KR101140117B1

KR101140117B1 - 기판 단자 세정 장치 및 기판 단자의 세정 방법

Info

Publication number: KR101140117B1
Application number: KR1020077021288A
Authority: KR
Inventors: 마사야 와타나베; 신지로 쓰지; 게이지 후지와라; 료이치로 가타노
Original assignee: 파나소닉 주식회사
Priority date: 2005-04-01
Filing date: 2006-03-30
Publication date: 2012-04-30
Also published as: JPWO2006106803A1; TW200734076A; WO2006106803A1; CN101151104B; KR20070114750A; CN101151104A; US7799142B2; US20090065029A1; JP4644202B2

Abstract

기판의 단자부에 세정 부재를 맞닿게 하여 이 단자부의 세정을 실행하는 기판 단자 세정 장치에 있어서, 제1위치에서 세정 부재를 지지하는 제1지지부와, 제2위치에서 이 세정 부재를 지지하는 제2지지부와, 상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부를, 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿게 하여 가압(加壓)하는 세정 헤드(head)부와, 상기 단자부를 따르는 방향으로, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부를 일체적으로 이동시키는 지지부 이동 장치와, 상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부의 제1이동 속도와는 상이한 제2이동 속도로, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 세정 헤드부를 이동시키는 세정 헤드 이동 장치를 구비하고 있다.

Description

기판 단자 세정 장치 및 기판 단자의 세정 방법{SUBSTRATE TERMINAL CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE TERMINAL CLEANING METHOD}

본 발명은, 기판의 단자부를 세정(洗淨; cleaning)하는 기판 단자 세정 장치에 관한 것으로서, 특히, 상기 기판으로서 액정 패널의 실장(實裝) 단자면에의 IC 등의 실장 품질을 향상시키기 위한 액정 패널 실장 단자면을 세정하는 액정 패널 단자 세정 장치 및 기판 단자의 세정 방법에 관한 것이다.

최근, 액정 패널의 수요는 급성장하고 있어서, 액정 패널의 품질, 수율(收率)의 향상이 강하게 요망되고 있다. 그 중에서 액정 패널의 실장 공정에서의 품질, 수율 향상을 위하여는, 실장 공정의 직전에 실장면의 세정(세정 또는 청소)을 다시 실행하는 것이 효과적이므로, 액정 패널 단자 세정 장치에 대한 관심이 높아지고 있다.

여기서, 종래의 액정 패널 단자 세정 장치의 구성(예로서, 특허문헌 1 참조)에 대하여 이하에 설명한다. 종래의 세정 장치에 있어서는, 액정 패널의 단자부를 그 양면에서 끼우도록 하는 형상으로 구성된 1쌍의 클램프 조부(爪部; jaw)와, 이 클램프 조부의 내측을 따라서 공급 배치되는 대상(帶狀)의 세정 천(布)이 구비되어 있다. 이러한 클램프 조부로써, 액정 패널의 단자부의 표리면(表裏面)을, 세정 천 을 사이에 두고 파지(把持)하고, 이 파지 상태를 유지하면서, 대상의 단자부를 따라서 클램프 조부를 이동시킴으로써, 단자부의 표리면에 부착되어 있는 입자나 유분(油分) 등을 세정 천으로써 닦아냄으로써, 단자부를 세정할 수 있다.

특허문헌 1: 일본국 특허 제3445709호 공보

(발명이 해결하려고 하는 과제)

최근, 이러한 액정 패널의 대형화가 진행되고 있고, 이에 따라서, 세정 천으로 닦아냄으로써 세정을 실행하는 단자부의 세정 영역도 장대화(長大化)되고 있다. 그러나, 상기와 같은 종래의 세정 장치의 구성에서는, 단자부에 대하여 닦아내는 세정의 개시로부터 종료까지, 세정 천의 동일한 부분이 단자부와 접촉되어 있게 되고, 상기 단자부의 세정 영역의 장대화에 따라서, 한번 닦아낸 오물(汚物)이 퍼져서 세정 천으로부터 단자부에 다시 부착되는 경우가 있다. 또한, 이러한 세정 영역의 장대화에 따라서, 한번의 세정 동작에 의해서도 세정 천이 오염되는 정도가 커지기 때문에, 상기 오물의 재부착의 문제가 현저해지고 있다. 이러한 경우에 있어서는, 액정 패널의 실장 공정에서의 품질 향상이 저해되는 문제가 있다.

따라서, 본 발명의 목적은, 상기 문제를 해결하는 것으로서, 기판의 표면에 대상으로 형성된 단자부에, 대상의 세정 부재를 맞닿게 하여, 이 단자부의 세정을 실행하는 기판 단자 세정 장치에 있어서, 이 세정 부재로부터 상기 단자부에의 오물의 재부착을 확실하게 방지하여, 효율적이고 또한 양호한 세정 처리를 실행할 수 있는 기판 단자 세정 장치 및 기판 단자의 세정 방법을 제공하는 것에 있다.

(과제를 해결하기 위한 수단)

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명을 이하와 같이 구성한다.

본 발명의 제1형태에 의하면, 기판의 표면에 대상(帶狀)으로 형성된 단자부에, 대상의 세정 부재를 맞닿게 하면서 상기 단자부를 따라서 이동시킴으로써, 이 단자부의 세정을 실행하는 기판 단자 세정 장치에 있어서,

상기 기판을 배치시켜서 그 지지를 실행하는 기판 지지부와,

상기 기판 지지부에 지지된 상기 기판에서의 상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있는 제1위치에서, 이 세정 부재를 지지하는 제1지지부와,

상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있고 또한 상기 제1위치로부터 상기 단자부를 따르는 방향으로 배치된 제2위치에서, 이 세정 부재를 지지하는 제2지지부와,

상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부를, 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿게 하여 가압(加壓)하는 세정 헤드(head)부와,

상기 단자부를 따르는 방향으로, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부를 일체적으로 또한 상기 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 지지부 이동 장치와,

상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부의 제1이동 속도와는 상이한 제2이동 속도로, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 세정 헤드부를 상기 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 세정 헤드 이동 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제2형태에 의하면, 상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1이동 속도로의 이동에 의해서, 상기 단자부에 맞닿은 상태의 상기 세정 부재를, 상기 단자부를 따라서 이동시키고,

상기 세정 헤드 이동 장치에 의한 상기 제2이동 속도와 상기 제1이동 속도와의 이동 속도차에 의해서, 상기 세정 부재에 대한 상기 세정 헤드부의 맞닿음 위치를, 상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 가변(可變)시키는 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제3형태에 의하면, 상기 지지부 이동 장치는, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부와 일체적으로 상기 세정 헤드 이동 장치를 상기 제1이동 속도로 이동 가능하고,

상기 세정 헤드 이동 장치는, 상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 이동시에, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부에 대하여 상기 세정 헤드부를, 상기 제2이동 속도와 상기 제1이동 속도와의 차의 이동 속도로 상대적으로 이동시키는 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제4형태에 의하면, 상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있고 또한 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부와 함께 상기 단자부를 따르는 방향으로 배치된 제3위치에서, 상기 세정 부재를 지지하는 제3지지부와,

제1의 상기 세정 헤드와는 별개로 구비되고, 상기 제2위치와 상기 제3위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부를, 그 맞닿음 위치에서 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿게 하여 가압하는 제2세정 헤드부를 추가로 구비하고,

상기 지지부 이동 장치는, 상기 제1지지부, 상기 제2지지부, 및 상기 제3지지부를 일체적으로 이동시키고,

상기 세정 헤드 이동 장치는, 상기 제1이동 속도와는 상이한 제3이동 속도로, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제2세정 헤드부를 이동시키는 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제5형태에 의하면, 상기 제2이동 속도와 상기 제3이동 속도는 동일한 이동 속도이고,

상기 세정 헤드 이동 장치는, 상기 제1세정 헤드부 및 상기 제2세정 헤드부를 일체적으로 상기 제2이동 속도로 이동시키는 제4형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제6형태에 의하면, 상기 세정 헤드부는,

상기 단자부에 가압 가능하게, 상기 세정 부재의 일부와 맞닿는 세정 부재 맞닿음부와,

상기 단자부에의 상기 세정 부재의 가압 높이 위치와, 상기 단자부로부터 거리를 두고 떨어져 있는 가압 해제 높이 위치와의 사이에서, 이 세정 부재 맞닿음부를 승강시키는 승강 장치를 구비한 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제7형태에 의하면, 상기 지지부는, 상기 세정 부재를 주행 가능하게 지지하는 지지용 롤러(roller)부이고,

