KR101315557B1 - 화합물, 조성물, 위상차판, 타원-편광판 및 액정디스플레이 장치 - Google Patents

화합물, 조성물, 위상차판, 타원-편광판 및 액정디스플레이 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101315557B1
KR101315557B1 KR1020077023425A KR20077023425A KR101315557B1 KR 101315557 B1 KR101315557 B1 KR 101315557B1 KR 1020077023425 A KR1020077023425 A KR 1020077023425A KR 20077023425 A KR20077023425 A KR 20077023425A KR 101315557 B1 KR101315557 B1 KR 101315557B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
liquid crystal
compound
formula
atom
Prior art date
Application number
KR1020077023425A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070112847A (ko
Inventor
사토시 다나카
마코토 다카하시
히데유키 니시카와
이치로 나가타
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20070112847A publication Critical patent/KR20070112847A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101315557B1 publication Critical patent/KR101315557B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D271/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two nitrogen atoms and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
    • C07D271/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two nitrogen atoms and one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D271/06—1,2,4-Oxadiazoles; Hydrogenated 1,2,4-oxadiazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3441—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom
    • C09K19/3477—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom the heterocyclic ring being a five-membered aromatic ring containing at least one nitrogen atom
    • C09K19/348—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom the heterocyclic ring being a five-membered aromatic ring containing at least one nitrogen atom containing at least two nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3491—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
    • C09K19/3405—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a five-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0425—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a specific unit that results in a functional effect
    • C09K2019/0429—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a specific unit that results in a functional effect the specific unit being a carbocyclic or heterocyclic discotic unit
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
    • C09K2019/3416—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a four-membered ring, e.g. oxetane
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/031—Polarizer or dye
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

하기 화학식 (DI)로 나타내는, 위상차판의 제조에 유용한 화합물:
Figure 112007073223581-pct00104
[식 중, Y11 내지 Y13 은 메틴 또는 질소를 나타내고; R11 내지 R13 은 하기 화학식 (DI-A)의 기 등을 나타냄:
Figure 112007073223581-pct00105
(식 중, A11 내지 A16 은 메틴 또는 질소를 나타내고; X1 은 산소, 황, 메틸렌 또는 이미노를 나타내고; L11 은 -0-, -C(=O)-, -0-C0-, -CO-O-, -0-C0-0-, -S-, -NH-, -SO2-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 를 나타내고; L12 는 2가 연결기를 나타내 고; Q11 은 중합성 기 또는 수소를 나타냄)].

Description

화합물, 조성물, 위상차판, 타원-편광판 및 액정 디스플레이 장치 {COMPOUND, COMPOSITION, RETARDATION PLATE, ELLIPTICALLY-POLARIZING PLATE AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY DEVICE}
본 발명은 위상차판 등의 제조에 유용한 화합물, 및 상기 화합물을 함유한 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 조성물로 형성된 광학-이방성 층을 갖는 위상차판, 및 상기 위상차판을 포함한 타원-편광판에 관한 것이다.
원반형 액정 화합물은 광학-보상 시트용 재료로서 매우 중요한 화합물임이 알려져 있다. 원반형 액정성을 나타내는 액정 화합물로서 2,3,6,7,10,11-헥사{4-(4-아크릴로일옥시헥실옥시)벤조일옥시}트리페닐렌이 개시되어 있다 (JP-A 7-306317).
광학-보상 시트의 위상차 (Δnd) 는 상기 시트로 보상하고자 하는 액정 셀의 광학 특성에 의존하여 결정된다. 위상차 (Δnd) 는 광학-이방성 층의 굴절도 이방성 (Δn) 과 상기 광학-이방성 층의 두께 (d) 의 곱이다. 광학-이방성 층의 굴절도 이방성 (Δn) 이 큰 경우, 상기 층은 두께 (d) 가 얇은 경우에도 액정 셀의 보상에 효과적일 수 있다. 반대로, 그의 굴절도 이방성 (Δn) 이 작은 경우, 층의 두께 (d) 가 커야하고, 그 결과, 액정 화합물의 배향에 결함이 쉽게 발생 할 수 있다. Δn 이 높은 화합물이 목적된다.
본 발명의 액정 화합물의 분자 구조와 유사한 분자 구조를 갖는 화합물이 [Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2001, Vol. 370, p. 391]에 기록되어 있다 (JD-2; 비교예 2 참조). 그러나, 상기 골격은, 아래의 실시예에 기재된 바와 같이, 2,3,6,7,10,11-헥사{4-(알킬옥시벤조일옥시}트리페닐렌보다 더 낮은 파장 분산성을 용이하게 얻을 수 없다는 것을 발견하였다.
발명의 개요
이러한 상황 하에서, 본 발명의 목적은 종래의 원반형 액정 화합물이 실현할 수 없었던 높은 Δn 및 낮은 파장 분산성을 충족할 수 있는 화합물을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 상기 화합물을 함유한 액정 조성물, 상기 화합물을 포함하는 박막 필름, 및 위상차판 및 타원-편광판을 제공하는 것이다.
전술한 목적은 하기 수단을 통해 달성될 수 있다:
(1) 하기 화학식 (DI)로 나타내는 화합물:
Figure 112007073223581-pct00001
[화학식 (DI) 중, Y11, Y12 및 Y13 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; R11, R12 및 R13 각각은 독립적으로 하기 화학식 (DI-A), (DI-B) 또는 (DI-C)의 기를 나타냄:
Figure 112007073223581-pct00002
(화학식 (DI-A) 중, A11, A12, A13, A14, A15 및 A16 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; X1 은 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 이미노기를 나타내고; L11 은 -0-, -C(=O)-, -0-C0-, -CO-O-, -0-C0-0-, -S-, -NH-, -SO2-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 를 나타내고; L12 는 -O-, -S-, -C(=0)-, -SO2-, -NH-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2 가 연결기를 나타내고; 전술한 기가 수소 원자를 포함하는 경우, 이때 상기 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있고; Q11 각각은 독립적으로 중합성 기 또는 수소 원자를 나타냄),
Figure 112007073223581-pct00003
(화학식 (DI-B) 중, A21, A22, A23, A24, A25 및 A26 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; X2 는 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 이미노기를 나타내고; L21 은 -0-, -C(=0)-, -0-C0-, -CO-O-, -0-C0-0-, -S-, -NH-,- -SO2-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 를 나타내고; L22 는 -0-, -S-, -C(=0)-, -SO2-, -NH-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2 가 연결기를 나타내고; 전술한 기가 수소 원자를 포함하는 경우, 이때 상기 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있고; Q21 각각은 독립적으로 중합성 기 또는 수소 원자를 나타냄),
Figure 112007073223581-pct00004
(화학식 (DI-C) 중, A31, A32, A33, A34, A35 및 A36 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; X3 은 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 이미노기를 나타내고; L31 은 -0-, -C(=0)-, -0-C0-, -C0-0-, -0-C0-0-, -S-, -NH-, -SO2-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 를 나타내고; L32 는 -0-, -S-, -C(=0)-, -SO2-, -NH-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 연결기를 나타내고; 전술한 기가 수소 원자를 포함하는 경우, 이때 상기 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있고; Q31 각각은 독립적으로 중합성 기 또는 수소 원자를 나타냄)].
(2) 상기 (1)에 있어서, A11, A12, A21, A22, A31 및 A32 가 질소 원자를 나타내는 화합물.
(3) 상기 (1) 또는 (2) 에 있어서, X1, X2 및 X3 이 산소 원자를 나타내는 화합물.
(4) 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, A13, A14, A15, A16, A23, A24, A25, A26, A33, A34, A35 및 A36 이 메틴기를 나타내는 화합물.
(5) 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, R11, R12 및 R13 이 화학식 (DI-A)의 기를 나타내는 화합물.
(6) 상기 (5)에 있어서, L11 이 -0-, -CO-O- 또는 -C≡C- 를 나타내는 화합물.
(7) 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 따른 화합물을 포함하는 조성물.
(8) 하기 화학식 (DII)로 나타내는 화합물을 포함한 조성물로 형성되는 광학-이방성 층 하나 이상을 투명 지지체 상에 포함하는 위상차판:
(DII)
Figure 112007073223581-pct00005
[화학식 (DII) 중, Y1, Y2 및 Y3 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; R1, R2 및 R3 각각은 독립적으로 하기 화학식 (DII-H)의 기를 나타냄:
Figure 112007073223581-pct00006
(화학식 (DII-H) 중, H 는 2가 5-원 고리형 기를 나타내고; Z1 및 Z2 각각은 독립적으로 단일 결합 또는 2가 연결기를 나타내고; A3, A4, A5 및 A6 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; L1 는 -0-, -C(=0)-, -0-C0-, -CO-O-, -0-C0-0-, -S-, -NH-, -SO2-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 를 나타내고; L2 는 -0-, -S-, -C(=0)-, -SO2-, -NH-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 연결기를 나타내고; 전술한 기가 수소 원자를 포함하는 경우, 이때 상기 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있고; Q1 각각은 독립적으로 중합성 기 또는 수소 원자를 나타냄)].
(9) 상기 (8)에 따른 위상차판 및 편광 필름을 포함하는 타원-편광판.
(10) 상기 (8)에 따른 위상차판을 포함하는 액정 디스플레이 장치.
(11) 상기 (9)의 타원-편광판을 포함하는 액정 디스플레이 장치.
바람직한 구현예의 설명
이하에 본 발명을 상세히 기술한다. 본 명세서에서, "숫자 내지 또다른 숫자"라는 문구로 표현되는 수치 범위는 상기 범위의 하한을 나타내는 앞의 숫자와 상기 범위의 상한을 나타내는 뒤의 숫자 사이에 속하는 범위를 의미한다. 본원에 지칭되는 액정 화합물은 액정성을 나타내는 화합물을 의미한다.
본 발명의 화합물은 다음 화학식 (DI)로 나타낸다:
Figure 112007073223581-pct00007
화학식 (DI)에서, Y11, Y12 및 Y13 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타낸다.
Y11, Y12 및 Y13 각각이 메틴기인 경우, 이때 상기 메틴기의 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있다. 메틴기가 가질 수 있는 치환기의 바람직한 예는 알킬기, 알콕시기, 아릴옥시기, 아실기, 알콕시카르보닐기, 아실옥시기, 아실아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 알킬티오기, 아릴티오기, 할로겐 원자 및 시아노기이다. 상기 치환기 중, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카르보닐기, 아실옥시기, 할로겐 원자 및 시아노기가 더욱 바람직하고; 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 탄소수 1 내지 12 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 12 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 2 내지 12 의 아실옥시기, 할로겐 원자 및 시아노기가 더더욱 바람직하다.
더욱 바람직하게는, Y11, Y12 및 Y13 은 화합물 제조의 용이성 및 그의 비용 면에서 모두 메틴기이고; 더더욱 바람직하게는, 상기 메틴기는 비치환 메틴기이다.
R11, R12 및 R13 각각은 독립적으로 하기 화학식 (DI-A), (DI-B) 또는 (DI-C)의 기를 나타낸다. 고유 복굴절의 파장 분산성이 더욱 낮을 것이 요구되는 경우, 화학식 (DI-A) 또는 (DI-C)의 기가 바람직하고; 화학식 (DI-A)의 기가 더욱 바람직하다. 바람직하게는, R11, R12 및 R13 은 R11 = R12 = R13 이다.
Figure 112007073223581-pct00008
화학식 (DI-A)에서, A11, A12, A13, A14, A15 및 A16 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타낸다.
바람직하게는, A11 및 A12 중 하나 이상이 질소 원자이고; 더욱 바람직하게는, 둘 모두 질소 원자이다.
바람직하게는, A13, A14, A15 및 A16 중 3 이상이 메틴기이고; 더욱 바람직하게는, 이들 모두가 메틴기이다. 바람직하게는, 상기 메틴기는 비치환된다.
A11, A12, A13, A14, A15 및 A16 에 관한 메틴기의 치환기의 예에는 할로겐 원자 (불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자) , 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬기, 탄소수 2 내지 16 의 알케닐기, 탄소수 2 내지 16 의 알키닐기, 탄소수 1 내지 16 의 할로겐-치환된 알킬기, 탄소수 1 내지 16 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 16 의 아실기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬티오기, 탄소수 2 내지 16 의 아실옥시기, 탄소수 2 내지 16 의 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 탄소수 2 내지 16 의 알킬-치환된 카르바모일기, 및 탄소수 2 내지 16 의 아실아미노기가 포함된다. 이 중, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 할로겐-치환된 알킬기가 바람직하고; 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4 의 알킬기, 탄소수 1 내지 4 의 할로겐-치환된 알킬기가 더욱 바람직하고; 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기 및 트리플루오로메틸기가 더더욱 바람직하다.
X1 은 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 이미노기, 바람직하게는 산소 원자를 나타낸다.
Figure 112007073223581-pct00009
화학식 (DI-B)에서, A21, A22, A23, A24, A25 및 A26 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타낸다.
바람직하게는, A21 및 A22 중 하나 이상이 질소 원자이고; 더욱 바람직하게는 둘 모두 질소 원자이다.
바람직하게는, A23, A24, A25 및 A26 중 3 이상이 메틴기이고; 더욱 바람직하게는, 이들 모두 메틴기이다.
A21, A22, A23, A24, A25 또는 A26 이 메틴기인 경우, 상기 메틴기의 치환기의 예에는 할로겐 원자 (불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자), 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬기, 탄소수 2 내지 16 의 알케닐기, 탄소수 2 내지 16 의 알키닐기, 탄소수 1 내지 16 의 할로겐-치환된 알킬기, 탄소수 1 내지 16 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 16 의 아실기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬티오기, 탄소수 2 내지 16 의 아실옥시기, 탄소수 2 내지 16 의 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 탄소수 2 내지 16 의 알킬-치환된 카르바모일기 및 탄소수 2 내지 16 의 아실아미노기가 포함된다. 그 중, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 할로겐-치환된 알킬기가 바람직하고; 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4 의 알킬기, 탄소수 1 내지 4 의 할로겐-치환된 알킬기가 더욱 바람직하며; 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기 및 트리플루오로메틸기가 더더욱 바람직하다.
X2 는 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 이미노기, 바람직하게는 산소 원자를 나타낸다.
Figure 112007073223581-pct00010
화학식 (DI-C)에서, A31, A32, A33, A34, A35 및 A36 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타낸다.
바람직하게는, A31 및 A32 중 하나 이상이 질소 원자이고; 더욱 바람직하게는, 둘 모두 질소 원자이다.
바람직하게는, A33, A34, A35 및 A36 중 3 이상이 메틴기이고; 더욱 바람직하게는, 이들 모두가 메틴기이다.
