱 기판들을 처리하기 위한 방법 및 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치 - Google Patents

플라스틱 기판들을 처리하기 위한 방법 및 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법에 관한 것으로, 처리 용액의 탄산염 화합물들의 농도는, 동결 석출 및 후속 여과에 의한 처리 용액으로부터의 탄산염 화합물들의 제거에 의해서 200 g/ℓ 미만의 값으로 설정되고, 처리 용액은 과망간산 나트륨을 포함한다. 또한, 본 발명은, 이러한 방법의 실시를 위해서 처리 용액에 포함된 탄산염 화합물들의 농도를 감소시킴으로써 플라스틱 부품들을 처리 및/또는 에칭하기 위해 이용되는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치에 관한 것으로, 장치는 처리 용액이 재생되게 되는 적어도 하나의 냉각 탱크를 포함하고, 처리 용액으로부터 탄산염 화합물들을 분리하기 위한 하류의 필터 장치를 가지고; 그리고 추가적으로 본 발명은 이러한 방법을 실시하기 위한 이러한 장치의 용도에 관한 것이다.

Description

플라스틱 기판들을 처리하기 위한 방법 및 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치{METHOD FOR TREATING OF PLASTIC SUBSTRATES AND A DEVICE FOR AN AT LEAST PARTIAL REGENERATION OF A TREATMENT SOLUTION}
본 발명은, 방법 독립 청구항 1 의 특징들을 갖는 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 기판들, 특히 인쇄회로기판들 및 인쇄 회로 호일들을 처리, 특히 에칭하기 위한 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 장치 독립 청구항 6 의 특징들을 갖는, 플라스틱 부품들, 특히 인쇄회로기판들 및 인쇄 회로 호일들을 처리 및/또는 에칭하기 위해서 이용되는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치에 관한 것이다.
과망간산염을 포함하는 용액으로 플라스틱 성형 부품들 또는, 특히 인쇄회로기판들 또는 인쇄 회로 호일들과 같은 플라스틱 기판들을 처리하거나 또는 에칭하는 것은 종종 기판의 보어들 또는 표면들의 금속화를 위한 예비 단계로서 실현된다. 따라서, 기판들은, 수평 방향 이송부를 갖는 터널 기계 또는 침지 기계의 처리 탱크에서 적합한 처리 용액과 접촉되며, 용액의 온도는 50 ℃ 내지 거의 100 ℃ 일 수 있다.
EP 1 657 324 B1 은 에칭 용액으로 에칭함으로써 절연 또는 비전도성 기판들의 금속화를 위한 방법을 개시하고, 기판의 표면의 조면화 (roughening) 및 금속화를 위한 농도, 온도 및 시간이 제어된다.
이러한 처리 용액은 더 긴 기간 동안 이용될 때 처리 용액의 처리 특성들을 잃기 때문에, 처리 용액은 정기적으로 보충되거나 또는 전부 또는 부분적으로 교체되어야 하고, 이것은 결국 큰 비용이 들게 된다.
본 발명의 제 1 목적은, 처리 용액의 연장된 이용을 가능하게 하는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액을 이용하여 플라스틱 기판들, 특히 인쇄회로기판들 및 인쇄 회로 호일들을 처리, 특히 에칭하기 위한 방법을 제공하는 것이다. 제 2 목적은 방법의 목적을 달성하기 위해서 처리 용액의 효과적이고 비용 절약적인 재생을 위한 장치를 제공하는 것이다.