상기 세정 헤드부에서의 상기 세정 부재 맞닿음부는, 이동 가능하게 상기 세정 부재와 맞닿는 맞닿음용 롤러부인 제6형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제8형태에 의하면, 상기 세정 헤드 이동 장치에서의 상기 제2이동 속도는, 상기 지지부 이동 장치에서의 상기 제1이동 속도보다도 크게 설정되어 있는 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제9형태에 의하면, 상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1지지부의 상기 단자부의 세정 영역의 이동에 걸리는 시간은, 상기 세정 헤드 이동 장치에 의한 상기 제1위치의 근방에서의 상기 맞닿음 위치로부터 상기 제2위치의 근방에서의 상기 맞닿음 위치로의 상기 세정 헤드부의 이동에 걸리는 시간 이하로 되도록, 상기 제1이동 속도 및 상기 제2이동 속도가 설정되는 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제10형태에 의하면, 상기 단자부의 표면 및 이면(裏面)을 함께 세정 가능하게, 상기 기판을 사이에 두고, 상기 각각의 지지부 및 상기 세정 헤드부가 1쌍으로 구비되고,

이 1쌍의 세정 헤드부는, 상기 단자부에서의 동일한 위치의 표면 및 이면의 각각에 상기 각각의 세정 부재를 맞닿게 하는 제1형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제11형태에 의하면, 상기 1쌍의 각각의 지지부는 상기 제1이동 속도로 서로 동기(同期)하여 이동됨과 더불어, 상기 1쌍의 세정 헤드부는 상기 제2이동 속도로 서로 동기하여 이동되는 제10형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제12형태에 의하면, 상기 제1지지부와 상기 제3지지부와의 사이에 배치되는 상기 제2지지부는, 상기 제1지지 위치와 상기 제2지지 위치와의 사이에 배치된 상기 세정 부재의 지지 자세에 대하여, 상기 제2지지 위치와 상기 제3지지 위치와의 사이에 배치된 이 세정 부재의 지지 자세를 표리 반전(反轉)시키는 비틀림 기구를 구비한 제4형태 또는 제5형태에 기재된 기판 단자 세정 장치를 제공한다.

본 발명의 제13형태에 의하면, 기판의 표면에 대상으로 형성된 단자부에, 대상의 세정 부재를 맞닿게 하면서 상기 단자부를 따라서 이동시킴으로써, 이 단자부의 세정을 실행하는 기판 단자의 세정 방법에 있어서,

상기 기판에서의 상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있는 제1위치와, 상기 제1위치로부터 상기 단자부를 따르는 방향으로 거리를 두고 배치된 제2위치에서, 상기 세정 부재를 지지하면서, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1 및 제2위치와, 상기 세정 부재를 상기 기판에 대하여 제1이동 속도로 이동시킴과 더불어, 상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부가 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿는 맞닿음 위치를, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1이동 속도와는 상이한 제2이동 속도로, 상기 기판에 대하여 이동시키는 기판 단자의 세정 방법을 제공한다.

본 발명의 제14형태에 의하면, 상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있고 또한 상기 제1 및 상기 제2위치와 함께 상기 단자부를 따르는 방향으로 배치된 제3위치에서, 상기 세정 부재를 추가로 지지하면서, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1, 제2 및 제3위치와, 상기 세정 부재를 상기 기판에 대하여 상기 제1이동 속도로 이동시킴과 더불어, 상기 제2위치와 상기 제3위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부가 추가로 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿는 제2맞닿음 위치를, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1이동 속도와는 상이한 제3이동 속도로, 상기 기판에 대하여 이동시키는 제13형태에 기재된 기판 단자의 세정 방법을 제공한다.

(발명의 효과)

본 발명에 의하면, 제1지지부와 제2지지부에 의해서 지지된 상태의 세정 부재의 일부를 단자부의 표면에 맞닿게 한 상태에서, 지지부 이동 장치로써 이 단자부를 따라서 제1이동 속도로 이동시킴으로써, 상기 세정 부재의 일부로써 상기 지지부 표면에 부착된 오물을 닦아내면서, 상기 세정 부재의 일부를 맞닿게 하는 세정 헤드부를, 세정 헤드 이동 장치로써 상기 제1이동 속도와는 상이한 제2이동 속도로 상기 단자부를 따라서 이동시킴으로써, 상기 세정 부재에 대한 상기 세정 헤드부의 맞닿음 위치를 가변시킬 수 있다. 즉, 상기 단자부의 닦아냄을 실행하는 세정 부재의 상기 일부의 위치를, 그 이동 과정에서 변화시켜서, 닦아냄에 사용하지 않은 부분을 상기 단자부에 항상 접촉시키면서 상기 닦아냄 동작을 실행할 수 있다. 따라서, 한번 닦아냄에 의해서 세정 부재에 부착된 오물이, 이 세정 부재로부터 상기 단자부에 재부착되는 것을 방지할 수 있어서, 고정밀도의 세정 동작을 실현할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1실시형태에 의한 단자 세정 장치의 주요한 구성을 나타내는 모식 구성도.

도 2는 상기 제1실시형태의 단자 세정 장치에 있어서, 기판의 지지 방향이 90도 회전된 상태를 나타내는 모식 구성도.

도 3은 도 1의 단자 세정 장치가 구비한 세정 유닛의 구성을 나타내는 모식도.

도 4는 도 3의 세정 유닛에서의 화살표 A-A선에서 본 모식도.

도 5는 상기 제1실시형태의 단자 세정 장치에서의 세정 처리의 동작을 나타내는 모식 설명도로서, 세정 처리 개시시의 상태를 나타내는 도면.

도 6은 상기 제1실시형태의 단자 세정 장치에서의 세정 처리의 동작을 나타내는 모식 설명도로서, 세정 처리 실시중인 상태를 나타내는 도면.

도 7은 상기 제1실시형태의 단자 세정 장치에서의 세정 처리의 동작을 나타내는 모식 설명도로서, 세정 처리 완료시의 상태를 나타내는 도면.

도 8A는 상기 세정 처리시의 세정 천의 맞닿음 영역의 배치 상태를 나타내는 모식 설명도로서, 도 5의 세정 처리 개시시의 상태를 나타내는 도면.

도 8B는 상기 세정 처리시의 세정 천의 맞닿음 영역의 배치 상태를 도 8A에 이어서 나타내는 모식 설명도로서, 도 6의 세정 처리 실시중인 상태를 나타내는 도면.

도 8C는 상기 세정 처리시의 세정 천의 맞닿음 영역의 배치 상태를 도 8B에 이어서 나타내는 모식 설명도로서, 도 7의 세정 처리 완료시의 상태를 나타내는 도면.

도 9A는 상기 제1실시형태의 세정 유닛의 변형예를 나타내는 모식 설명도로서, 세정 유닛 전체를 나타내는 도면.

도 9B는 상기 제1실시형태의 세정 유닛의 변형예를 나타내는 모식 설명도로서, 제2세정 헤드부를 나타내는 도면.

도 9C는 상기 제1실시형태의 세정 유닛의 변형예를 나타내는 모식 설명도로서, 제1세정 헤드부를 나타내는 도면.

도 10은 본 발명의 제2실시형태에 의한 세정 유닛의 구성을 나타내는 모식 구성도.

도 11은 기판에서의 단자부 근방의 구성을 나타내는 모식 설명도.

본 발명의 설명을 계속하기 전에, 첨부 도면에서 동일한 부품에 대해서는 동일한 참조 부호가 붙여져 있다.

이하에, 본 발명에 의한 실시형태를 도면에 따라서 상세히 설명한다.

(제1실시형태)

본 발명의 제1실시형태에 의한 기판 단자 세정 장치의 일례인 단자 세정 장치(101)의 주요한 구성을 나타내는 모식 사시도를 도 1에 나타낸다. 본 제1실시형태의 단자 세정 장치(101)는 액정 표시 장치(액정 패널)나 플라즈마 디스플레이 패 널(PDP) 등의 플랫 디스플레이 패널용의 기판 표면에서의 가장자리부 등에 형성된 단자부(또는 단자부의 표면 또는 단자부 배치 영역)를, 세정 부재의 일례인 세정 천에 접촉시켜서 닦아냄으로써 세정을 실행하는 장치이다. 또한, 본 명세서에서, "세정"이라는 것은, 세정 또는 청소에 의해서, 대상물에 부착되어 있는 오물의 제거를 실행하는 것이고, 예로서 유기 용제 등을 스며들게 한 세정 천을 사용하여 실행하도록 하는 습식 세정이나 용제 등을 사용하지 않는 건식 세정의 모두를 포함하는 것이다.

