JP4920931B2 - 基板端子洗浄装置 - Google Patents

Description

本発明は、表示部とその周囲の少なくとも一辺に形成された端子部とを有する表示装置用基板パネルにおいて、上記端子部に帯状の洗浄体を圧接させながら、当該端子部の長手方向に沿って上記洗浄体を移動させることにより、当該端子部の洗浄を行う基板端子洗浄装置に関する。

近年、このような表示装置用基板パネルの一例である液晶パネルやプラズマパネルの需要は急成長しており、液晶パネル等の品質、歩留まりの向上が強く望まれている。このような背景のもと、例えば、液晶パネルの実装工程での品質、歩留まり向上のためには、実装工程の直前に再度実装面のクリーニング（洗浄あるいは清掃）処理を行うことが効果的であり、液晶パネル端子クリーニング装置に対する関心が高まっている。

ここで、従来の液晶パネル端子クリーニング装置の構成（例えば、特許文献１参照）について、図２２に示す模式説明図を用いて以下に説明する。従来のクリーニング装置５０１においては、液晶パネル５の表示部４の周りに形成された端子部６をその両面より挟み込むような形状に構成された一対のクランプ爪５１７と、このクランプ爪５１７の内側に沿って供給配置される帯状の洗浄体である洗浄布２とが備えられている。このようなクランプ爪５１７により、液晶パネル５の端子部６の表裏面を、洗浄布２を介して把持して洗浄布２を端子部に圧接させて、当該圧接状態を保ちながら、帯状の端子部６に沿ってクランプ爪５１７を移動させることにより、端子部６の表裏面に付着しているパーティクルや油分等を洗浄布にて拭き取ることで、端子部６をクリーニングすることができる。なお、図２２において、クリーニング装置５０１は、一対のクランプ爪５１７に供給可能に洗浄布２を支持する２個の支持ローラ５２１、５２３と、一対のクランプ爪５１７の間隙の中に洗浄布２の一部を挿入させるように支持するガイドローラ５２２が備えられている。
特許第３４４５７０９号公報

近年、このような液晶パネル等に代表される基板パネルの大型化が進んでいるとともに、当該基板パネルの中で、表示部が占める面積を少しでも大きくするような開発も進んでいる。このように、表示部が占める面積が拡大化されるような場合にあっては、その周囲に形成される端子部が占める面積が狭小化されることになる。

このように端子部が狭小化されると、当該端子部表面の領域を効率的に活用するために、当該領域において電極等が密集配置されるとともに、例えば、従来においては使用されていないような領域である表示部と端子部との間の段部近傍における端子部表面の領域も活用されて、当該領域に電極等の形成が行われるようになってきている。そのため、クリーニング装置により当該段部近傍の領域をも確実にクリーニングすることが必要となる。

しかしながら、従来のクリーニング装置５０１のような構成では、一対のクランプ爪５１７により端子部６の把持を行うことで洗浄布２を端子部６の表面に圧接させるような構成を採用しているため、パネル５の貼り合せ位置の公差（すなわち、パネルにおける上記段部の形成位置の公差）等により上記段部とクランプ爪５１７との位置決めにバラツキが生じるような場合にあっては、誤って表示部４をクランプ爪５１７にて把持してしまい、表示部４を損傷させてしまうような場合が生じ得る。このような位置決め誤差に起因する表示部４への損傷発生の問題は、端子部６の狭小化が進むに従って顕著なものとなる。

従って、このような表示部４の損傷を確実に防止するため、従来のクリーニング装置５０１においては、図２２に示すように、クランプ爪５１７の先端と段部３との間に、上記位置決め誤差よって誤って表示部４を把持してしまうことを確実に防止するための間隙ｄが設けられた状態で、端子部６に対する上記把持が行われ、当該把持された領域において端子部６のクリーニングが行われている。すなわち、段部３の近傍における間隙ｄに相当する領域はクリーニングされないこととなる。しかしながら、このように端子部６において、部分的にクリーニングされない領域が存在すれば、基板パネル５の品質にも影響する。

従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、表示部とその周囲の少なくとも一辺に形成された端子部とを有する表示装置用基板パネルにおいて、上記端子部に帯状の洗浄体を圧接させながら、当該端子部の長手方向に沿って上記洗浄体を移動させることにより行われる当該端子部の洗浄において、上記端子部表面における上記表示部との境界付近まで確実かつ高精度な洗浄を実現することができる基板端子洗浄装置を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。

本発明の第１態様によれば、表示部と、上記表示部の周囲の少なくとも一辺において当該表示部の表面よりも一段下がるように形成された端子部とを有する表示装置用基板パネルにおける上記端子部に帯状の洗浄体を圧接させながら、上記端子部の長手方向に沿って当該洗浄体を移動させることにより、当該端子部の洗浄を行う基板端子洗浄装置において、
上記基板パネルを配置させてその保持を行う基板保持装置と、
上記洗浄体を保持するとともに、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルにおける上記端子部に当該洗浄体を当接させて加圧する洗浄ヘッドと、
上記端子部の長手方向と直交する方向に沿って、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルと上記洗浄ヘッドとの相対的な移動を行う第１の移動装置と、
上記洗浄ヘッドによる上記洗浄体の上記端子部への圧接のための加圧力として、第１の加圧力と当該第１の加圧力よりも大きな第２の加圧力とを選択的に上記洗浄ヘッドに付加する圧力付加装置と、
上記端子部の長手方向に沿って、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルと上記洗浄ヘッドとの相対的な移動を行う第２の移動装置と、
上記端子部と上記表示部との間の段部より離間されるように、上記洗浄ヘッドにより上記洗浄体を当該端子部に圧接させ、上記第１の移動装置による上記相対的な移動の実施により、上記圧接させた状態で当該洗浄体を上記端子部の表面に沿ってスライド移動させて、当該洗浄体の端部を上記段部に当接させる洗浄準備処理と、上記第２の移動装置による上記相対的な移動の実施により、上記段部に当接された状態の上記洗浄体を上記端子部に対して圧接させながら、その長手方向に沿って上記端子部の表面沿いにスライド移動させて、上記端子部の洗浄を行う洗浄本処理とを実行可能であって、上記洗浄準備処理の上記圧接は上記第１の加圧力を用いて行い、上記洗浄本処理の上記圧接は上記第２の加圧力を用いて行うように、上記圧力付加装置より上記洗浄ヘッドに付加される加圧力の切り換え制御を行って、上記洗浄準備処理と上記洗浄本処理を連続的に実施させる制御装置とを備えることを特徴とする基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第２態様によれば、上記洗浄体の端部が上記段部に当接したことを検出するとともに、その検出結果情報を上記制御装置へ入力させる段部当接検出手段をさらに備え、
上記制御装置は、上記段部当接検出手段により上記検出結果情報が入力されたことでもって、上記第１の加圧力から上記第２の加圧力への切り換え制御を実施する第１態様に記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第３態様によれば、上記段部に当接された状態の上記洗浄体を当該段部に付勢するように、上記洗浄ヘッドに対して付勢力を付与する付勢力付与部をさらに備える第２態様に記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第４態様によれば、上記段部当接検出手段は、上記付勢力付与部により上記段部に付与された上記付勢力が、所定の大きさとなったことを検出する付勢力検出センサである第３態様に記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第５態様によれば、上記段部当接検出手段は、上記第１の移動装置による上記洗浄ヘッドと上記基板保持装置との相対的な移動位置を検出する移動位置検出センサである第２態様又は第３態様に記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第６態様によれば、上記洗浄ヘッドは、
上記圧力付与装置により選択的に付与される上記第１の加圧力又は上記第２の加圧力でもって、上記洗浄体を介して解除可能に上記端子部を把持する一対の把持爪と、
上記一対の把持爪の間隙内に当該把持爪により保持された上記洗浄体の上記帯状の途中部分を導くガイド手段とを備え、
上記制御装置は、
上記ガイド手段により上記洗浄体が導かれた状態の上記一対の把持爪の間隙内に上記基板パネルの上記端子部の一部を挿入させ、当該把持爪の先端に保持された上記洗浄体を上記段部より離間させた状態にて上記端子部に第１の加圧力でもって圧接させながら、上記第１の移動装置による上記相対的な移動を実施させることにより、少なくとも一方の上記把持爪の先端が上記洗浄体を介して上記段部に当接させることで、上記洗浄準備処理を実施する第１態様から第５態様のいずれか１つに記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第７態様によれば、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルにおける上記端子部の表面より離間された第１の位置において、当該洗浄体を支持する第１の支持部と、
上記端子部表面から離間されかつ上記第１の位置より上記端子部沿いの方向に配置された第２の位置において、当該洗浄体を支持する第２の支持部と、
上記端子部の長手方向に沿って、上記第１の支持部及び上記第２の支持部を一体的かつ上記基板保持装置に対して相対的に移動させる第３の移動装置とをさらに備え、
上記洗浄ヘッドは、上記第１の位置と上記第２の位置との間にて上記支持された状態の洗浄体の一部を、上記加圧力が付与されることで上記端子部に圧接可能であって、
上記第１の移動装置は、上記第１の支持部、上記第２の支持部、及び上記洗浄ヘッドを一体的な状態として、上記端子部の長手方向と直交する方向に沿って上記基板保持装置に対する上記相対的な移動を行い、
上記第２の移動装置は、上記第３の移動装置による上記第１の支持部及び上記第２の支持部の第１の移動速度とは異なる第２の移動速度にて、上記端子部の長手方向沿いに上記洗浄ヘッドの上記移動を行う第１態様から第５態様のいずれか１つに記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の第８態様によれば、上記端子部の表面及び裏面を共に洗浄可能に、上記基板パネルを介して、上記それぞれの支持部及び上記洗浄ヘッドが一対に備えられ、
当該一対の洗浄ヘッドは、上記端子部の同じ位置における表面及び裏面のそれぞれに上記各々の洗浄体を当接させる第７態様に記載の基板端子洗浄装置を提供する。

