KR100602966B1 - 신규 아실기 함유 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명에 의하면, N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과, 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물을, 수용매 중 및(또는) 물과 유기 용매와의 혼합 용매 중에서 반응시키는 공정 (반응 공정)을 포함하는, 아실기 함유 조성물의 제조 방법이 제공되고, 온화한 조건하에서 착색이 없는 아실기 함유 조성물을 얻는 것이 가능해진다.

아실기 함유 조성물, 클렌징제, 음이온성 계면활성제

Description

신규 아실기 함유 조성물{NOVEL COMPOSITION CONTAINING ACYL GROUP}

본 발명은 고순도이고 착색이 적은 N-장쇄 아실 산성 아미노산 유도체를 포함하는 아실기 함유 조성물, 및 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을 사용하는 이의 간이한 제조 방법에 관한 것이다.

종래부터 세정제, 향장품 원료로서 유용한 여러가지의 음이온성 계면활성제가 알려져 있다. 계면활성제에 요구되는 성능으로서는, 세정성, 포밍성(forming property) 등의 계면활성능이 우수한 것은 물론, 최근에는 소비자의 요구의 다양화나 고급품 지향에 따라 피부나 안점막 등에 대한 자극이 적은 것에 더하여 제품에 착색이나 탁함이 없는 것이나 피부 등에 바람직한 감촉을 부여할 수 있는 것 등의 효과가 요구되고 있다. 또한, 환경에의 부하(負荷)라는 관점에서 생분해성이 좋은 것, 소량으로 계면활성 효과가 있는 것이 요구되는 경향이 보다 강해지고 있다.

예를 들면, 종래부터 알킬 황산염, 폴리옥시에틸렌 알킬 황산염, 알킬 벤젠술폰산염 등이 사용되고 있다. 그러나, 이들 중 다수는 사용시에 피부에의 자극성이 강하다는 문제점이 있다. 안전성이 높고, 또한 생분해성이 우수한 것으로서 아미노산계 계면활성제가 있으며, 예를 들면 N-장쇄 아실 아미노산염 또는 이의 유도체가 있다. 그러나, 이 경우에는, 저농도에서의 계면활성능 등이나, 제품의 착색, 저온에서의 탁함 등의 관점에서는 충분하다고는 할 수 없다.

종래 기술에서의 N-장쇄 아실 산성 아미노산 유도체를 얻는 방법으로서는, 예를 들면 일본 특허 공고 소 50-2973호 공보에, N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 멘톨을 P-톨루엔술폰산을 촉매로서 톨루올이나 벤졸 중, 100 ℃ 전후에서 용해하여 반응시킨 후, 중화하고, 물 세척하고, 건조시켜, N-아실 아미노산 멘톨 에스테르를 얻는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 이 방법에서는 반응 온도가 높기 때문에 얻어진 N-장쇄 아실 산성 멘톨 에스테르의 착색 (담황색)은 면할 수 없는 동시에, 제조 방법이 중화, 물 세척, 건조 등의 번잡한 조작을 수반하는 등 공업적 실시는 곤란하다.

일본 특허 공개 2000-44554호 공보에서는, 상기 일본 특허 공고 소 50-2973호 공보와 같이 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 히드록실기 또는 아미노기를 갖는 화합물을 반응시켜 N-장쇄 아실 산성 아미노산 유도체를 포함하는 계면활성제를 얻는 방법이 개시되어 있다. 여기서는 제품의 착색을 방지하는 것을 목적으로, 원료 중 어느 하나의 융점 이상의 온도에서 어느 하나를 액상으로서 반응시키거나 또는 톨루엔 등의 불활성 용매 중에서 어느 하나를 액상으로서 반응시키는 방법이 이용된다. 그러나, 이 방법은 제품의 착색 방지, 또한 반응 수율 (순도)의 관점에서 불충분하다.