A31, A32, A33, A34, A35 또는 A36 이 메틴기인 경우, 상기 메틴기는 치환기를 가질 수 있다. 상기 치환기의 예에는 할로겐 원자 (불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자), 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬기, 탄소수 2 내지 16 의 알케닐기, 탄소수 2 내지 16 의 알키닐기, 탄소수 1 내지 16 의 할로겐-치환된 알킬기, 탄소수 1 내지 16 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 16 의 아실기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬티오기, 탄소수 2 내지 16 의 아실옥시기, 탄소수 2 내지 16 의 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 탄소수 2 내지 16 의 알킬-치환된 카르바모일기 및 탄소수 2 내지 16 의 아실아미노기가 포함된다. 그 중, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 할로겐-치환된 알킬기가 바람직하고; 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4 의 알킬기, 탄소수 1 내지 4 의 할로겐-치환된 알킬기가 더욱 바람직하고; 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기 및 트리플루오로메틸기가 더더욱 바람직하다.
X3 은 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 이미노기, 바람직하게는 산소 원자를 나타낸다.
화학식 (DI-A)에서의 L11, 화학식 (DI-B)에서의 L21 및 화학식 (DI-C)에서의 L31 각각은 독립적으로 -O-, -C(=O)-, -0-C0-, -CO-O-, -0-C0-0-, -S-, -NH-, -SO2-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C-; 바람직하게는 -O-, -C(=0)-, -0-C0-, -CO-O-, -0-C0-0-, -CH2-, -CH=CH- 또는 -C≡C-; 더욱 바람직하게는 -0-, -0-C0-, -CO-0-, -0-C0-0- 또는 -C≡C- 를 나타낸다. 특히는, 고유 복굴적의 파장 분산성이 낮을 것으로 예상될 수 있기 때문에, 화학식 (DI-A)에서의 L11 은 특히 바람직하게는 -O-, -CO-O- 또는 -C≡C- 이고; 무엇보다도, 상기 화합물이 보다 높은 온도에서 원반형 네마틱 상을 나타낼 수 있기 때문에, L11 은 더더욱 바람직하게는 -CO-O- 이다. 전술한 기가 수소 원자를 포함하는 경우, 상기 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있다. 상기 치환기의 바람직한 예는 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 할로겐-치환된 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 6 의 아실기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬티오기, 탄소수 2 내지 6 의 아실옥시기, 탄소수 2 내지 6 의 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 탄소수 2 내지 6 의 알킬-치환된 카르바모일기 및 탄소수 2 내지 6 의 아실아미노기이다. 할로겐 원자 및 탄소수 1 내지 6 의 알킬기가 더욱 바람직하다.
화학식 (DI-A)에서의 L12, 화학식 (DI-B)에서의 L22 및 화학식 (DI-C)에서의 L32 각각은 독립적으로 -0-, -S-, -C(=0)-, -SO2-, -NH-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 연결기를 나타낸다. 이들에서, -NH-, -CH2- 및 -CH=CH- 의 수소 원자는 치환기로 치환될 수 있다. 상기 치환기의 바람직한 예는 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 히드록실기, 카르복실기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 할로겐-치환된 알킬기, 탄소수 1 내지 6 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 6 의 아실기, 탄소수 1 내지 6 의 알킬티오기, 탄소수 2 내지 6 의 아실옥시기, 탄소수 2 내지 6 의 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 탄소수 2 내지 6 의 알킬-치환된 카르바모일기 및 탄소수 2 내지 6 의 아실아미노기이다. 할로겐 원자, 히드록실기 및 탄소수 1 내지 6 의 알킬기가 더욱 바람직하고; 할로겐 원자, 메틸기 및 에틸기가 더더욱 바람직하다.
바람직하게는, L12, L22 및 L32 는 독립적으로 -0-, -C(=0)-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
더욱 바람직하게는, L12, L22 및 L32 는 독립적으로 탄소수가 1 내지 20, 더더욱 바람직하게는 탄소수가 2 내지 14 이다. 바람직하게는, 이들은 독립적으로 1 내지 16 개의 (-CH2-), 더욱 바람직하게는 2 내지 12 개의 (-CH2-)를 갖는다.
L12, L22 및 L32 를 구성하는 탄소 원자의 수는 액정의 상-전이 온도 및 상기 화합물의 용매에의 용해도에 영향을 준다. 일반적으로, 탄소수가 큰 경우, 원반형 네마틱 상 (ND 상)으로부터 등방성 액상으로의 상 전이 온도가 더 낮아지는 경향이 있다. 반대로, 탄소수가 큰 경우 화합물의 용매에의 용해도는 더욱 커지는 경향이 있다.
화학식 (DI-A)에서의 Q11, 화학식 (DI-B)에서의 Q21 및 화학식 (DI-C)에서의 Q31 각각은 독립적으로 중합성 기 또는 수소 원자를 나타낸다. 본 발명의 화합물이, 열에 의해 필름의 위상차가 변하지 않을 것이 요구되는 광학 필름, 예컨대 광학-보상 필름에 사용되는 경우, Q11, Q21 및 Q31 은 바람직하게는 중합성 기이다. 중합 반응은 바람직하게는 첨가 중합 (고리 절단 중합 포함) 또는 축합 중합이다. 구체적으로는, 상기 중합성 기는 첨가 중합 또는 축합 중합을 수행할 수 있는 관능성기인 것이 바람직하다. 상기 중합성 기의 예를 하기에 언급한다.
Figure 112007073223581-pct00011
더욱 바람직하게는, 상기 중합성 기는 첨가 중합을 수행할 수 있는 관능기이다. 상기 유형의 중합성 기는 바람직하게는 중합성 에틸렌계 불포화기 또는 고리-절단 중합성 기이다.
중합성 에틸렌계 불포화기의 예는 하기 화학식 (M-1) 내지 (M-6) 이다:
Figure 112007073223581-pct00012
화학식 (M-3) 및 (M-4)에서, R 은 수소 원자 또는 알킬기, 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
화학식 (M-1) 내지 (M-6) 중, (M-1) 및 (M-2)가 바람직하고; (M-1)이 더욱 바람직하다.
고리-절단 중합성 기는 바람직하게는 고리형 에테르기, 더욱 바람직하게는 에폭시기 또는 옥세타닐기이다.
화학식 (DI)의 화합물의 예를 아래에 언급하나, 본 발명은 이에 제한되어서는 안된다.
Figure 112007073223581-pct00013
Figure 112007073223581-pct00014
Figure 112007073223581-pct00015
Figure 112007073223581-pct00016
Figure 112007073223581-pct00017
Figure 112007073223581-pct00018
Figure 112007073223581-pct00019
Figure 112007073223581-pct00020
Figure 112007073223581-pct00021
Figure 112007073223581-pct00022
Figure 112007073223581-pct00023
Figure 112007073223581-pct00024
Figure 112007073223581-pct00025
Figure 112007073223581-pct00026
Figure 112007073223581-pct00027
Figure 112007073223581-pct00028
Figure 112007073223581-pct00029
Figure 112007073223581-pct00030
Figure 112007073223581-pct00031
본 발명의 모든 화합물은 공지된 제조 방법에 따라 제조될 수 있다. 본 발명의 화합물에서, 5-원 고리형 기의 구성은 이를 제조함에 있어서 매우 중요한 문제이다. 예를 들면, 1,3,4-옥사디아졸 골격을 갖는 본 발명의 화합물은, 예를 들면, 아래에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다.
Figure 112007073223581-pct00032
예를 들면, 1,2,4-옥사디아졸 골격을 갖는 본 발명의 화합물은, 예를 들면, 아래에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다.
Figure 112007073223581-pct00033
출발 물질로서 사용된 다수의 카르복실산 유사 화합물 또는 니트릴 화합물은 용이하게 입수할 수 있다. 그러나, 입수하기가 어려운 경우, 이는 통상적인 방법에 따른 그의 전구체로부터의 전환을 통해 제조될 수 있다. 예를 들면, 이는 하기 전구체로부터 유래될 수 있다.
Figure 112007073223581-pct00034
다른 5-원 고리형 기의 구성, 및 5-원 고리형 기 이외의 다른 관능기의 형성에 관하여, 예를 들면, [ROOD'S CHEMISTRY OF CARBON COMPOUNDS SECOND EDITION; ELSEVIER SCIENTIFIC PUBLISHING COMPANY]를 참조한다.
바람직하게는, 본 발명의 화합물은 액정성을 나타낸다. 화합물이 나타낼 수 있는 액정상은, 예를 들면, 컬럼형 상 및 원반형 네마틱 상 (ND 상)이다. 그러한 액정상 중, 양호한 단일 도메인성을 갖는 원반형 네마틱 상 (ND 상)이 바람직하다.
바람직하게는, 본 발명의 화합물은 20 ℃ 내지 300 ℃, 더욱 바람직하게는 40 ℃ 내지 28O ℃, 더더욱 바람직하게는 60 ℃ 내지 25O ℃ 의 범위에 속하는 온도에서 액정상을 나타낸다. 본원에 언급된 바와 같은 2O ℃ 내지 300 ℃ 에서의 액정상 발현은 액정 온도 범위가 20 ℃ 및 그 주변 (예를 들면, 10 ℃ 내지 22 ℃)을 포함하는 경우, 그리고 300 ℃ 및 그 주변 (예를 들면, 298 ℃ 내지 310 ℃)을 포함하는 경우를 포함하고; 다른 4O ℃ 내지 280 ℃, 그리고 6O ℃ 내지 250 ℃ 에서의 액정상 발현에도 동일하게 적용된다.
(위상차판)
광학-이방성 층:
본 발명의 위상차판의 광학-이방성 층을 형성하는 화학식 (DII)의 화합물을 상세히 기술한다.
(DII)
Figure 112007073223581-pct00035
화학식 (DII)에서, Y1, Y2 및 Y3 은 화학식 (DI)에서의 Y11, Y12 및 Y13 과 동일한 의미를 가지고, 이들의 바람직한 범위는 후자의 범위와 동일하다.
R1, R2 및 R3 각각은 독립적으로 하기 화학식 (DII-H)의 기를 나타낸다. 바람직하게는, R1 = R2 = R3 이다.
Figure 112007073223581-pct00036
화학식 (DII-H)에서, Z1 및 Z2 각각은 독립적으로 단일 결합 또는 2가 연결기를 나타낸다. Z1 및 Z2 가 2가 연결기를 나타내는 경우, 바람직하게는, 이들은 독립적으로 -0-, -S-, -C(=O)-, -SO-, -SO2-, -NR7-, -CH=CH-, -C≡C-, 2가 고리형 기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 연결기를 나타낸다. R7 은 탄소수 1 내지 7 의 알킬기 또는 수소 원자, 바람직하게는 탄소수 1 내지 4 의 알킬기 또는 수소 원자, 더욱 바람직하게는 메틸기, 에틸기 또는 수소 원자, 가장 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다.
Z1 및 Z2 에 관한 2가 고리형 기는 하나 이상의 고리형 구조를 갖는 2가 연결기이다. 2가 고리형 기에서의 고리는 바람직하게는 5-원 고리, 6-원 고리 또는 7-원 고리, 더욱 바람직하게는 5-원 고리 또는 6-원 고리, 가장 바람직하게는 6-원 고리이다. 상기 고리형 기에서의 고리는 축합 고리일 수 있다. 그러나, 이에 관해, 단일고리형 고리가 축합 고리보다 바람직하다. 상기 고리형 기에 포함되는 고리는 방향족 고리, 지방족 고리 또는 헤테로시클릭 고리 중 임의의 것일 수 있다. 방향족 고리의 예에는 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리가 포함된다. 지방족 고리의 예에는 시클로헥산 고리가 포함된다. 헤테로시클릭 고리의 예에는 피리딘 고리 및 피리미딘 고리가 포함된다. 상기 고리형 기에 관하여, 방향족 고리 및 헤테로시클릭 고리가 바람직하다.
Z1 및 Z2 에 관한 2가 고리형 기 중, 벤젠 고리를 갖는 고리형 기는 바람직하게는 1,4-페닐렌기이다. 나프탈렌 고리를 갖는 고리형 기는 바람직하게는 나프탈렌-1,5-디일 또는 나프탈렌-2,6-디일기이다. 시클로헥산 고리를 갖는 고리형 기는 바람직하게는 1,4-시클로헥실렌기이다. 피리딘 고리를 갖는 고리형 기는 바람직하게는 피리딘-2,5-디일기이다. 피리미딘 고리를 갖는 고리형 기는 바람직하게는 피리미딘-2,5-디일기이다.
Z1 및 Z2 에 관한 2가 고리형 기는 치환기를 가질 수 있다. 상기 치환기의 예에는 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬기, 탄소수 1 내지 16 의 할로겐-치환된 알킬기, 탄소수 1 내지 16 의 알콕시기, 탄소수 2 내지 16 의 아실기, 탄소수 1 내지 16 의 알킬티오기, 탄소수 2 내지 16 의 아실옥시기, 탄소수 2 내지 16 의 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 탄소수 2 내지 16 의 알킬-치환된 카르바모일기 및 탄소수 2 내지 16 의 아실아미노기가 포함된다.
바람직하게는, Z1 및 Z2 는 단일 결합, -0-C0-, -CO-O-, -CH=CH-, -C≡C-, -2가 고리형 기-, -0-C0-2가 고리형 기-, -CO-0-2가 고리형 기-, -CH=CH-2가 고리형 기, -C≡C-2가 고리형 기-, -2가 고리형 기-0-CO-, -2가 고리형 기-CO-0-, -2가 고리형 기-CH=CH- 또는 -2가 고리형 기-C≡C-; 더욱 바람직하게는 단일 결합, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-2가 고리형 기- 또는 -C≡C- 2가 고리형 기를 나타낸다.
화학식 (DII-H)에서의 H 각각은 독립적으로 2가 5-원 고리형 기를 나타낸다.
2가 5-원 고리형 기는 바람직하게는 헤테로 고리이다. 헤테로 원자에는, 예를 들면, 산소 원자, 질소 원자, 황 원자, 붕소 원자, 인 원자가 포함된다. 산소 원자, 질소 원자 및 황 원자가 특히 바람직하다. 질소 원자 및 산소 원자를 포함한 헤테로 고리가 더욱 바람직하다.
바람직하게는, 상기 2가 5-원 고리형 기는 하나 이상의 메틴기, 더욱 바람직하게는 2 개의 메틴기를 갖는다. 또한 바람직하게는, 메틴기의 수소 원자는 Z1 또는 Z2 로 치환된다.
2가 5-원 고리형 기에는, 예를 들면, 티오펜-2,5-디일기, 푸란-2,5-디일기, 옥사졸-2,5-디일기, 이미다졸-2,5-디일기, 1,3,4-옥사디아졸-2,5-디일기, 1,2,4-옥사디아졸-2,5-디일기, 테트라히드로푸란-2,4-디일기가 포함된다.
2가 5-원 고리형 기는 치환기를 가질 수 있다. 치환기에 관해, Y11, Y12 및 Y13 의 치환기에 관한 것과 동일한 것이 언급된다.