여기서, 장치의 구체적인 구성을 설명하기에 앞서서, 이러한 기판에 있어서의 단자부 근방의 구조에 대하여, 도 11에 나타내는 모식도를 이용하여 이하에 설명한다. 또한, 도 11에는, 기판(5)이 액정 패널인 경우를 일례로 하여, 그 구조를 나타내고 있다.

도 11에 나타내는 바와 같이, 기판(5)은, 예로서 유리 기판 패널(51)을 베이스층으로 하는 다층 구조로 되어 있다. 구체적으로는, 유리 기판 패널(51)의 도시한 상면에는 액정(52), 컬러 필터(53), 별개의 유리 기판 패널(54), 또한 편광판(55)이 적층되어 있고, 유리 기판 패널(51)의 도시한 하면에는 편광판(56)이 적층된 구조로 되어 있다. 이와 같이, 각각의 층이 적층된 구조를 갖는 부분이, 기판(5)에서의 표시부(4)가 되고, 이 표시부(4)에 대하여, 도시한 상면 측으로부터 백라이트(backlight) 등의 광원을 이용하여 광을 조사(照射)함으로써, 표시부(4)의 도시한 하면 측에 원하는 화상 등을 볼 수 있도록 표시할 수 있게 되어 있다.

또한, 도 11에 나타내는 바와 같이, 유리 기판 패널(51)은 기타의 층보다도 크게 형성되어서, 표시부(4)의 단부(端部)보다 돌출되도록 형성되어 있다. 이와 같이 표시부(4)의 주위에서 표시부(4)의 표면보다도 한 단(段) 내려가도록 형성된 유리 기판 패널(51)의 표면이 전극 면으로 되어 있고, 이러한 전극 면이 형성된 부분(영역)이 단자부(6)로 되어 있다. 이러한 단자부(6)에는, 기판(5)을 외부의 전자 회로 등과 접속하기 위한 다수의 전극 단자(6a)가 배치된다.

예로서, 표시부(4)와 단자부(6)와의 경계에 형성된 단부(段部)(3)(도시한 상면 측의 단부)의 높이는, 예로서 0.7 mm 정도이고, 표시부(4)의 주위를 따라서 형성된 단자부(6)의 폭(즉, 길이 방향과 직교하는 방향의 길이 치수)은 예로서 5 mm 정도로 되도록 형성되어 있다. 또한, 이러한 단자부(6)는, 대략 방형상(方形狀)의 표시부(4)의 주위의 적어도 한 변에 형성되어 있고, 일반적으로는, 상기 대략 방형상의 두 변 또는 세 변에, 둘레 가장자리부로서 형성되어 있다.

본 제1실시형태의 단자 세정 장치(101)는, 이러한 구조를 갖는 기판(5)에서, 단자부(6)의 표면의 세정을 실행하는 장치이다.

이어서, 구체적인 장치 구성에 대하여 이하에 설명한다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 단자 세정 장치(101)는, 반송 공급되는 기판(5)을 해제 가능하게 지지함과 더불어, 기판(5)에 있어서의 단자부(6)의 세정을 위한 위치 결정 동작을 실시 가능하게, 이 지지된 기판(5)을, 그 표면을 따르는 방향인 X축 방향 또는 Y축 방향, 또한 이 표면 내에서의 회전 방향인 θ 방향으로 이동시키는 기판 지지 스테이지(stage)(7)와, 이 기판 지지 스테이지(7)에 의해서 지지된 기판(5)의 단자부(6)에 대하여, 세정 처리를 실행하는 세정 유닛(10)을 구비하고 있다.

기판 지지 스테이지(7)는, 사각형 판상(板狀)의 기판(5)의 중앙 부근에서, 기판(5)의 하면이 장착됨과 더불어, 이 장착된 기판(5)을 해제 가능하게 흡착 지지하는 기판 지지부(8)와, 이 기판 지지부를 도시한 X축 방향 및 Y축 방향으로 진퇴 이동시킴과 더불어, 기판 지지부(8)를 θ 방향으로 회전 이동시키는 지지부 이동 장치(9)를 구비하고 있다. 또한, 이러한 지지부 이동 장치(9)는, 볼(ball) 나사 축 기구나 실린더 기구 등을 이용한 구동 기구로 구성할 수 있다. 또한, 지지부 이동 장치(9)는, 상기한 바와 같이 X축 방향, Y축 방향, 및 θ 방향에 있어서의 이동 동작 이외에, 기판(5)의 표면에 직교하는 방향인 Z축 방향으로도 기판 지지부(8)를 이동시키는 기구를 구비하고 있으며, 이에 따라서, 기판 지지 스테이지(7)에 의해서 지지된 기판(5)은, 모든 방향으로의 이동이 가능하여, 상기 세정 처리를 위한 확실한 위치 결정을 실행할 수 있게 되어 있다.

세정 유닛(10)은, 기판 지지 스테이지(7)에 의해서 지지된 기판(5)의 상면 측에서 단자부(6)에 대한 세정 처리를 실행하는 제1세정 헤드부(11)와, 이 제1세정 헤드부(11)에 인접하여 배치된 제2세정 헤드부(12)와, 제1세정 헤드부(11)와 기판(5)에 대하여 대칭으로 배치되고, 그 이면 측에서 단자부(6)에 대한 세정 처리를 실행하는 제3세정 헤드부(13)와, 이 제3세정 헤드부(13)에 인접하여 배치됨과 더불어, 제2세정 헤드부(12)와 기판(5)에 대하여 대칭으로 배치된 제4세정 헤드부(14)의 합계 4개의 세정 헤드부(11～14)를 구비하고 있다.

또한, 도 1에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(10)에 있어서의 도시한 상면 측에는, 대상(테이프 형상)의 세정 천(2)을 릴(reel)에 감긴 상태로 지지함과 더불어, 상기 세정 처리를 위하여 세정 천(2)을, 제1세정 헤드부(11) 및 제2세정 헤드부(12)에 공급하는 제1세정 천 공급부(15)와, 이 세정 처리에 사용된 세정 천(2)을 릴에 감아서 회수하는 제1세정 천 회수부(16)가 구비되어 있다. 마찬가지로, 세정 유닛(10)에 있어서의 도시한 하면 측에도, 제2세정 천 공급부(17) 및 제2세정 천 회수부(18)가 구비되어 있다. 또한, 제1세정 천 공급부(15)와 제1세정 천 회수부(16)와의 사이에서는, 하나로 연결된 대상의 세정 천(2)이 취급되고, 마찬가지로 제2세정 천 공급부(17)와 제2세정 천 회수부(18)와의 사이에서도, 하나로 연결된 세정 천(2)이 취급된다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 세정 천(2)으로서, 예로서, 합성 섬유로 짠 천 재료를 이용하여, 폭 10～13 mm, 두께 0.3 mm 정도의 크기로 테이프 형상으로 형성된 것이 사용된다.

여기서, 세정 유닛(10)에 있어서, 제1세정 헤드부(11) 및 제2세정 헤드부(12)에 관계되는 구성에 대하여, 도 3 및 도 4의 모식 구성도에 나타낸다. 또한, 도 3은 도시한 X축 방향으로부터 세정 유닛(10)을 본 경우의 부분 모식 측면도이고, 도 4는 도 3의 세정 유닛(10)에서의 화살표 A-A선에서 본 모식도이다. 또한, 세정 유닛(10)에 있어서, 제1세정 헤드부(11) 및 제2세정 헤드부(12)와, 제3세정 헤드부(13) 및 제4세정 헤드부(14)는, 기판(5)에 대하여 대칭 관계의 구조로 되어 있으므로, 각각의 세정 헤드부의 구성을 대표하여, 도 3 및 도 4에는, 제1세정 헤드부(11) 및 제2세정 헤드부(12)의 구성에 대한 것만을 나타내고, 그 설명을 하는 것으로 한다.

