JP5113609B2 - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態に係る表示装置は液晶表示装置であって、走査信号線、映像信号線、薄膜トランジスタ、画素電極、及びコモン電極が形成されたTFT基板と、当該TFT基板と対向し、カラーフィルタが設けられたフィルタ基板と、両基板に挟まれた領域に封入された液晶材料と、を含んで構成される。TFT基板及びフィルタ基板は、いずれもガラス基板などである。
第2実施形態に係る表示装置も第1実施形態と同様の構成(図2〜図5参照)を有し、第2実施形態におけるTFT基板TSの製造方法も第1実施形態と同様の製造方法(図6参照)であるため、ここでは説明を省略する。
第3実施形態に係る表示装置も第1実施形態と同様の構成(図2〜図5参照)を有し、第3実施形態におけるTFT基板TSの製造方法も第1実施形態と同様の製造方法(図6参照)であるため、ここでは説明を省略する。
第4実施形態に係る表示装置も第1実施形態と同様の構成(図2〜図5参照)を有し、第4実施形態におけるTFT基板TSの製造方法も第1実施形態と同様の製造方法(図6参照)であるため、ここでは説明を省略する。
第5実施形態に係る表示装置も第1実施形態と同様の構成(図2〜図5参照)を有し、第5実施形態におけるTFT基板TSの製造方法も第1実施形態と同様の製造方法(図6参照)であるため、ここでは説明を省略する。
Claims (12)
- 基板上に順次積層された走査信号線、絶縁膜、半導体層及び導電体層を備える表示装置であって、
前記導電体層は、前記走査信号線と前記絶縁膜を介して交差する映像信号線と、薄膜トランジスタのドレイン電極及びソース電極と、前記映像信号線と前記ドレイン電極又は前記ソース電極のいずれか一方とを接続する接続線と、を含んで形成され、
前記半導体層は、少なくとも、前記絶縁膜の、前記映像信号線及び前記接続線が形成される領域より広がった領域を覆うように形成され、
前記走査信号線には、開口部が、前記映像信号線の一部と重なるように形成され、
前記接続線は、前記開口部上において前記映像信号線と接続され、かつ、前記開口部外に延伸して前記ドレイン電極又は前記ソース電極のいずれか一方と接続され、
前記映像信号線又は/及び前記接続線には、前記開口部に対応する領域又はその近傍において、切欠部、突起部又は拡幅部が形成されている、
ことを特徴とする表示装置。 - 前記映像信号線と前記接続線との接続箇所に前記切欠部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記映像信号線の、前記接続線が接続される側とは反対側に前記突起部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記接続線の、前記開口部に対応する領域外であって、かつ、前記開口部の近傍に前記突起部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記映像信号線と前記接続線との接続箇所に前記突起部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記接続線には、前記映像信号線との接続端から所定距離以内の領域において、前記映像信号線に近づくにつれて幅が徐々に広くなる前記拡幅部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 基板上に、走査信号線と、絶縁膜と、半導体層を構成する半導体材料と、導電体層を構成する導電体材料と、が順次積層されてなる積層構造上にパターン形成されたレジスト材をマスクとして前記導電体材料をエッチングすることによって、前記走査信号線と前記絶縁膜を介して交差する映像信号線と、薄膜トランジスタのドレイン電極及びソース電極と、前記映像信号線と前記ドレイン電極又は前記ソース電極のいずれか一方とを接続する接続線と、を含んだ前記導電体層を形成する工程と、
前記導電体層が形成された後、前記導電体層上に残っている前記レジスト材を融解し、該融解された前記レジスト材をマスクとして前記半導体材料をエッチングすることによって、前記半導体層を形成する工程と、
を含み、
前記走査信号線には、開口部が、前記映像信号線の一部と重なるように形成され、
前記接続線は、前記開口部上において前記映像信号線と接続され、かつ、前記開口部外に延伸して前記ドレイン電極又は前記ソース電極のいずれか一方と接続され、
前記レジスト材は、前記レジスト材を融解した場合の、前記開口部における前記レジスト材の広がりを制御するための切欠部、突起部又は拡幅部を前記映像信号線又は/及び前記接続線が備えるようにパターン形成される、
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記映像信号線と前記接続線との接続箇所に前記切欠部が形成されるように、前記レジスト材がパターン形成されることを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
- 前記映像信号線の、前記接続線が接続される側とは反対側に前記突起部が形成されるように、前記レジスト材がパターン形成されることを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
- 前記接続線の、前記開口部に対応する領域外であって、かつ、前記開口部の近傍に前記突起部が形成されるように、前記レジスト材がパターン形成されることを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
- 前記映像信号線と前記接続線との接続箇所に前記突起部が形成されるように、前記レジスト材がパターン形成されることを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
- 前記接続線の、前記映像信号線との接続端から所定距離以内の領域において、前記映像信号線に近づくにつれて幅が徐々に広くなる前記拡幅部が形成されるように、前記レジスト材がパターン形成されることを特徴とする請求項7に記載の表示装置の製造方法。
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