이 목적들은 독립 청구항들의 주제물에 의해서 달성될 수 있다. 본 발명의 유리하고 바람직한 특징들은 종속 청구항들로부터 기원된다. 언급된 제 1 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 기판들, 예를 들어 플라스틱 성형 부품들 및 특히 인쇄회로기판들 및 인쇄 회로 호일들을 처리, 특히 에칭하기 위한 방법을 제안한다. 탄산 나트륨 (Na2CO3) 에 기초된, 탄산염의 농도는 처리 용액으로부터 탄산염 화합물들의 제거에 의해서 용해된 형태로 처리 용액의 탄산염 화합물들의 바람직한 값으로 설정되는 것이 이 방법에 의해서 의도된다. 용해된 탄산염 화합물들은 여기서 동결 석출 (freezing out) 에 의해서 고체 형태로 전환되고, 후속하여 여과에 의해서 처리 용액으로부터 제거된다. 본 발명과 관련하여 여과는 용액으로부터 고체 입자들이 제거되는 프로세스로서 이해되어야 한다.
원하는 값은 본 발명에서 200 g/ℓ미만의 값으로 설정되고, 바람직하게는 본 방법을 위한 처리 용액의 탄산염 화합물들의 농도는 30 내지 150 g/ℓ 의 값으로 설정되고, 그리고 더 바람직하게는 처리 용액의 탄산염 화합물들의 농도는 50 내지 100 g/ℓ의 값으로 설정된다. 탄산염은 플라스틱 기판과 처리 용액의 반응으로부터의 반응 생성물이다.
탄산염 화합물들의 동결 석출은, 처리 용액을 전체적으로 또는 부분적으로 냉각 탱크로 이송하고 후속하여 냉각 탱크의 처리 용액을 냉각함으로써 실현될 수 있다. 냉각되고 동결 석출된 탄산염을 포함하는 처리 용액의 냉각 탱크로부터 하류의 필터 장치로의 후속 이송은 탄산염이 여과에 의해서 용액으로부터 제거되는 것을 가능하게 한다.
동결 석출 및 후속 여과에 의해서 처리 용액으로부터 탄산염 화합물들을 제거하도록, 처리 용액은 과망간산 나트륨을 포함한다. 처리 용액의 과망간산염의 백분율은 과망간산 나트륨 (Na2MnO4) 의 50 % 초과로 구성된다.
본 발명의 방법에 있어서, 탄산염 화합물들의 동결 석출은, 특히 처리 용액을 -12 내지 +12 ℃, 바람직하게는 -9 내지 +10 ℃, 및 더 바람직하게는 -7 내지 +5 ℃ 의 동결 석출 온도로 냉각함으로써 실행될 수 있다.
탄산염의 제거를 위한 방법은, 예를 들어 50 ℃ 내지 98 ℃ 의 처리 온도를 보이는 재생될 과망간산염 용액이 처리 탱크로부터 냉각 탱크로 이송되는 방식으로 실시될 수 있다. 이것에 의해서 용액은 하나 또는 2 개의 예비 냉각기들을 통해서 지나갈 수 있다. 냉각 탱크에서, 용액은 동결 석출 온도, 즉 0 ℃ 이하의 온도로 냉각되어, 고체 탄산염 결정들이 저온의 결과로서 용액에 형성된다. 동결 석출 온도에 도달된 후, 또한 가능하게는 동결 석출 온도에 도달된 후 어떤 추가 대기 시간 후에, 탄산염 결정들을 갖는 용액이 완전히 또는 바람직하게는 부분적으로 냉각 탱크로부터 여과 장치로 이동된다. 여기서, 결정들은 여과 제거되고, 가능하게는 필터에 가해지는 부압에 의해서 지지된다. 여과액은 처리 탱크로 다시 이동될 수 있고, 여과액은 예비 냉각기들 중 하나의 예비 냉각기를 통해서 지나갈 수 있어 여과액은 다시 자동적으로 가열될 수 있다. 탄산염 결정들에 의해서 형성된 필터 케이크는 필터로부터 세정되어 유출물로 이송된다.