예를 들면, 상기 일본 특허 공개 2000-44554호 공보 중에는 N-라우로일글루타민산 무수물과, 소르비톨과 같은 당류 또는 L-글루타민산과 같은 아미노산류를 무용매로 100 ℃ 이상의 고온에서 반응시키는 실시예가 기재되어 있다. 이 방법으 로는 역시 부산물의 생성은 면할 수 없고 제품은 착색되어 버리고, 또한 반응 수율은 낮기 때문에 고순도의 목적물을 얻는 것이 곤란하다. 여기에 톨루엔 등의 불활성 용매를 이용하여 반응시킬 수 있다는 기재가 있다. 그러나, 예를 들면 N-라우로일글루타민산 무수물과, 소르비톨과 같은 당류 또는 L-글루타민산과 같은 아미노산류를 반응시킬 경우, 이러한 원료는 용매 등으로의 용해성이 낮기 때문에, 역시 100 ℃ 이상의 고온으로 가열한 상태에서 고체-액체의 2 상계로서 반응시키지 않으면 안되고, 결과적으로 상기와 동일하게 제품의 착색, 순도의 관점에서 충분하지 않다.

본 발명자들은 일본 특허 공개 2002-167313호 공보에서 분자 내에 히드록실기, 아미노기, 티올기로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을 반응시켜 이루어지는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 유도체를 포함하는 아실기 함유 조성물 (계면활성제)과 이의 제조 방법을 개시하고 있다. 얻어진 아실기 함유 조성물은, 저농도에서 계면활성능을 나타내는 것, 자극성이 낮다는 것 등이 확인되었지만, 이 방법으로 얻어진 아실기 함유 조성물을 중화하여 수용액으로 하였을 때 착색이나 탁함이 현저하거나, 안정성이 나쁜 문제가 있었다. 또한, 반응 수율도 충분하다고 할 수 있을 정도로 높지 않았고 다수의 불순물을 함유하고 있기 때문에, 크로마토그래피에 의한 분리를 실시하여 제품 순도를 높일 필요가 있었다.

이 경우의 반응 방법도 상기 일본 특허 공개 2000-44554호 공보의 경우와 같이, 원료 중 어느 하나의 융점 이상의 온도에서 또는 불활성 용매를 사용하여 반응 시키는 방법이다. 따라서, 예를 들면 톨루엔과 같은 불활성 용매 중에서 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 아미노산을 반응시키는 경우, 아미노산은 물 이외의 용매에 용해시키기 어렵기 때문에, 반응을 진행시키기 위해서는 반응 온도를 고온으로 하지 않으면 안된다. 이로 인해, 특유의 부반응 때문에 아무리 해도 피할 수 없는 부산물이 생성되고, 이 부산물이 최종 제품에서의 착색이나 탁함의 원인이 된다.

또한, 이들 반응의 생성물인 아실 화합물도 또한 용매에 대한 용해성이 낮거나, 융점이 높기 때문에, 이러한 무용매나 유기 용매 중에서의 반응에서는, 반응 도중에, 어떤 경우에는 반응 중간체로서 석출되어 버린다. 그와 같은 사태를 방지할 필요성으로부터도 반응 온도를 100 ℃ 부근 또는 그 이상까지 높게 설정하지 않으면 안되었다.

본 발명자들은 뒤에 상세히 설명하는 것과 같이 (i) 이러한 반응 (상기 일본 특허 공개 2002-167313호 공보 및 일본 특허 공개 2000-44554호 공보에 개시되어 있는 것과 같은 원료 중 어느 하나의 융점 이상의 온도에서 또는 불활성 용매를 사용하여 반응시키는 방법)으로 생성되는 부산물 중 하나는 생성물인 아실 화합물보다도 분자량에서 18 더 작은 화합물인 것 또는 (ii) 이 부산물은 크로마토그래피에 의한 분리 등의 분리 조작에 있어서도 제거가 곤란한 것이며, 상기 일본 특허 공개 2002-167313호 공보의 실시예에서 행해진 크로마토그래피에 의한 분리에 있어서도 이 부산물은 제거되지 않고, 얻어진 아실 화합물의 착색의 원인으로 되었다는 것을 확인하였다.