本発明の上記態様によれば、表示部とその周囲の少なくとも一辺に形成された端子部とを有する表示装置用基板パネルにおける上記端子部の洗浄処理において、洗浄ヘッドにより保持された洗浄体を、上記端子部と上記表示部との間の段部より離間された状態にて上記端子部に圧接させた後、当該圧接させながら上記洗浄体を上記端子部の表面に沿ってスライド移動させて、その端部を上記段部に当接させる洗浄準備処理と、上記段部に当接された状態の上記洗浄体を上記端子部に対して圧接させながら、上記端子部の表面に沿ってその長手方向に沿ってスライド移動させて、上記端子部の洗浄を行う洗浄本処理との２つの処理に分けて洗浄処理を実行するとともに、上記洗浄準備処理の上記圧接は上記第１の加圧力を用いて行い、上記洗浄本処理の上記圧接は上記第１の加圧力よりも大きな上記第２の加圧力を用いて行うように、加圧力付加装置より上記洗浄ヘッドに付加される加圧力の切り換え制御を行うことで、上記洗浄準備処理と上記洗浄本処理を連続的に実施させることができる。

上記洗浄準備処理において、上記洗浄体の圧接のための加圧力としてより小さな力である上記第１の加圧力が選択されることにより、上記段部から離間された位置において上記洗浄ヘッドにより圧接された状態の上記洗浄体を、上記段部へ向けて上記端子部の表面に沿って円滑にスライド移動させることができる。また、このスライド移動の際は、上記洗浄ヘッドにより上記洗浄体が上記第１の加圧力でもって上記端子部の表面に圧接された状態とされているため、当該洗浄体が上記段部を乗り上げて上記表示部の表面に接触してしまうことを確実に防止しながら、上記洗浄体を上記段部の隅部分に確実に当接させることができる。このように上記洗浄体が上記段部へ当接された状態とさせることで、上記段部から周端部までの間における上記端子部の表面全体に上記洗浄体を確実に当接させた状態とさせることができる。

このように上記洗浄準備処理において、上記端子部の表面全体に上記洗浄体を確実に当接させた状態とさせた後、より大きな力である上記第２の加圧力への切り替えを行って、上記洗浄本処理を実施することにより、より大きな力で圧接された状態の上記洗浄体でもって、上記端子部の表面に付着した汚れ等を効果的に除去することができる。

従って、上記基板パネルにおける上記表示部に損傷を発生させてしまうことを確実に防止しながら、上記段部の隅部分にまで上記洗浄布を確実に接触させた状態にて、上記端子部の表面全体において洗浄されていない領域が残らないように高精度かつ確実な洗浄処理を効果的に実施することができる。

以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。

（第１実施形態）
本発明の第１の実施形態にかかる基板端子洗浄装置に一例であるクリーニング装置１０１の主要な構成を示す模式斜視図を図１に示し、クリーニング装置１０１の模式平面図を図２に示す。

クリーニング装置１０１は、表示装置用基板パネル、例えば、液晶表示装置（液晶パネル）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラットディスプレイパネル用の基板パネルにおける表示部の周囲、すなわち縁部等に形成された端子部（あるいは端子部表面）を、洗浄体の一例である洗浄布に接触させて拭き取ることにより洗浄（あるいは清掃）を行う装置である。なお、本明細書において、「クリーニング」とは、洗浄又は清掃により、対象物に付着している汚れの除去を行うことであり、湿式クリーニング及び乾式クリーニングの両者を含むものである。

ここで、装置の具体的構成を説明するに先立って、このような基板パネルにおける端子部近傍の構造について、図３に示す模式図を用いて以下に説明する。なお、図３においては、基板パネル５が液晶パネルであるような場合を一例として、その構造を示している。

図３に示すように、基板パネル５は、ガラス基板パネル５１をベース層とした多層構造を有している。具体的には、ガラス基板パネル５１の図示上面には液晶５２、カラーフィルタ５３、別のガラス基板パネル５４、さらに偏光板５５が積層されており、ガラス基板パネル５１の図示下面には偏光板５６が積層された構造を有している。このように、それぞれの層が積層された構造を有する部分が、基板パネル５における表示部４となっており、この表示部４に対して、図示上面側からバックライト等の光源を用いて光を照射させることで、表示部４の図示下面側において所望の画像等を視認可能に表示させることが可能となっている。

また、図３に示すように、ガラス基板パネル５１は、その他の層よりも大きく形成されて、表示部４の端部よりも突き出るように形成されている。このように表示部４の周囲において表示部４の表面よりも一段下がるように形成されたガラス基板パネル５１の表面が電極面となっており、このような電極面が形成された部分が端子部６となっている。このような端子部６には、基板パネル５を外部の電子回路等と接続するための多数の電極端子（図示しない）が形成される。

例えば、表示部４と端子部６との境界に形成された段部３（図示上面側の段部）の高さは、例えば０．７ｍｍ程度であり、表示部４の周囲に沿って形成された端子部６の幅（すなわち長手方向とは直交する方向の長さ寸法）は例えば５ｍｍ程度となるように形成されている。なお、このような端子部６は、略方形状を有する表示部４の周囲における少なくとも一辺に形成されており、一般的には、上記略方形状の２辺若しくは３辺において、周縁部として形成されている。

本第１実施形態のクリーニング装置１０１は、このような構造を有する基板パネル５において、端子部６の表面の洗浄を行う装置である。

次に、クリーニング装置１０１の構成について、図１及び図２を用いて以下に説明する。図２に示すように、クリーニング装置１０１は、搬送供給される基板パネル５を解除可能に保持するとともに、基板パネル５における端子部６の洗浄のための位置決め動作を実施可能に当該保持された基板パネル５を、その表面沿いの方向である図示Ｘ軸方向又はＹ軸方向、さらに当該表面内（すなわちＸＹ平面内）における回転方向であるθ方向に移動させる基板支持ステージ７（基板保持装置の一例）と、この基板支持ステージ７により保持された基板パネル５の端子部６に対して、クリーニング処理を行うクリーニングユニット１０を備えている。

基板支持ステージ７は、四角形板状の基板パネル５の中央付近において、基板パネル５の下面が載置されるとともに、当該載置された基板パネル５を解除可能に吸着保持する基板保持プレート８と、この基板保持プレート８を図示Ｘ軸方向又はＹ軸方向に進退移動させるとともに、基板保持プレート８をθ方向に回転移動させるプレート移動装置９（第１の移動装置の一例）とを備えている。なお、このようなプレート移動装置９は、例えば、ボールねじ軸機構やシリンダ機構等を用いた駆動機構により構成することができる。また、プレート移動装置９は、上述のようにＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθ方向における移動動作に加えて、基板パネル５の表面に直交する方向であるＺ軸方向にも基板保持プレート８を移動させる機構を有しており、これにより、基板支持ステージ７により保持された基板パネル５を、全ての方向に移動させることができ、上記クリーニング処理のための確実な位置決めを行うことが可能となっている。

図１の模式斜視図に示すように、クリーニングユニット１０は、基板支持ステージ７にて保持された基板パネル５の端子部６に対するクリーニング処理を行う洗浄ヘッド１２と、帯状（テープ状）の洗浄布２がリールに巻き回された状態にて保持するとともに、上記クリーニング処理のために洗浄布２を、洗浄ヘッド１２に供給する洗浄布供給部１４と、当該クリーニング処理に用いられた洗浄布２をリールに巻き回させて回収する洗浄布回収部１６とが備えられている。なお、洗浄布供給部１４と洗浄布回収部１６との間においては、一続きの帯状の洗浄布２が取り扱われ、洗浄布供給部１４と洗浄布回収部１６とが同期されて駆動されることで、一続きの洗浄布２が走行され、基板パネル５の端子部６のクリーニング処理毎に、洗浄ヘッド１２に洗浄布２の新たな洗浄面を供給することができるように構成されている。なお、本第１実施形態においては、洗浄布２として、例えば、合成繊維を編み込んだ布材料を用いて、幅１０〜１３ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ程度の大きさにテープ状に形成されたものが用いられる。

ここで、クリーニングユニット１０の詳細な構造を説明するための模式説明図を図４に示す。図４に示すように、クリーニングユニット１０は、洗浄布供給部１４から供給される洗浄布２を洗浄ヘッド１２へ案内するガイドローラ１７と、洗浄ヘッド１２から洗浄布回収部１６へ回収される洗浄布２を案内するガイドローラ１８とが備えられている。また、各々のガイドローラ１７、１８と洗浄布供給部１４又は洗浄布回収部１６との間には、供給又は回収される洗浄布２に対して張力を付与するテンションローラ１９、２０が備えられている。

また、図４に示すように、洗浄ヘッド１２は、供給保持される洗浄布２を介して、基板パネル５の端子部６を解除可能に把持する一対のクランプ爪２２と、この一対のクランプ爪２２の開閉動作を行うエアチャック２４とを備えている。また、この一対のクランプ爪２２の間隙の中に、供給保持される洗浄布２の途中の部分を挿入させて導くガイドローラ２１（ガイド手段の一例）が備えられている。

ここで、洗浄ヘッド１２に対する洗浄布２の供給及び回収の経路について説明すると、洗浄布供給部１４より供給された洗浄布２は、テンションローラ１９及びガイドローラ１７を経由して、図示上側のクランプ爪２２の傾斜面２２ａに沿って走行されながら、当該上側のクランプ爪２２の先端部２２ｂへと供給される。このように供給された洗浄布２は上側のクランプ爪２２の先端部２２ｂから端子部６への当接面２２ｃに沿って一対のクランプ爪２２の間隙内に挿入され、ガイドローラ２１にて反転され、図示下側のクランプ爪２２の当接面２２ｃに沿いながらその先端部２２ｂへと供給される。この下側のクランプ爪２２の先端部２２ｂからは、傾斜面２２ａに沿って走行されながら、ガイドローラ１８及びテンションローラ２０を経由して、洗浄布回収部１６に洗浄布２が回収される。従って、それぞれのクランプ爪２２の外側の傾斜面２２ａ及び先端部２２ｂと、内側の当接面２２ｃには、供給される洗浄布２が常時接触して保持された状態とされている。

