KR100798787B1 - 트랜지스터 및 그것을 구비하는 표시장치 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 18
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 7
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 4
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 33
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009125 cardiac resynchronization therapy Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 210000004185 liver Anatomy 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78696—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film characterised by the structure of the channel, e.g. multichannel, transverse or longitudinal shape, length or width, doping structure, or the overlap or alignment between the channel and the gate, the source or the drain, or the contacting structure of the channel
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/417—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/41725—Source or drain electrodes for field effect devices
- H01L29/41733—Source or drain electrodes for field effect devices for thin film transistors with insulated gate
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- Optics & Photonics (AREA)
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- 게이트전극에 평면적으로 겹치는 반도체층의 위에, 상호 소정 간격을 두고 대향하는 소스전극과 드레인전극을 형성한 트랜지스터에 있어서,상기 드레인전극의 상기 소스전극에 대향하는 테두리의 형상을 모퉁이를 구부린 돌출곡선으로 하는 한편,상기 소스전극의 상기 드레인전극에 대향하는 측의 테두리 형상을 드레인전극의 테두리 형상에 대응하여 함몰곡면으로 하고,상기 소스전극의 상기 드레인전극에 대향하지 않는 측의 테두리를 소스전극의 폭이 일정하게 되도록 소스전극의 상기 드레인전극에 대향하는 측의 테두리를 따른 돌출곡면으로 하고,상기 반도체층에는 상기 게이트전극으로부터 돌출하여 상기 소스전극 또는 드레인전극과는 겹치는 돌출부를 형성하고, 또한, 상기 소스전극에 겹치는 돌출부와 상기 드레인전극에 겹치는 돌출부와는 상기 게이트전극에 차단되어 상호 독립상태에 있고,반도체층 가운데 게이트전극과 겹치는 것과 동시에 소스전극의 드레인전극에 대향하지 않는 측의 테두리와 대향하는 부분이 소스전극의 윤곽을 따라 일부 제거되고 있는 것을 특징으로 하는 트랜지스터.
- 게이트전극에 평면적으로 겹치는 반도체층의 위에, 상호 소정 간격을 두고 대향하는 소스전극과 드레인전극을 형성한 트랜지스터에 있어서,상기 드레인전극의 상기 소스전극에 대향하는 테두리의 형상을 돌출 모양의 원호로 하는 한편,상기 소스전극의 상기 드레인전극에 대향하는 측의 테두리를 소스전극과 드레인전극의 간격이 일정하게 되도록 드레인전극의 테두리를 따른 함몰 모양이 원호로 하고,상기 소스전극의 상기 드레인전극에 대향하지 않는 측의 테두리를 소스전극의 폭이 일정하게 되도록 소스전극의 상기 드레인전극에 대향하는 측의 테두리를 따른 돌출 모양의 원호로 하고,상기 반도체층에는 상기 게이트전극으로부터 돌출하여 상기 소스전극 또는 드레인전극과는 겹치는 돌출부를 형성하고, 또한, 상기 소스전극에 겹치는 돌출부와 상기 드레인전극에 겹치는 돌출부와는 상기 게이트전극에 차단되어 상호 독립상태에 있고,반도체층 가운데 게이트전극과 겹치는 것과 동시에 소스전극의 드레인전극에 대향하지 않는 측의 테두리와 대향하는 부분이 소스전극의 윤곽을 따른 윤곽형상을 하고 있는 것을 특징으로 하는 트랜지스터.
- 청구항 9 또는 청구항 10 기재의 트랜지스터를 표시용의 트랜지스터로 이용하는 표시장치에 있어서,게이트배선과 소스배선을 매트릭스형으로 배치하고, 상기 게이트배선과 소스배선의 교차부에 상기 트랜지스터를 설치하고, 상기 트랜지스터의 상기 드레인전극을 상기 소스배선과 평행으로 배치한 것을 특징으로 하는 표시장치.
- 청구항 9 또는 청구항 10 기재의 트랜지스터를 표시용의 트랜지스터로 이용하는 표시장치에 있어서,소스배선과 게이트배선을 매트릭스형으로 배치하고, 상기 소스배선과 게이트배선의 교차부에 상기 트랜지스터를 설치하고, 상기 트랜지스터의 상기 드레인전극을 상기 소스배선과 직각으로 배치한 것을 특징으로 하는 표시장치.
- 청구항 11에 있어서,상기 게이트배선과 상기 소스배선에 의해 구획되는 영역에 상기 트랜지스터와 그것에 접속한 화소전극을 배치하고, 상기 게이트배선과 그것에 겹치도록 배치한 차단의 화소전극 사이에, 게이트절연막과 보호막으로 상하를 낀 보조용량용 전극을 배치하고, 상기 보조용량용 전극과 상기 화소전극을 접속하기 위해 상기 보호막에 형성한 콘택트홀을 상기 트랜지스터의 존재하는 측에 치우쳐 배치하는 것과 동시에, 상기 보조용량용 전극 위에 위치하는 상기 화소전극의 테두리에는 상기 콘택트홀의 존재하는 측과 반대 측에 절결부를 형성한 것을 특징으로 하는 표시장치.
- 청구항 12에 있어서,상기 게이트배선과 상기 소스배선에 의해 구획되는 영역에 상기 트랜지스터와 그것에 접속한 화소전극을 배치하고, 상기 게이트배선과 그것에 겹치도록 배치한 차단의 화소전극 사이에, 게이트절연막과 보호막으로 상하를 낀 보조용량용 전극을 배치하고, 상기 보조용량용 전극과 상기 화소전극을 접속하기 위해 상기 보호막에 형성한 콘택트홀을 상기 트랜지스터의 존재하는 측에 치우쳐 배치하는 것과 동시에, 상기 보조용량용 전극 위에 위치하는 상기 화소전극의 테두리에는 상기 콘택트홀의 존재하는 측과 반대 측에 절결부를 형성한 것을 특징으로 하는 표시장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2000-00312454 | 2000-10-12 | ||
JP2000312454 | 2000-10-12 | ||
PCT/JP2001/008867 WO2002031887A1 (fr) | 2000-10-12 | 2001-10-09 | Transistor et visuel comprenant ce transistor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030048432A KR20030048432A (ko) | 2003-06-19 |
KR100798787B1 true KR100798787B1 (ko) | 2008-01-29 |
Family
ID=18792043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020037005106A KR100798787B1 (ko) | 2000-10-12 | 2001-10-09 | 트랜지스터 및 그것을 구비하는 표시장치 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6897482B2 (ko) |
EP (1) | EP1326281B1 (ko) |
JP (2) | JP4211250B2 (ko) |
KR (1) | KR100798787B1 (ko) |
CN (1) | CN1222048C (ko) |
DE (1) | DE60141244D1 (ko) |
TW (1) | TWI222746B (ko) |
WO (1) | WO2002031887A1 (ko) |
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EP1326281A4 (en) | 2008-11-19 |
CN1222048C (zh) | 2005-10-05 |
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EP1326281B1 (en) | 2010-02-03 |
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US6897482B2 (en) | 2005-05-24 |
JP4737163B2 (ja) | 2011-07-27 |
KR20030048432A (ko) | 2003-06-19 |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
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|
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|
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