따라서, 우선 종래 기술로부터의 제1 요청으로서, 피부 등으로의 자극성이 적고, 또한 저농도로도 충분한 계면활성능을 갖는 음이온성 계면활성제로서의 N-장쇄 아실 산성 아미노산 유도체를 포함하는 아실기 함유 조성물이며, 또한 부산물이 저감되고 수용액으로 하였을 때 착색이나 탁함이 발생되지 않는 상기 조성물, 및 상기 조성물을 고수율로 얻기 위한 간편한 제조 방법이 요구된다.

한편, 겔상 조성물에는, 유성 성분을 수성 용매에 배합하여 그 제형을 겔상으로 제조한 각종의 겔상 조성물이 있다. 여기서, 겔이란 예를 들면, 콜로이드 화학의 기초 (다이닛본 도쇼(주), 1976년 발행)의 245 페이지에 기재되어 있는 것과 같은 페이스트, 크림, 젤리 등 액체 함유량이 광범위한 것을 가리킨다. 예를 들면, 일본 특허 공개 소 55-141243호 공보에서 겔화제로서 스테아르산나트륨을 이용하고 유지를 매개로 하여 제조되는 유성 겔상 조성물이 개시되지만, 이 경우는 겔 강도가 충분하지 않고 균열이 일어나기 쉬운데다가, 경도가 일정하기 때문에 임의의 경도의 겔상 조성물이 생기기 어렵다는 문제점이 있다.

또한, 일본 특허 공개 소 55-81655호 공보에 겔상의 방향제가 개시되어 있다. 겔상으로 하기 위해서는 겔화제인 수용성 고분자 화합물을 첨가하는 것이 일반적으로 행해진다. 그러나, 이 방법으로 얻어진 겔상 조성물은 40 내지 50 ℃ 정도의 온도 하에서 방치시키면 유성 성분이 분리되거나, 고분자의 중합도가 변화하여 점도가 증가 또는 감소되는 경향이 있고, 경시(經時)적인 안정성이 부족하다는 문제점이 있다.

또한, 겔상 조성물을 이용한 화장료로서 겔상 클렌징제 등이 있다. 예를 들 면, 유성 성분을 수성 용매 중에 배합하고, 그 제형을 겔상으로 제조한 것에 겔화제로서 알려진 수용성 고분자 화합물을 첨가하는 것이 일반적으로 행해진다. 이와 같이 수용성 고분자로 형성된 겔상 조성물을 클렌징 화장료로 사용한 경우에는, 신장이 나빠지거나, 세정에 문제가 있거나, 물 세척 후에 끈적거림과 동시에, 이 경우에는 상기한 바와 같이 경시적인 안정성이 부족한 문제점이 있다.

한편, 기름을 겔화제로 겔화시킨 오일 겔이 있지만, 이것은 생성되는 겔상 조성물의 점도 조정이 어렵고, 또한 화장 지움 등의 클렌징제로서 사용하는 경우에 물로 씻어 버릴 수 없고, 사용 후에 티슈 페이퍼 등으로 닦아 내고, 또한 세안료 등으로 재세정할 필요가 있다. 마찬가지로, 유중수형으로 유화시킨 겔상 조성물이 있지만, 이 경우에도 유상을 연속상으로 하기 때문에 오일 겔과 마찬가지로 클렌징제로서 사용한 경우, 사용 후에 재세정이 필요하다. 모두, 유성 성분이 손에 끈적거려 사용감이 바람직하지 않다.