また、図４に示すように、クリーニングユニット１０には、クランプ爪２２の開閉動作を行うエアチャック２４に対して、第１の加圧力と、当該第１の加圧力よりも大きな第２の加圧力とを選択的に付与する圧力付与装置の一例である加圧力供給装置２６が備えられている。この加圧力供給装置２６は、例えば、上記第１の加圧力を発生させるための圧力源としての低圧源２７（例えば、低圧の圧縮空気）と、上記第２の加圧力を発生させるための圧力源としての高圧源２８（例えば、高圧の圧縮空気）とが接続されており、この低圧源と高圧源とを切り換えてエアチャック２４へ選択的に加圧力を伝達するバルブ２９を備えている。このように構成されていることにより、一対のクランプ爪２２にて、基板パネル５の端子部６に対する把持を、第１の加圧力と第２の加圧力の２種類の加圧力を選択的に用いて実施することが可能となっている。なお、本第１実施形態において、第２の加圧力は、端子部６に対するクリーニング処理を行う際に必要な大きさに加圧力であり、これに対して、第１の加圧力は、第２の加圧力よりも小さな加圧力であって、この加圧力でもって把持されている間は、実質的なクリーニング処理は行われない。

また、上記第１の加圧力と第２の加圧力としては、例えば、上記端子部６に対するクリーニング処理を行う際に必要な大きさの加圧力である第２の加圧力の大きさを１００％とした場合に、第１の加圧力は８０％程度の大きさの力として設定することができる。なお、このようなそれぞれの加圧力の大きさは、基板パネル５の仕様（例えば、形成材料、厚み、段部の大きさ等）や求められる洗浄品質に基づいて設定されることが好ましい。

さらに、クリーニングユニット１０には、洗浄ヘッド１２を図示Ｙ軸方向に沿って移動可能にその移動を案内するガイドレール３０と、このようにガイドレール３０により移動が案内された状態の洗浄ヘッド１２を固定する弾性部材の一例であるシリンダ３１とが備えられている。このような構成により、例えば、図４において、洗浄ヘッド１２に対して図示Ｙ軸方向左向きの外力が作用されたような場合に、ガイドレール３０に沿って洗浄ヘッド１２が図示Ｙ軸方向左向きに移動され、当該移動によりシリンダ３１内の流体が弾性圧縮されて、それに伴って、シリンダ３１より洗浄ヘッド１２に対して図示Ｙ軸方向右向きの付勢力が付与される。上記外力と上記付勢力との釣り合いが採れるＹ軸上の位置にて、洗浄ヘッド１２が停止することとなる。なお、本第１実施形態においては、シリンダ３１が付勢力付与部の一例となっており、このようなシリンダ３１が採用されるような場合の他に、弾性バネ等を採用することもできる。

また、図４に示すように、クリーニングユニット１０には、このような洗浄ヘッド１２への外力作用によるＹ軸方向に移動位置を検出する移動位置検出用センサ３７が備えられている。この移動位置検出用センサ３７は、具体的には、上述したように洗浄ヘッド１２に対して図示Ｙ軸方向左向きの外力が作用され、所定の位置にまで移動された場合に当該移動が行われたことを検出することが可能となっている。なお、この検出動作の具体的な内容については後述する。

また、図１、図２、及び図３に示すように、クリーニングユニット１０には、洗浄布供給部１４におけるリールと、洗浄布回収部１６におけるリールとを同期させて回転駆動させることで、洗浄布２の供給及び回収を行う駆動モータ３２が備えられている。さらに図１及び図２に示すように、クリーニング装置１０１には、クリーニングユニット１０を支持しながらその図示Ｘ軸方向に沿っての進退移動を案内する２本のガイドレール３３と、そのＸ軸方向沿いの進退移動を駆動するユニット移動装置３４（第２の移動装置の一例）とが備えられている。ユニット移動装置３４は、２個のローラ３５に走行可能に係合され、かつ、クリーニングユニット１０に固定された駆動ベルト３６と、ローラ３５を回転駆動させて駆動ベルト３６を走行させることで、クリーニングユニット１０のＸ軸方向沿いの進退移動を駆動する駆動モータ（図示しない）とを備えている。ただし、このような構成以外にも、例えばボールねじ軸機構などの様々な駆動機構を採用することができる。

また、クリーニング装置１０１には、それぞれの構成部の動作を制御するとともに、互いの動作を関連付けながら統括的にクリーニング処理を制御する制御装置３８が備えられている。具体的には、制御装置３８は、基板保持プレート８による基板パネル５の保持及び保持解除動作、プレート移動装置９による基板保持プレート８のＸＹ移動、Ｚ軸移動、及びθ回転移動、洗浄布供給部１４及び洗浄布回収部１６による洗浄布２の供給及び回収動作、エアチャック２４による一対のクランプ爪２２の開閉動作（把持動作）、加圧力供給装置２６による加圧力の切り換え動作、ユニット移動装置３４によるクリーニングユニット１０の図示Ｘ軸方向沿いの移動動作のそれぞれの動作制御を行うことが可能となっている。また、移動位置検出用センサ３７による検出結果情報は、制御装置３８へ入力され、当該検出結果情報が入力されたことが、後述するように他の動作制御と関連付けられることとなる。

次に、このような構成を有するクリーニング装置１０１において、基板パネル５の端子部６に対するクリーニング処理を行う手順について、以下に説明する。当該説明にあたって、クリーニング処理の手順のフローチャートを図５に示し、それぞれの手順におけるクリーニング装置１０１の状態を示す模式説明図を図６から図１１に示す。なお、以下に説明するクリーニング処理は、制御装置３８により、クリーニング装置１０１におけるそれぞれの構成部の動作制御が互いに関連付けられながら統括的に実施されることにより行われる。

まず、図２に示すように、クリーニング装置１０１において、クリーニング処理が行われる基板パネル５が図示しない搬送装置により搬送されて、基板支持ステージ７の基板保持プレート８に載置されて保持される。その後、例えば、基板パネル５における基準マーク等が、図示しない認識装置により認識され、当該認識結果に基づいて、基板保持プレート８がプレート移動装置９により図示Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、又はθ軸方向に移動されることにより、図６に示すように、基板支持ステージ７による基板パネル５の保持位置及び保持姿勢が予め定められた状態となるように位置決めが行われる。

一方、クリーニングユニット１０においては、駆動モータ３２が駆動されて、洗浄布供給部１４と洗浄布回収部１６とにより、洗浄布２の供給動作及び回収動作が行われ、新たな洗浄布２が洗浄ヘッド１２へ供給される。なお、このように供給又は回収される洗浄布２は、それぞれのテンションローラ１９、２０により所定の張力が付与された状態で、それぞれのガイドローラ１７、１８により案内されながら走行されることとなる。

その後、基板保持プレート８がプレート移動装置９により図示Ｙ軸方向に移動されることにより、クリーニング処理の対象となる端子部６と、クリーニングユニット１０との位置合わせが行われる（図５のフローチャートにおけるステップＳ１）。

具体的には、図７に示すように、クリーニング処理が行われる端子部の一部６が、洗浄ヘッド１２において開状態とされている一対のクランプ爪２２の間隙内に挿入されるように、基板パネル５が図示Ｙ軸方向左側に移動される。基板パネル５の端子部６の表面において、段部３よりも離間された位置、例えば、端子部６の表面における幅方向（Ｙ軸方向）の中間位置の上方又は下方にそれぞれのクランプ爪２２の先端部２２ｂが位置されるように、プレート移動装置９による基板パネル５の上記移動が行われる。なお、このような位置合わせが行われた状態においては、それぞれのクランプ爪２２と端子部６とはまだ当接されていない状態にある。また、当該位置合わせの際には、ユニット移動装置３４によりクリーニングユニット１０の図示Ｘ軸方向沿いの移動が行われ、基板パネル５の端子部６の長手方向（Ｘ軸方向）における端部位置（すなわちクリーニング処理の開始位置）にクリーニングユニット１０が位置決めされる。

このような位置決めの実施の後、加圧力供給装置２６において、高圧源２８及び低圧源２７の２種類の圧力源の中からバルブ２９により低圧源２７が選択され、圧力連通管等を通じて第１の加圧力Ｆ１がエアチャック２４に伝達される（ステップＳ２）。その後、図８に示すように、エアチャック２４のより一対のクランプ爪２２が閉方向に駆動されて、段部３より離間された位置において、それぞれのクランプ爪２２により洗浄布２を介して、第１の加圧力Ｆ１でもって端子部６の把持が行われる（ステップＳ３）。すなわち、それぞれのクランプ爪２２における当接面２２ｃ上に配置保持されている洗浄布２が、上記位置における端子部６の表面（表裏両面）に第１の加圧力Ｆ１により圧接された状態とされる。なお、このような状態においては、図８に示すように、それぞれのクランプ爪２２の先端部２２ｂと、基板パネル５における段部３との間には、互いに当接（すなわち洗浄布２を介して当接）しないような距離ｗが確保された状態とされている。

このように第１の加圧力Ｆ１でもっての圧接把持が行われた後、図９に示すように、プレート移動装置９により基板パネル５の図示Ｙ軸方向左向きへの移動、すなわち、それぞれのクランプ爪２２による把持状態を保ちながらのスライド移動が行われる。このスライド移動により、それぞれのクランプ爪２２の先端部２２ｂが洗浄布２を介して基板パネル５の段部３に当接されると、洗浄ヘッド１２に対して図示Ｙ軸方向左向きの外力が作用された状態となり、シリンダ３１内の流体が弾性圧縮され、洗浄ヘッド１２がそれぞれのガイドレール３０に沿って図示Ｙ軸方向左向きに移動されることとなる。この洗浄ヘッド１２の移動量が所定の移動量に達したことが、移動位置検出用センサ３７により検出されると、当該検出結果情報が制御装置３８へ入力され、当該情報の入力を受けて制御装置３８は、プレート移動装置９による基板パネル５の移動を停止させる。これにより、クランプ爪２２の先端部２２ｂが洗浄布２を介して確実に段部３に当接された状態とされる（ステップＳ４）。すなわち、本第１実施形態においては、移動位置検出用センサ３７が段部当接検出手段の一例となっている。また、このような当接状態においては、シリンダ３１内の流体が弾性圧縮されることにより生じる付勢力が、クランプ爪２２の先端部２２ｂから段部３に対して常時付勢された状態とされることとなる。なお、基板パネル５においては、図３に示すように、ガラス基板パネル５１の上面側だけでなく、下面側にも小さな段部が形成されているが、両段部は同じ位置に形成されているため、それぞれのクランプ爪２２の先端部２２ｂが、各々の段部に当接された状態とされる。なお、基板パネル５において、一方の面にしか段部が形成されていないような場合にあっては、一方のクランプ爪２２が段部に当接されることとなる。