화학식 (DII-A)에서의 A3, A4, A5 및 A6 은 화학식 (DI-A)에서의 A13, A14, A15 및 A16 과 동일한 의미를 가지고, 이들의 바람직한 범위 또한 후자의 것과 동일하다.
화학식 (DII-A)에서의 L1 은 화학식 (DI-A)에서의 L11 과 동일한 의미를 가지고, 그의 바람직한 범위 또한 후자의 것과 동일하다.
화학식 (DII-A)에서의 L2 는 화학식 (DI-A)에서의 L12 와 동일한 의미를 가지고, 그의 바람직한 범위 또한 후자의 것과 동일하다.
화학식 (DII-A)에서의 Q1 은 화학식 (DI-A)에서의 Q11 과 동일한 의미를 가지고, 그의 바람직한 범위 또한 후자의 것과 동일하다.
더욱 바람직하게는, 본 발명의 위상차판의 광학-이방성 층을 형성하는 화학식 (DII)의 화합물은 화학식 (DI)의 화합물이다. 바람직하게는, 화학식 (DII)의 화합물은 본 발명의 위상차판의 광학-이방성 층에 균일하게 배향된다. 균일-배향된 박막 필름을 얻기 위해, 예를 들면, 임의의 다른 첨가제를 액정 화합물에 임의 첨가하여 액정 조성물을 제조하고, 이어서 상기 액정 조성물을 기판 상에 도포하고, 상기 코팅층을 그의 액정 상태로 균일하게 배향시킨다. 액정 화합물에 첨가될 수 있는 첨가제의 예는 공기 계면 배향-조절제, 반발 억제제 (repelling inhibitor), 중합 개시제 및 중합성 단량체 (이들은 하기에 기재됨)이다.
본 발명 화합물의 배향 상태는 바람직하게는 호메오트로픽 (homeotropic) 배향, 혼성 (hybrid) 배향 및 수직 (vertical) 배향이다.
본 발명의 액정 조성물의 분자가 균일하게 배향되는 박막 필름의 두께는 바람직하게는 0.2 내지 10.0 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.4 내지 4.0 ㎛ 이다.
균일-배향된 상태를 실현하기 위해, 배향 필름을 제공하는 것이 바람직하다. 그러나, 원반형 액정 화합물의 광학-축 방향이 박막 필름 면의 법선 방향과 같은 경우 (수직 배향에서), 상기 배향 필름이 언제나 필요한 것은 아니다.
상기 배향 필름은 유기 화합물 (바람직하게는 중합체)의 다양한 러빙 (rubbing) 처리, 또는 무기 화합물의 경사 침착, 또는 미세홈을 갖는 층의 형성, 또는 유기 화합물 (예를 들면 ω-트리코산산, 메틸 스테아레이트)을 증축시키는 랭뮤어-블로짓 (Langmuir-Blodgett) 법 (LB 필름)과 같은 다양한 방법을 통해 제공될 수 있다. 또한, 전기장 또는 자기장에의 노출 또는 빛에의 노출을 통해 배향 기능을 발현할 수 있는 다른 다양한 배향 필름이 공지되어 있다.
상기 배향 필름은 본 발명의 액정 조성물에 의도된 배향을 부여할 수 있는 한 임의의 층을 가질 수 있다. 본 발명에서, 러빙 처리 또는 빛에의 노출을 통해 형성된 배향 필름이 바람직하다. 중합체의 러빙 처리를 통해 형성된 배향 필름이 더욱 바람직하다. 일반적으로, 상기 러빙 처리는 종이 또는 천을 사용해 소정의 방향으로 중합체 표면을 수차례 러빙하여 실행할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에서 상기 처리는 [Handbook of Liquid Crystals (Maruzen)]에 기재된 방법에 따라 실행된다. 바람직하게는, 배향 필름의 두께는 0.01 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 3 ㎛ 이다.
본원에 언급되는 고정 배향 상태는 배향이 그의 가장 전형적이고 바람직한 구현예 (본 발명은 이에 제한되지는 않음) 그대로 고정되고 유지되는 상태를 의미한다. 예를 들면, 고정 배향 상태는 추가로, 고정 액정 조성물이 일반적으로 O ℃ 내지 5O ℃ 의 온도 범위 내에서, 더욱이는 -30 ℃ 내지 7O ℃ 의 온도 범위 내에서의 가혹한 조건 하에서 유동적이지 않고, 임의의 외부장 또는 임의의 외력에 의해 배향 상태가 변화하지 않아 배향 상태가 그 상태로 안정적으로 유지될 수 있는 모든 상태를 포함한다. 배향 상태가 최종적으로 고정된 광학-이방성 층이 형성되는 경우, 본 발명의 액정 조성물은 더이상 액정성을 나타내지 않는다. 예를 들면, 중합성 기를 갖는 화합물이 액정 화합물로서 사용되기 때문에, 이는 결국 열 또는 빛에의 노출을 통해 중합 또는 가교되어 중합체 화합물을 형성할 수 있고, 생성된 중합체 화합물은 액정성을 잃을 수 있다.
이러한 광학-이방성 층의 형성에 있어서, 본 발명의 액정 조성물에 일부 첨가제를 첨가할 수 있다. 첨가제의 예는 공기 계면 배향-조절제, 반발 억제제, 중합 개시제 및 중합성 단량체이다.
[공기 계면 배향 조절제]
호메오트로픽 배향, 혼성 배향 및 수직 배향은 공기 계면에 위치하는 첨가제 및 배향 필름 유형을 선택하여 실현시킬 수 있다.
배향 상태를 실현하기 위해, 전기장 또는 자기장과 같은 외부장을 이용할 수 있거나, 공기 계면에 위치하는 임의의 첨가제를 이용할 수 있다. 바람직하게는 첨가제를 이용한다. 첨가제로서, 탄소수 6 내지 40의 치환 또는 비치환된 지방족기 또는 탄소수 6 내지 40의 치환 또는 비치환된 지방족-치환된 올리고실록산옥시기 중 하나 이상의 기를 분자 내에 포함하는 화합물이 바람직하고, 분자 내에 상기 기를 2 이상 포함하는 화합물이 더욱 바람직하다. 예를 들면, JP-A 11-352328 및 2002-20363 에 기재된 것을 공기 계면 배향 조절제로서 이용할 수 있다.
본 발명의 액정 조성물에 첨가되는 공기 계면 배향 조절제의 양은 바람직하게는 조성물 기준으로 0.001 질량% 내지 20 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 질량% 내지 10 질량%, 가장 바람직하게는 0.1 질량% 내지 5 질량% 이다.
[반발 억제제]
본 발명의 액정 조성물은, 조성물이 상기 조성물로 코팅된 기판에 의해 배척되는 것을 방지하기 위한, 반발 억제제를 함유할 수 있다. 일반적으로, 중합체 화합물이 반발 억제제로서 바람직하다.
상기 목적을 위해 사용 가능한 중합체는 특별히 한정되지 않고, 본 발명의 액정 조성물 분자의 타일각 (tile angle) 변화 또는 배향에 심각하게 간섭하지 않는 임의의 것일 수 있다.
상기 중합체의 예는 JP-A 8-95030 에 기재되어 있다. 상기 중합체의 특히 바람직한 예는 셀룰로오스 에스테르이다. 상기 셀룰로오스 에스테르의 예는 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 히드록시프로필 셀룰로오스 및 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트이다.
본 발명의 액정 조성물 분자의 배향에 간섭하지 않도록, 반발 방지에 사용되는 중합체의 첨가량은 바람직하게는 조성물의 0.1 내지 10 질량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 8 질량%, 더더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량% 이다.
계면활성제가 본원에 또한 사용될 수 있다. 계면활성제는 임의의 공지 화합물일 수 있으나, 바람직하게는 불소 화합물이다. 구체적으로는, 예를 들면, JP-A 2001-330725 에서 단락 [0028] 내지 [0056]에 기재된 것; 그리고 JP-A 2005-179636 에서 단락 [0100] 내지 [0118]에 기재된 것이 본원에 사용 가능하다. 본 발명의 조성물에 존재할 수 있는 계면활성제의 함량은 일반적으로 상기 조성물의 원반형 화합물의 0.005 내지 8 질량%, 바람직하게는 0.05 내지 2.5 질량% 일 수 있다.
[중합 개시제]
본 발명의 액정 분자의 배향 상태를 고정하기 위해, 액정 조성물의 액정상-형성 온도까지 상기 액정 조성물을 가열하고, 이어서, 상기 배향 상태를 유지하면서 이를 냉각하여, 상기 액정 조건 하에서의 배향 상태가 손상되지 않도록 조성물을 고정하는 것을 포함하는 방법을 이용할 수 있다. 본 발명의 액정 조성물에 중합 개시제를 첨가할 수 있고, 생성된 조성물을 그의 액정상-형성 온도까지 가열한 후, 중합하고 냉각시켜, 조성물의 액정상의 배향 상태를 그대로 고정시킬 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 배향 상태는 후자의 중합 방법에 따라 고정된다. 중합에는 열중합 개시제를 사용한 열중합, 광중합 개시제를 사용한 광중합, 및 전자선에의 노출을 통한 중합이 포함된다. 열로 인한 지지체의 변형 또는 훼손를 방지하기 위해, 광중합 반응 및 전자선에의 노출을 통한 중합이 바람직하다.
광중합 개시제의 예는 α-카르보닐 화합물 (미국 특허 제2,367,661호 및 제2,367,670호), 아실로인 에테르 (미국 특허 제2,448,828호), α-탄화수소-치환된 방향족 아실로인 화합물 (미국 특허 제2,722,512호), 복수고리형 퀴논 화합물 (미국 특허 제3,046,127호 및 제2,951,758호), 트리아릴이미다졸 이합체 및 p-아미노페닐 케톤의 조합 (미국 특허 제3,549,367호), 아크리딘 및 페나진 화합물 (JP-A 60-105667 및 미국 특허 제4,239,850호), 및 옥사디아졸 화합물 (미국 특허 제4,212,970호)이다.
이용되는 광중합 개시제의 양은 광학-이방성 층 코팅액의 고체 함량 기준으로 바람직하게는 0.01 내지 20 질량%, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 5 질량% 이다.
중합을 위한 광 조사를 위해, 바람직하게는 UV 선을 이용한다. 상기 조사 에너지는 바람직하게는 10 mJ/m2 내지 50 J/cm2, 더욱 바람직하게는 50 mJ 내지 800 mJ/cm2 이다. 광중합 반응을 가속하기 위해, 광 조사를 가열 하에 수행할 수 있다. 중합 대기 중의 산소 농도가 중합도에 일정 정도 관여할 수 있다. 따라서, 목적된 중합도가 공기 중 중합에서는 달성될 수 없는 경우에, 중합 대기 중 산소 농도를 질소 퍼징 등을 통해 감소시키는 것이 바람직하다. 상기 중합 대기 중 산소 농도는 바람직하게는 10 % 이하, 더욱 바람직하게는 7 % 이하, 가장 바람직하게는 3 % 이하이다.
[중합성 단량체]
본 발명의 액정 조성물에 중합성 단량체를 첨가할 수 있다. 본 발명에 사용 가능한 중합성 단량체는 특별히 한정되지는 않고, 본 발명의 화합물과 혼화성이고 본 발명의 액정성 조성물의 배향을 현저히 손상시키지 않는 임의의 것일 수 있다. 상기 단량체에 관하여, 예를 들면, 비닐기, 비닐옥시기, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기와 같은 중합-활성 에틸렌계의 불포화 기를 갖는 화합물이 바람직하다. 조성물에 첨가되는 중합성 단량체의 양은 조성물 중 액정성 화합물을 기준으로 바람직하게는 0.5 내지 50 질량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 질량% 이다. 특히 바람직하게는, 2 이상의 반응성 관능기를 갖는 단량체가 본원에 사용되는데, 이는 이들이 배향 필름과 광학 이방성 층 사이의 접착성을 증가시키는데 효과적일 수 있기 때문이다.
[코팅 용매]
바람직하게는 유기 용매가 본 발명의 액정 조성물의 제조에 이용된다. 상기 유기 용매의 예는 아미드 (예를 들면, N,N-디메틸포름아미드), 술폭시드 (예를 들면, 디메틸술폭시드), 헤테로시클릭 화합물 (예를 들면, 피리딘), 탄화수소 (예를 들면, 톨루엔, 헥산), 알킬 할라이드 (예를 들면, 클로로포름, 디클로로메탄), 에스테르 (예를 들면, 메틸 아세테이트, 부틸 아세테이트), 케톤 (예를 들면, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논) 및 에테르 (예를 들면, 테트라히드로푸란, 1,2-디메톡시에탄)이다. 알킬 할라이드, 에스테르 및 케톤이 바람직하다. 2 이상의 상기 유기 용매를 조합하여 사용할 수 있다.
[코팅 방법]
본 발명의 박막 필름은, 전술한 용매를 이용하여 본 발명의 액정 조성물의 코팅액을 제조하고, 배향 필름상에 코팅액을 도포하고, 본 발명의 액정 조성물을 배향시킴으로써 형성될 수 있다. 상기 코팅액은 임의의 공지 방법 (예를 들면, 스핀-코팅법, 와이어 바 (wire bar)-코팅법, 압출-코팅법, 직접 그라비어-코팅법, 역 그라비어-코팅법, 금형-코팅법)에 의해 도포될 수 있다.
본 발명의 위상차판은 그의 투명 지지체 상에 본 발명의 액정 조성물로 형성된 광학-이방성 층을 갖는다.
편광 필름과 조합하여, 본 발명의 위상차판은 타원-편광판으로서 사용될 수 있다. 또한, 편광 필름과 조합하여 투과형, 반사형 또는 반투과형 액정 디스플레이 장치에 사용되는 경우, 상기 위상차판은 상기 장치의 시야각을 확장하는데 효과적일 수 있다.
[투명 지지체]
본 발명의 위상차판의 투명 지지체의 재료는 특별히 제한되지 않고, 본질적으로 광학 이방성이며 빛 투과율이 80% 이상인 임의의 것일 수 있다. 재료로서, 중합체 필름 또는 유리가 바람직하다.
중합체의 예는 셀룰로오스 아실레이트 (예를 들면, 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트), 노르보르넨 중합체, 폴리(메트)아크릴레이트 에스테르의 필름이고, 시판되는 다수의 중합체가 본원에서 유리하게 사용될 수 있다. 이 중, 광학 특성 면에서 셀룰로오스 에스테르가 바람직하며, 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르가 더욱 바람직하다. 상기 저급 지방산은 바람직하게는 탄소수 6 이하의 것이다. 상기 산을 구성하는 탄소수는 바람직하게는 2 (예를 들면, 셀룰로오스 아세테이트), 3 (예를 들면, 셀룰로오스 프로피오네이트) 또는 4 (예를 들면, 셀룰로오스 부티레이트)이다. 셀룰로오스 트리아세테이트가 특히 바람직하다. 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 및 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트와 같은 혼합 지방산 에스테르가 또한 본원에 사용될 수 있다. 더욱이, 종래의 폴리카보네이트 및 폴리술폰과 같이 용이하게 복굴절성을 나타낼 수 있는 중합체뿐만 아니라, 국제공개공보 제WO00/26705호에 기재된 것과 같이, 분자 개질을 통해 복굴절성 발현능을 감소시킨 중합체를 또한 본원에 사용할 수 있다.