도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(10)의 도시한 상면 측에는, 제1세정 천 공급부(15)로부터 도시한 X축 방향을 따라서 공급된 세정 천(2)을, 이 X축 방향을 따르는 주행을 안내 가능하게 지지하는 3개의 지지부(지지용 롤러)인 제1롤러부(21), 제2롤러부(22), 및 제3롤러부(23)가 구비되어 있다. 또한, 제1롤러부(21)에 의한 세정 천(2)의 지지 위치인 제1위치 P1과, 제2롤러부(22)에 의한 지지 위치인 제2위치 P2와, 제3롤러부(23)에 의한 지지 위치인 제3위치 P3은, X축 방향을 따라서 대략 직선상으로 배치되어 있다.

또한, 도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 각각의 롤러부(21～23)에 의해서 지지된 상태의 세정 천(2)에 있어서의 제1위치 P1과 제2위치 P2와의 사이의 맞닿음 위치(제1맞닿음 위치) P11에서, 세정 천(2)의 도시한 상면에 맞닿도록 제1세정 헤드부(11)가 배치되고, 또한, 제2위치 P2와 제3위치 P3과의 사이의 맞닿음 위치(제2맞닿음 위치) P12에서, 세정 천(2)의 도시한 상면에 맞닿도록 제2세정 헤드부(12)가 배치되어 있다. 또한, 제1세정 헤드부(11)는, 맞닿음 위치 P11에서, 세정 천(2)의 일부와 맞닿는 세정 부재 맞닿음부의 일례이며 맞닿음용 롤러부의 일례이기도 한 헤드 롤러부(11a)와, 이 헤드 롤러부(11a)를 승강시키는 승강부(11b)를 구비하고 있다. 마찬가지로, 제2세정 헤드부(12)도, 맞닿음 위치 P12에서, 세정 천(2)의 일부와 맞닿는 헤드 롤러부(12a)와, 이 헤드 롤러부(12a)를 승강시키는 승강부(12b)를 구비하고 있다.

제1세정 헤드부(11)에 있어서, 승강부(11b)는, 헤드 롤러부(11a)에 맞닿은 상태의 세정 천(2)을, 기판(5)의 표면의 단자부(6)에 접촉시켜서 소정의 가압력으로 가압한 상태로 하는 가압 높이 위치와, 세정 천(2)과 단자부(6)와의 접촉을 확실하게 해제하여, 기판 지지 스테이지(7)에 의한 기판(5)의 이동이 실행된 경우에도, 기판(5)과의 간섭이 확실하게 방지되는 높이 위치인 가압 해제 높이 위치와의 사이에서, 헤드 롤러부(11a)를 승강시킬 수 있게 되어 있다. 마찬가지로, 제2세정 헤드부(12)에 있어서도, 승강부(12b)는, 가압 높이 위치와 가압 해제 높이 위치와의 사이에서, 헤드 롤러부(12a)를 승강시킬 수 있게 되어 있다. 또한, 이러한 승강부(11b 및 12b)는, 예로서 실린더 기구를 이용하여 구성할 수 있다.

또한, 도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(10)에 있어서는, 승강부(11b 및 12b)는, 공통 프레임(24)에 지지되어서 그 지지 위치가 고정되어 있고, 또한 이 공통 프레임(24)을, 도시한 X축 방향을 따라서 진퇴 이동시키는 세정 헤드 이동 장치(30)가 구비되어 있다. 또한, 이 세정 헤드 이동 장치(30) 및 각각의 롤러부(21～23)는, 공통 프레임(24)과는 분리된 메인 프레임(25)에 지지되어서 그 지지 위치가 고정되어 있다. 세정 유닛(10)에 있어서 이러한 구성을 채용함으로써, 각각의 롤러부(21～23)에 대하여 상대적으로, 헤드 롤러부(11a 및 11b)를 X축 방향으로 진퇴 이동시킬 수 있게 되어 있다. 즉, 제1위치 P1과 제2위치 P2와의 사이의 세정 천(2)에 대하여, 헤드 롤러부(11a)에 의한 맞닿음 위치 P11을 자유롭게 가변시킬 수 있게 되어 있다. 또한, 제2위치 P2와 제3위치 P3과의 사이의 세정 천(2)에 대하여, 헤드 롤러부(12a)에 의한 맞닿음 위치 P12를 자유롭게 가변시킬 수 있게 되어 있다. 또한, 이러한 세정 헤드 이동 장치(30)는, 예로서 실린더 기구를 이용하여 구성할 수 있다. 또한, 세정 천(2)에 맞닿게 한 상태에서의 이러한 이동을 고려하여, 헤드 롤러부(11a 및 12a)의 형상을, 매끄러운 형상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 헤드 롤러부나 지지용 롤러부는, 예로서 수지 재료로 형성된다.

또한, 이러한 세정 유닛(10)에 있어서의 상면 측의 구성은, 그 하면 측에서도 마찬가지로 구비되어 있어서, 제3세정 헤드부(13) 및 제4세정 헤드부(14)의 각각의 롤러부에 대한 상대적인 이동이 가능하게 되어 있다.

또한, 도 1에 나타내는 바와 같이, 단자 세정 장치(101)에 있어서는, 세정 유닛(10)의 상기 상면 측의 구성 및 하면 측의 구성을 일체적인 상태로, 도시한 X축 방향으로 진퇴 이동시키는 지지부 이동 장치의 일례인 유닛 이동 장치(31)가 구비되어 있다. 구체적으로는, 유닛 이동 장치(31)는 상기 상면 측의 구성에 있어서의 메인 프레임(25)과, 이 메인 프레임(25)에 상당하는 하면 측의 메인 프레임(도시되어 있지 않음)을, 서로 일체적인 상태로, 도시한 X축 방향을 따라서 진퇴 이동시킬 수 있게 되어 있다. 또한, 이러한 유닛 이동 장치(31)는, 예로서 볼 나사 축 기구를 이용하여 구성할 수 있고, 또한, 상기 진퇴 방향을 따라서 그 이동을 고정밀도로 안내하는 이동 안내용 레일 등을 사용하는 것이 바람직하다.

이와 같이 유닛 이동 장치(31)에 의해서, 세정 유닛(10)이, 도시한 X축 방향의 바로 앞쪽 방향을 그 세정 방향 D로 하여 이동 가능하게 되어 있음으로써, 각각의 헤드 롤러부(11a 및 12a)가 가압 높이 위치에 위치되어서 세정 천(2)을 단자부(6)의 표면에 가압한 상태에서, 이 세정 천(2)을 세정 방향 D를 따라서 이동시켜서, 단자부(6)의 표면을 닦아내도록 세정을 실행할 수 있게 되어 있다. 또한, 세정 유닛(10)에 있어서의 각각의 세정 천 공급부(15, 17), 및 세정 천 회수부(16, 18)에는, 세정 천(2)에 대하여 소정의 장력(張力)을 부여하는, 도시하지 않은 장력 부여부가 구비되어 있어서, 상기 닦아냄 상태에 있어서 세정 천(2)에 대하여 느슨해짐이 발생하지 않도록 구성되어 있다.

또한, 세정 유닛(10)에는, 이러한 세정 처리 개시 전의 단자부(6)의 표면 상태의 화상을 촬상함으로써, 이 표면의 오염 정도를 인식하는 세정 전 확인용 카메라(32)와, 세정 처리 실시 후의 단자부(6)의 표면 상태의 화상을 촬상함으로써, 이 표면의 오물의 제거 정도를 인식하는 세정 후 확인용 카메라(33)가 구비되어 있다.

또한, 단자 세정 장치(101)에는, 기판 지지 스테이지(7)에 의한 기판(5)의 지지 동작 및 위치 맞춤 동작, 세정 유닛(10)에 있어서의 각각의 동작, 유닛 이동 장치(31)에 의한 세정 유닛(10)의 이동 동작, 및 각각의 확인용 카메라(32, 33)에 의한 인식 동작을, 서로 관련시키면서, 통괄적으로 제어를 실행하는 제어 장치(20)가 구비되어 있다.

또한, 도 2에 나타내는 단자 세정 장치(101)에 있어서는, 장방형상(長方形狀)의 기판(5)이, 길이 방향을 도시한 Y축 방향을 따라서 기판 지지 스테이지(7)에 지지된 상태를 나타내고 있다. 이와 같이 기판 지지 스테이지(7)는, 기판(5)을 그 표면을 따르는 모든 방향에서 지지하는 것이 가능하게 되어 있음으로써, 기판(5)의 외주 전체의 가장자리부에 형성된 단자부(6)에 대하여, 세정 처리를 실시할 수 있게 되어 있다.