また、このようにクランプ爪２２が段部３に当接されて、図示Ｙ軸方向左向きに洗浄ヘッド１２が移動されることにより、洗浄布供給部１４から洗浄布回収部１６の間に供給配置されている洗浄布２には弛みが生じる恐れがあるが、図９に示すように、クリーニングユニット１０に備えられている２個のテンションローラ１９、２０により洗浄布２に対して付与される張力でもって、当該弛みは除去される。

次に、制御装置３８は、移動位置検出用センサ３７から入力された検出結果情報に基づいて、加圧力供給装置２６を制御して、バルブ２９により選択されている低圧源２７から高圧源２８への切り換えを行う。これにより、加圧力供給装置２６からエアチャック２４へ伝達される加圧力が第１の加圧力から第２の加圧力へ切り換えられる（ステップＳ５）。その結果、図１０に示すように、段部３に当接された状態で端子部６を圧接把持している一対のクランプ爪２２により、より強い力である第２の加圧力Ｆ２でもっての圧接把持が行われることとなる。

その後、ユニット移動装置３４によりクリーニングユニット１０がそれぞれのガイドレール３３に沿って、図示Ｘ軸方向沿いに所定の速度にて移動される。この移動動作により、段部３に当接されるとともに、第２の加圧力Ｆ２でもって確実に端子部６の表面に圧接された洗浄布２が、端子部６の表面を拭き取るようにして、その長手方向（Ｘ軸方向）に沿って移動され、端子部６の表面に付着した異物や汚れ等を除去するようにクリーニング処理が行われる（ステップＳ６）。当該端子部６の一方の端部に位置されていたクリーニングユニット１０が、他方の端部にまで到達するように上記移動が行われると、この移動が停止される。

その後、ステップＳ７において、クランプ爪２２による端子部６の加圧力が、第２の加圧力Ｆ２から第１の加圧力Ｆ１へと切り換えられ、当該切り換えの後、ステップＳ８において、クランプ爪２２が段部より離間するように、クランプ爪２２のスライド移動が行われ、そして最終的には、図１１に示すように、エアチャック２４によりそれぞれのクランプ爪２２が開方向に駆動されることで、クランプ爪２２による圧接把持が解除される（ステップＳ９）。すなわち、上記クリーニング処理が行われた後、クランプ爪２２の圧接把持を解除する際には、クランプ爪２２による圧接把持が行われる場合に手順と逆の手順にて当該解除が行われることとなる。その後、プレート移動装置９により基板パネル５が移動されて、クランプ爪２２の間から端子部６が挿出される。なお、その後、当該クリーニング処理に使用された洗浄布２の表面（使用済みの表面）が次のクリーニング処理において用いられることが無いように、洗浄布供給部１４と洗浄布回収部１６による洗浄布２の供給及び回収動作のための走行が行われるが、この走行をより円滑に行うため、例えば、図１１に示すように、一対のクランプ爪２２の間に位置されていたガイドローラ２１が可動される構成として、両クランプ爪２２間より外側に移動された状態にて、上記洗浄布２の走行が行われるようにすることもできる。これで、基板パネル５における当該端子部６に対するクリーニング処理が完了する。

その後、クリーニング装置１０１において、例えば、プレート移動装置９により基板保持プレート８をθ方向に９０度回転させるとともに、Ｘ、Ｙ、又はＺ軸方向に移動させることで、基板パネル５における別の端子部６とクリーニングユニット１０との位置合わせを行い、図５に示す手順と同様な手順にて、当該別の端子部６に対するクリーニング処理が行われる。

基板パネル５における全ての端子部６に対するクリーニング処理が完了すると、基板支持ステージ７による基板パネル５の保持が解除されて、図示しない搬送装置に基板パネル５が受け渡され、クリーニング装置１０１より基板パネル５が排出される。これで、基板パネル５に対する一連のクリーニング処理が完了する。

このような一連のクリーニング処理によれば、図５に示すステップＳ１からＳ４における洗浄布２を段部３へ確実に当接された状態として、クリーニング処理を開始するための準備行う洗浄準備処理Ｓ１０と、ステップＳ６における段部３に確実に当接された状態の洗浄布２を端子部６の表面に沿って移動させることで拭き取りによる洗浄を行う洗浄本処理Ｓ２０と、この洗浄本処理が完了した後、洗浄布２の端子部６への当接を解除する洗浄解除処理Ｓ３０との大きく３つの処理に分けてクリーニング処理が行われる。さらに、加圧力供給装置２６により、洗浄準備処理Ｓ１０が行われる際のクランプ爪２２による圧接のための加圧力を第１の加圧力Ｆ１とし、洗浄本処理Ｓ２０が行われる際の加圧力を第１の加圧力Ｆ１よりも大きな第２の加圧力Ｆ２とするように、加圧力の切り換え動作（ステップＳ５）が行われる。なお、洗浄解除処理Ｓ３０が行われる際の加圧力が、第１の加圧力Ｆ１に戻されるように、洗浄本処理Ｓ２０の完了後、加圧力の切り換え動作（ステップＳ７）が行われる。

洗浄準備処理において、洗浄布２の圧接のための加圧力としてより小さな力である第１の加圧力Ｆ１が選択されることにより、段部３から距離ｗだけ離間された位置においてクランプ爪２２の把持により当接された状態の洗浄布２を、段部３へ向けて端子部６の表面に沿って円滑にスライド移動させることができる。また、このスライド移動の際は、クランプ爪２２により洗浄布２が第１の加圧力Ｆ１でもって端子部６の表面に圧接された状態とされているため、当該洗浄布２が段部３を乗り上げて表示部４の表面に接触してしまうことを確実に防止しながら、洗浄布２を段部３の隅部分に確実に当接させることができる。このように洗浄布２が段部３へ当接された状態とさせることで、段部３から周端部までの間における端子部６の表面全体に洗浄布２を確実に当接させた状態とさせることができる。

このように端子部６の表面全体に洗浄布２を確実に当接させた状態にて、より大きな力である第２の加圧力Ｆ２への切り替えを行って、洗浄本処理Ｓ２０を実施することにより、より大きな力で圧接された洗浄布２でもって、端子部６の表面に付着した汚れ等を効果的に除去することができる。

従って、基板パネル５における表示部４を損傷させてしまうことを確実に防止しながら、段部３の隅部分にまで洗浄布２を接触させた状態にて、端子部６の表面全体において洗浄されていない領域が残らないようにクリーニング処理を効果的に実施することができる。

また、洗浄準備処理Ｓ１０において行われる段部３より離間した位置へのクランプ爪２２の先端部２２ｂの位置合わせは、段部３へクランプ爪２２を介して洗浄布２が接触しない程度の精度があれば十分であるため、高精度な位置決めを不要することができる。さらに、その後のスライド移動による洗浄布２と段部３との当接は、基板パネル５が洗浄ヘッド１２に対して近づくようにスライド移動されることにより行われるが、洗浄ヘッド１２は当該移動方向において弾性部材であるシリンダ３１を介して支持されているため、当該当接後、さらにスライド移動が継続されるような場合であっても、その移動量をシリンダ３１内の流体の弾性圧縮により吸収させることができる。従って、このような段部３への当接のためのスライド移動においても高精度な位置決めを不要とすることができる。よって、高い位置決め精度が要求することなく、このように段部３への洗浄布２の当接を実現することができるクリーニング装置１０１を提供することができる。

また、上記段部３への洗浄布２の当接の検出は、シリンダ３１の弾性圧縮による洗浄ヘッド１２の移動位置を移動位置検出用センサ３７により検出することで行うことができるため、例えば過剰に基板パネル５がスライド移動されて洗浄布２が表示部４へ乗り上げてしまうような状態が発生することを確実に防止することができ、表示部４の損傷の発生を防止することができる。

また、洗浄布２が段部３へ当接された状態においては、シリンダ３１内の流体の弾性圧縮により生じた付勢力が段部３に対して付与された状態とされているため、その後の洗浄本処理Ｓ２０において、端子部６の長手方向に洗浄布２のスライド移動が行われる際に、確実に段部３の隅部分にまで洗浄布２を当該付勢力でもって付勢された状態とすることができ、端子部６の表面全体に対してクリーニング処理を確実に実施することができる。

さらに、洗浄解除処理Ｓ３０においては、第１の加圧力への切り換えを実施して、さらに洗浄布２の段部３からの離間を行った後、クランプ爪２２による端子部６の圧接把持の解除を行っているため、当該解除動作の際に、クランプ爪２２が表示部４に乗り上げてしまうこと等により当該表示部４を損傷させてしまうことを確実に防止することができる。

なお、上記第１実施形態においては、洗浄布２の段部３への当接を検出手段として、洗浄ヘッド１２の移動位置を検出する移動位置検出用センサ３７が用いられるような場合について説明したが、このような場合に代えて、例えば、シリンダ３１より発生される付勢力の大きさを検出するようなセンサが用いられるような場合であってもよい。

また、洗浄ヘッド１２あるいはクリーニングユニット１０と基板パネル５との間の移動は、相対的に行われるものであれば、いずれの構成部が移動される場合であってもよく、様々な移動構成を採用することができる。

（第２実施形態）
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、本発明の第２の実施形態にかかる基板端子洗浄装置の一例であるクリーニング装置２０１の主要な構成を示す模式斜視図を図１２に示す。本第２実施形態のクリーニング装置２０１は、上記第１実施形態のクリーニング装置１０１とは、クリーニングユニットの構成が大きく異なっている。以下、この異なる構成を中心として説明を行う。なお、上記第１実施形態のクリーニング装置１０１が備える構成と同じ構成部分には、同じ参照番号を使用してその説明を省略する。

図１２に示すように、クリーニング装置２０１は、搬送供給される基板パネル５を解除可能に保持する基板支持ステージ７と、この基板支持ステージ７により保持された基板パネル５の端子部６に対して、クリーング処理を行うクリーニングユニット２１０を備えている。