또한, 수중유형의 유화형 겔상 조성물도 알려져 있으며, 이것은 상기한 바와 같은 닦아 내는 조작 없이 물로 씻어 버리는 것이 가능하지만, 유성 성분이 피부상에 잔류하는 경우가 많고, 물에 의한 세정만으로는 불충분하다. 또한, 기름 오염물과의 친화성이 나쁘고, 클렌징성이 불충분하다. 그 때문에, 유성 성분이나 계면활성제의 종류나 양을 변화시킨 것이 다수 검토되었지만, 안정성이나 사용감 등의 관점에서 충분히 만족시킬 것은 아니다.

또한, 일본 특허 공개 평 10-219278호 공보에 아실기 2 장쇄 2 극성기 함유 음이온 계면활성제의 조성물이 개시되고, 여기서 필요에 따라 겔상, 페이스트상으 로 할 수 있다는 기재가 있지만, 실시예는 모두 세정제의 수용액으로서의 개시 뿐이고, 유성의 겔상 조성물에 관한 기재는 아무것도 이뤄져 있지 않다.

따라서, 종래 기술로부터의 제2 요청으로서, 상기한 결점을 극복하는, 유성 성분을 안정적으로 배합하고 페이스트상으로부터 고체상까지 임의의 경도가 가능한 겔상 조성물이 요구된다.

또한, 종래부터, 크림, 유액, 로션 등의 화장료에는, 촉촉한 느낌을 갖도록, 또한 도포한 후에 충분한 보습 효과를 제공하도록 각종 유성 성분이나 글리세린 등의 보습제가 비교적 다량으로 배합되어 있다. 그러나, 촉촉한 느낌이나 보습성을 높이고자 하면 기름기나 끈적거리는 느낌이 과하게 남거나, 유화계가 불안정하게 되어 경시적인 분리가 발생하여 제품이 악화되어 버리거나, 또는 안정성을 증가시키기 위해 계면활성제의 배합량을 증가시키면, 피부로의 자극성을 증가시키는 것이 되는 등, 촉촉한 느낌이나 보습 효과와 도포 후의 사용감 및 제품의 안정성을 동시에 만족시키는 것은 곤란하였다.

예를 들면, 일본 특허 공개 평 10-203956호 공보에서 다가 알코올과 특정한 구조의 아미드 화합물을 배합한 화장료에 보습 효과가 우수하고, 끈적거림이 없는 화장료가 개시되어 있다. 그러나, 유화 상태의 안정성에 대해서 충분히 만족할 수 있는 것은 아니다.

또한, 일본 특허 공개 평 10-218754호 공보에 아실기 2 장쇄 2 극성기 함유 음이온 계면활성제와 분체 및(또는) 미립자 분체와 물을 포함하는 화장료가 개시되어 있다. 그러나, 여기에서도 도포 시의 감촉이나 보습 효과에서의 개선 효과가 나타나 있을 뿐이고, 안정성 등의 관점에서 충분히 만족할 수 있는 것이 아니다.

따라서, 종래 기술로부터의 제3 요청으로서, 촉촉한 느낌이나 보습 효과가 우수하고, 또한 유화 상태의 안정성에도 우수한 화장료가 요구된다.

또한, 최근, 필기 도구용, 기록계용, 프린터용, 액상 화장료용 등의 수성 조성물의 착색제로서 염료 대신에 안료가 많이 사용되고 있다. 이것은 착색제로서의 안료계가, 내수성, 내광성이 우수하기 때문이지만, 안료는 염료와 같이 물로의 용해도가 없거나 거의 없기 때문에 안료를 수중으로 안정적으로 분산시킬 필요가 있다. 이를 위한 분산제로서, 비이온성이나 음이온성의 각종 계면활성제나 셀룰로오스 유도체나 비이온성 고분자 등의 수용성 고분자가 단독으로 또는 혼합하여 사용되었다. 그러나, 상기한 바와 같은 방법은 분산 상태가 나쁘고, 경시적인 침강이나 응집에 대해 불충분하였다.