투명 지지체로서 유리하게 사용 가능한 셀룰로오스 아실레이트 (특히 셀룰로오스 트리아세테이트)를 하기에 상세히 기술한다.
본원에 사용되는 셀룰로오스 아실레이트는 아세틸화도가 바람직하게는 55.0 내지 62.5 %, 더욱 바람직하게는 57.0 내지 62.0 % 이다. 상기 아세틸화도는 셀룰로오스의 단위 질량당 결합 산 (bonding acid) 함량의 전체 함량을 의미한다. 상기 아세틸화도는 ASTM: D-817-91 (셀룰로오스 아세테이트에 관한 시험 방법)에 따라 측정 및 계산될 수 있다. 본원에 사용되는 셀룰로오스 에스테르의 점도 평균 중합도 (DP)는 바람직하게는 250 이상, 더욱 바람직하게는 290 이상이다. 또한, 겔 투과 크로마토그래피를 통한, 본 발명에 사용되는 셀룰로오스 에스테르의 분자량 분포 Mw/Mn (Mw는 질량 평균 분자량이며, Mn은 수 평균 분자량임)은 바람직하게는 좁다. 구체적으로, 셀룰로오스 에스테르의 Mw/Mn 은 바람직하게는 1.0 내지 1.7, 더욱 바람직하게는 1.3 내지 1.65, 가장 바람직하게는 1.4 내지 1.6 이다.
상기 셀룰로오스 아실레이트에서, 셀룰로오스의 2-, 3- 및 6-위치의 히드록실기에 대해 전체 치환도가 항상 1/3 씩 균일하게 분배되지는 않고, 6-위치의 히드록실기에서의 치환도가 적은 경향이 있다. 본 발명에서 바람직하게는, 셀룰로오스의 6-위치의 히드록실기의 치환도는 바람직하게는 2- 및 3-위치의 히드록실기의 것보다 가능한한 크다. 6-위치의 히드록실기는 바람직하게는 전체 치환도를 기준으로 30 내지 40 %, 더욱 바람직하게는 31 내지 40 %, 더더욱 바람직하게는 32 내지 40 % 정도로 아실기에 의해 치환된다. 상기 6-위치의 치환도는 바람직하게는 0.88 이상이다. 상기 6-위치의 히드록실기는, 아세틸기 이외의, 탄소수 3 이상의 다른 임의의 아실기 (예를 들면, 프로피오닐기, 부티릴기, 발레로일기, 벤조일기, 아크릴로일기)에 의해 치환될 수 있다. 각 위치의 치환도는 NMR에 의해 측정될 수 있다. 6-위치의 히드록실기에서 높은 치환도를 갖는 셀룰로오스 에스테르는 JP-A 11-5851 의 제조예 1 (단락 [0043] 내지 [0044]), 제조예 2 (단락 [0048] 내지 [0049]) 및 제조예 3 (단락 [0051] 내지 [0052])을 참고하여 제조할 수 있다.
투명 지지체용 중합체 필름, 특히 셀룰로오스 아실레이트 필름은 2 이상의 방향족 고리를 갖는 방향족 화합물을 필름의 위상차 조절을 위한 위상차 증가제로서 포함할 수 있다. 상기 위상차 증가제를 필름에서 사용하는 경우에, 그의 양은 필름용 셀룰로오스 아실레이트 100 질량부에 대해 바람직하게는 0.01 내지 20 질량부, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 15 질량부, 더더욱 바람직하게는 0.1 내지 10 질량부이다. 2 이상의 방향족 화합물을 조합하여 본원에 사용할 수 있다.
상기 방향족 화합물의 방향족 고리에는 방향족 탄화수소 고리 및 방향족 헤테로 고리가 포함된다.
상기 방향족 탄화수소 고리는 바람직하게는 6-원 고리 (즉, 벤젠 고리)이다.
상기 방향족 헤테로 고리는 일반적으로 불포화 헤테로 고리이다. 상기 방향족 헤테로 고리는 바람직하게는 5-원, 6-원 또는 7-원 고리, 더욱 바람직하게는 5-원 또는 6-원 고리이다. 상기 방향족 헤테로 고리는 일반적으로 가장 많은 수의 이중 결합을 갖는다. 상기 헤테로 원자는 바람직하게는 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자, 더욱 바람직하게는 질소 원자이다.
상기 방향족 고리는 바람직하게는 벤젠 고리, 푸란 고리, 티오펜 고리, 피롤 고리, 옥사졸 고리, 티아졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 피리딘 고리, 피리미딘 고리, 피라진 고리 및 1,3,5-트리아진 고리, 더욱 바람직하게는 벤젠 고리 및 1,3,5-트리아진 고리이다. 특히 바람직하게는, 상기 방향족 화합물은 하나 이상의 1,3,5-트리아진 고리를 포함한다.
상기 방향족 헤테로 고리의 예에는 푸란 고리, 티오펜 고리, 피롤 고리, 옥사졸 고리, 이속사졸 고리, 티아졸 고리, 이소티아졸 고리, 이미다졸 고리, 피라졸 고리, 푸라잔 고리, 트리아졸 고리, 피란 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 피라진 고리 및 1,3,5-트리아진 고리가 포함된다.
상기 방향족 화합물을 구성하는 방향족 고리의 수는 바람직하게는 2 내지 20, 더욱 바람직하게는 2 내지 12, 더더욱 바람직하게는 2 내지 8, 가장 바람직하게는 2 내지 6 이다. 2개의 방향족 고리의 결합 방식은 (a) 축합 고리를 형성하는 경우, (b) 고리들이 단일 결합을 통해 서로 결합하는 경우, 그리고 (c) 고리들이 연결기를 통해 서로 결합하는 경우 (방향족 고리는 스피로-결합을 형성할 수 없음)로 분류될 수 있다. 본 발명에서 결합 방식은 이들 (a) 내지 (c) 중 어느 하나일 수 있다. 위상차 증가제 유형은, 예를 들면, 국제공개공보 제 WO01/88574A1 호 및 국제공개공보 제 WO00/2619A1 호, 및 JP-A 2000-111914, 2000-275434, 2002-363343 에 기재되어 있다.
상기 셀룰로오스 아실레이트 필름은 바람직하게는, 용매 캐스팅 방법에 따라, 제조된 셀룰로오스 아실레이트 용액 (도프)으로부터 제조된다. 상기 도프에 전술한 위상차 증가제를 첨가할 수 있다.
도프를 드럼 또는 밴드 상에 캐스팅하고, 그 위에서 용매를 증발시켜 필름을 형성한다. 캐스팅 전의 도프의 농도는 바람직하게는 그의 고체 함량이 18 내지 35 질량% 일 수 있도록 조절된다. 드럼 또는 밴드의 표면은 바람직하게는 거울 상태로 처리된다. 용매 캐스팅 방법에서 캐스팅 및 건조 방법은, 예를 들면, 미국 특허 제 2,336,310, 2,367,603, 2,492,078, 2,492,977, 2,492,978, 2,607,704, 2,739,069, 2,739,070 호; 영국 특허 제 640,731 및 736,892 호; JP-B 45-4554, 49-5614; JP-A 60-176834, 60-203430, JP-A 62-115035 에 기재되어 있다.
상기 도프는 바람직하게는 10℃ 이하의 표면 온도를 갖는 드럼 또는 밴드 상에 캐스팅된다. 여기에 캐스팅한 후에, 바람직하게는, 도프에 2 초 이상 동안 공기를 가하여 도프를 건조시킨다. 이와 같이 형성된 필름을 드럼 또는 밴드로부터 벗겨내고, 100 ℃ 에서 160℃ 로 온도가 연속적으로 변화하는 열기 (hot air)에서 이를 건조시켜, 잔류 용매를 증발 제거할 수 있다. 상기 방법은 JP-B 5-17844 에 기재되어 있다. 상기 방법에 따르면, 캐스팅에서 박피 (peeling) 까지 걸리는 시간이 단축될 수 있다. 상기 방법을 수행함에 있어서, 캐스팅 도프는 드럼 또는 밴드의 표면 온도에서 겔이어야 한다.
상기와 같이 제조된 셀룰로오스 아실레이트 용액 (도프)을 캐스팅함으로써 2 이상의 층을 형성하여 필름을 생성할 수 있다. 상기 도프를 드럼 또는 밴드 상에 캐스팅하고, 용매를 증발 제거하여 필름을 형성한다. 캐스팅 전의 도프의 농도는 바람직하게는 그의 고체 함량이 10 내지 40 % 일 수 있도록 조절된다. 드럼 또는 밴드의 표면은 바람직하게는 거울 상태로 처리된다.
복수의 셀룰로오스 아실레이트 용액을 캐스팅하는 경우, 지지체의 이동 방향으로 간격을 두고 배치된 다수의 캐스팅 포트를 통해 셀룰로오스 아실레이트 함유 용액을 캐스팅하고, 이들을 적층시켜 지지체 상에 필름을 형성할 수 있다. 예를 들면, JP-A 61-158414, 1-122419, 11-198285 에 기재된 방법을 이용할 수 있다. 2개의 캐스팅 포트를 통해 셀룰로오스 아실레이트 용액을 캐스팅하여 필름을 형성할 수 있다. 예를 들면, JP-B 60-27562, 61-94724, 61-104813, 61-158413, 6-134933 에 기재된 방법이 이용될 수 있다. 더욱이, JP-A 56-162617 에 기재된, 셀룰로오스 아세테이트 필름을 형성하는 캐스팅 방법 또한 본원에 이용할 수 있는데, 상기 방법은, 저점도 셀룰로오스 아세테이트 용액의 흐름이 고점도 셀룰로오스 아세테이트 용액의 흐름을 둘러싸면서, 고점도 셀룰로오스 아세테이트 용액과 저점도 셀룰로오스 아세테이트 용액을 동시에 압출하는 것을 포함한다.
셀룰로오스 아실레이트 필름은 그의 위상차를 조정하기 위해 연신될 수 있다. 상기 연신율은 바람직하게는 0 내지 100% 범위 내이다. 본 발명에 이용되는 셀룰로오스 아실레이트 필름을 연신하는 경우에, 바람직하게는 텐터 (tenter)가 이용된다. 연신되는 필름의 느린 축을 정밀하게 제어하기 위해, 필름의 우측과 좌측의 텐터 클립 속도 및 이탈 타이밍 차이를 가능한 한 작게하는 것이 바람직하다.
필름의 기계적 특성을 개선하고 필름 제조시 건조 속도를 증가시키기 위해 셀룰로오스 아실레이트 필름에 가소제를 첨가할 수 있다. 포스페이트 또는 카르복실레이트가 가소제로서 사용될 수 있다. 포스페이트의 예는 트리페닐 포스페이트 (TPP), 디페닐비페닐 포스페이트 및 트리크레실 포스페이트 (TCP)이다. 카르복실레이트는 전형적으로 프탈레이트 및 시트레이트이다. 프탈레이트의 예에는 디메틸 프탈레이트 (DMP), 디에틸 프탈레이트 (DEP), 디부틸 프탈레이트 (DBP), 디옥틸 프탈레이트 (DOP), 디페닐 프탈레이트 (DPP) 및 디-2-에틸헥실 프탈레이트 (DEHP)가 포함된다. 시트레이트의 예에는 트리에틸 O-아세틸시트레이트 (OACTE) 및 트리부틸 O-아세틸시트레이트 (OACTB)가 포함된다. 다른 카르복실레이트의 예에는 부틸 올레에이트, 메틸아세틸 리신올레에이트, 디부틸 세바케이트 및 다양한 트리멜리테이트가 포함된다. 바람직하게는, 프탈레이트 가소제 (DMP, DEP, DBP, DOP, DPP, DEHP)가 본원에 사용된다. 필름에 첨가되는 가소제의 양은 필름용 셀룰로오스 에스테르의 양을 기준으로 바람직하게는 0.1 내지 25 질량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 20 질량%, 가장 바람직하게는 3 내지 15 질량% 이다.
상기 셀룰로오스 아실레이트 필름에 열화 방지제 (예를 들면, 산화방지제, 과산화물 분해제, 라디칼 저해제, 금속 불활성화제, 산소 포획제, 아민) 및 자외선 방지제가 첨가될 수 있다. 열화 방지제는, 예를 들면, JP-A 3-199201, 5-197073, 5-194789, 5-271471, 6-107854 에 기재되어 있다. 필름에 존재할 수 있는 열화 방지제의 양은 필름용 용액 (도프)을 기준으로 바람직하게는 0.01 내지 1 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.2 질량% 이다. 상기 함량이 0.01 질량% 미만인 경우, 열화 방지제가 거의 효과가 없다. 상기 함량이 1 질량% 이하인 경우, 상기 열화 방지제가 필름의 표면 위로 흘러나오는 것을 더욱 효과적으로 방지할 수 있다.
특히 바람직한 열화 방지제의 예는 부틸화 히드록시톨루엔 (BHT)이다. 자외선 방지제는 JP-A 7-11056 에 기재되어 있다.
셀룰로오스 아실레이트 필름은 바람직하게는 표면 처리한다. 구체적으로, 표면 처리에는 코로나 방전 처리, 글로우 방전 처리, 화염 처리, 산 처리, 알칼리 처리 및 자외선 조사 처리가 포함된다. 또한 바람직하게는, 예를 들면 JP-A 7-333433 에서와 같이, 언더코트 (undercoat) 층의 제공이 본원에 이용된다.
셀룰로오스 아실레이트 필름의 표면 평활성을 확실히 하는 측면에서, 상기 처리 도중 필름의 온도는 바람직하게는 필름의 유리 전이 온도 (Tg) 이하, 구체적으로는 150℃ 이하이다.
배향 필름에 대한 접착성 면에서, 상기 셀룰로오스 아실레이트 필름의 표면 처리는 바람직하게는 산 처리 또는 알칼리 처리, 즉, 셀룰로오스 아실레이트의 비누화 처리이다. 알칼리 비누화 처리의 예를 하기에 기술한다. 바람직하게는, 알칼리 비누화 처리 방법은, 알칼리 용액에 필름 표면을 침지시키고, 이어서 산 용액으로 이를 중화시킨 후, 물로 이를 세척 및 건조시키는 것을 포함한다. 알칼리 용액은 수산화칼륨 용액 또는 수산화나트륨 용액일 수 있다. 용액 중 수산화 이온 농도는 바람직하게는 0.1 내지 3.O mol/ℓ, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 2.0 mol/ℓ이다. 알칼리 용액의 온도는 바람직하게는 실온 (예를 들면, 18 ℃) 내지 90℃, 더욱 바람직하게는 40 내지 70 ℃ 의 범위 내이다.