クリーニングユニット２１０は、基板支持ステージ７にて保持された基板パネル５の上面側において端子部６に対するクリーニング処理を行う第１のクリーニングヘッド部２１１と、この第１のクリーニングヘッド部２１１に隣接して配置された第２のクリーニングヘッド部２１２と、第１のクリーニングヘッド部２１１と基板パネル５に対して対称に配置され、その裏面側において端子部６に対するクリーニング処理を行う第３のクリーニングヘッド部２１３と、この第３のクリーニングヘッド部２１３に隣接して配置されるとともに、第２のクリーニングヘッド部２１２と基板パネル５に対して対称に配置された第４のクリーニングヘッド部２１４との合計４個のクリーニングヘッド部２１１〜２１４を備えている。

また、図１２に示すように、クリーニングユニット２１０における図示上面側においては、帯状（テープ状）の洗浄布２がリールに巻き回された状態にて保持するとともに、上記クリーニング処理のために洗浄布２を、第１のクリーニングヘッド部２１１及び第２のクリーニングヘッド部２１２に供給する第１の洗浄布供給部２１５と、当該クリーニング処理に用いられた洗浄布２をリールに巻き回させて回収する第１の洗浄布回収部２１６とが備えられている。同様に、クリーニングユニット２１０における図示下面側においても、第２の洗浄布供給部２１７及び第２の洗浄布回収部２１８が備えられている。なお、第１の洗浄布供給部２１５と第１の洗浄布回収部２１６との間においては、一続きの帯状の洗浄布２が取り扱われ、同様に第２の洗浄布供給部２１７と第２の洗浄布回収部２１８との間においても、一続きの洗浄布２が取り扱われる。

ここで、クリーニングユニット２１０において、第１のクリーニングヘッド部２１１及び第２のクリーニングヘッド部２１２に関係する構成について、図１３及び図１４の模式構成図に示す。なお、図１３は、図示Ｘ軸方向からクリーニングユニット２１０を見た場合の部分模式側面図であり、図１４は、図１３のクリーニングユニット２１０におけるＡ−Ａ線矢視図である。また、クリーニングユニット２１０において、第１のクリーニングヘッド部２１１及び第２のクリーニングヘッド部２１２と、第３のクリーニングヘッド部２１３及び第４のクリーニングヘッド部２１４とは、基板パネル５に対して対称関係の構造を有しているため、それぞれのクリーニングヘッド部の構成を代表して、図１３及び図１４においては、第１のクリーニングヘッド部２１１及び第２のクリーニングヘッド部２１２の構成について説明を行うものとする。

図１３及び図１４に示すように、クリーニングユニット２１０の図示上面側においては、第１の洗浄布供給部２１５より図示Ｘ軸方向に沿って供給された洗浄布２を、当該Ｘ軸方向に沿っての走行を案内可能に支持する３つの支持部（支持用ローラ）である第１のローラ部２２１、第２のローラ部２２２、及び第３のローラ部２２３が備えられている。また、第１のローラ部２２１による洗浄布２の支持位置である第１の位置Ｐ１と、第２のローラ部２２２による支持位置である第２の位置Ｐ２と、第３のローラ部２２３による支持位置である第３の位置Ｐ３は、Ｘ軸方向に沿って略直線状に配置されている。

また、図１３及び図１４に示すように、それぞれのローラ部２２１〜２２３により支持された状態の洗浄布２における第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間の当接位置Ｐ１１において、洗浄布２の図示上面に当接されるように第１のクリーニングヘッド部２１１が配置され、また、第２の位置Ｐ２と第３の位置Ｐ３との間の当接位置Ｐ１２において、洗浄布２の図示上面に当接されるように第２のクリーニングヘッド部２１２が配置されている。また、第１のクリーニングヘッド部２１１は、当接位置Ｐ１１にて、洗浄布２の一部と当接されるクリーニング部材当接部の一例であって当接用ローラ部の一例でもあるヘッドローラ部２１１ａと、このヘッドローラ部２１１ａを昇降させる昇降部２１１ｂとを備えている。同様に、第２のクリーニングヘッド部２１２も、当接位置Ｐ１２にて、洗浄布２の一部と当接されるヘッドローラ部２１２ａと、このヘッドローラ部２１２ａを昇降させる昇降部２１２ｂとを備えている。

第１のクリーニングヘッド部２１１において、昇降部２１１ｂは、ヘッドローラ部２１１ａに当接された状態の洗浄布２を、基板パネル５の表面における端子部６に接触させて所定の加圧力でもって加圧した状態とする加圧高さ位置と、洗浄布２と端子部６との接触を確実に解除して、基板支持ステージ７による基板パネル５の移動が行われた場合であっても、基板パネル５との干渉が確実に防止された高さ位置である加圧解除高さ位置との間で、ヘッドローラ部２１１ａを昇降させることが可能となっている。同様に、第２のクリーニングヘッド部２１２においても、昇降部２１２ｂは、加圧高さ位置と加圧解除高さ位置との間で、ヘッドローラ部２１２ａを昇降させることが可能となっている。なお、このような昇降部２１１ｂ及び２１２ｂは、例えばシリンダ機構を用いて構成することができる。

また、それぞれの昇降部２１１ｂ及び２１２ｂは、洗浄布２を端子部６に加圧させる上記所定の加圧力として、上記第１実施形態と同様に第１の加圧力Ｆ１と第２の加圧力Ｆ２とを選択的に加圧する機能を備えている。なお、このような機能は、上記第１実施形態と同様に、図示しない加圧力供給装置よりそれぞれの昇降部２１１ｂ及び２１２ｂへ選択された加圧力が伝達されることにより実現することができる。

また、図１３及び図１４に示すように、クリーニングユニット２１０においては、昇降部２１１ｂ及び２１２ｂは、共通フレーム２２４に支持されてその支持位置が固定されおり、さらにこの共通フレーム２２４を、図示Ｘ軸方向に沿って進退移動させる第３の移動装置の一例であるクリーニングヘッド移動装置２３０が備えられている。また、このクリーニングヘッド移動装置２３０及びそれぞれのローラ部２２１〜２２３は、共通フレーム２２４とは、分離されたメインフレーム２２５に支持されてその支持位置が固定されている。クリーニングユニット２１０においてこのような構成が採用されていることにより、それぞれのローラ部２２１〜２２３に対して相対的に、ヘッドローラ部２１１ａ及び２１１ｂをＸ軸方向に進退移動させることが可能となっている。すなわち、第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間における洗浄布２に対して、ヘッドローラ部２１１ａによる当接位置Ｐ１１を自由に可変させることが可能となっており、また、第２の位置Ｐ２と第３の位置Ｐ３との間における洗浄布２に対して、ヘッドローラ部２１２ａによる当接位置Ｐ１２を自由に可変させることが可能となっている。なお、このようなクリーニングヘッド移動装置２３０は、例えばシリンダ機構を用いて構成することができる。また、洗浄布２に当接しながらのこのような移動を考慮して、ヘッドローラ部２１１ａ及び２１２ａの形状は、滑らかな形状とすることが好ましい。

また、このようなクリーニングユニット２１０における上面側の構成は、その下面側においても同様に備えられており、第３のクリーニングヘッド部２１３及び第４のクリーニングヘッド部２１４のそれぞれのローラ部に対する相対的な移動が可能となっている。

また、図１２に示すように、クリーニング装置２０１においては、クリーニングユニット２１０の上記上面側の構成及び下面側の構成を一体的な状態で、図示Ｘ軸方向に進退移動させる第３の移動装置の一例であるユニット移動装置２３１が備えられている。具体的には、ユニット移動装置２３１は、上記上面側の構成におけるメインフレーム２２５と、このメインフレーム２２５に相当する下面側のメインフレーム（図示しない）とを、互いに一体的な状態にて、図示Ｘ軸方向に沿って進退移動させることが可能となっている。なお、このようなユニット移動装置２３１は、例えばボールねじ軸機構を用いて構成することができ、さらに、上記進退方向に沿ってその移動を高精度に案内する移動案内用レール等が用いられることが好ましい。

このようにユニット移動装置２３１により、クリーニングユニット２１０が、図示Ｘ軸方向手前側向きをそのクリーニング方向Ｄとして移動可能とされていることにより、それぞれのヘッドローラ部２１１ａ及び２１２ａが加圧高さ位置に位置されて洗浄布２を端子部６の表面に加圧した状態で、当該洗浄布２をクリーニング方向Ｄに沿って移動させて、端子部６の表面を拭き取るようにクリーニングを行うことが可能となっている。なお、クリーニングユニット２１０におけるそれぞれの洗浄布供給部２１５、２１７、及び洗浄布回収部２１６、２１８には、洗浄布２に対して所定の張力を付与する図示しない張力付与部が備えられており、上記拭き取り状態において洗浄布２に対して弛みが生じないように構成されている。

さらにクリーニングユニット２１０には、このようなクリーニング処理の開始前の端子部６の表面状態の画像を撮像することで、当該表面の汚れ度合いを認識するクリーニング前確認用カメラ２３２と、クリーニング処理の実施後の端子部６の表面状態の画像を撮像することで、当該表面の汚れの除去度合いを認識するクリーニング後確認用カメラ２３３とが備えられている。

また、クリーニング装置２０１においては、基板支持ステージ７による基板パネル５の保持動作及び位置合わせ動作、クリーニングユニット２１０におけるそれぞれの動作、ユニット移動装置２３１によるクリーニングユニット２１０の移動動作、及びそれぞれの確認用カメラ２３２、２３３による認識動作を、互いに関連付けながら、統括的に制御を行う制御装置２２０が備えられている。

なお、図１５に示すクリーニング装置２０１においては、長方形状を有する基板パネル５が、長手方向を図示Ｙ軸方向に沿って基板支持ステージ７に保持された状態を示している。このように基板支持ステージ７は、基板パネル５をその表面沿いのあらゆる向きにおいて保持することが可能となっていることにより、基板パネル５の外周全体の縁部に設けられた端子部６に対して、クリーニング処理を施すことが可能となっている。