또한, 유성 메이크업 화장료 등에 있어서는, 일반적으로 탈크, 운모, 이산화티탄, 카올린 등의 무기 안료를 유성 기재 중에 분산시킬 필요가 있지만, 이러한 안료의 친수성이 강하기 때문에 유성 기재로의 분산성이 나쁘고, 분산 불량에 의한 제품 품질 악화 등의 문제가 발생한다.

예를 들면, 이산화티탄은 일반적으로 자외선 차폐 목적으로서 화장료에 함유되는 것이지만, 이것이 미분산됨으로써 차폐 효과가 발휘되기 때문에, 입자의 분산 상태가 나빠지고 응집 등이 발생하면, 차폐 효과가 불충분해 진다. 또한, 필기 도구, 기록계, 프린터, 액상 화장료용의 토출(吐出) 기구에서는 안료의 침강이 발생하면 토출부에서의 막힘 등의 문제의 원인이 된다.

삭제

또한, 일반적으로 분산제는, 안료가 친수성인지 또는 소수성인지에 의해 친화성이 다르기 때문에, 분산의 유효성이 변화된다. 이 때문에, 친수성 안료, 소수성 안료 중 어느 것에 대해서도 만족할 수 있는 분산 안정성을 나타내는 분산제 조성물은 없다.

따라서, 종래 기술로부터의 제4 요청으로서, 친수성 분체 및(또는) 소수성 분체에 대하여 높은 분산 안정성을 갖는 분산제 조성물이 요구된다.

상술한 배경 기술의 기재로부터도 밝혀진 바와 같이, 본 발명의 목적 중 하나는 피부 등으로의 자극성이 적고, 또한 저농도로도 충분한 계면활성능을 갖는 음이온성 계면활성제로서의 N-장쇄 아실 산성 아미노산 유도체를 포함하는 아실기 함유 조성물이며, 또한 부산물이 저감되어 있고 수용액으로 하였을 때 착색이나 탁함이 발생하지 않는 상기 조성물, 및 상기 조성물을 고수율로 얻기 위한 간편한 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 유성 성분을 안정적으로 배합하고, 페이스트상으로부터 고체상까지 임의의 경도가 가능한 겔상 조성물을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 촉촉한 느낌이나 보습 효과가 우수하고, 또한 유화 상태의 안정성에서도 우수한 화장료를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은, 친수성 분체 및(또는) 소수성 분체에 대하여 높은 분산 안정성을 갖는 분산제 조성물을 제공하는 것이다.

따라서, 본 발명자들은 예의 검토한 결과, 종래의 방법으로 얻어지는 아실기 함유 조성물 중에는, 목적 생성물인 아실 화합물 이외에 특유의 부반응 생성물이 존재하는 것을 밝혀냈다. 이러한 부산물은, 상기한 바와 같이 (a) N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 축합 반응시킬 때, 선행 기술에 있는 것과 같은 무용매 또는 비수계 용매를 이용하여 실시한 경우에 생성되는 것, 또한 (b) 반응 온도를 올릴수록 그 경향이 높아지는 것, 또한 (c) 이 부산물의 생성량이 많은 것일수록, 아실기 함유 조성물을 수용액으로 한 경우에 착색이나 탁함의 정도가 크다는 것을 발견하였다. 또한, 이 부산물을 질량 해석하면 분자량이 목적물인 아실 화합물보다 18이 더 작은 것이 판명되었다. 이것으로부터 이 부산물은 아실 화합물보다 (1 분자의 물이) 탈수된 것임이 추정된다. 여기서는, 이 부산물을 「탈수 아실 화합물」이라 정의하여 기술한다.

본 발명자들은 아실기 함유 조성물로부터 이 탈수 아실 화합물의 제거를 시도하였다. 예를 들면, 크로마토그래피에 의한 처리를 실시하면 아실 화합물의 순도는 상당한 순도까지 높일 수는 있지만 탈수 아실 화합물을 제거할 수는 없었다. 즉, 탈수 아실 화합물 이외의 부산물은 제거할 수 있어도, 탈수 아실 화합물의 제거는 곤란하였다. 이와 같이 크로마토그래피에 의한 처리에서도 분리 곤란한 원인은 양측의 극성이 매우 가깝기 때문으로 생각된다.