상기 셀룰로오스 아실레이트 필름의 표면 에너지는 바람직하게는 55 mN/m 이상, 더욱 바람직하게는 60 내지 75 mN/m 이다.
표면 에너지는, 예를 들면, [Basis and Application of Wetting (Realize, December 10, 1989 발행)]에서와 같이, 접촉각 (contact angle) 방법, 습열 (wet heat) 방법 또는 흡착 방법에 따라 측정할 수 있다. 본 발명에 사용되는 셀룰로오스 아실레이트 필름에 관하여는 접촉각 방법이 바람직하다. 구체적으로는, 상기 방법은 다음과 같다: 표면 에너지가 알려진 두 용액의 점적을 셀룰로오스 아실레이트 필름에 적용한다. 상기 액적의 표면과 필름 표면이 서로 교차하는 교차점에서, 액적에 대한 접선과 상기 액적을 포함한 필름 표면에 의해 형성된 각을 접촉각이라 칭한다. 이와 같이 측정된 접촉각에 기초하여 필름의 표면 에너지를 계산한다.
셀룰로오스 아실레이트 필름의 두께는 바람직하게는 5 내지 500 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 내지 250 ㎛, 더더욱 바람직하게는 30 내지 180 ㎛, 더욱더 바람직하게는 30 내지 110 ㎛이다.
[타원-편광판]
타원 편광판은 본 발명의 위상차판과 편광 필름을 적층하여 제조할 수 있다. 본 발명의 위상차판을 이용하여, 타원-편광판을 포함한 액정 디스플레이 장치의 시야각을 확장시킬 수 있는 타원 편광판을 제공한다.
편광 필름에는, 예를 들면, 요오드-함유 편광 필름, 이색성 염료-함유 편광 필름 및 폴리엔-형 편광 필름이 포함된다. 요오드-함유 편광 필름 및 염료-함유 편광 필름은 일반적으로 폴리비닐 알코올 필름을 사용하여 제조된다. 편광 필름의 편광축은 상기 필름의 연신 방향에 수직인 방향에 해당한다.
편광 필름은 위상차판의 광학 이방성 층 쪽에 적층된다. 바람직하게는, 위상차판으로 코팅된 편광 필름 측면의 반대 측면에 투명 보호 필름을 형성한다. 바람직하게는, 투명 보호 필름은 광투과도가 80% 이상이다. 투명 보호 필름에 관해, 셀룰로오스 에스테르 필름이 바람직하고, 트리아세틸 셀룰로오스 필름이 더욱 바람직하다. 바람직하게는, 상기 셀룰로오스 에스테르 필름은 용매 캐스팅 방법에 따라 형성된다. 투명 보호 필름의 두께는 바람직하게는 20 내지 500 ㎛, 더욱 바람직하게는 50 내지 200 ㎛이다.
[액정 디스플레이 장치]
본 발명의 위상차판을 이용하여, 시야각이 확장된 액정 디스플레이 장치를 제공한다. TN-식 액정 셀용 위상차판 (광학-보상 시트)은 JP-A 6-214116, 미국 특허 제 5,583,679 및 5,646,703 호, 및 독일특허 제 3,911,620A1 호에 기재되어 있다. IPS-식 또는 FLC-식 액정 셀용 광학-보상 시트는 JP-A 10-54982 에 기재되어 있다. OCB-식 또는 HAN-식 액정 셀용 광학-보상 시트는 미국 특허 제 5,805,253 호 및 국제공개공보 WO96/37804 에 기재되어 있다. STN-식 액정 셀용 광학-보상 시트는 JP-A 9-26572에 기재되어 있다. VA-식 액정 셀용 광학-보상 시트는 일본 특허 제 2866372 호에 기재되어 있다.
본 발명에서, 다양한 방식의 액정 셀용 위상차판 (광학-보상 시트)을 상기 특허 공개공보를 참고하여 제조할 수 있다. 본 발명의 위상차판은 TN (트위스티드 네타틱 (twisted nematic)), IPS (평면 배향 스위칭 (in-plane switching)), FLC (강유전성 액정 (ferroelectric liquid-crystal)), OCB (광학-보상 벤트 (optically-compensatory bent)), STN (수퍼-트위스티드 네마틱 (super-twisted nematic)), VA (수직-배향 (vertically-aligned)) 및 HAN (혼성 배향 네마틱 (hybrid aligned nematic))식과 같은 다양한 디스플레이 방식의 액정 디스플레이 장치에 이용될 수 있다.
액정 디스플레이 장치는 액정 셀, 편광자 및 위상차판 (광학-보상 시트)을 포함한다. 편광자는 일반적으로 편광 필름 및 보호 필름을 포함한다. 편광 필름 및 보호 필름에 관하여, 타원-편광판 부분에 기술된 것이 인용된다.
본 발명은 다음 실시예와 관련하여 더욱 구체적으로 기술되고, 여기서 사용된 물질, 그의 양 및 비율, 처리에 관한 세부 사항, 및 처리 방법은 본 발명의 정신 및 범주를 벗어나지 않으면서 적절하게 개질 또는 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명은 아래에 언급된 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.
실시예 1 :
D-3 의 제조:
D-3 을 다음 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00037
D-3A 의 제조:
15.5 g 의 3-시아노페놀을 300 ml 의 디메틸포름아미드에 용해시키고, 21.2 g 의 탄산칼륨 및 19.0 ml 의 1-브로모헥산을 여기에 첨가하였다. 이어서, 이를 질소 대기 하에 110 ℃ 에서 5 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 이어서 이를 에틸 아세테이트로 추출하고, 포화 염수로 세척하였다. 유기층을 감압 하에서 농축하고, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여, 25.2 g 의 D-3A 를 수득하였다.
D-3B 의 제조:
25.2 g 의 D-3A 를 200 ml 의 에탄올에 용해시키고, 26.0 ml 의 50 % 히드록실아민 용액을 여기에 첨가하고, 9O ℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 메탄올을 반응 용액에 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내고, 건조시켜, 28.8 g 의 D-3B 결정을 수득하였다.
D-3 의 제조:
28.8 g 의 D-3B 를 300 ml 의 1,4-디옥산에 용해시키고, 10.2 g 의 트리메스산 클로라이드 및 11.0 ml 의 피리딘을 여기에 첨가하고, 9O ℃ 에서 7 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 메탄올을 여기에 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 이를 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여, 24.0 g 의 D-3 을 수득하였다. 상기와 같이 수득된 D-3 의 NMR 스펙트럼은 하기와 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00038
상기와 같이 수득된 D-3 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 (texture) 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 100 ℃ 에서 이의 결정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 140 ℃ 초과에서 이의 상은 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-3 은 100 ℃ 내지 14O ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 2:
D-7 의 제조:
D-7 을 하기 반응식에 따라 제조하였다:
트리-히드록시 화합물
Figure 112007073223581-pct00039
11.5 g 의 D-3 을 100 ml 의 CH2Cl2 에 용해시키고, 140 ml 의 삼불화붕소 (1.0 M CH2Cl2 용액)를 여기에 첨가하였다. 4O ℃ 에서 8 시간 동안 교반한 후, 반응 용액에 물을 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 결정을 건조시켜 7.6 g 의 트리히드록시 화합물을 수득하였다.
0.34 g 의 2-브로모에탄올을 5 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 0.26 ml 의 아크릴산 클로라이드를 여기에 적가하고, 실온에서 1 시간 동안 교반한 후, 여기에 20 ml 의 물 및 20 ml 의 헥산을 첨가하여 유기층을 세척하였다. 액체-액체 분리 후, 헥산층을 증발 제거하였다. 0.3 g 의 전술한 트리히드록시 화합물, 0.44 g 의 탄산칼륨 및 30 ml 의 디메틸포름아미드을 여기에 첨가하고, 90 ℃ 에서 5 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, CH2Cl2 로 추출하고, 유기층을 농축하고, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여, 0.35 g 의 D-7 결정을 수득하였다. 상기와 같이 수득된 D-7 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00040
상기와 같이 수득된 D-7 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 128 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 131 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-7 은 128 ℃ 내지 131 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 3:
D-8 의 제조:
D-8 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00041
0.8 g 의 D-8 을 실시예 2 와 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 출발 물질을 상기와 같이 변경하였다. 상기와 같이 수득된 D-8 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00042
Figure 112007073223581-pct00043
상기와 같이 수득된 D-8 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 115 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 129 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-8 은 115 ℃ 내지 129 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 4 :
D-9 의 제조:
D-9 를 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00044
5.8 g 의 D-9 를 실시예 2 와 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 출발 물질을 상기와 같이 변경하였다. 상기와 같이 수득된 D-9 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00045
상기와 같이 수득된 D-9 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 55 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 116 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-9 는 55 ℃ 내지 116 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 5:
D-10 의 제조:
D-10 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00046
5.8 g 의 D-10 을 실시예 2 와 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 출발 물질을 상기와 같이 변경하였다. 상기와 같이 수득된 D-10 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00047
Figure 112007073223581-pct00048
상기와 같이 수득된 D-10 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 57 ℃ 에서, 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 100 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-10 은 57 ℃ 내지 100 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 6:
D-11 의 제조:
D-11 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00049
1.2 g 의 D-11 을 실시예 2 와 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 출발 물질을 상기와 같이 변경하였다. 상기와 같이 수득된 D-11 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00050
상기와 같이 수득된 D-11 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 83 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 86 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-11 은 83 ℃ 내지 86 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 7:
D-14 의 제조:
D-14 를 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00051
180 ml 의 1-메틸-1,3-프로판디올을 150 ml 의 트리에틸아민에 용해시키고, 200 ml 의 아세톤에 용해된 191 g 의 토실 클로라이드를 실온에서 여기에 적가하였 다. 40 ℃ 에서 4 시간 동안 교반한 후, 물을 반응 용액에 첨가하고, 이어서, 이를 에틸 아세테이트로 추출하였다. 이어서, 물을 상기 농축 용액에 첨가하고, 톨루엔으로 추출하고, 유기층을 감압 하에서 농축하여, 161 g 의 D-14A 를 수득하였다. 10 g 의 트리히드록시 화합물을 100 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 15 g 의 탄산칼륨, 16 g 의 요오드화나트륨 및 20 g 의 D-14A 를 여기에 첨가하고, 80 ℃ 에서 6 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 물을 반응 용액에 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내어 D-14B 를 수득하였다. 2.5 g 의 D-14B 를 25 ml 의 디메틸아세트아미드 (DMAc)에 용해시키고, 3 ml 의 아크릴로일 클로라이드를 여기에 적가하였다. 4O ℃ 에서 3 시간 동안 교반 후, 이를 냉각하고, 여기에 메탄올을 첨가하였다. 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 생성된 결정을 10 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 3 ml 의 트리에틸아민을 여기에 첨가하였다. 이를 60 ℃ 에서 4 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 메탄올을 여기에 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 이를 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.3 g 의 D-14 를 수득하였다. 이와 같이 수득된 D-14 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00052
상기와 같이 수득된 D-14 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 93 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 109 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-14 는 93 ℃ 내지 109 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 8:
D-38 의 제조:
D-38 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00053
0.73 g 의 2-히드록시에틸 아크릴레이트를 10 ml 의 테트라히드로푸란에 용해시키고, 0.84 ml 의 디메틸아닐린을 여기에 빙냉 하에서 적가하고, 0.62 g 의 트리포스젠을 여기에 첨가하였다. 실온으로 되돌리고, 2 시간 동안 교반한 후에, 0.35 g 의 트리히드록시 화합물을 여기에 빙냉 하에서 첨가하고, 0.30 ml 의 피리딘을 여기에 적가하고, 실온에서 2 시간 동안 교반하였다. 반응 후, 메탄올을 여기에 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 이를 컬럼 크로마토그래 피를 통해 정제하여 0.37 g 의 D-38 을 수득하였다. 상기와 같이 수득된 D-38 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00054
상기와 같이 수득된 D-38 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 104 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 109 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-38 은 104 ℃ 내지 109 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 9 :
D-40 의 제조:
D-40 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00055
1.5 g 의 D-40 을 실시예 7 과 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 4-히드록시부틸 아크릴레이트를 출발 물질로서 사용하였다. 상기와 같이 수득된 D-40 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00056
Figure 112007073223581-pct00057
상기와 같이 수득된 D-40 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 상기 화합물은 실온에서 원반형 네마틱 액정상을 나타내고, 53 ℃ 초과에서 결정상이 등방성 액상으로 변하였다. 따라서, D-40 은 실온 내지 53 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 10:
균일 배향된 D-9 의 박막 필름 형성:
폴리비닐 알코올 (Kuraray 사의 PVA-203) 수용액을 유리 기판에 도포하고, 100 ℃ 에서 3 분간 건조시켰다. 폴리비닐 알코올의 두께는 0.5 ㎛ 였다. 폴리비닐 알코올 박막 필름이 형성된 기판상에, 하기의 코팅 용액을 스핀-코팅법에 따라 도포하였다. 이를 80 ℃ 의 자동온도조절기에 넣고, 5 분 후, 이를 600 mJ 의 UV 선에 노출시켜, 그의 배향 상태를 고정시켰다. 이를 실온으로 냉각한 후, 편광 현미경으로 배향 상태를 관찰하였다. 상기 원반형 액정 화합물은 결함이 없는 호메오트로픽 배향이었다. 액정 화합물 층의 두께는 3.2 ㎛ 였다.
코팅 용액:
액정 화합물 D-9 100 mas.pts.
하기의 공기 계면 배향-조절제 V-(1) 0.2 mas.pts.
Irgacure 907 (Nagase Sangyo 사제) 3.0 mas.pts.
디에틸티옥산톤 1.0 mas.pt.
메틸 에틸 케톤 250 mas.pts.
공기 계면 배향-조절제 V-(I):
Figure 112007073223581-pct00059
실시예 11:
D-225 의 제조:
D-225 를 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00060
D-225A 의 제조:
2.5 g 의 3-시아노벤조산 클로라이드를 20 ml 의 테트라히드로푸란 (THF)에 용해시키고, 1.3 ml 의 3-클로로-1-프로판올 및 3.0 ml 의 디이소프로필에틸아민을 여기에 첨가하고, 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하 고, 이를 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기층을 감압 하에서 농축하였다. 잔류물을 100 ml 의 메탄올에 용해시키고, 2.8 ml 의 50 % 히드록실아민 용액을 여기에 첨가하고, 4O ℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 반응 용액에 물을 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내고, 건조시켜 3.4 g 의 D-225A 를 수득하였다.
D-225B 의 제조:
3.4 g 의 D-225A 를 10 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 1.2 ml 의 피리딘 및 1.2 g 의 트리메스산 클로라이드를 여기에 첨가하고, 120 ℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 메탄올을 여기에 첨가하고, 침착된 결정을 꺼내고, 건조시켜 3.9 g 의 D-225B 를 수득하였다.
