KR101592848B1 - 감광성 수지 조성물 - Google Patents

감광성 수지 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR101592848B1
KR101592848B1 KR1020150093240A KR20150093240A KR101592848B1 KR 101592848 B1 KR101592848 B1 KR 101592848B1 KR 1020150093240 A KR1020150093240 A KR 1020150093240A KR 20150093240 A KR20150093240 A KR 20150093240A KR 101592848 B1 KR101592848 B1 KR 101592848B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
pattern
resin
group
mol
Prior art date
Application number
KR1020150093240A
Other languages
English (en)
Korean (ko)
Other versions
KR20160003569A (ko
Inventor
조용환
전지민
박한우
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Publication of KR20160003569A publication Critical patent/KR20160003569A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101592848B1 publication Critical patent/KR101592848B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
KR1020150093240A 2014-07-01 2015-06-30 감광성 수지 조성물 KR101592848B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140081871 2014-07-01
KR20140081871 2014-07-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160003569A KR20160003569A (ko) 2016-01-11
KR101592848B1 true KR101592848B1 (ko) 2016-02-11

Family

ID=55169674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150093240A KR101592848B1 (ko) 2014-07-01 2015-06-30 감광성 수지 조성물

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6587436B2 (zh)
KR (1) KR101592848B1 (zh)
CN (1) CN105319850B (zh)
TW (1) TWI647532B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI633387B (zh) * 2016-05-24 2018-08-21 東友精細化工有限公司 感光性樹脂組合物、由其製造的光固化圖案及圖像顯示裝置

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102157642B1 (ko) * 2015-02-04 2020-09-18 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102031215B1 (ko) * 2016-01-14 2019-10-11 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물, 이로 형성되는 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20170109264A (ko) * 2016-03-21 2017-09-29 동우 화인켐 주식회사 화학증폭형 포지티브 감광형 유기절연막 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막
KR102005346B1 (ko) * 2016-05-24 2019-07-30 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 광경화 패턴
KR102464914B1 (ko) * 2017-11-22 2022-11-09 동우 화인켐 주식회사 광변환 수지 조성물 및 이를 포함하는 광변환 적층기재, 이를 이용한 화상표시장치
KR102410852B1 (ko) * 2018-03-22 2022-06-17 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
CN110412830B (zh) * 2018-04-27 2023-02-17 东友精细化工有限公司 感光性树脂组合物、光固化图案及图像显示装置
KR102132074B1 (ko) * 2018-07-13 2020-07-09 존스미디어 주식회사 광개시 전환율이 증대된 uv 코팅 조성물 및 이의 제조방법
JP7469852B2 (ja) 2019-04-22 2024-04-17 東友ファインケム株式会社 タッチセンサパネル及び光学積層体
CN112698548B (zh) * 2019-10-23 2023-12-08 乐凯华光印刷科技有限公司 一种长印程uv-ctp版及其制备方法和应用方法
CN111025847B (zh) * 2019-12-31 2023-07-14 阜阳欣奕华材料科技有限公司 一种感光树脂组合物、黑色矩阵和显示设备
KR102664597B1 (ko) * 2020-01-22 2024-05-10 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 경화막 및 블랙 매트릭스
KR20210104956A (ko) * 2020-02-17 2021-08-26 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스를 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302508B1 (ko) 2006-02-03 2013-09-02 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법
KR101391224B1 (ko) 2013-05-28 2014-05-02 동우 화인켐 주식회사 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4864375B2 (ja) * 2004-08-09 2012-02-01 ドンジン セミケム カンパニー リミテッド スペーサ用感光性樹脂組成物、スペーサ及び液晶表示素子
JP4315892B2 (ja) * 2004-11-25 2009-08-19 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性ドライフィルム
KR101313538B1 (ko) * 2006-04-06 2013-10-01 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물
JP5051365B2 (ja) * 2006-08-24 2012-10-17 Jsr株式会社 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
KR101430533B1 (ko) * 2008-01-04 2014-08-22 솔브레인 주식회사 네거티브 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 어레이기판의 제조 방법
JP2010039481A (ja) * 2008-07-11 2010-02-18 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP5660774B2 (ja) * 2009-11-04 2015-01-28 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物、塗膜、パターン及び表示装置
KR20120021488A (ko) * 2010-08-03 2012-03-09 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물
TWI467336B (zh) * 2012-10-08 2015-01-01 Everlight Chem Ind Corp 黑色感光樹脂組成物及使用其之遮光層
JP2012159566A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP2012159567A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP5762834B2 (ja) * 2011-06-14 2015-08-12 株式会社ダイセル 脂環式エポキシ基含有硬化性樹脂組成物、その製法及びその硬化物
WO2013168675A1 (ja) * 2012-05-07 2013-11-14 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302508B1 (ko) 2006-02-03 2013-09-02 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법
KR101391224B1 (ko) 2013-05-28 2014-05-02 동우 화인켐 주식회사 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI633387B (zh) * 2016-05-24 2018-08-21 東友精細化工有限公司 感光性樹脂組合物、由其製造的光固化圖案及圖像顯示裝置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI647532B (zh) 2019-01-11
TW201602726A (zh) 2016-01-16
JP6587436B2 (ja) 2019-10-09
CN105319850A (zh) 2016-02-10
JP2016014877A (ja) 2016-01-28
CN105319850B (zh) 2019-10-11
KR20160003569A (ko) 2016-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101592848B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR101564872B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR101609234B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR101611836B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR101813911B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR20160029339A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20170018679A (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR101612673B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR20160111805A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20160091648A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102157642B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20160091646A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR101592849B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR102173148B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20160020300A (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR102120973B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR102145934B1 (ko) 광경화 패턴의 형성 방법
KR20170077458A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴
KR101494733B1 (ko) 포토레지스트 패턴 형성 방법
KR20130070006A (ko) 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서
KR20170027005A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴
KR20150109939A (ko) 감광성 수지 조성물
KR20170003064A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20160061633A (ko) 감광성 수지 조성물
KR102046421B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181211

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191210

Year of fee payment: 5