이어서, 이러한 구성을 갖는 단자 세정 장치(101)에 있어서, 기판(5)의 단자부(6)에 대하여 세정 처리를 실행하는 동작에 대하여, 도 5, 도 6, 및 도 7의 모식 설명도를 이용하여 이하에 설명한다. 또한, 이하에서 설명하는 세정 처리는, 단자 세정 장치(101)가 구비한 제어 장치(20)에 의해서 각각의 구성부가 서로 관련되어서 통괄적으로 제어됨으로써 실행된다.

우선, 도 1에 나타내는 바와 같이, 단자 세정 장치(101)에 있어서, 세정 처리가 실행되는 기판(5)이 도시하지 않은 반송 장치에 의하여 반송되어서, 기판 지지 스테이지(7)의 기판 지지부(8)에 장착되어서 지지된다. 그 후, 기판 지지부(8)가 지지부 이동 장치(9)에 의해서, 도시한 X축 방향, Y축 방향, Z축 방향, 또는 θ축 방향으로 이동됨으로써, 상기 세정 처리의 대상이 되는 단자부(6)와, 세정 유닛(10)과의 위치 맞춤이 실행된다.

또한, 이 위치 맞춤과 함께, 또는 위치 맞춤 전에, 세정 유닛(10)에서는, 각각의 세정 천 공급부(15 및 17)와 세정 천 회수부(16 및 18)에 의해서, 세정 천(2)의 공급 이송 동작 및 회수 동작이 실행되고, 새로운 세정 천(2)이 각각의 롤러부(21, 22, 및 23)에 의해서 지지된 상태로 된다.

상기 위치 맞춤 및 세정 천(2)의 이송 동작이 완료된 후, 세정 유닛(10)의 상면 측의 구성인 제1세정 헤드부(11) 및 제2세정 헤드부(12)에 있어서는, 헤드 롤러부(11a 및 12a)가 세정 방향 D의 상류 측에 위치된다. 즉, 헤드 롤러부(11a)의 맞닿음 위치 P11이 제2위치 P2에 근접하도록, 또한 헤드 롤러부(12a)의 맞닿음 위치 P12가 제3위치 P3에 근접하도록, 세정 헤드 이동 장치(30)에 의하여 이동되어서 위치된 상태로 된다. 또한, 세정 유닛(10)의 하면 측의 구성인 제3세정 헤드부(13) 및 제4세정 헤드부(14)에 있어서도 마찬가지로, 각각의 헤드 롤러부가 세정 방향 D의 상류 측의 위치에 위치된 상태로 된다.

또한, 이와 함께, 세정 유닛(10)의 상면 측의 구성에서의 각각의 세정 헤드부(11 및 12)에 있어서, 헤드 롤러부(11a 및 12a)가, 승강부(11b 및 12b)에 의하여 하강되어서, 가압 해제 높이 위치로부터 가압 높이 위치에 위치된다. 또한, 세정 유닛(10)의 하면 측의 구성에서의 각각의 세정 헤드부(13 및 14)에 있어서도, 마찬가지의 동작이 실행되어서, 도시하지 않은 승강부에 의하여 헤드 롤러부가 상승되어서 가압 해제 높이 위치로부터 가압 높이 위치에 위치된다. 이러한 상태에서의 세정 유닛(10)과 기판(5)의 단자부(6)와의 위치 관계가, 도 5의 모식 설명도에 나타내는 상태이다.

도 5에 나타내는 바와 같이, 제1세정 헤드부(11)에서의 헤드 롤러부(11a)는 높이 방향에 있어서 가압 높이 위치에 위치되어 있음과 더불어, 기판(5)의 표면을 따르는 방향에 있어서 제2위치 P2에 근접한 위치에 위치되어 있고, 또한, 제2세정 헤드부(12)에서의 헤드 롤러부(12a)는 높이 방향에 있어서 가압 높이 위치에 위치되어 있음과 더불어, 기판(5)의 표면을 따르는 방향에 있어서 제3위치 P3에 근접한 위치에 위치되어 있다. 또한, 제3세정 헤드부(13)에서의 헤드 롤러부(13a)도, 높이 방향에 있어서 가압 높이 위치에 위치됨과 더불어, 기판(5)의 표면을 따르는 방향에 있어서 제2위치 P2에 근접한 위치에 위치되어 있다. 그리고, 제4세정 헤드부(14)에서의 헤드 롤러부(14a)도, 높이 방향에 있어서 가압 높이 위치에 위치됨과 더불어, 기판(5)의 표면을 따르는 방향에 있어서 제3위치 P3에 근접한 위치에 위치되어 있다.

또한, 기판(5)의 상면 측과 하면 측에서, 각각의 세정 헤드부(11～14)는, 기판(5)을 대칭면으로 하여, 상하 대칭으로 배치되어 있다. 즉, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a)와, 제3세정 헤드부(13)의 헤드 롤러부(13a)는, 기판(5)의 표면을 따르는 방향에 있어서 동일한 위치, 즉, 맞닿음 위치 P11에 위치되어 있고, 또한, 제2세정 헤드부(12)의 헤드 롤러부(12a)와, 제4세정 헤드부(14)의 헤드 롤러부(14a)는, 기판(5)의 표면을 따르는 방향에 있어서 동일한 위치, 즉, 맞닿음 위치 P12에 위치되어 있다. 이와 같이, 각각의 헤드 롤러부(11a～14a)가 기판(5)을 사이에 두고 대칭의 위치 관계를 갖게 됨으로써, 헤드 롤러부(11a 및 13a)에 의해서 세정 천(2)을 개재시키면서 기판(5)의 단자부(6)를 표리면에서 사이에 끼운 상태로 되고, 또한 헤드 롤러부(12a 및 14a)에 의해서 세정 천(2)을 개재시키면서 기판(5)의 단자부(6)를 표리면에서 끼운 상태로 되어 있다.

이어서, 도 5에 나타내는 상태에서, 유닛 이동 장치(31)에 의해서 세정 유닛(10)의 세정 방향 D를 향한 이동이 개시된다. 이 이동에 있어서는, 세정 유닛(10)은 세정 방향 D를 향하여, 예로서 이동 속도 V1(제1이동 속도, 즉, 기판(5)에 대한 이동 속도)로 그 이동이 실행된다. 즉, 이 이동에 의해서, 제1위치 P1과 제3위치 P3과의 사이에서, 지지되어 있는 세정 천(2)은, 제1이동 속도 V1로 세정 방향 D로 이동된다. 이에 따라서, 맞닿음 위치 P11 및 P12에서 기판(5)의 단자부(6)의 표면 및 이면에 맞닿아 있는 세정 천(2)의 맞닿음 부분이, 단자부(6)와의 접촉 상태가 유지되면서, 세정 방향 D를 향하여 이동되고, 단자부(6)의 표면 및 이면이 세정 천(2)에 의해서 닦아 내어져서 세정된다. 또한, 이 이동시에, 기판(5)의 상면 측 및 하면 측에 있어서, 각각의 롤러부(21, 22, 23, 26, 27, 및 28)는, 서로 일체적인 배치 관계가 유지된 상태로 된다.

이 유닛 이동 장치(31)에 의한 세정 유닛(10)의 이동의 개시와 함께, 세정 헤드 이동 장치(30)에 의한 공통 프레임(24)의 세정 방향 D를 향한 이동이 개시된다. 구체적으로는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(10)의 상면 측의 구성에 있어서, 제2위치 P2에 근접한 위치에 위치되어 있던 헤드 롤러부(11a)를 제1위치 P1을 향하여 이동시킴과 더불어, 제3위치 P3에 근접한 위치에 위치되어 있던 헤드 롤러부(12a)를 제2위치 P2를 향하여 이동시키도록, 상기 세정 헤드 이동 장치(30)에 의한 이동을 이동 속도 V2로 실행한다. 또한, 이 세정 유닛(10)의 상면 측의 구성에 있어서의 이동과 동기시켜서, 하면 측의 구성에 있어서도, 제2위치 P2에 근접한 위치에 위치되어 있던 헤드 롤러부(13a)를 제1위치 P1을 향하여 이동시킴과 더불어, 제3위치 P3에 근접한 위치에 위치되어 있던 헤드 롤러부(14a)를 제2위치 P2를 향하여 이동시키도록, 상기 세정 헤드 이동 장치(30)에 의한 이동을 실행한다.