D-225 의 제조:
3.9 g 의 D-225B 를 50 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 3.7 g 의 탄산칼륨, 2.0 g 의 요오드화나트륨 및 1.9 ml 의 아크릴산을 여기에 첨가하고, 100 ℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 이를 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 3.0 g 의 D-225 를 수득하였다. 상기와 같이 수득된 D-225 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00061
Figure 112007073223581-pct00062
상기와 같이 수득된 D-225 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 115 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 178 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-225 는 115 ℃ 내지 178 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 12:
D-226 의 제조:
D-226 을 다음 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00063
2.8 g 의 D-226 을 실시예 11 과 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 실시예 11 에서 4-클로로-1-부탄올을 3-클로로-1-프로판올 대신 사용하였다. 상기와 같이 수득된 D-226 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00064
Figure 112007073223581-pct00065
상기와 같이 수득된 D-226 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 113 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 165 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-226 은 113 ℃ 내지 165 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 13:
D-227 의 제조:
D-227 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00066
D-227
3.5 g 의 D-227 을 실시예 11 과 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 실시예 11 에서 5-클로로-1-펜탄올을 3-클로로-1-프로판올 대신에 사용하였다. 상기와 같이 수득된 D-227 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00067
Figure 112007073223581-pct00068
상기와 같이 수득된 D-227 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 86 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 142 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-227 은 86 ℃ 내지 142 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 14:
D-228 의 제조:
D-228 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00069
1.2 g 의 D-228 을 실시예 11 과 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 실시예 11 에서 6-클로로-1-헥산올을 3-클로로-1-프로판올 대신에 사용하였다. 상기와 같이 수득된 D-228 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00070
Figure 112007073223581-pct00071
상기와 같이 수득된 D-228 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 83 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 130 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-228 은 83 ℃ 내지 13O ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 15:
D-231 의 제조:
D-231 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00072
3.1 g 의 D-231 을 실시예 11 과 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 실시예 11 에서 2-(2-클로로에톡시)에탄올을 3-클로로-l-프로판올 대신에 사용하였다. 상기와 같이 수득된 D-231 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00073
Figure 112007073223581-pct00074
상기와 같이 수득된 D-231 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 91 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 143 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-231 은 91 ℃ 내지 143 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 16:
D-238 의 제조:
D-238 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00075
1.5 g 의 D-238 을 실시예 13 과 동일한 방법에 따라 수득하였으나, 실시예 13 에서 메타크릴산을 아크릴산 대신에 사용하였다. 상기와 같이 수득된 D-238 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00076
Figure 112007073223581-pct00077
상기와 같이 수득된 D-238 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 83 ℃ 에서 그의 액정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였다. 126 ℃ 초과에서 그의 상이 등방성 액상으로 추가로 변하였다. 따라서, D-238 은 83 ℃ 내지 126 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 17:
D-268 의 제조:
D-268 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00078
D-268A 의 제조:
10.0 g 의 이소프탈로일 클로라이드 및 7.4 g 의 6-클로로-1-헥산올을 70 ml 의 THF 에 용해시키고, -10 ℃ 로 냉각하고, 11.3 ml 의 트리에틸아민을 여기에 첨 가하고, 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 다른 플라스크에서, 49.3 g 의 히드라진 1수화물을 140 ml 의 THF 에 용해시키고, -40 ℃ 로 냉각하고, 이전의 반응 용액을 여기에 적가하였다. 이를 실온에서 1 시간 동안 교반하고, 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 감압 하에서 유기층을 농축하였다. 이를 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 6.0 g 의 D-268A 를 수득하였다.
D-268B 의 제조:
5.6 g 의 D-268A 를 50 ml 의 THF 에 용해시키고, 2.9 ml 의 트리에틸아민 및 1.7 g 의 트리메스산 클로라이드를 여기에 첨가하고, 실온에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기층을 감압 하에서 농축하여 6.6 g 의 D-268B 를 수득하였다.
D-268C 의 제조:
6.6 g 의 D-268B 및 6.4 g 의 트리페닐포스핀을 110 ml 의 메틸렌 클로라이드에 용해시키고, 8.1 g 의 사브롬화탄소 및 6.7 ml 의 트리에틸아민을 여기에 첨가하고, 40 ℃ 에서 1 시간 동안 교반하였다. 반응 용액을 감압 하에서 농축하고, 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 3.8 g 의 D-268C 를 수득하였다.
D-268 의 제조:
3.6 g 의 D-268C 를 50 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 6.0 g 의 탄산칼륨, 3.6 g 의 요오드화칼륨 및 1.5 ml 의 아크릴산을 여기에 첨가하고, 9O ℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 반응 용액에 물을 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 이를 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 2.8 g 의 D-268 을 수득하였다. 상기와 같이 수득된 D-268 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00079
Figure 112007073223581-pct00080
상기와 같이 수득된 D-268 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 124 ℃ 에서 이의 컬럼형 상이 등방성 액상으로 변하였다. 124 ℃ 로부터 서서히 냉각시킬 때, 그의 상이 약 12O ℃ 에서 원반형 네마틱 상으로 변하였다. 따라서, D-268 은 냉각되는 동안 원반형 네마틱 상을 나타내는다는 것을 발견하였다.
실시예 18:
D-286 의 제조:
D-286 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00081
D-286A 를 통상적인 방법으로 3-브로모벤조니트릴과 5-클로로-1-펜틴으로부터 제조하였다. 이어서, 실시예 11 에서와 동일한 방식으로 2.8 g 의 D-286 을 수득하였다. D-286 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00082
Figure 112007073223581-pct00083
상기와 같이 수득된 D-286 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 63 ℃ 에서 그의 결정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였고, 113 ℃ 초과에서 등방성 액상으로 변하였다. 따라서, D-286 은 63 ℃ 내지 113 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 19:
D-291 의 제조:
D-291 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00084
실시예 18 에서와 동일한 방식이나 3-브로모-4-플루오로벤조니트릴을 3-브로모벤조니트릴 대신 사용하여, 1.1 g 의 D-291 을 수득하였다. D-291 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00085
Figure 112007073223581-pct00086
상기와 같이 수득된 D-291 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 112 ℃ 에서 그의 결정상이 원반형 네마틱 액정상으로 변하였고, 182 ℃ 초과에서 등방성 액상으로 변하였다. 따라서, D-291 은 112 ℃ 내지 182 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 20:
D-141 의 제조:
D-141 을 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00087
D-141A 의 제조:
100 ml 의 메탄올을 통상적인 방식으로 제조된 1,3,5-트리시아노벤젠 11.5 g 에 첨가하고, 이어서, 26.0 ml 의 50 % 히드록실아민 용액을 여기에 첨가하고, 6O ℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 반응액에 물을 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내고, 건조시켜 8.0 g 의 D-141A 결정을 수득하였다.
D-141 의 제조:
1.0 g 의 D-141A 를 10 ml 의 디메틸아세트아미드에 용해시키고, 통상적인 방식으로 제조한 클로로-3-헥실옥시벤조에이트 3.2 g 및 피리딘 1.1 ml 를 여기에 첨가하고, 125 ℃ 에서 3 시간 동안 교반하였다. 냉각 후, 메탄올을 여기에 첨가하고, 침착된 결정을 여과시켜 꺼내었다. 이를 컬럼 크로마토그래피를 통해 정제하여 0.2 g 의 D-141 을 수득하였다. D-141 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00088
상기와 같이 수득된 D-141 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 화합물을 가열하였고, 약 143 ℃ 에서 그의 컬럼상이 등방성 액상으로 변하였다. 145 ℃ 로부터 서서히 냉각하였을 때, 그의 상이 약 128 ℃ 에서 원반형 네마틱 상으로 변하였다. 따라서, D-141 은 냉각되는 동안 원반형 네마틱상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 21:
D-325 의 제조:
D-325 를 하기의 반응식에 따라 제조하였다:
Figure 112007073223581-pct00089
실시예 11 에서와 동일한 방식이나, [J. Org . Chem ., 1956, Vol. 21, p. 1392]에 기재된 방법에 따라 제조된 s-트리아진-2,4,6-트리카르복실산 클로라이드를 트리메스산 클로라이드 대신 사용하여, 1.5 g 의 D-325 를 수득하였다. D-325 의 NMR 스펙트럼은 다음과 같았다:
1H-NMR (용매: CDCl3, 표준: 테트라메틸실란) δ (ppm):
Figure 112007073223581-pct00090
상기와 같이 수득된 D-325 의 상 전이 온도를 편광 현미경을 사용한 조직 관찰을 통해 측정하였다. 상기 화합물은 실온에서 원반형 네마틱 액정상을 나타내었다. 가열하였을 때, 그의 상이 116 ℃ 초과에서 등방성 액상으로 변하였다. 따라서, D-325 는 실온 내지 116 ℃ 의 범위 내에서 원반형 네마틱 액정상을 나타낸다는 것을 발견하였다.
실시예 22:
균일하게 배향된 D-227 의 박막 필름 형성:
PVA-203 (Kuraray 사제) 수용액을 유리 기판 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 3 분간 건조하였다. PVA-203 의 두께는 0.5 ㎛ 였다. PVA-203 의 박막 필름이 형성된 기판에 하기의 코팅 용액을 스핀-코팅법에 따라 도포하였다. 이를 110 ℃ 의 자동온도조절기에 넣고, 1 분 후, 이를 600 mJ 의 UV 선에 노출시켜, 그 의 배향 상태를 고정시켰다. 이를 실온으로 냉각하고, 이어서 그의 배향 상태를 편광 현미경으로 관찰하였다. 상기 원반형 액정 화합물은 결함이 없는 호메오트로픽 배향임을 발견하였다. 액정 화합물 층의 두께는 3.7 ㎛ 였다.
코팅 용액:
액정 화합물 D-227 100 mas.pts.
하기의 공기 계면-배향 조절제 V-(2) 0.2 mas.pts.
Irgacure 907 (Nagase Sangyo 사제) 3.0 mas.pts.
디에틸티옥산톤 1.0 mas.pt.
메틸 에틸 케톤 250 mas.pts.
공기 계면 배향-조절제 V-(2):
Figure 112007073223581-pct00091
비교예 1:
종래의 원반형 액정 화합물이 균일하게 배향된 박막 필름의 형성:
하기의 코팅 용액을 실시예 10 에 기재된 폴리비닐 알코올 박막 필름-코팅된 기판에 스핀-코팅법에 따라 도포하였다. 이를 19O ℃ 의 자동온도조절기에 넣고, 5 분 후, 600 mJ 의 UV 선에 노출시켜, 그의 배향 상태를 고정시켰다. 이를 실온으로 냉각하고, 이어서 그의 배향 상태를 편광 현미경으로 관찰하였다. 상기 원반형 액정 화합물은 결함이 없는 호메오트로픽 배향임을 발견하였다. 액정 화합물 층의 두께는 3.0 ㎛ 였다.
코팅 용액:
하기의 액정 화합물 JD-1 100 mas.pts.
상기 공기 계면 배향-조절제 V-(1) 0.2 mas.pts.
Irgacure 907 (Nagase Sangyo 사제) 3.0 mas.pts.
디에틸티옥산톤 1.0 mas.pt.
메틸 에틸 케톤 250 mas.pts.
Figure 112007073223581-pct00092
Δn 점 및 파장 분산값의 비교:
본문에서, Re(λ) 및 Rth(λ) 는 필름의 파장 λ 에서의 평면-내 위상차 및 두께 방향 위상차를 각각 나타낸다. KOBRA (0ji Keisoku Kiki 사제)를 사용하여, 파장이 λ nm 인 빛을 샘플의 법선 방향으로 필름 샘플에 가함으로써, 샘플의 Re(λ) 를 측정하였다. 또한 KOBRA 를 사용하여, 상기 Re(λ), 필름의 경사축 (회전축)으로서 느린 축 (KOBRA 로 판단)을 갖는 필름의 법선 방향에 대해 +40°로 경사진 방향으로 파장이 λ nm 인 빛을 샘플에 적용하여 측정된 위상차 값, 및 필 름의 경사축으로서 느린 축 (회전축)을 갖는 필름의 법선 방향에 대해 -40°로 경사진 방향으로 파장이 λ nm 인 빛을 샘플에 적용하여 측정된 위상차 값인 3 개의 위상차 데이타에 기초해 Rth(λ) 를 측정하였다. 샘플의 평균 굴절 지수의 측정값에 관하여, 예를 들면, [Polymer Handbook (John Wiley & Sons, Inc.사)] 및 광학 필름의 각종 카탈로그를 참조하였다. 샘플의 평균 굴절 지수가 알려지지 않은 경우, Abbe 사의 굴절계를 사용하여 이를 측정할 수 있다. 일부 대표적인 광학 필름의 평균 굴절 지수 데이타를 아래에 기재한다: 셀룰로오스 아실레이트 (1.48), 시클로-올레핀 중합체 (1.52), 폴리카르보네이트 (1.59), 폴리메틸 메타크릴레이트 (1.49), 폴리스티렌 (1.59).
KOBRA 를 사용하여, 실시예 10, 실시예 22 및 비교예 1 에서 수득한 박막 필름의 파장 분산값 (Re(478)/Re(748))을, 경사각 40°에서 그리고 478 nm 및 748 nm 에서 이들의 위상차를 측정함으로써, 결정하였다.
KOBRA 를 또한 사용하여, 전술한 방법에 따라 그의 Rth(589)를 측정하고, 이어서 별도로 측정한 그의 두께 (d)로 그 값을 나누어 샘플의 Δn 을 측정하였다. 결과를 표 1 에 제시하였다.
Δn 파장 분산값
실시예10 본 발명의 액정 화합물 D-9 0.14 1.11
실시예22 본 발명의 액정 화합물 D-227 0.13 1.10
비교예1 종래의 액정 화합물 JD-1 0.09 1.18
표 1 의 데이타를 통해, 본 발명의 액정 화합물이 종래의 액정 화합물보다 높은 Δn (예를 들면, 0.10 이상) 및 낮은 파장 분산값 (예를 들면, 1.15 이하)을 갖는다는 것을 확인하였다.
비교예 2
하기의 화합물 JD-2 를 참조 문헌 [Kim, Bong Gi 등의 보고서, Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2001, Vol. 370, p. 391]에 기재된 방법에 따라 제조하고, 이를 셀 갭이 10 ㎛ 인 수평 배향 셀 (KSRP-10/A107M1NSS(ZZ), EHC 사제)에 150 ℃ 에서 주입하고, 130 ℃ 에서 호메오트로픽 배향으로 고정시켰다. 이어서, 그의 파장 분산값을 전술한 방법에 따라 측정하였고, 이는 1.19 였다.