さらに、クリーニングユニット２１０においては、それぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２が固定された共通フレーム２２４を、図示Ｙ軸方向に沿って移動案内可能とするガイド部２５０が備えられている。このガイド部２５０は、図１３に示すように、メインフレーム２２５に固定されるとともに、図示Ｙ軸方向に沿って共通フレーム２２４がそれぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２と一体的な状態で移動可能となるように当該移動を案内する機能を有している。また、供給フレーム２２４とメインフレーム２２５とは、弾性バネ２５１を介して図示Ｙ軸方向において係合されている。このような弾性バネ２５１は、例えば、図１３において、それぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２に対して図示Ｙ軸方向右向きの外力が作用されることで、ガイド部２５０に案内されながらそれぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２が図示Ｙ軸方向右向きに移動された場合に、当該外力と逆向きの付勢力をそれぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２に付与する機能を有している。すなわち、本第２実施形態においては、弾性バネ２５１が付勢力付与部の一例となっている。

また、図１３に示すように、クリーニングユニット２１０には、上述のようなそれぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２と共通フレーム２２４との外力作用による移動位置を検出する移動位置検出用センサ２５２が備えられており、このセンサ２５２は予め設定された所定の移動位置にまで共通フレーム２２４が移動されたことを検出するとともに、その検出結果情報を制御装置２２０に入力させることが可能となっている。

また、図１３に示すように、クリーニングユニット２１０には、それぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２において、ヘッドローラ部２１１ａ及び２１２ａに支持される洗浄布２の端部を基板パネル５が配置される側のローラ側面に回り込ませるように案内するガイド板２５３（ガイド部の一例）が備えられている。具体的には、図１６及び図１７の模式説明図に示すように、ヘッドローラ部２１１ａの下方周面に支持された状態の洗浄布２の図示左側の端部が、ガイド板２５３とヘッドローラ部２１１ａの側面との間で挟まれるようにして当該側面側へ回り込ませることが可能となっている。このようにヘッドローラ部２１１ａの側面にまで洗浄布２を回り込ませるのは、後述するように当該洗浄布２を基板パネル５の段部３へ当接させるためである。

次に、このような構成を有するクリーニング装置２０１において、基板パネル５の端子部６に対してクリーニング処理を行う動作について、図１６〜図２０の模式説明図を用いて以下に説明する。なお、以下において説明するクリーニング処理は、クリーニング装置２０１が備える制御装置２２０によりそれぞれの構成部が互いに関連付けられて統括的に制御されることにより行われる。

まず、図１２に示すように、クリーニング装置１０１において、クリーニング処理が行われる基板パネル５が、基板支持ステージ７に保持される。それとともに、クリーニングユニット２１０においては、それぞれの洗浄布供給部２１５及び２１７と洗浄布回収部２１６及び２１８とにより、洗浄布２の供給送り動作及び回収動作が行われ、新たな洗浄布２がそれぞれのローラ部２２１、２２２、及び２２３により支持された状態とされる。

その後、プレート移動装置９により基板パネル５が移動されることにより、クリーニングユニット２１０と基板パネル５においてクリーニング処理の対象となる端子部６との位置合わせが行われる。この位置合わせにおいては、それぞれのヘッドローラ部２１１ａ及び２１２ａの端部が、端子部６の表面における段部から離間された位置の上方に位置されるように位置合わせが行われる。

上記位置合わせとともに、クリーニングユニット２１０の上面側の構成である第１のクリーニングヘッド部２１１及び第２のクリーニングヘッド部２１２においては、ヘッドローラ部２１１ａ及び２１２ａがクリーニング方向Ｄの上流側に位置、すなわち、ヘッドローラ部２１１ａの当接位置Ｐ１１が第２の位置Ｐ２に近接するように、また、ヘッドローラ部２１２ａの当接位置Ｐ１２が第３の位置Ｐ３に近接するように、クリーニングヘッド移動装置２３０により移動されて位置された状態とされる。また、クリーニングユニット２１０の下面側の構成である第３のクリーニングヘッド部２１３及び第４のクリーニングヘッド部２１４においても同様に、それぞれのヘッドローラ部がクリーニング方向Ｄの上流側の位置へと位置された状態とされる。

その後、クリーニングユニット２１０の上面側の構成におけるそれぞれのクリーニングヘッド部２１１及び２１２において、ヘッドローラ部２１１ａ及び２１２ａが、昇降部２１１ｂ及び２１２ｂにより下降されて、加圧解除高さ位置から加圧高さ位置へと位置される。また、クリーニングユニット２１０の下面側の構成におけるそれぞれのクリーニングヘッド部２１３及び２１４においても、同様の動作が行われて、図示しない昇降部によりヘッドローラ部が上昇されて加圧解除高さ位置から加圧高さ位置へと位置される。なお、このとき、それぞれの昇降部による加圧力としては第１の加圧力が選択されて付与された状態とされる。このような状態においては、図１６に示すように、ヘッドローラ部２１１ａが洗浄布２を介して端子部６の端部近傍において段部３より離間されるように圧接した状態となっており、ヘッドローラ部２１１の洗浄布２の端部は段部３より距離ｗだけ離間された状態とされている。

その後、第１の加圧力Ｆ１での洗浄布２の圧接状態を保持しながら、プレート移動装置９により基板パネル５を、図１６における図示Ｙ軸方向右向きに移動させる。この移動により端子部６の表面に洗浄布２を圧接させているヘッドローラ部２１１ａは、段部３へ近接するようにスライド移動されて、その側面に配置されている洗浄布２を介して段部３に当接される。この当接後もさらに基板パネル５の移動が継続されることにより、共通フレーム２２４がＹ軸方向に沿って案内されながら、弾性バネ２５１を引き延ばすように移動されることとなる。この移動により共通フレーム２２４が所定の移動位置に到達したことが移動位置検出用センサ２５２により検出されると、その検出結果情報が制御装置２２０へ入力されて、当該情報の入力に基づいてプレート移動装置９による基板パネル５の移動が停止される。この状態においては、ヘッドローラ部２１１ａの側面の一部が洗浄布２を介して段部３へ当接されているとともに、弾性バネ２５１より伝達される付勢力でもって当該洗浄布２が段部３へ押し付けられた状態とされている。なお、ヘッドローラ部２１１ａについて代表して説明を行ったが、その他のヘッドローラ部についても同時に同様な動作が行われ、それぞれの位置において洗浄布２を介して段部３へ当接された状態とされる。これにより、洗浄準備処理が完了する。

その後、昇降部２１１ｂによる加圧力が、第１の加圧力Ｆ１から第２の加圧力Ｆ２へと切り換えられて、図１７に示すように、より大きな力でもって、端子部６の表面における段部３から端部までの間の領域全体に洗浄布２が圧接された状態とされる。洗浄本処理が開始される。

また、このような状態におけるクリーニングユニット２１０と基板パネル５の端子部６とのクリーニング方向Ｄ沿いにおける位置関係を図１８の模式説明図に示す。図１８に示すように、第１のクリーニングヘッド部２１１におけるヘッドローラ部２１１ａは、高さ方向において加圧高さ位置に位置されているとともに、基板パネル５の表面沿いの方向において第２の位置Ｐ２に近接した位置に位置されており、また、第２のクリーニングヘッド２１２におけるヘッドローラ部２１２ａは、高さ方向において加圧高さ位置に位置されているとともに、基板パネル５の表面沿いの方向において第３の位置Ｐ３に近接した位置に位置されている。さらに、第３クリーニングヘッド部２１３におけるヘッドローラ部２１３ａも、高さ方向において加圧高さ位置に位置されるとともに、基板パネル５の表面沿いの方向において第２の位置Ｐ２に近接した位置に位置されている。そして、第４クリーニングヘッド部２１４におけるヘッドローラ部２１４ａも、高さ方向において加圧高さ位置に位置されるとともに、基板パネル５の表面沿いの方向において第３の位置Ｐ３に近接した位置に位置されている。

また、基板パネル５の上面側と下面側において、それぞれのクリーニングヘッド部２１１〜２１４は、基板パネル５を対称面として、上下対称に配置されている。すなわち、第１のクリーニングヘッド部２１１のヘッドローラ部２１１ａと、第３のクリーニングヘッド部２１３のヘッドローラ部２１３ａとは、基板パネル５の表面沿いの方向において同じ位置、すなわち当接位置Ｐ１１に位置されており、また、第２のクリーニングヘッド部２１２のヘッドローラ部２１２ａと、第４のクリーニングヘッド部２１４のヘッドローラ部２１４ａとは、基板パネル５の表面沿いの方向において同じ位置、すなわち当接位置Ｐ１２に位置されている。このようにそれぞれのヘッドローラ部２１１ａ〜２１４ａが基板パネル５を挟んで対称の位置関係を有していることにより、ヘッドローラ部１１ａ及び１３ａにより洗浄布２を介在させながら基板パネル５の端子部６を表裏面から挟み込んだ状態とされ、また、ヘッドローラ部２１２ａ及び２１４ａにより洗浄布２を介在させながら基板パネル５の端子部６を表裏面から挟み込んだ状態とされている。

次に、図１８に示す状態において、ユニット移動装置２３１によりクリーニングユニット２１０のクリーニング方向Ｄに向けての移動を開始する。この移動においては、クリーニングユニット２１０は、クリーニング方向Ｄに向けて例えば移動速度Ｖ１（第１の移動速度、すなわち基板パネル５に対する移動速度）にてその移動が行われる。すなわち、当該移動により、第１の位置Ｐ１と第３の位置Ｐ３との間において支持されている洗浄布２は、第１の移動速度Ｖ１でもってクリーニング方向Ｄへ移動されることとなる。これにより、基板パネル５の端子部６の表面及び裏面に当接位置Ｐ１１及びＰ１２でもって当接されている洗浄布２の当接部分が、第２の加圧力により端子部６との圧接状態が保たれた状態で、クリーニング方向Ｄに向けて移動され、端子部６の表面及び裏面が洗浄布２により拭き取られてクリーニングされることとなる。なお、当該移動に際して、基板パネル５の上面側及び下面側において、それぞれのローラ部２２１、２２２、２２３、２２６、２２７、及び２２８は、互いに一体的な配置関係が保たれた状態とされる。