본 방법의 다른 유리한 실시형태는, 앞에서 설명된 방법에 부가하여, 예를 들어 WO 01 90 442 A1 에 설명된 바와 같이, 처리 용액의 전해 과망간산염 재생이 실현되는 것을 포함한다. 플라스틱 기판과 처리 탱크의 처리 용액의 과망간산염의 반응으로부터 유발되는 망간산염은 처리 용액을 적합한 전해 셀과 접촉시킴으로써 양극 산화에 의해서 과망간산염으로 다시 전환된다. 특히, 전해 과망간산염 재생에 의한 처리 용액의 특정 탄산염 농도의 설정을 위한 본 발명의 방법들 중 적어도 하나의 방법의 이러한 조합에 의해서, 과망간산염의 재생의 효율이 증가될 수 있고, 처리 용액의 향상된 더 긴 수명이 달성될 수 있다.
본 발명의 제 2 목적은, 청구항에 따른 방법의 실시를 위해서 처리 용액에 포함된 탄산염 화합물들의 농도를 감소시킴으로써 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치를 제공함으로써 달성된다. 따라서, 이 장치는 처리 용액이 재생되게 되는 적어도 하나의 냉각 탱크를 포함하고, 상기 냉각 탱크에 지향된 냉각 장치를 더 포함하고, 처리 용액으로부터 탄산염 화합물들을 분리하기 위한 하류의 필터 장치를 가지고 있다.
여과 장치는 적어도 하나의 필터 탱크 및 하나의 필터, 예를 들어 필터 스트레이너 (strainer) 를 포함할 수 있다. 필터 탱크는 여과 동안에 필터 상에 압력 차이를 증가시켜 이에 의해서 더 빠른 여과를 달성하기 위해서 부압 장치에 연결될 수 있다.
필터 탱크의 필터는 이동가능하게, 예를 들어 기울어질 수 있거나 또는 회전될 수 있어 필터의 세척을 촉진시키도록 배치될 수 있다.
본 발명의 앞 실시형태들 중 하나의 실시형태에 따른 본 발명의 장치는 본 발명의 앞의 방법 실시형태들 중 하나의 방법 실시형태에 따른 방법의 실시를 위해서 적합하다.
이하, 본 발명의 예시적 실시형태들이, 특히 포함된 도면들에 기초하여 본 발명 및 이들의 이점들을 더욱 상세히 보일 것이다. 도면에서 개별 요소들의 서로에 대한 사이즈 비율들은, 일부 형태들은 간략화된 방식으로 도시되는 한편 다른 형태들은 더 좋은 시각화를 제공하기 위해서 다른 요소들에 비해서 확대된 비율로 도시되었기 때문에 현재의 비율들에 대응하지 않는다.
도 1 은 본 발명의 실시형태를 도시하며, 여기서 플라스틱 부품들, 예를 들어 인쇄회로기판들 등을 처리, 예를 들어 에칭하기 위해서 이용되는 처리 용액의 재생을 위한 장치가 제공된다.
도 2 는 도 1 에 따른 장치의 세척 유닛의 개략도를 도시한다.
도 3 은 도 1 및 도 2 에 따른 필터 장치의 부분인 필터 유닛의 개략도를 도시한다.
동일한 참조 부호들은 본 발명의 동일한 요소들 또는 동일한 작동 요소들을 위해서 이용된다. 도시된 실시형태들은 어떻게 본 발명의 장치들 및 방법들이 보일 수도 있는지 단지 예시들을 나타내고, 어떠한 결정적인 제한을 나타내지 않는다.