따라서, 본 발명자들은 탈수 아실 화합물의 생성 그 자체를 억제하는 것을 검토하였다. 그 결과, 놀랍게도 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 히드록실기, 아미노기, 티올기로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 본 발명의 아실기 함유 조성물을 얻는 경우에 있어서, 통상 무수물에 대하여 불활성이 아닌 수계에서의 용매 (수용매 및/또는 물과 유기 용매와의 혼합 용매) 중에서 반응시킨 경우, 상기한 바와 같은 탈수 아실 화합물의 생성을 현저히 억제할 수 있음을 발견하였다. 즉, 부산물 제거 조작을 행하기 전에 있어서 반응액 자체에 착색이 전혀 보이지 않는 무색 투명 상태가 달성되었다.

또한, 놀랍게도 무수물을 이용하는 반응에 상관없이 이러한 수계 매체에서의 반응 방법으로 한 경우, 종래의 불활성 용매 중에서 실시하는 반응에 비하여, 저온의 조건에서 매우 효율적으로 또한 매우 높은 수율로 목적물인 아실기 함유 조성물을 얻을 수 있다는 것도 발견하였다. 이와 같이 물 매체에서의 반응 방법을 이용하는 것으로, 반응 후의 크로마토그래피에 의한 처리를 실시하지 않아도 매우 고순도로 착색이 없는 아실기 함유 조성물을 얻는 것이 가능하다. 종래의 무용매 또는 비수용매를 이용한 반응 조건으로서는, 반응 생성물 중의 아실기 함유 조성물 순도는 기껏 60 중량％ 정도이던 것이, 물 매체 반응 조건에서는 (그 밖의 인자에 따라서도 다르지만) 90 중량％ 이상의 순도의 것을 쉽게 얻을 수 있다. 이와 같이, 반응 용매를 수계 용매로 함으로써 종래 기술에 있어서의 문제점을 극복하고, 또한 매우 간편한 방법으로 제품의 순도를 비약적으로 향상시키는 점은, 공업적 실시라는 점에서 각별한 기술적 진보라고 생각할 수 있다.

또한, 전혀 의외의 것으로는 다음과 같은 효과가 발견되었다. 본 발명의 제조 방법에서는, 수계 용매에서의 반응 형태로 하기 때문에, N-아실 산성 아미노산 무수물이 불가피하게 가수 분해를 일으키고 극히 소량의 N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이 생성물인 아실기 함유 조성물 중에 잔존하게 된다. 아실기 함유 조성물 중에 N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이 소량 잔존함으로써, 예를 들면 아실기 함유 조성물의 크래프트점(Krafft point)의 저하, 아실기 함유 조성물 수용액을 포함하는 세정제의 안정성, 포밍성, 거품 크림성，거품 결, 헹굼 감촉, 산뜻함 느낌 등의 감촉, 증점성 등이 향상됨을 발견하였다.

또한, 본 발명자들은 본 발명의 아실기 함유 조성물의 특성에 대해서도 예의 검토하고, 몇 개의 이점을 발견하였다. 그 하나로서, 본 발명의 아실기 함유 조성물을 이용하는 것으로, 겔화제를 이용하지 않고 유성 성분을 안정적으로 겔상으로 배합하고, 그 경시적 안정성에서도 우수함과 동시에, 페이스트상으로부터 고체 상태까지의 임의의 경도의 겔상 조성물을 제공할 수 있다는 것을 밝혀냈다. 또한, 놀랍게도, 이렇게 해서 얻어진 겔상 조성물은 물로의 분산성이 매우 우수하기 때문에, 본 발명자 등은 이 겔상 조성물이 피부로 도포된 후에 물로 쉽게 씻어 낼 수 있고, 사용 후에 잔류하지 않아 감촉이 우수한 클렌징제 등의 기재로서 유용한 겔상 조성물이 된다는 것, 또한 이 겔상 조성물 중에서도 어느 점도 범위의 것은 피부 등에 도포된 경우 신장성이 우수하다는 것을 발견하였다. 또한, 이 겔상 조성물은 계면활성제, 폴리히드록실 화합물 및 물을 포함하는 수상과, 유성 성분을 포함하는 유상과의 굴절률 차이를 작게 할수록 상기 겔상 조성물의 외관이 투명하게 된다는 것을 발견하였다.