このユニット移動装置２３１によるクリーニングユニット２１０の移動の開始とともに、クリーニングヘッド移動装置２３０による共通フレーム２２４のクリーニング方向Ｄに向けての移動が開始される。具体的には、図１９に示すように、クリーニングユニット２１０の上面側の構成において、第２の位置Ｐ２に近接した位置に位置されていたヘッドローラ部２１１ａを第１の位置Ｐ１へ向けて移動されるとともに、第３の位置Ｐ３に近接した位置に位置されていたヘッドローラ部２１２ａを第２の位置Ｐ２へ向けて移動させるように、上記クリーニングヘッド移動装置２３０による移動を移動速度Ｖ２でもって行う。また、このクリーニングユニット２１０の上面側の構成における移動と同期させて、下面側の構成においても、第２の位置Ｐ２に近接した位置に位置されていたヘッドローラ部２１３ａを第１の位置Ｐ１へ向けて移動されるとともに、第３の位置Ｐ３に近接した位置に位置されていたヘッドローラ部２１４ａを第２の位置Ｐ２へ向けて移動させるように、上記クリーニングヘッド移動装置２３０による移動を行う。

このようなクリーニングヘッド移動装置２３０による移動が行われることにより、それぞれのヘッドローラ部２１１ａ〜２１４ａによる洗浄布２に対する当接位置Ｐ１１、Ｐ１２が可変されることとなる。すなわち、例えば、第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間にて支持された状態の洗浄布２を例にとって説明すると、当該洗浄布２の一部が当接位置Ｐ１１にて端子部６の表面に第２の加圧力により圧接された状態にて、移動速度Ｖ１でもってクリーニング方向Ｄに向けて移動されながら、さらにその移動状態において、その当接位置Ｐ１１が移動速度Ｖ２でもって第１の位置Ｐ１へ向けて移動されることとなる。従って、端子部６の表面に圧接される洗浄布２の当接部分を常に新しい清浄な状態の部分とすることができる。

なお、この移動状態をそれぞれのローラ部２２１〜２２３及び２２６〜２２８の基板パネル５に対する移動速度Ｖａと、それぞれのヘッドローラ部２１１ａ〜２１４ａの基板パネル５に対する移動速度Ｖｂ（第２の移動速度）との関係で説明すると、Ｖａ＝Ｖ１にてクリーニング方向Ｄへのローラ部の移動が行われ、Ｖｂ＝Ｖ１＋Ｖ２にてクリーニング方向Ｄへのヘッドローラ部の移動が行われることとなる。

その後、図２０に示すように、第１のクリーニングヘッド部２１１のヘッドローラ部２１１ａ及び第３のクリーニングヘッド部２１３のヘッドローラ部２１３ａが、クリーニング方向Ｄにおける端子部６の端部へと到達すると、ユニット移動装置２３１によるクリーニングユニット２１０の移動が停止される。また、当該状態においては、第１のクリーニングヘッド部２１１のヘッドローラ部２１１ａ及び第３のクリーニングヘッド部２１３のヘッドローラ部２１３ａが、第１の位置Ｐ１に近接する位置にまで移動された状態とされるとともに、第２のクリーニングヘッド部２１２のヘッドローラ部２１２ａ及び第４のクリーニングヘッド部２１４のヘッドローラ部２１４ａが、第２の位置Ｐ２に近接する位置にまで移動された状態とされ、当該状態においてクリーニングヘッド移動装置２３０による移動も停止される。

その後、それぞれのクリーニングヘッド部２１１〜２１４において、ヘッドローラ部２１１ａ〜２１４ａが昇降部により加圧高さ位置から加圧解除高さ位置へと移動されて、端子部６の表裏面に対する洗浄布２の接触が解除される。なお、このような洗浄布２の接触の解除は、上記第１実施形態におけるクランプ爪２２による圧接把持の解除の手順と同様に、第２の加圧力から第１の加圧力への切り換えを行い、さらに、段部３よりの離間動作が行われた後、当該解除動作が行われる（洗浄解除処理）。このように洗浄布２の接触が解除されると、第１の洗浄布供給部２１５及び第１の洗浄布回収部２１６により洗浄布２の送り動作及び回収動作が行われて、第１の位置Ｐ１と第３の位置Ｐ３との間において端子部６に接触した部分の洗浄布２を新たな洗浄布２に入れ替える。第２の洗浄布供給部２１７及び第２の洗浄布回収部２１８においても同様な動作を行い、洗浄布２における使用済みの部分を未使用の部分に入れ替える動作を行う。

その後、クリーニング装置２０１において、例えば、プレート移動装置９により基板保持プレート８をθ方向に９０度回転させるとともに、Ｘ、Ｙ、又はＺ軸方向に移動させることで、基板パネル５の別の縁部における端子部６とクリーニングユニット２１０との位置合わせを行う。当該位置合わせの後、上述の同様な手順でもって当該別の端子部６に対してクリーニング処理を行う。

基板パネル５に対する全ての端子部６に対するクリーニング処理が完了すると、基板支持ステージ７による基板パネル５の保持が解除されて、図示しない搬送装置に基板パネル５が受け渡され、基板パネル５が排出される。これで、基板パネル５の端子部６に対する一連のクリーニング処理が完了する。

ここで、クリーニングユニット２１０によるクリーニング処理において用いられた洗浄布２における当接位置Ｐ１１及びＰ１２の位置の変化を、図１８〜図２０に示す状態と対応させて示す模式説明図を図２１（Ａ）〜（Ｃ）に示す。なお、図２１（Ａ）に示す状態は、図１８の状態と対応しており、図２１（Ｂ）に示す状態は、図１９の状態と対応しており、図２１（Ｃ）に示す状態は、図２０の状態と対応している。

まず、図２１（Ａ）に示すように、クリーニング処理開始の際、すなわち洗浄本処理の開始の際の洗浄布２においては、当接位置Ｐ１１における端子部６との当接領域Ｒ１１は、第２の位置Ｐ２に近接した位置に配置されており、当接位置Ｐ１２における端子部６との当接領域Ｒ１２は、第３の位置Ｐ３に近接した位置に配置されている。

その後、それぞれのヘッドローラ部２１１ａ〜２１４ａが、それぞれのローラ部２２１〜２２３及び２２６〜２２８に対して相対的に移動速度Ｖ２でもってクリーニング方向Ｄに移動されることにより、図２１（Ｂ）に示すように、それぞれの当接領域Ｒ１１、Ｒ１２が、クリーニング方向Ｄに向けて移動された状態とされる。

さらにその後、クリーニング処理完了の際の洗浄布２においては、当接領域Ｒ１１は第１の位置Ｐ１に近接した位置に配置されており、当接領域Ｒ１２は第２の位置Ｐ２に近接した位置に配置されている。

上記第２実施形態によれば、上記第１実施形態と同様に段部３との間に隙間を空けることなく端子部６の表面全体に洗浄布２を圧接させた状態にてクリーニング処理を行うことができ、高精度かつ確実なクリーニング処理を実現することができる。また、このようにクリーニング処理の過程において、それぞれの当接領域Ｒ１１、Ｒ１２の移動が行われることにより、当接領域Ｒ１１の軌跡領域Ｒ１が第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間に渡って配置され、また、当接領域Ｒ１２の軌跡領域Ｒ２が第２の位置Ｐ２と第３の位置Ｐ３との間に渡って配置されることとなる。従って、上記第１実施形態のクリーニング方法のように、洗浄ヘッド等の移動によるクリーニング動作を実施している間において、洗浄布２の一部の限られた領域のみを使用するのではなく、端子部６への当接位置Ｐ１１、Ｐ１２を可変させながら、常に未使用の部分でもって拭き取りクリーニングを行うことができるとともに、洗浄布２全体を無駄なく効率的に使用することができる。よって、高い清浄性でもってのクリーニングを可能としながら、効率的に洗浄布を使用することができるクリーニング装置２０１を提供することができるという効果を上記第１実施形態による効果に加えて得ることができる。

また、このようなクリーニング装置２０１においては、端子部６に対するヘッドローラ部２１１ａ〜２１４ａの移動の際に、端子部６に接触される洗浄布２の部分を常に異なる面とすることができるため、一度拭きとった汚れを端子部６に再付着させることを確実に防止することができ、特に近年長大化される液晶パネル等に対する端子部のクリーニング処理に適している。

なお、図２１（Ｃ）に示すように、クリーニング処理が完了した時点において、当接領域Ｒ１１の移動軌跡Ｒ１が第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間に収まり、かつ、当接領域Ｒ１２の移動軌跡Ｒ２が第２の位置Ｐ２と第３の位置Ｐ３との間に収まるように、それぞれの位置Ｐ１〜Ｐ３が設定されるとともに、移動速度Ｖ１及びＶ２が設定されるようにすることが好ましい。

また、図１８〜図２０を用いたクリーニング処理の説明においては、第２のクリーニングヘッド部２１２のヘッドローラ部２１２ａの当接位置Ｐ１２が、基板パネル５の端子部６の端部に位置された状態にて、クリーニング処理が開始されるような場合について説明したが、本第２実施形態のクリーニング処理はこのような場合についてのみ限られるものではない。このような場合に代えて、例えば、図１８において、第１のクリーニングヘッド部２１１のヘッドローラ部２１１ａの当接位置Ｐ１１が基板パネル５の端子部６の端部に位置された状態にて、クリーニング処理が開始されるような場合であってもよい。

また、同様に、図２０に示すように、第１のクリーニングヘッド部２１１のヘッドローラ部２１１ａの当接位置Ｐ１１が基板パネル５の端子部６の端部に位置された状態にて、クリーニング処理が完了するような場合に代えて、さらにクリーニングユニット２１０の移動を行い、第２のクリーニングヘッド部２１２のヘッドローラ部２１２ａの当接位置Ｐ１２が基板パネル５の端子部６の端部にまで位置させた状態にて、クリーニング処理が完了されるような場合であってもよい。このような場合あっては、クリーニング方向Ｄにおいて端子部６の全ての領域を、２度拭き取ることができ、クリーニング性を向上させることができる。

また、上述の説明においては、クリーニング処理において、クリーニングヘッド移動装置２３０によるそれぞれのクリーニングヘッド部２１１、２１２の移動方向が、クリーニング方向Ｄと同じ向きであるような場合について説明したが、このような場合のみに限られず、クリーニング方向Ｄと逆向きに移動させるような場合であってもよい。ただし、図１８から図２０に示すように、クリーニング方向Ｄと同じ向きに移動させる方が、ユニット移動装置２３１によるクリーニングユニット２１０の移動範囲を小さくすることができ、クリーニング処理に要する時間を短縮することができるという観点、及び、クリーニング装置２０１全体の小型化という観点からは好ましい。なお、第１のクリーニングヘッド部２１１と第２のクリーニングヘッド部２１２とは、同じ向きに移動されるような場合のみに限られず、異なる向きに移動されるような場合であってもよい。