도 1 의 개략도는 처리 탱크 (14) 의 과망간산염을 포함하는 처리 용액 (12) 의 적어도 부분적인 재생을 위한 본 발명의 장치 (10) 의 실시형태를 도시한다. 처리 탱크 (14) 는 플라스틱 기판들의 처리, 예를 들어 에칭을 위해서 이용된다. 장치 (10) 는 처리 용액 (12) 의 탄산염 화합물들의 농도를 감소시킬 것이다. 장치 (10) 는 냉각 탱크 (16) 및 하류의 필터 장치 (20) 를 필수 요소들로서 포함한다. 재생될 처리 용액 (12) 은 처리 탱크 (14) 로부터 냉각 탱크 (16) 로 이송되고, 냉각 장치 (18) 는 냉각 탱크 (16) 에 할당된다. 냉각 장치 (18) 는 유동하는 냉매를 갖는 열 교환기들 중 하나의 열 교환기, 더욱 바람직하게는 냉각 탱크 (16) 둘레의 냉각 재킷 (19) 을 통해서 냉기를 냉각 탱크 (16) 의 처리 용액에 방출한다. 냉각 탱크 (16) 의 배수부 (35) 는, 처리 용액으로부터 분리될 고체 탄산염 화합물들을 분리하기 위한 필터 장치 (20) 에 연결된다.
예를 들어, 열 교환기로서 구성될 수 있는 예비 냉각기 (22) 는 처리 탱크 (14) 와 냉각 탱크 (16) 사이에 설치될 수 있어, 냉각되고 재생된 처리 용액 (12), 즉 필터 장치 (20) 의 여과액 또는 세정수가, 냉각 탱크 (16) 로 안내되는 재생될 처리 용액 (12) 의 예비 냉각을 위해서 이용될 수 있다.
여과 장치 (20) 는 처리 용액으로부터 고체 부분들의 분리를 촉진하는 부압 유닛 (24) 에 연결될 수 있다. 만약 여과 프로세스가 더 빠른 방식으로 일어난다면, 상당히 더 많은 양의 탄산염 결정들이 여과될 수 있다는 점이 보여졌다. 부압 유닛 (24) 의 결과로서, 상당히 더 빠른 여과를 가능하게 하는 상당히 더 큰 압력 차이가 여과를 위한 필터 상에 존재한다. 여과되어 분리된 탄산염 결정들을 포함하는 필터 케이크는 플러싱 장치 (28) 를 이용하여 세정되어 점착성 과망간산염을 제거할 수 있다. 결과적인 세정수 용액은 처리 탱크 (14) 로 이송될 수 있다. 필터 케이크는 플러싱 장치 (28) 에 의해서 필터로부터 세정되는 한편 결과적인 용액 또는 슬러지는 배수 파이프 (26) 를 통해서, 예를 들어 배수 시스템에 이송된다. 필터 장치 (20) 에 누적되는 여과액, 즉 이렇게 재생된 처리 용액은 바람직하게는 처리 탱크 (14) 에 다시 이송된다. 따라서, 재생된 처리 용액은 예비 냉각기 (22) 를 통해서 유동되어, 이 재생된 처리 용액은 다시 자동적으로 가열되고, 처리 탱크 (14) 로부터 냉각 탱크로 이송되는 처리 용액은 냉각된다.
바람직하게는, 냉각 탱크 (16) 는, 예를 들어, 수직 바들이 있는 회전 교반기 날들을 갖는, 예를 들어 모터 장착형 교반 장치 (32) 를 구비하고, 상기 회전 교반기 날들은 탱크의 내측벽 상에 형성되는 탄산염 시드 결정들을 상기 벽으로부터 탈착하고 이들을 용액에 분산시키도록 탱크의 내측 벽을 따라서 근접하게 전형적으로 이동된다. 바람직하게는, 교반기 날들은 냉각 탱크 (16) 의 깔때기 형상 바닥 (34) 에서 연장되고 (여기서는 도시되지 않음), 벽들 상에 퇴적된 처리 용액 (12) 의 모든 고형 부분들을 다소 포획할 수 있기 위해서 바닥 안으로 연장된다. 바들과 벽 사이의 거리는, 예를 들어 20 mm 미만, 특히 5 mm 미만, 바람직하게는 약 1 mm 일 수 있다. 교반 장치는 냉각 탱크의 배수부 (35) 안으로 연장되어 이 벽으로부터 탄산염 결정들을 제거할 수 있도록 할 수 있다.