Figure 112007073223581-pct00093
비교예 3:
하기의 화합물 JD-3 을 셀 갭이 10 ㎛ 인 수평 배향 셀 (KSRP-10/A107M1NSS(ZZ), EHC 사제)에 200 ℃ 에서 주입하고, 19O ℃ 에서 호메오트로픽 배향으로 고정시켰다. 어어서, 그의 파장 분산값을 전술한 방법에 따라 측정하였고, 이는 1.18 이었다.
Figure 112007073223581-pct00094
비교예 2 및 비교예 3 과 비교했을 때, 본 발명의 화합물이 종래의 비-중합성 액정 화합물인 JD-3 뿐만 아니라 본 발명의 화합물의 골격과 유사한 골격을 갖는 화합물 JD-3 보다도 파장 분산값이 더 작다는 것을 발견하였다.
실시예 23:
위상차판의 제조:
지지체의 제조:
하기 조성물을 혼합 탱크에 넣고, 가열 교반하여 성분들을 용해시켜, 셀룰로오스 아세테이트 용액을 제조하였다.
셀룰로오스 아세테이트 용액의 조성:
아세틸화도가 60.9 % 인 셀룰로오스 아세테이트 100 질량부
트리페닐 포스페이트 (가소제) 7.8 질량부
비페닐디페닐 포스페이트 (가소제) 3.9 질량부
메틸렌 클로라이드 (제 1 용매) 300 질량부
메탄올 (제 2 용매) 45 질량부
염료 (Sumika Finechem 사제 360FP) 0.0009 질량부.
16 질량부의 하기 위상차-증가제, 80 질량부의 메틸렌 클로라이드 및 20 질량부의 메탄올을 또다른 혼합 탱크에 넣고, 가열 교반하여 위상차-증강 용액을 제조하였다.
전술한 조성을 갖는 셀룰로오스 아세테이트 용액 464 질량부를 36 질량부의 상기 위상차-증가제 용액 및 1.1 질량부의 실리카 입자 (Aerosil 사제 R972)와 혼합하고, 잘 교반하여 도프를 제조하였다. 도프 내 위상차-증가제 함량은 도프 내 셀룰로오스 아세테이트 100 질량부에 대하여 5.0 질량부였다. 실리카 입자의 함량은 셀룰로오스 아세테이트 100 질량부에 대하여 0.15 질량부였다.
위상차-증가제:
Figure 112007073223581-pct00095
캐스팅기를 사용하여, 생성된 도프를 폭 2 m, 길이 65 m 인 밴드로 캐스팅시켰다. 밴드 상의 필름 표면 온도가 4O ℃ 가 된 후, 이를 1 분간 건조시키고 이어서 박리시켰다. 이어서, 140 ℃ 의 건조 공기를 적용하면서, 텐터를 사용하여 이를 가로 방향으로 28 % 연신시켰다. 이어서, 이를 135 ℃ 의 건조 공기로 20 분간 건조시켜, 잔류 용매량이 0.3 중량% 인 지지체 (PK-1)를 제조하였다.
상기와 같이 수득된 (PK-1)은 폭이 1340 mm, 두께가 92 ㎛ 였다. 타원계 (M-150, Nippon Bunko 사제)를 사용하여 파장 590 nm 에서의 그의 위상차 (Re)를 측정하였고, 이는 38 nm 였다. 파장 590 nm 에서 측정된 그의 위상차 (Rth)는 175 nm 였다.
1.0 mol/L 수산화칼륨 용액 (용매: 물/이소프로필 알코올/프로필렌 글리콜 = 69.2 mas.pts./15 mas.pts./15.8 mas.pts.)을 상기 지지체의 밴드-측면에 10 ml/m2 의 양으로 도포하고, 약 40 ℃ 에서 30 초간 유지한 후, 알칼리 용액을 폐기하였다. 이를 정제수로 세척하고, 공기 나이프로 물방울을 제거하였다. 이어서, 100 ℃ 에서 15 초간 건조시켰다. 상기 PK-1 의 정제수에 대한 접촉각을 측정하였고, 이는 42°였다.
배향 필름 형성:
와이어 바 코팅기 #16 을 이용하여, 하기 조성을 갖는 배향 필름-코팅액을 PK-1 에 (알칼리-처리된 면에) 28 ml/m2 의 양으로 도포하였다. 이를 60 ℃ 의 열기로 60 초간 건조하고, 이어서 90 ℃ 의 열기로 150 초간 건조시켜, 배향 필름을 제조하였다
배향 필름-코팅액의 조성:
하기의 개질된 폴리비닐 알코올 10 질량부
물 371 질량부
메탄올 119 질량부
글루타르알데히드 (가교제) 0.5 질량부
시트레이트 (Sankyo Chemical 사제 AS3) 0.35 질량부
Figure 112007073223581-pct00096
러빙 처리
PK-1 을 20 m/초의 속도로 운반하고, 지지체가 그의 기계 방향에 대해 45°의 각도에서 러빙될 수 있도록 러빙 롤 (직경 30 mm)을 설치하고, 상기 조건 하에서 회전시켜, 배향 필름-코팅된 PK-1 의 표면을 상기와 같이 러빙시켰다.
광학-이방성 층의 형성:
하기의 조성을 갖는 광학-이방성 층-코팅액을, 20 m/분의 속도로 운반되는 PK-1 의 배향 필름 상에, 필름-운반 방향과 동일한 방향으로 470 rpm 으로 회전하는 와이어 바 #3.0 을 사용하여 연속 도포하였다.
광학-이방성 층-코팅액:
원반형 액정 화합물 (D-227) 10.00 질량부
광중합 개시제 (Irgacure 907, Ciba Geigy 사제) 3.00 질량부
감광제 (Kayacure DETX, Nippon Kayaku 사제) 1.00 질량부
플루오로지방족 기-함유 공중합체 0.40 질량부
(Megafac F780, Dai-Nippon Ink 사제)
메틸 에틸 케톤 500.00 질량부
용매를 실온에서 100 ℃ 까지 연속 가열하는 방법으로 증발 제거하고, 이어서 이를 120 ℃ 의 건조 구역에서 약 90 초간 가열하여, 원반형 액정 화합물을 배향시켰다. 이어서, 이를 80 ℃ 의 건조 구역으로 도입하고, 필름 표면을 90 ℃ 의 온도로 유지하면서, UV 조사 장치 (UV 램프: 출력 160 W/cm, 발광 길이 1.6 m)를 사용하여, 600 mW 의 루미넌스 (luminance)를 갖는 UV 선으로 4 초간 조사하여, 가교반응을 촉진시키고 원반형 액정 화합물을 그의 배향으로 고정시켰다. 이어서, 이를 실온으로 냉각하고, 원통형으로 감아 롤 필름이 되도록 하였다. 상기 방법을 통해 광학-보상 롤 필름 (KH-1)을 수득하였다.
이와 같이 제조된 광학-보상 롤 필름 (KH-1)을 부분적으로 절단하여 샘플을 제조하였다. 상기 샘플에 대해 광학 특성을 분석하였다. 파장 546 nm 에서 측정된 광학-이방성 층의 위상차 Re 는 30 nm 였다. 광학-이방성 층 내 원반형 액정 화합물의 지지체면에 대한 원반면의 각 (경사각)은 층 두께 방향으로 연속적으로 변하였고, 이는 평균 33°였다. 샘플에서 광학-이방성 층만을 벗겨 내고, 상기 광학-이방성 층의 분자 대칭축의 평균 방향을 측정하였고, 이는 광학-보상 필름 (KH-1)의 기계 방향에 대해 45°였다.
편광자를 직교-니콜 방식으로 배치하고, 생성된 광학-보상 필름의 필름 불균일을 점검하였다. 정면 방향 (front direction) 및 법선에서 60°기울어진 방향 모두에서 불균일이 발견되지 않았다.
비교예 4 :
PK-1 을 20 m/분의 속도로 운반하고, 러빙 방향이 기계 방향에 대해 45°일 수 있도록 러빙 롤 (직경 30 mm)을 설치하고, 650 rpm 으로 회전시켜, 배향 필름-코팅된 PK-1 의 표면을 상기 조건 하에서 러빙시켰다.
실시예 23 에서와 동일한 방식이나 하기의 광학-이방성 층-코팅액을 사용하여, 광학-보상 필름 (KH-H1)을 제조하였다.
광학-이방성 층-코팅액:
전술한 원반형 액정 화합물 (JD-I) 91.00 질량부
에틸렌옥시드-개질된 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 (V#360, Osaka Yuki Kagaku 사제) 9.00 질량부
셀룰로오스 아세테이트 부티레이트 (CAB531-1, Eastman Chemical 사제)
1.00 질량부
광중합 개시제 (Irgacure 907, Ciba-Geigy 사제) 3.00 질량부
감광제 (Kayacure DETX, Nippon Kayaku 사제) 1.00 질량부
플루오로지방족 기-함유 공중합체 (Megafac F780, Dai-Nippon Ink 사제)
0.22 질량부
메틸 에틸 케톤 226.34 질량부
이와 같이 제조된 광학-보상 롤 필름을 부분적으로 절단하여 샘플을 제조하였다. 상기 샘플에 대해 광학 특성을 분석하였다. 파장 546 nm 에서 측정된 광학-이방성 층의 위상차 Re 는 31 nm 였다. 광학-이방성 층 내 원반형 액정 화합물의 투명 지지체면에 대한 원반면의 각 (경사각)은 평균 29°였다.
PK-1 에서 광학-이방성 층만을 벗겨 내고, 상기 광학-이방성 층의 분자 대칭축의 평균 방향을 측정하였고, 이는 광학-보상 필름 (KH-1)의 기계 방향에 대해 45.2°였다.
실시예 24:
편광자 제조:
평균 중합도 1700 그리고 비누화도 99.5 몰% 인 PVA 필름 (두 80 ㎛, 폭 2500 mm)을 40 ℃ 의 온수에서 8 배로 단일축 연신시킨 후, 0.2 g/ℓ 요오드 및 60 g/ℓ 요오드화칼륨의 3O ℃ 수용액에 5 분간, 이어서 100 g/ℓ 붕산 및 30 g/ℓ 요오드화칼륨의 수용액에 직접 침지시켰다. 상기 단계에서, 필름 폭은 1300 mm 였고 두께는 17 ㎛ 였다.
상기 필름을 20 ℃ 의 물-세척 탱크에 10 초간, 이어서 0.1 g/ℓ 요오드 및 20 g/ℓ 요오드화칼륨의 30 ℃ 수용액에 15 초간 추가로 침지시킨 후, 실온에서 24 시간 동안 건조시켜, 요오드-기재 편광 필름 (HF-1)을 수득하였다.
폴리비닐 알코올-기재 접착제를 사용하여, 편광 필름 (HF-1)의 한 측면에 실시예 23 에서 제조된 광학-보상 필름 (KH-1)을 부착하였고, 여기서 전자의 지지체 (PK-1) 면은 안쪽에 있었다. 한편, 두께가 80 ㎛ 인 트리아세틸 셀룰로오스 필름 (TD-80U, Fuji Photo Film 사제)를 비누화하고, 폴리비닐 알코올-기재 접착제를 사용하여 이를 편광 필름의 다른 측면에 부착시켰다.
편광 필름의 기계 방향, 지지체 (PK-1)의 기계 방향, 및 시판되는 트리아세틸 셀룰로오스 필름의 기계 방향 모두가 서로 평행하도록 이를 배치하였다. 이러한 방식으로 편광자 (HB-1BR)를 제조하였다.
한편, 폴리비닐 알코올-기재 접착제를 사용하여, 편광 필름 (HF-1)의 한 측면에 실시예 23 에서 제조된 광학-보상 필름 (KH-1) 을 접착시켰고, 여기서 전자의 지지체 (PK-1) 면은 안쪽에 있었다. 다른 한편, 반사방지 필름 (Fuji Film CV-UA, Fuji Photo Film 사제)를 비누화하고, 폴리비닐 알코올-기재 접착제를 사용하여, 이를 상기 편광 필름의 다른 측면에 부착시켰다.
편광 필름의 기계 방향, 지지체 (PK-1)의 기계 방향, 및 시판되는 반사방지 필름의 기계 방향이 모두 서로 평행이도록 이를 배치하였다. 이러한 방식으로 편광자 (HB-1BF) 를 제조하였다.
비교예 5:
편광자 제조
실시예 24 와 동일한 방식이나 비교예 4 에서 제조한 KH-H1 (광학-보상 필름)을 사용하여, 편광자 (HB-H1R, HB-H1F)를 제조하였다.
실시예 25:
벤트 배향 액정 셀 제조:
폴리이미드 필름을 배향으로서 ITO 전극-설치된 유리 기판에 부착한 후, 이를 러빙시켰다. 이와 같이 제조된 두 개의 유리 기판을, 두 개의 러빙 방향이 서로 평행이고 둘 사이의 셀 갭이 그 사이가 4.5 ㎛ 로 유지되도록, 서로 포개었다. Δn 이 0.1396 인 액정 화합물 (SLI1132, Merck 사제)을 상기 셀 갭에 주입시켜, 벤트 배향의 액정 셀을 구축하였다. 상기 액정 셀의 크기는 5 인치였다.
실시예 24 에서 제조한 편광자 (HB-1BF) 및 (HB-1BR)를 본 실시예에서 제조한 벤트 배향 셀에 전자가, 시야측에 그리고 후자가 백라이트 측에 위치하는 방식으로, 셀이 그 둘 사이에 끼이도록 부착하였다. 타원-편광판의 광학 이방성 층이 셀 기판에 접하고 액정 셀의 러빙 방향이 셀에 접하는 광학 이방성 층의 러빙 방향과 반대 방향일 수 있도록 구성원을 배치하였다.
55 Hz 의 직사각형파 전압을 액정 셀에 가하였다. 상기 모드는 통상적으로 백색 디스플레이 2 V 및 흑색 디스플레이 5 V 의 백색 모드였다. 투과율 (백색 디스플레이/흑색 디스플레이)을 콘트라스트비로 칭하였다. 콘트라스트 계측기 (EZ-Contrast 160D, ELDIM 사제)를 사용하여, 시야각을 흑색 디스플레이 (L1)에서 백색 디스플레이 (L8)로 8 등급으로 측정하고, 색 발현의 각 의존성을 육안으로 점검하였다. 또한, 정면 콘트라스트 (CR: 백색 디스플레이 휘도/흑색 디스플레이 휘도)를 수득하였다. 결과를 표 2 에 제시하였다.
비교예 6:
패널을 제조하고, 실시예 25 에서와 동일한 방식으로 평가하였으나, 시야측의 편광자로서 HB-H1F 를 사용하고 백라이트측의 편광자로서 HB-H1R 을 사용하였다. 결과를 표 2 에 제시하였다.
Figure 112007073223581-pct00097
* 10 이상의 콘트라스트비에 대한, 그리고 흑색쪽 등급 역전 (L1 과 L2 사이의 역전)이 없는 범위.