이러한 세정 헤드 이동 장치(30)에 의한 이동이 실행됨으로써, 각각의 헤드 롤러부(11a～14a)에 의한 세정 천(2)에 대한 맞닿음 위치 P11, P12를 가변할 수 있게 된다. 즉, 예로서, 제1위치 P1과 제2위치 P2와의 사이에서 지지된 상태의 세정 천(2)을 예로 들어서 설명하면, 이 세정 천(2)의 일부가 맞닿음 위치 P11에서 단자부(6)의 표면에 접촉된 상태에서, 이동 속도 V1로 세정 방향 D를 향하여 이동되면서, 또한 그 이동 상태에 있어서, 그 맞닿음 위치 P11이 이동 속도 V2로 제1위치 P1을 향하여 이동되게 된다. 따라서, 단자부(6)의 표면에 접촉하는 세정 천(2)의 맞닿음 부분을 항상 새로운 청정한 상태의 부분으로 할 수 있다.

또한, 이 이동 상태를 각각의 롤러부(21～23 및 26～28)의 기판(5)에 대한 이동 속도 Va와, 각각의 헤드 롤러부(11a～14a)의 기판(5)에 대한 이동 속도 Vb(제2이동 속도)와의 관계로 설명하면, Va=V1로 세정 방향 D에의 롤러부의 이동이 실행되고, Vb=V1+V2로 세정 방향 D에의 헤드 롤러부의 이동이 실행된다.

그 후, 도 7에 나타내는 바와 같이, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a) 및 제3세정 헤드부(13)의 헤드 롤러부(13a)가, 세정 방향 D에 있어서의 단자부(6)의 단부(端部)에 도달하면, 유닛 이동 장치(31)에 의한 세정 유닛(10)의 이동이 정지된다. 또한, 이 상태에서는, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a) 및 제3세정 헤드부(13)의 헤드 롤러부(13a)가, 제1위치 P1에 근접하는 위치에까지 이동된 상태로 됨과 더불어, 제2세정 헤드부(12)의 헤드 롤러부(12a) 및 제4세정 헤드부(14)의 헤드 롤러부(14a)가, 제2위치 P2에 근접하는 위치에까지 이동된 상태로 되고, 이 상태에서 세정 헤드 이동 장치(30)에 의한 이동도 정지된다.

그 후, 각각의 세정 헤드부(11～14)에 있어서, 헤드 롤러부(11a～14a)가 승강부에 의해서 가압 높이 위치로부터 가압 해제 높이 위치로 이동되어서, 단자부(6)의 표리면에 대한 세정 천(2)의 접촉이 해제된다. 이와 같이 세정 천(2)의 접촉이 해제되면, 제1세정 천 공급부(15) 및 제1세정 천 회수부(16)에 의해서 세정 천(2)의 이송 동작 및 회수 동작이 실행되어서, 제1위치 P1과 제3위치 P3과의 사이에서 단자부(6)에 접촉된 부분의 세정 천(2)을 새로운 세정 천(2)으로 교체한다. 제2세정 천 공급부(17) 및 제2세정 천 회수부(18)에 있어서도 마찬가지의 동작을 실행하여, 세정 천(2)에서의 사용 완료 부분을 미사용 부분으로 교체하는 동작을 실행한다.

그 후, 단자 세정 장치(101)에 있어서, 예로서, 지지부 이동 장치(9)로써 기판 지지부(8)를 θ 방향으로 90도 회전시킴과 더불어, X, Y, 또는 Z축 방향으로 이동시킴으로써, 기판(5)의 다른 가장자리부의 단자부(6)와 세정 유닛(10)과의 위치 맞춤을 실행한다. 이 위치 맞춤 후에, 상기와 마찬가지의 순서로 이 다른 단자부(6)에 대하여 세정 처리를 실행한다.

기판(5)에 대한 모든 단자부(6)에 대한 세정 처리가 완료되면, 기판 지지 스테이지(7)에 의한 기판(5)의 지지가 해제되어서, 도시하지 않은 반송 장치에 기판(5)이 인도되어서, 기판(5)이 배출된다. 이것으로, 기판(5)의 단자부(6)에 대한 일련의 세정 처리가 완료된다.

여기서, 세정 유닛(10)에 의한 세정 처리에 사용된 세정 천(2)에서의 맞닿음 위치 P11 및 P12의 위치의 변화를, 도 5～도 7에 나타내는 상태와 대응시켜서 나타내는 모식 설명도를 도 8A～도 8C에 나타낸다. 또한, 도 8A에 나타내는 상태는, 도 5의 상태와 대응하고, 도 8B에 나타내는 상태는, 도 6의 상태와 대응하고, 도 8C에 나타내는 상태는, 도 7의 상태와 대응한다.

우선, 도 8A에 나타내는 바와 같이, 세정 처리 개시시의 세정 천(2)에 있어서는, 맞닿음 위치 P11에서의 단자부(6)와의 맞닿음 영역 R11은 제2위치 P2에 근접한 위치에 배치되어 있고, 맞닿음 위치 P12에서의 단자부(6)와의 맞닿음 영역 R12는, 제3위치 P3에 근접한 위치에 배치되어 있다.

그 후, 각각의 헤드 롤러부(11a～14a)가, 각각의 롤러부(21～23 및 26～28)에 대하여 상대적으로 이동 속도 V2로 세정 방향 D로 이동됨으로써, 도 8B에 나타내는 바와 같이, 각각의 맞닿음 영역 R11, R12가, 세정 방향 D를 향해서 이동된 상태로 된다.

또한 그 후, 세정 처리 완료시의 세정 천(2)에 있어서는, 맞닿음 영역 R11은 제1위치 P1에 근접한 위치에 배치되어 있고, 맞닿음 영역 R12는 제2위치 P2에 근접한 위치에 배치되어 있다.

이와 같이, 세정 처리의 과정에서, 각각의 맞닿음 영역 R11, R12의 이동이 실행됨으로써, 맞닿음 영역 R11의 궤적 영역 R1이 제1위치 P1과 제2위치 P2와의 사이에 걸쳐서 배치되고, 또한 맞닿음 영역 R12의 궤적 영역 R2가 제2위치 P2와 제3위치 P3과의 사이에 걸쳐서 배치되게 된다. 따라서, 종래의 세정 방법과 같이, 헤드 등의 이동에 의한 세정 동작을 실시하고 있는 동안에, 세정 천의 일부의 한정된 영역만을 사용하는 것이 아니고, 단자부(6)에의 맞닿음 위치 P11, P12를 가변시키면서, 항상 미사용 부분으로 닦아내는 세정을 실행할 수 있음과 더불어, 세정 천(2) 전체를 낭비 없이 효율적으로 사용할 수 있다. 따라서, 청정성(淸淨性)이 높은 세정을 가능하게 하면서, 효율적으로 세정 천을 사용할 수 있는 단자 세정 장치(101)를 제공할 수 있다.

또한, 이러한 단자 세정 장치(101)에 있어서는, 단자부(6)에 대한 헤드 롤러부(11a～14a)의 이동시에, 단자부(6)에 접촉되는 세정 천(2)의 부분을 항상 다른 면으로 할 수 있으므로, 한번 닦아낸 오물을 단자부(6)에 재부착시키는 것을 확실하게 방지할 수 있고, 특히 최근 장대화되는 액정 패널 등에 대한 단자부의 세정 처리에 적합하다.

또한, 도 8C에 나타내는 바와 같이, 세정 처리가 완료된 시점에서, 맞닿음 영역 R11의 이동 궤적 R1이 제1위치 P1과 제2위치 P2와의 사이에 포함되고, 또한 맞닿음 영역 R12의 이동 궤적 R2가 제2위치 P2와 제3위치 P3과의 사이에 포함되도록, 각각의 위치 P1～P3이 설정됨과 더불어, 이동 속도 V1 및 V2가 설정되도록 하는 것이 바람직하다.

또한, 본 제1실시형태의 세정 유닛(10)은, 상기의 설명과 같은 구성으로만 한정되는 것이 아니고, 기타의 여러 가지 구성을 채용할 수 있다. 예로서, 도 9A, 도 9B, 및 도 9C의 모식 설명도에 나타내는 세정 유닛(40)과 같이, 제1세정 헤드부(41)에 있어서의 헤드 롤러부(41a)와, 제2세정 헤드부(42)에 있어서의 헤드 롤러부(42a)를 서로 다른 구조로 하는 경우라도 좋다.