처리 용액 (12) 의 재생은 사용 기간의 연장을 제공하는 한편 처리 용액 (12) 의 보통의 수명은 일반적으로 상대적으로 짧다. 이것은, 에칭 거동에 대해서 부정적인 영향을 줄 수 있는 용액 중의 탄산염 화합물들의 형성으로부터 크게 좌우된다. 이 이유 때문에, 본 발명의 재생 장치 (10) 는 탄산염 농도들을 바람직하게는 200 g/ℓ 미만, 특히 30 내지 150 g/ℓ 값으로 감소시키는 데 이용되고, 50 내지 100 g/ℓ 사이의 농도 값들 (처리 용액 1 리터 당 탄산나트륨의 그램으로서 측정됨) 은 최적의 결과들을 얻기 위해서 더욱 선호된다. 처리 용액 (12) 의 원하는 농도 범위를 설정하기 위해서, 에칭 프로세스에 의해서 형성된 탄산염은 장치 (10) 를 이용하여 용액 (12) 으로부터 제거된다. 이것은 냉각 탱크 (16) 의 처리 용액 (12) 으로부터 탄산염을 동결 석출 (freezing out) 함으로써 행해지고, 이에 의해서 탄산염은 용해된 상태로부터 비용해된 형태로 전환된다. 경제적 이유 때문에, 가능한 적은 과망간산염이 비용해된 형태로 전환되어야 한다. 과망간산 나트륨을 이용함으로써, 적합한 동결 석출 온도가 선택될 수 있고, 여기서 탄산염은 너무 많은 양의 과망간산염을 동결 석출함 없이 동결 석출될 수 있다.
필터 장치 (20) 는, 동결 석출된 탄산염의 가능한 용해와 관련하여 동결 석출된 탄산염의 빠른 분리를 위해서 이용된다.
냉각 탱크 (16) 의 온도는, 탄산염 결정들이 처리용액에서 또는 내측 벽에서 형성되도록 설정될 것이다. 탄산염을 동결 석출하기 위해서, -12 내지 +12 ℃, 특히 -9 내지 +10 ℃, 그리고 바람직하게는 -7 내지 +5 ℃ 의 용액 온도가 설정된다. 냉각 액체의 온도는 각각 더 낮을 것이다.
냉각 탱크 (16) 로 이송되는 처리 용액의 양은, 이미 형성된 탄산염 시드 결정들의 역용해를 방지하기 위해서 탄산염을 동결 석출하기 위해 요구되는 온도들이 초과되지 않도록 제공될 것이며, 이렇지 않은 경우에 역용해는 동결 석출된 탄산염의 생성율을 상당히 감소시킬것이다. 처리 용액 일부의 냉각 탱크 (16) 로의 이송 및 냉각되고 동결 석출된 탄산염을 포함하는 처리 용액의 냉각 탱크 (16) 로부터 하류의 필터 장치 (20) 로의 이송은, 냉각 탱크에서 처리 용액의 온도가 동결 석출 온도를 초과하지 않도록 행해질 수 있다. 또한, 선호에 의해서, 예를 들어 50 ℓ 초과의 냉각 탱크 (16) 의 작동 체적에 기초한, 예를 들어 10 ℓ 미만인, 냉각 탱크 (16) 의 처리 용액의 부분 체적들로부터의 배출 및 공급이 있다. 대응하는 부분 체적들은 공급 펌프 (21) 및 이송 펌프 (37) 에 의해서 설정되고 이송될 수 있다. 복귀 펌프 (23) 는 탄산이 제거된 재생된 처리 용액 및 세정 용액을 필터 케이크의 세정부로부터 다시 처리 탱크 (14) 로 복귀시키고, 이 용액들은 예비 냉각기 (22) 를 통해서 유동될 수 있다.