Claims (11)

  1. 하기 화학식 (DI)로 나타내는 화합물:
    Figure 112013025604577-pct00098
    [화학식 (DI) 중, Y11, Y12 및 Y13 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; R11, R12 및 R13 각각은 독립적으로 하기 화학식 (DI-A), (DI-B) 또는 (DI-C)의 기를 나타냄:
    Figure 112013025604577-pct00099
    (화학식 (DI-A) 중, A11 및 A12 은 질소 원자를 나타내고; A13, A14, A15 및 A16 은 메틴기를 나타내고; X1 은 산소 원자를 나타내고; L11 은 -0-, -CO-O-, 또는 -C≡C- 를 나타내고; L12 는 -O-, -C(=0)-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2 가 연결기를 나타내고; 전술한 -CH2- 또는 -CH=CH- 의 수소 원자는 할로겐 원자, 메틸기, 또는 에틸기로 치환될 수 있고; Q11 각각은 독립적으로 -CH=CH2, -CH=CH(CH3), 또는 수소 원자를 나타냄),
    Figure 112013025604577-pct00100
    (화학식 (DI-B) 중, A21 및 A22 은 질소 원자를 나타내고; A23, A24, A25 및 A26 은 메틴기를 나타내고; X2 는 산소 원자를 나타내고; L21 은 -0-, -CO-O-, 또는 -C≡C- 를 나타내고; L22 는 -0-, -C(=0)-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2 가 연결기를 나타내고; 전술한 -CH2- 또는 -CH=CH- 의 수소 원자는 할로겐 원자, 메틸기, 또는 에틸기로 치환될 수 있고; Q21 각각은 독립적으로 -CH=CH2, -CH=CH(CH3), 또는 수소 원자를 나타냄),
    Figure 112013025604577-pct00101
    (화학식 (DI-C) 중, A31 및 A32 은 질소 원자를 나타내고; A33, A34, A35 및 A36 은 메틴기를 나타내고; X3 은 산소 원자를 나타내고; L31 은 -0-, -C0-0-, 또는 -C≡C- 를 나타내고; L32 는 -0-, -C(=0)-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 연결기를 나타내고; 전술한 -CH2- 또는 -CH=CH- 의 수소 원자는 할로겐 원자, 메틸기, 또는 에틸기로 치환될 수 있고; Q31 각각은 독립적으로 -CH=CH2, -CH=CH(CH3), 또는 수소 원자를 나타냄)].
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서, R11, R12 및 R13 이 화학식 (DI-A)의 기를 나타내는 화합물.
  6. 삭제
  7. 제 1 항 또는 제 5 항에 따른 화합물을 포함하는 조성물.
  8. 하기 화학식 (DII)로 나타내는 화합물을 포함한 조성물로 형성되는 광학-이방성 층 하나 이상을 투명 지지체 상에 포함하는 위상차판:
    (DII)
    Figure 112013025604577-pct00102
    [화학식 (DII) 중, Y1, Y2 및 Y3 각각은 독립적으로 메틴기 또는 질소 원자를 나타내고; R1, R2 및 R3 각각은 독립적으로 하기 화학식 (DII-H)의 기를 나타냄:
    Figure 112013025604577-pct00103
    (화학식 (DII-H) 중, H 는 2가 5-원 헤테로 고리형 기로서, 질소 원자, 산소 원자 및 2 개의 메틴기들을 포함하는 2가 5-원 헤테로 고리형 기를 나타내고; Z1 및 Z2 각각은 독립적으로 단일 결합을 나타내고; A3, A4, A5 및 A6 은 메틴기를 나타내고; L1 는 -0-, -CO-O-, 또는 -C≡C- 를 나타내고; L2 는 -0-, -C(=0)-, -CH2-, -CH=CH- 및 -C≡C-, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 연결기를 나타내고; 전술한 -CH2- 또는 -CH=CH- 의 수소 원자는 할로겐 원자, 메틸기, 또는 에틸기로 치환될 수 있고; Q1 각각은 독립적으로 -CH=CH2, -CH=CH(CH3), 또는 수소 원자를 나타냄)].
  9. 제 8 항에 따른 위상차판 및 편광 필름을 포함하는 타원-편광판.
  10. 제 8 항에 따른 위상차판을 포함하는 액정 디스플레이 장치.
  11. 제 9 항에 따른 타원-편광판을 포함하는 액정 디스플레이 장치.
KR1020077023425A 2005-03-15 2006-03-15 화합물, 조성물, 위상차판, 타원-편광판 및 액정디스플레이 장치 KR101315557B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005073565 2005-03-15
JPJP-P-2005-00073565 2005-03-15
JP2005149533 2005-05-23
JPJP-P-2005-00149533 2005-05-23
PCT/JP2006/305635 WO2006098489A1 (en) 2005-03-15 2006-03-15 Compound, composition, retardation plate, elliptically-polarizing plate and liquid-crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070112847A KR20070112847A (ko) 2007-11-27
KR101315557B1 true KR101315557B1 (ko) 2013-10-08

Family

ID=36991832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077023425A KR101315557B1 (ko) 2005-03-15 2006-03-15 화합물, 조성물, 위상차판, 타원-편광판 및 액정디스플레이 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7968156B2 (ko)
JP (2) JP5209181B2 (ko)
KR (1) KR101315557B1 (ko)
CN (2) CN102241642B (ko)
WO (1) WO2006098489A1 (ko)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5094500B2 (ja) * 2008-03-28 2012-12-12 富士フイルム株式会社 液晶表示装置
JP5620129B2 (ja) 2009-03-19 2014-11-05 富士フイルム株式会社 光学フィルム、位相差板、楕円偏光板、液晶表示装置、及び化合物
JP5753176B2 (ja) 2009-10-08 2015-07-22 サノフイ Ｐｇｄｓ阻害剤としてのフェニルオキサジアゾール誘導体
JP2012037906A (ja) * 2011-10-17 2012-02-23 Fujifilm Corp 光学補償シートの製造方法
WO2015122385A1 (ja) * 2014-02-12 2015-08-20 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
KR102614432B1 (ko) * 2015-12-08 2023-12-15 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
CN105936827A (zh) * 2015-12-16 2016-09-14 南开大学 一种盘状1,3,4-噁二唑类室温液晶二聚体及其制备方法
KR102148585B1 (ko) 2016-01-26 2020-08-26 후지필름 가부시키가이샤 표면 수식 무기물 및 그 제조 방법, 수지 조성물, 열전도 재료, 디바이스, 및 윤활제
JP6557739B2 (ja) 2016-01-26 2019-08-07 富士フイルム株式会社 表面修飾無機物を含む樹脂組成物、熱伝導材料、およびデバイス
WO2017131007A1 (ja) 2016-01-26 2017-08-03 富士フイルム株式会社 熱伝導材料、樹脂組成物、およびデバイス
CN110234664B (zh) 2017-02-09 2022-07-29 富士胶片株式会社 固化性组合物、导热材料、带导热层的器件
KR102252723B1 (ko) 2017-07-14 2021-05-17 후지필름 가부시키가이샤 표면 수식 무기 질화물, 조성물, 열전도 재료, 열전도층 부착 디바이스
KR102361265B1 (ko) 2017-07-14 2022-02-14 후지필름 가부시키가이샤 표면 수식 무기 질화물, 조성물, 열전도 재료, 열전도층 부착 디바이스
KR102293461B1 (ko) 2017-07-14 2021-08-25 후지필름 가부시키가이샤 표면 수식 무기 질화물, 조성물, 열전도 재료, 열전도층 부착 디바이스
CN110799453B (zh) 2017-07-14 2022-12-27 富士胶片株式会社 表面修饰无机氮化物、组合物、导热材料及带导热层的器件
EP3816147B1 (en) 2017-07-14 2023-08-16 FUJIFILM Corporation Thermally conductive material, device with thermally conductive layer, composition for forming thermally conductive material, and disk-like liquid crystal compound
KR20200070359A (ko) 2017-12-27 2020-06-17 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 열전도 재료, 열전도층 포함 디바이스, 및 열전도 재료의 제조 방법
WO2020067364A1 (ja) 2018-09-28 2020-04-02 富士フイルム株式会社 熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料、熱伝導シート、熱伝導層付きデバイス、膜
JP7221307B2 (ja) 2019-01-23 2023-02-13 富士フイルム株式会社 組成物、熱伝導シート、熱伝導層付きデバイス
WO2020158259A1 (ja) 2019-02-01 2020-08-06 富士フイルム株式会社 熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料
WO2020195496A1 (ja) 2019-03-28 2020-10-01 富士フイルム株式会社 組成物、熱伝導材料
WO2021010291A1 (ja) 2019-07-17 2021-01-21 富士フイルム株式会社 熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料、表面修飾無機物
JP7257529B2 (ja) 2019-08-26 2023-04-13 富士フイルム株式会社 熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料、熱伝導シート、熱伝導層付きデバイス
EP4036174A4 (en) 2019-09-27 2022-11-23 FUJIFILM Corporation COMPOSITION FOR FORMING THERMAL CONDUCTION MATERIAL, THERMAL CONDUCTION MATERIAL, THERMAL CONDUCTION FOIL AND DEVICE WITH THERMAL CONDUCTION COATING
WO2021131803A1 (ja) 2019-12-26 2021-07-01 富士フイルム株式会社 組成物、熱伝導シート、熱伝導シート付きデバイス
JP7367063B2 (ja) 2019-12-26 2023-10-23 富士フイルム株式会社 窒化ホウ素粒子、熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料、熱伝導シート、熱伝導層付きデバイス
EP4101892B1 (en) 2020-02-06 2024-02-21 FUJIFILM Corporation Composition, thermally conductive material, thermally conductive sheet, and device with thermally conductive layer

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1506991A2 (en) * 2003-07-17 2005-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Liquid crystalline compound, liquid crystalline composition and retardation film

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69431552T2 (de) 1993-11-25 2003-06-26 Fuji Photo Film Co Ltd Optische Kompensationsfolie
JPH07258170A (ja) 1994-03-22 1995-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 新規なトリフエニレン誘導体
JP2696480B2 (ja) 1994-05-11 1998-01-14 富士写真フイルム株式会社 新規なトリフェニレン誘導体およびそれを含む光学異方性材料
JPH0848976A (ja) 1994-08-10 1996-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd トリフエニレン誘導体混合物
DE59605843D1 (de) * 1995-07-28 2000-10-12 Rolic Ag Zug Photovernetzbare flüssigkristalline 1,2-Phenylen-Derivate
JP3741340B2 (ja) * 1998-09-21 2006-02-01 富士写真フイルム株式会社 １，２，４−オキサジアゾール系化合物からなる有機発光素子材料およびそれを用いた有機発光素子
DE60114518T2 (de) 2000-07-06 2006-08-10 Fuji Photo Film Co. Ltd., Minamiashigara Flüssigkristallzusammensetzung, die Flüssigkristallmoleküle und Ausrichtungsmittel enthält
JP4592225B2 (ja) * 2000-07-06 2010-12-01 富士フイルム株式会社 液晶組成物および光学異方性素子
US7244798B2 (en) * 2002-10-01 2007-07-17 Nippon Oil Corporation (Meth) acrylic compound having an oxetanyl group and liquid crystal film produced by using same
DE10359469A1 (de) * 2002-12-21 2004-07-08 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallines Medium
JP4431454B2 (ja) * 2003-07-17 2010-03-17 富士フイルム株式会社 液晶性化合物、液晶性組成物および位相差板
JP2005122155A (ja) * 2003-09-24 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板、楕円偏光板および液晶表示装置
JP2005122156A (ja) * 2003-09-24 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および画像表示装置
KR100640561B1 (ko) * 2004-08-02 2006-10-31 삼성전자주식회사 근거리 무선 통신 시스템, 근거리 무선 통신 방법 및 이를수행하는 기록매체
JP4738034B2 (ja) * 2004-08-12 2011-08-03 富士フイルム株式会社 液晶性化合物、組成物および薄膜
JP2006091746A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償シート、楕円偏光板、液晶表示装置
TWI422876B (zh) * 2004-09-27 2014-01-11 Fujifilm Corp 遲滯板、橢圓偏光板及液晶顯示器
JP4686317B2 (ja) * 2004-09-27 2011-05-25 富士フイルム株式会社 液晶性組成物、位相差板、および楕円偏光板
JP2006248966A (ja) * 2005-03-10 2006-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd 化合物、組成物、光学要素、および位相差板
TWI409509B (zh) * 2005-09-07 2013-09-21 Fujifilm Corp 光學補償膜、其製法、及使用它之偏光板與液晶顯示裝置
US7989037B2 (en) * 2006-10-06 2011-08-02 Fujifilm Corporation Composition, retardation plate, and liquid-crystal display device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1506991A2 (en) * 2003-07-17 2005-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Liquid crystalline compound, liquid crystalline composition and retardation film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007002220A (ja) 2007-01-11
CN102241642A (zh) 2011-11-16
JP5209181B2 (ja) 2013-06-12
WO2006098489A1 (en) 2006-09-21
CN101175736A (zh) 2008-05-07
US7968156B2 (en) 2011-06-28
CN101175736B (zh) 2011-06-22
JP5385937B2 (ja) 2014-01-08
JP2011195588A (ja) 2011-10-06
CN102241642B (zh) 2014-12-24
US20090233009A1 (en) 2009-09-17
KR20070112847A (ko) 2007-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101315557B1 (ko) 화합물, 조성물, 위상차판, 타원-편광판 및 액정디스플레이 장치
US8981108B2 (en) Optical film, retardation plate, elliptica polarizing plate, liquid crystal display device and compound
US7534371B2 (en) Liquid crystalline compound, liquid crystalline composition and retardation film
JP4606195B2 (ja) 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板
JP5186116B2 (ja) 化合物、それを含有する液晶組成物、異方性材料、偏光板保護フィルム、光学補償フィルムならびに液晶表示装置
JP4794563B2 (ja) 位相差板、楕円偏光板および液晶表示装置
JP4686317B2 (ja) 液晶性組成物、位相差板、および楕円偏光板
US7273641B2 (en) Optically anisotropic element comprising discotic compound
JP2007304256A (ja) 光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP5537009B2 (ja) 液晶組成物、光学異方性膜、及び位相差板
KR101139738B1 (ko) 액정성 조성물, 위상차판 및 타원 편광판
JP2007256477A (ja) 光学補償シートの製造方法およびその製造方法により作製された光学補償シートを含む偏光板、および液晶表示装置
US7314654B2 (en) Optically anisotropic element comprising discotic compound
JP4647270B2 (ja) 位相差板、その製造方法ならびにそれを用いた偏光板及び画像表示装置
JP4241130B2 (ja) 光学補償シート、その製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP2006265283A (ja) 液晶組成物、位相差板、及び楕円偏光板
JP2005263635A (ja) 重合性化合物、重合体、液晶配向膜、位相差板、偏光板及び液晶表示装置
JP2007071974A (ja) 液晶性組成物および位相差板

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160831

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170830

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180920

Year of fee payment: 6