구체적으로는, 도 9C에 나타내는 바와 같이, 제1세정 헤드부(41)의 헤드 롤러부(41a)로서, 단자부(6)의 모서리 부분을 중점적으로 세정하는 소형의 롤러를 사용하고, 도 9B에 나타내는 바와 같이, 제2세정 헤드부(42)의 헤드 롤러부(42a)로서, 단자부(6)의 전면을 전체적으로 세정하는 대형의 롤러를 사용하도록 하는 구성이 채용되어 있다.

이러한 구성이 채용됨으로써, 기판(5)의 단자부(6)에 있어서, 오물을 닦아내기 어려운 모서리 부분을 확실하고 또한 고정밀도로 세정할 수 있다. 또한, 도 9C에 나타내는 바와 같이, 소형의 헤드 롤러부(41a)를 단자부(6)의 모서리 부분에 가세(加勢)하는 스프링부(41c)를 사용함으로써, 이 모서리 부분의 세정 효과를 더욱 향상시킬 수 있다.

또한, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a)와, 제2세정 헤드부(12)의 헤드 롤러부(12a)의 Y축 방향에 있어서의 위치를 상이하게 하도록 배치하는 구성을 채용할 수도 있다. 특히, 단자부(6)의 Y축 방향에 있어서의 영역 폭이 큰 경우에 있어서지만, 이와 같이 2개의 헤드 롤러부(11a와 12a)의 위치를 상이하게 함으로써, 전 영역에 대한 확실한 세정 처리를 실현할 수 있다.

또한, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a)와, 제2세정 헤드부(12)의 헤드 롤러부(12a)의 크기뿐만 아니라, 종류 자체를 서로 상이한 것으로 하는 구성을 채용할 수도 있다. 예로서, 한쪽의 헤드 롤러부를 롤러 형상으로 하면서, 다른 쪽의 헤드 롤러부를 블레이드(blade) 형상의 것, 또는 브러시(brush) 형상의 것으로 할 수도 있다. 이러한 경우에 있어서는, 더욱 다양화된 세정 형태에 대응할 수 있고, 여러 가지 종류의 기판의 세정 처리에 대응할 수 있게 된다.

또한, 도 5～도 7을 이용한 세정 처리의 설명에서는, 제2세정 헤드부(12)의 헤드 롤러부(12a)의 맞닿음 위치 P12가, 기판(5)의 단자부(6)의 단부에 위치된 상태에서, 세정 처리가 개시되는 경우에 대하여 설명했지만, 본 제1실시형태의 세정 처리는 이러한 경우만으로 한정되는 것이 아니다. 이러한 경우 대신에, 예로서, 도 5에 있어서, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a)의 맞닿음 위치 P11이 기판(5)의 단자부(6)의 단부에 위치된 상태에서, 세정 처리가 개시되는 경우라도 좋다.

또한, 마찬가지로, 도 7에 나타내는 바와 같이, 제1세정 헤드부(11)의 헤드 롤러부(11a)의 맞닿음 위치 P11이 기판(5)의 단자부(6)의 단부에 위치된 상태에서, 세정 처리가 완료되는 경우 대신에, 추가로 세정 유닛(10)의 이동을 실행하고, 제2세정 헤드부(12)의 헤드 롤러부(12a)의 맞닿음 위치 P12를 기판(5)의 단자부(6)의 단부에까지 위치시킨 상태에서, 세정 처리가 완료되는 경우라도 좋다. 이러한 경우에는, 세정 방향 D에 있어서 단자부(6)의 모든 영역을, 2번 닦아낼 수 있어서, 세정성을 향상시킬 수 있다.

또한, 상기의 설명에서는, 세정 처리에 있어서, 세정 헤드 이동 장치(30)에 의한 각각의 세정 헤드부(11, 12)의 이동 방향이, 세정 방향 D와 동일한 방향인 경우에 대하여 설명했지만, 이러한 경우만으로 한정되지 않고, 세정 방향 D와 역방향으로 이동시키는 경우라도 좋다. 단, 도 5로부터 도 7에 나타내는 바와 같이, 세정 방향 D와 동일한 방향으로 이동시키는 편이, 유닛 이동 장치(31)에 의한 세정 유닛(10)의 이동 범위를 작게 할 수 있어서, 세정 처리에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다고 하는 관점, 및 단자 세정 장치(101) 전체의 소형화라고 하는 관점에서는 바람직하다. 또한, 제1세정 헤드부(11)와 제2세정 헤드부(12)는, 동일한 방향으로 이동되는 경우만으로 한정되지 않고, 상이한 방향으로 이동되는 경우라도 좋다.

또한, 세정 헤드 이동 장치(30)가 메인 프레임(25)에 고정되고, 메인 프레임(25)이 유닛 이동 장치(31)에 의해서 이동되는 경우에 대하여 설명했지만, 이러한 경우 대신에, 각각의 이동 장치(30, 31)가 서로 독립적으로 구비되어 있는 경우라도 좋다. 각각의 롤러부(21～23 및 26～28)의 이동 속도 Va와, 각각의 헤드 롤러부(11a～14a)의 이동 속도 Vb가 서로 상이한 관계를 가지면, 이동 장치의 주종 관계에도 불구하고, 본 제1실시형태에 의한 효과를 얻을 수 있다.

또한, 본 제1실시형태의 단자 세정 장치(101)에 있어서는, 기판 지지 스테이지(7)에 의해서 지지된 기판(5)을 고정하고, 이 기판(5)에 대하여 세정 유닛(10)을 이동시킴으로써, 상기 세정 처리를 실행하는 경우에 대하여 설명했지만, 이러한 경우만으로 한정되는 것이 아니다. 이러한 경우 대신에, 세정 유닛(10)을 고정하고, 기판 지지 스테이지(7)에 의해서 기판(5)을 이동시키는 경우라도 좋다. 이러한 경우에도, 상기 세정 처리를 위한 양자의 상대적인 이동을 실행할 수 있기 때문이다.

(제2실시형태)

또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 기타의 여러 가지 형태로 실시할 수 있다. 예로서, 본 발명의 제2실시형태에 의한 단자 세정 장치가 구비한 세정 유닛(110)의 부분적인 구성을 나타내는 모식 설명도를 도 10에 나타낸다.

도 10에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(110)에 있어서는, 제1세정 헤드부(111)에 의해서 기판(5)의 단자부(6)에 맞닿는 세정 천(2)의 맞닿음면과, 제2세정 헤드부(112)에 의해서 단자부(6)에 맞닿는 세정 천(2)의 맞닿음면이, 서로 표리(表裏)가 반전하도록, 세정 천(2)의 표면과 이면을 반전시키는 비틀림 기구(120)가 구비되어 있는 점에서, 상기 제1실시형태의 세정 유닛(10)과는 상이한 구성으로 되어 있다.

구체적으로는, 도 10에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(110)은 상면 측의 구성 부분에 있어서, 공급되는 세정 천(2)을 주행 안내 가능하게 지지하는 4개의 롤러부(121, 122, 123, 124)와, 각각의 롤러부(121～124)와는 90도 상이한 방향으로 배치되고, 중앙 부근에 배치되는 롤러부(122 및 123)의 사이에 지지된 세정 천(2)을 지지하면서 표면과 이면을 반전시키는 비틀림용 롤러부(125)를 구비하고 있다. 즉, 상기 중앙 부근의 2개의 롤러부(122 및 123)와, 비틀림용 롤러부(125)에 의해서, 세정 천(2)을 반전시키는 비틀림 기구(120)가 구성되어 있다.

또한, 도 10에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛(110)의 하면 측의 구성 부분에 있어서도, 기판(5)을 사이에 두고 대칭인 구성이 구비되어 있어서, 4개의 롤러부(126～129)와, 비틀림용 롤러부(131)가 구비되고, 중앙 부근의 2개의 롤러부(127 및 128)와, 비틀림용 롤러부(131)에 의해서 비틀림 기구(130)가 구성되어 있다.

이와 같이 각각의 비틀림 기구(120, 130)가 구비되어 있음으로써, 제1세정 헤드부(111)에 의한 단자부(6)에의 세정 천(2)의 맞닿음면과, 제2세정 헤드부(112)에 의한 단자부(6)에의 세정 천(2)의 맞닿음면의 표리를 반전시킬 수 있음과 더불어, 제3세정 헤드부(113)에 의한 단자부(6)에의 세정 천(2)의 맞닿음면과, 제4세정 헤드부(114)에 의한 단자부(6)에의 세정 천(2)의 맞닿음면의 표리를 반전시킬 수 있다. 따라서, 예로서, 제1세정 헤드부(111)에서 사용한 세정 천(2)의 이면을 제2세정 헤드부(112)에서 사용할 수 있게 되어서, 양호한 세정 정밀도를 유지하면서, 세정 천(2)을 더욱 효율적으로 사용할 수 있게 된다.