また、本第２実施形態のクリーニング装置２０１においては、基板支持ステージ７により保持された基板パネル５を固定して、当該基板パネル５に対してクリーニングユニット２１０を移動させることで、上記クリーニング処理を行うような場合について説明したが、このような場合についてのみ限られるものではない。このような場合に代えて、クリーニングユニット２１０を固定して、基板支持ステージ７により基板パネル５を移動させるような場合であっても良い。このような場合であっても、上記クリーニング処理のための両者の相対的な移動を行うことができるからである。

なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。

本発明の第１の実施形態にかかるクリーニング装置の主要な構成を示す模式斜視図である。 図１のクリーニング装置の主要な構成を示す模式平面図である。 基板パネルにおける端子部近傍の構成を示す模式説明図である。 図１のクリーニング装置の構成を示す模式図である。 図１のクリーニング装置により実施されるクリーニング処理の手順を示すフローチャートである。 図５のフローチャートの手順を説明するための模式説明図であって、基板ステージに基板パネルが供給された状態を示す図である。 図５のフローチャートの手順を説明するための模式説明図であって、洗浄ヘッドと基板パネルの端子部との位置合わせが行われた状態と示す図である。 図５のフローチャートの手順を説明するための模式説明図であって、一対のクランプ爪により段部より離間された位置において端子部表面へ洗浄布が圧接された状態を示す図である。 図５のフローチャートの手順を説明するための模式説明図であって、スライド移動によりクランプ爪の先端部を介して洗浄布が段部へ当接された状態を示す図である。 図５のフローチャートの手順を説明するための模式説明図であって、クランプ爪による洗浄布の圧接のための加圧力が、第１の加圧力から第２の加圧力へ切り換えられた状態を示す図である。 図５のフローチャートの手順を説明するための模式説明図であって、洗浄本処理が完了し、クランプ爪による把持が解除された状態を示す図である。 本発明の第２の実施形態にかかるクリーニング装置の主要な構成を示す模式構成図である。 図１２のクリーニング装置が備えるクリーニングユニットの構成を示す模式図である。 図１３のクリーニングユニットにおけるＡ−Ａ線矢視模式図である。 上記第２実施形態のクリーニング装置において、基板パネルの保持の向きが９０度回転された状態を示す模式構成図である。 段部より離間された位置において洗浄布が第１の加圧力でもって圧接された状態を示す模式説明図である。 段部に当接された状態の洗浄布が第２の加圧力でもって圧接された状態を示す模式説明図である。 上記第２実施形態のクリーニング装置におけるクリーニング処理（洗浄本処理）の動作を示す模式説明図であって、クリーニング処理の開始時の状態を示す図である。 上記第２実施形態のクリーニング装置におけるクリーニング処理（洗浄本処理）の動作を示す模式説明図であって、クリーニング処理の実施中の状態を示す図である。 上記第２実施形態のクリーニング装置におけるクリーニング処理（洗浄本処理）の動作を示す模式説明図であって、クリーニング処理の完了時の状態を示す図である。 上記クリーニング処理の際におけるクリーニング布の当接領域の配置状態を示す模式説明図であって、（Ａ）は図１８のクリーニング処理開始時の状態を示す図であり、（Ｂ）は図１９のクリーニング処理実施中の状態を示す図であり、（Ｃ）は図２０のクリーニング処理完了時の状態を示す図である。 従来の液晶パネル端子クリーニング装置の部分的な構成を示す模式図である。

符号の説明

２ 洗浄布
３ 段部
４ 表示部
５ 基板パネル
６ 端子部
７ 基板支持ステージ
８ 基板保持プレート
９ プレート移動装置
１０ クリーニングユニット
１２ 洗浄ヘッド
１４ 洗浄布供給部
１６ 洗浄布回収部
１７、１８、２１ ガイドローラ
１９、２０ テンションローラ
２２ クランプ爪
２４ エアチャック
２６ 加圧力供給装置
３０ ガイドレール
３１ シリンダ
３３ ガイドレール
３４ ユニット移動装置
３７ 移動位置検出用センサ
３８ 制御装置
１０１ クリーニング装置
Ｆ１ 第１の加圧力
Ｆ２ 第２の加圧力（＞第１の加圧力）
ｗ 距離
Ｓ１０ 洗浄準備処理
Ｓ２０ 洗浄本処理
Ｓ３０ 洗浄解除処理

Claims (8)

1. 表示部と、上記表示部の周囲の少なくとも一辺において当該表示部の表面よりも一段下がるように形成された端子部とを有する表示装置用基板パネルにおける上記端子部に帯状の洗浄体を圧接させながら、上記端子部の長手方向に沿って当該洗浄体を移動させることにより、当該端子部の洗浄を行う基板端子洗浄装置において、
   上記基板パネルを配置させてその保持を行う基板保持装置と、
   上記洗浄体を保持するとともに、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルにおける上記端子部に当該洗浄体を当接させて加圧する洗浄ヘッドと、
   上記端子部の長手方向と直交する方向に沿って、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルと上記洗浄ヘッドとの相対的な移動を行う第１の移動装置と、
   上記洗浄ヘッドによる上記洗浄体の上記端子部への圧接のための加圧力として、第１の加圧力と当該第１の加圧力よりも大きな第２の加圧力とを選択的に上記洗浄ヘッドに付加する圧力付加装置と、
   上記端子部の長手方向に沿って、上記基板保持装置に保持された上記基板パネルと上記洗浄ヘッドとの相対的な移動を行う第２の移動装置と、
   上記端子部と上記表示部との間の段部より離間されるように、上記洗浄ヘッドにより上記洗浄体を当該端子部に圧接させ、上記第１の移動装置による上記相対的な移動の実施により、上記圧接させた状態で当該洗浄体を上記端子部の表面に沿ってスライド移動させて、当該洗浄体の端部を上記段部に当接させる洗浄準備処理と、上記第２の移動装置による上記相対的な移動の実施により、上記段部に当接された状態の上記洗浄体を上記端子部に対して圧接させながら、その長手方向に沿って上記端子部の表面沿いにスライド移動させて、上記端子部の洗浄を行う洗浄本処理とを実行可能であって、上記洗浄準備処理の上記圧接は上記第１の加圧力を用いて行い、上記洗浄本処理の上記圧接は上記第２の加圧力を用いて行うように、上記圧力付加装置より上記洗浄ヘッドに付加される加圧力の切り換え制御を行って、上記洗浄準備処理と上記洗浄本処理を連続的に実施させる制御装置とを備えることを特徴とする基板端子洗浄装置。
2. 上記洗浄体の端部が上記段部に当接したことを検出するとともに、その検出結果情報を上記制御装置へ入力させる段部当接検出手段をさらに備え、
   上記制御装置は、上記段部当接検出手段により上記検出結果情報が入力されたことでもって、上記第１の加圧力から上記第２の加圧力への切り換え制御を実施する請求項１に記載の基板端子洗浄装置。
3. 上記段部に当接された状態の上記洗浄体を当該段部に付勢するように、上記洗浄ヘッドに対して付勢力を付与する付勢力付与部をさらに備える請求項２に記載の基板端子洗浄装置。
4. 上記段部当接検出手段は、上記付勢力付与部により上記段部に付与された上記付勢力が、所定の大きさとなったことを検出する付勢力検出センサである請求項３に記載の基板端子洗浄装置。
5. 上記段部当接検出手段は、上記第１の移動装置による上記洗浄ヘッドと上記基板保持装置との相対的な移動位置を検出する移動位置検出センサである請求項２又は３に記載の基板端子洗浄装置。
6. 上記洗浄ヘッドは、
   上記圧力付与装置により選択的に付与される上記第１の加圧力又は上記第２の加圧力でもって、上記洗浄体を介して解除可能に上記端子部を把持する一対の把持爪と、
   上記一対の把持爪の間隙内に当該把持爪により保持された上記洗浄体の上記帯状の途中部分を導くガイド手段とを備え、
   上記制御装置は、
   上記ガイド手段により上記洗浄体が導かれた状態の上記一対の把持爪の間隙内に上記基板パネルの上記端子部の一部を挿入させ、当該把持爪の先端に保持された上記洗浄体を上記段部より離間させた状態にて上記端子部に第１の加圧力でもって圧接させながら、上記第１の移動装置による上記相対的な移動を実施させることにより、少なくとも一方の上記把持爪の先端が上記洗浄体を介して上記段部に当接させることで、上記洗浄準備処理を実施する請求項１から５のいずれか１つに記載の基板端子洗浄装置。
7. 上記基板保持装置に保持された上記基板パネルにおける上記端子部の表面より離間された第１の位置において、当該洗浄体を支持する第１の支持部と、
   上記端子部表面から離間されかつ上記第１の位置より上記端子部沿いの方向に配置された第２の位置において、当該洗浄体を支持する第２の支持部と、
   上記端子部の長手方向に沿って、上記第１の支持部及び上記第２の支持部を一体的かつ上記基板保持装置に対して相対的に移動させる第３の移動装置とをさらに備え、
   上記洗浄ヘッドは、上記第１の位置と上記第２の位置との間にて上記支持された状態の洗浄体の一部を、上記加圧力が付与されることで上記端子部に圧接可能であって、
   上記第１の移動装置は、上記第１の支持部、上記第２の支持部、及び上記洗浄ヘッドを一体的な状態として、上記端子部の長手方向と直交する方向に沿って上記基板保持装置に対する上記相対的な移動を行い、
   上記第２の移動装置は、上記第３の移動装置による上記第１の支持部及び上記第２の支持部の第１の移動速度とは異なる第２の移動速度にて、上記端子部の長手方向沿いに上記洗浄ヘッドの上記移動を行う請求項１から５のいずれか１つに記載の基板端子洗浄装置。
8. 上記端子部の表面及び裏面を共に洗浄可能に、上記基板パネルを介して、上記それぞれの支持部及び上記洗浄ヘッドが一対に備えられ、
   当該一対の洗浄ヘッドは、上記端子部の同じ位置における表面及び裏面のそれぞれに上記各々の洗浄体を当接させる請求項７に記載の基板端子洗浄装置。

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