도 1 과 비교하여, 도 2 의 개략적 블록 다이어그램은, 필수적으로 필터 장치 (20) 를 포함하는 세척 유닛 (36) 의 추가적 구성의 상세를 도시한다. 필터 장치 (20) 는 필터 탱크 (42) 및, 필터 스트레이너 (56) 와 같은 필터를 필수적으로 포함할 수 있다.
필터링된 탄산염의 높은 수율을 얻기 위해서, 냉각된 처리 용액, 선호에 의해서 냉각 탱크 (16) 중의 처리 용액의 부분 양이 필터 장치 (20) 에 첨가되는 시간으로부터 필터 케이크의 형성의 종료때까지 측정된 가능한 짧은 시간 기간 동안에 여과 프로세스를 실시하는 것이 유리하다는 점이 증명되었다. 여과 프로세스는 따라서 10 분 미만, 바람직하게 200 초 미만 내에 종료된다. 대안적으로는, 필터 장치 (20) 는 또한, 예를 들어 냉각 재킷을 이용하여 냉각될 수 있다. 또한, 따라서 더 긴 여과 시간이 가능하다.
냉각 탱크 (16), 냉각 탱크 (16) 와 필터 장치 (20) 사이의 이송 라인 (38), 및 필터 탱크 (42) 는 열적으로 단열될 수 있다.
향상된 여과 효과 및 분리 효과는 압력 차이를 이용함으로써 얻어질 수 있다. 부압 파이프 (46) 를 통해서, 탱크 (42) 는 부압 유닛 (24) 으로부터의 부압으로 차징될 수 있다.
여과 후에, 필터 케이크는, 세정수 라인 (40) 으로부터 노즐들 (52) (도 3 참조) 을 통하여 도입되는 물, 바람직하게는 10 ℃ 미만의 냉각된 물로 세정될 수 있다. 어떠한 점착성 과망간산염 용액도 이에 의해서 씻겨져 처리 탱크 (14) 로 다시 공급될 수 있다. 세정수는 따라서 부압 또는 진공으로 필터 (56) 를 통해서 흡입될 수 있다. 탄산염 결정들로 구성된 필터 케이크의 여과 프로세스 후에, 필터 (56) 는 노즐들 (52) 을 통하여 물로, 바람직하게는 비냉각된 또는 가열된 물로 세척되고, 탄산화된 용액 또는 슬러지는 배수 파이프 (26) 를 통해서 제거된다.
도 3 의 개략도는 필터 장치 (20) 의 본 발명의 가능한 실시형태를 도시한다. 필터 탱크 (42) 의 상측 영역 둘레에, 필터 탱크 (42) 는 필터 또는 필터 스트레이너 (56) 의 높이에 노즐들 (52) 을 포함한다. 노즐들은 세정수 라인 (40) 으로부터의 물에 의해서 필터 케이크로부터 필터를 세척하거나 필터 케이크를 세정하기 위해서 이용된다. 세정액은 복귀 파이프 (44) 를 통해서 제거된다.
필터 (56) 는 경사질 수 있도록, 예를 들어 수평축 둘레로 회전될 수 있도록 배치될 수 있다. 필터 (56) 는 작동 모드에서 수평 위치에 있고, 세척 목적들을 위해서 경사진 또는 수직 위치로 이동될 수 있다. 또한, 필터는 180˚만큼 경사지거나 또는 회전될 수 있다. 필터 스트레이너 (56) 를 적합하게 세척하기 위해서, 노즐들 (52) 은 수평으로 배치된 스트레이너 (56) 레벨의 위 또는 아래 높이에 있다. 세척 동안에, 필터 스트레이너 (56) 는 경사지거나 또는 회전되고, 상측부 및 하측부에는 세정수가 분무된다.
통기부 (30) 및, 부압 유닛 (24) 의 부압 파이프 (46) 는 탱크 (42) 에서 상측 영역, 그러나 필터의 아래에서 만난다. 부압 유닛 (24) 은 필수적으로 부압 펌프 (59), 부압 탱크 (58) 및 차단 밸브 (57) 로 구성된다.