또한, 상기 여러 가지 실시형태 중 임의의 실시형태를 적절하게 조합함으로써, 각각이 갖는 효과를 실현할 수 있다.

본 발명은, 첨부 도면을 참조하여 바람직한 실시형태에 관련하여 충분히 기재되어 있지만, 이 기술이 숙련된 사람들에게는 여러 가지 변형이나 수정이 있을 수 있는 것은 명백하다. 그러한 변형이나 수정은, 첨부한 청구범위에 의한 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않는 한, 그 중에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.

2005년 4월 1일에 출원된 일본국 특허 출원 제2005-105943호의 명세서, 도면, 및 특허청구의 범위의 개시 내용은, 전체적으로 참조되어서 본 명세서 내에 포함된다.

Claims

기판의 표면에 대상(帶狀)으로 형성된 단자부에, 대상의 세정 부재를 맞닿게 하면서 상기 단자부를 따라서 이동시킴으로써, 상기 단자부의 세정을 실행하는 기판 단자 세정 장치에 있어서,

상기 기판을 배치시켜서 그 지지를 실행하는 기판 지지부와,

상기 기판 지지부에 지지된 상기 기판에서의 상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있는 제1위치에서, 상기 세정 부재를 지지하는 제1지지부와,

상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있고 또한 상기 제1위치로부터 상기 단자부를 따르는 방향으로 배치된 제2위치에서, 상기 세정 부재를 지지하는 제2지지부와,

상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부를, 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿게 하여 가압(加壓)하는 세정 헤드(head)부와,

상기 단자부를 따르는 방향으로, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부를 일체적으로 또한 상기 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 지지부 이동 장치와,

상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부의 제1이동 속도와는 상이한 제2이동 속도로, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 세정 헤드부를 상기 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 세정 헤드 이동 장치를 구비한 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1이동 속도로의 이동에 의해서, 상기 단자부에 맞닿은 상태의 상기 세정 부재를, 상기 단자부를 따라서 이동시키고,

상기 세정 헤드 이동 장치에 의한 상기 제2이동 속도와 상기 제1이동 속도와의 이동 속도차에 의해서, 상기 세정 부재에 대한 상기 세정 헤드부의 맞닿음 위치를, 상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 가변(可變)시키는 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 지지부 이동 장치는, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부와 일체적으로 상기 세정 헤드 이동 장치를 상기 제1이동 속도로 이동 가능하고,

상기 세정 헤드 이동 장치는, 상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 이동시에, 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부에 대하여 상기 세정 헤드부를, 상기 제2이동 속도와 상기 제1이동 속도와의 차의 이동 속도로 상대적으로 이동시키는 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있고 또한 상기 제1지지부 및 상기 제2지지부와 함께 상기 단자부를 따르는 방향으로 배치된 제3위치에서, 상기 세정 부재를 지지하는 제3지지부와,

제1의 상기 세정 헤드와는 별개로 구비되고, 상기 제2지지 위치와 상기 제3위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부를, 그 맞닿음 위치에서 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿게 하여 가압하는 제2세정 헤드부를 추가로 구비하고,

상기 지지부 이동 장치는, 상기 제1지지부, 상기 제2지지부, 및 상기 제3지지부를 일체적으로 이동시키고,

상기 세정 헤드 이동 장치는, 상기 제1이동 속도와는 상이한 제3이동 속도로, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제2세정 헤드부를 이동시키는 기판 단자 세정 장치.
제4항에 있어서,

상기 제2이동 속도와 상기 제3이동 속도는 동일한 이동 속도이고,

상기 세정 헤드 이동 장치는, 상기 제1세정 헤드부 및 상기 제2세정 헤드부를 일체적으로 상기 제2이동 속도로 이동시키는 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 세정 헤드부는,

상기 단자부에 가압 가능하게, 상기 세정 부재의 일부와 맞닿는 세정 부재 맞닿음부와,

상기 단자부에의 상기 세정 부재의 가압 높이 위치와, 상기 단자부로부터 거리를 두고 떨어져 있는 가압 해제 높이 위치와의 사이에서, 상기 세정 부재 맞닿음부를 승강시키는 승강 장치를 구비한 기판 단자 세정 장치.
제6항에 있어서,

상기 지지부는, 상기 세정 부재를 주행 가능하게 지지하는 지지용 롤러(roller)부이고,

상기 세정 헤드부에서의 상기 세정 부재 맞닿음부는, 이동 가능하게 상기 세정 부재와 맞닿는 맞닿음용 롤러부인 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 세정 헤드 이동 장치에서의 상기 제2이동 속도는, 상기 지지부 이동 장치에서의 상기 제1이동 속도보다도 크게 설정되어 있는 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 지지부 이동 장치에 의한 상기 제1지지부의 상기 단자부의 세정 영역의 이동에 걸리는 시간은, 상기 세정 헤드 이동 장치에 의한 상기 제1위치의 근방에서의 상기 맞닿음 위치로부터 상기 제2위치의 근방에서의 상기 맞닿음 위치로의 상기 세정 헤드부의 이동에 걸리는 시간 이하로 되도록, 상기 제1이동 속도 및 상기 제2이동 속도가 설정되는 기판 단자 세정 장치.
제1항에 있어서,

상기 단자부의 표면 및 이면(裏面)을 함께 세정 가능하게, 상기 기판을 사이에 두고, 상기 각각의 지지부 및 상기 세정 헤드부가 1쌍으로 구비되고,

상기 1쌍의 세정 헤드부는, 상기 단자부에서의 동일한 위치의 표면 및 이면의 각각에 상기 각각의 세정 부재를 맞닿게 하는 기판 단자 세정 장치.
제10항에 있어서,

상기 1쌍의 각각의 지지부는 상기 제1이동 속도로 서로 동기(同期)하여 이동됨과 더불어, 상기 1쌍의 세정 헤드부는 상기 제2이동 속도로 서로 동기하여 이동되는 기판 단자 세정 장치.
제4항 또는 제5항에 있어서,

상기 제1지지부와 상기 제3지지부와의 사이에 배치되는 상기 제2지지부는, 상기 제1지지 위치와 상기 제2지지 위치와의 사이에 배치된 상기 세정 부재의 지지 자세에 대하여, 상기 제2지지 위치와 상기 제3지지 위치와의 사이에 배치된 상기 세정 부재의 지지 자세를 표리 반전(反轉)시키는 비틀림 기구를 구비한 기판 단자 세정 장치.
기판의 표면에 대상으로 형성된 단자부에, 대상의 세정 부재를 맞닿게 하면서 상기 단자부를 따라서 이동시킴으로써, 상기 단자부의 세정을 실행하는 기판 단자의 세정 방법에 있어서,

상기 기판에서의 상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있는 제1위치와, 상기 제1위치로부터 상기 단자부를 따르는 방향으로 거리를 두고 배치된 제2위치에서, 상기 세정 부재를 지지하면서, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1 및 제2위치와, 상기 세정 부재를 상기 기판에 대하여 제1이동 속도로 이동시킴과 더불어, 상기 제1위치와 상기 제2위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부가 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿는 맞닿음 위치를, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1이동 속도와는 상이한 제2이동 속도로, 상기 기판에 대하여 이동시키는 기판 단자의 세정 방법.
제13항에 있어서,

상기 단자부의 표면으로부터 거리를 두고 떨어져 있고 또한 상기 제1 및 상기 제2위치와 함께 상기 단자부를 따르는 방향으로 배치된 제3위치에서, 상기 세정 부재를 추가로 지지하면서, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1, 제2 및 제3위치와, 상기 세정 부재를 상기 기판에 대하여 상기 제1이동 속도로 이동시킴과 더불어, 상기 제2위치와 상기 제3위치와의 사이에서 상기 지지된 상태의 세정 부재의 일부가 추가로 상기 기판의 상기 단자부에 맞닿는 제2맞닿음 위치를, 상기 단자부를 따르는 방향으로 상기 제1이동 속도와는 상이한 제3이동 속도로, 상기 기판에 대하여 이동시키는 기판 단자의 세정 방법.