도 1 이 도시하는 바와 같이, 처리 용액의 어떤 탄산염 농도를 설정하기 위한 장치 (10) 는, 에칭 반응 동안에 생산되는 망간산염의 과망간산염으로의 산화를 위한 전해 재생 장치 (11) 와 결합될 수 있다. 다음으로, 양 재생 장치들은 공급 파이프들 (25, 65) 및 복귀 파이프들 (44, 64) 통해서 처리 탱크 (14) 에 연결될 수 있다.
10 장치 11 전해 재생 장치
12 처리 용액 14 처리 탱크
16 냉각 탱크 18 냉각 장치
19 냉각 재킷 20 필터 장치
21 공급 펌프 22 예비 냉각기
23 복귀 펌프 24 부압 유닛
25 공급 파이프 26 배수 파이프, 폐기부
28 플러싱 장치 30 통기부
32 교반 장치 34 바닥, 깔때기 형상 바닥
35 배수부 36 세척 유닛
37 이송 펌프 38 이송 라인
40 세정수 라인 42 탱크, 필터 탱크
44 복귀 파이프 46 부압 파이프
52 노즐들 56 필터 스트레이너
57 차단 밸브 58 부압 탱크
59 부압 펌프 64 복귀 파이프
65 공급 파이프

Claims (8)

  1. 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법으로서,
    상기 처리 용액의 탄산염 화합물들의 농도는 동결 석출 (freezing out) 및 후속 여과에 의한 상기 처리 용액으로부터의 탄산염 화합물들의 제거에 의해서, 200 g/ℓ 미만의 값으로 설정되고, 상기 처리 용액은 과망간산 나트륨을 포함하는 것을 특징으로 하는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리 용액의 과망간산염의 백분율은 과망간산 나트륨의 50 % 초과로 구성된, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 탄산염 화합물들의 상기 동결 석출은 상기 처리 용액을 -12 내지 +12 ℃ 의 동결 석출 온도로 냉각함으로써 실시되는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리 용액의 일부를 냉각 탱크로 이송하는 것 및 냉각되고 동결 석출된 탄산염을 포함하는 처리 용액을 상기 냉각 탱크로부터 하류의 필터 장치로 이송하는 것은, 상기 냉각 탱크의 상기 처리 용액의 온도가 상기 동결 석출 온도를 넘지 않도록 실시되는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    처리 탱크의 상기 처리 용액의 과망간산염의 플라스틱 기판과의 반응으로부터 생기는 망간산염은, 상기 처리 용액을 전해 셀과 접촉시킴으로써 과망간산염으로 전환되는 것을 특징으로 하는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법.
  6. 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치로서, 제 1 항 내지 제 5 항 중 한 항에 따른 방법의 실시를 위한 상기 처리 용액에 포함된 탄산염 화합물들의 농도를 감소시킴으로써 플라스틱 부품들을 처리 또는 에칭하기 위해 이용되는, 상기 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치에 있어서,
    상기 처리 용액이 재생되게 되는 적어도 하나의 냉각 탱크를 포함하고, 상기 처리 용액으로부터 탄산염 화합물들을 분리하기 위한 하류의 필터 장치를 가지고 있는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 필터 장치는 적어도 하나의 필터 탱크 및 하나의 필터를 포함하고, 상기 필터 탱크는 부압 유닛과 연결되는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치는 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법을 실시하기 위해 사용되고, 상기 처리 용액의 탄산염 화합물들의 농도는 동결 석출 및 후속 여과에 의한 상기 처리 용액으로부터의 탄산염 화합물들의 제거에 의해서, 200 g/ℓ 미만의 값으로 설정되고, 상기 처리 용액은 과망간산 나트륨을 포함하는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치.
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