또한, 본 발명자들은 본 발명의 아실기 함유 조성물의 특성에 의한 이점 중 두번째로서, 아실기 함유 조성물을 특정량만 배합한 화장료가, 촉촉한 느낌이나 보습 효과가 우수하고, 또한 유화 상태의 안정성에서도 우수하다는 것을 밝혀냈다. 또한, 본 발명의 아실기 함유 조성물의 1종 이상, 분자 내에 히드록실기를 2개 이상 갖는 폴리히드록실 화합물의 1종 이상, 및 유성 성분의 1종 이상을 포함하는 유성 겔상 조성물을 이용하여 매우 안정한 유액이 제조 가능함을 발견하였다.

또한, 본 발명자들은 본 발명의 아실기 함유 조성물의 특성에 의한 이점 중 세번째로서, 아실기 함유 조성물은 친수성 및(또는) 소수성 분체에 대하여 높은 분산 안정성을 갖는다는 것을 발견하였다.

즉, 본 발명의 구성은 이하와 같다.

[1] 하기 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과, 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물을, 수용매 중 및(또는) 물과 유기 용매와의 혼합 용매 중에서 반응시키는 공정 (반응 공정)을 포함하는, 하기 화학식 2로 표시되는 1종 이상의 아실 화합물을 함유하는 아실기 함유 조성물의 제조 방법.

상기 식에서, R¹CO는 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 장쇄 아실기를 나타내고, R²는 수소이거나, 또는 임의로 히드록실기 또는 카르복실기로 치환된 탄소 원자수 1 내지 3의 저급 알킬기를 나타내고, j, k는 각각 독립적으로 0, 1, 2 중 어느 하나이며, 또한 j, k가 동시에 0은 아니고, n개 (n은 2 내지 20의 정수임 (2와 20을 포함함))의 Z는 X의 치환기인 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개 (m≥n) 관능기와의 결합부이며, 각각 독립적으로 -O-, -NR³- (R³은 수소, 또는 탄소 원자수 1 내지 10의 알킬기 또는 알케닐기 또는 아릴기 또는 알킬아릴기임) 및 -S-로 이루어지는 군으로부터 선택되고, X는 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 분자량 100만 이하의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서이고, Z를 통하여 X에 붙는 n개의 하기 화학식 3으로 표시되는 치환기는 각각이 독립적이고, Y는 카르 복실기 또는 그의 염을 나타낸다.

(상기 식에서의 정의는 상기 화학식 1, 2와 동일함)

[2] [1]에 있어서, 상기 화학식 2에서 X가 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 탄소수 1 내지 40의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서인 방법.

[3] [1] 또는 [2]에 있어서, 상기 반응 공정에서 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물에 포함되는 이들 관능기의 합계의, 상기 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물에 대한 몰비가 0.5 내지 1.4이고, 또한 반응 시에 반응액의 pH가 4 내지 14로 유지되는 방법.

[4] 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 있어서, 상기 반응 공정 후에 실시되는 공정으로서, (i) 상기 반응 공정에 의해 얻은 반응액을 광산으로 pH를 1 내지 6으로 함으로써 유기층과 물 층으로 분층하여, 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층을 취득하는 공정 (산침전 분층 공정) 및 (ii) 무기염 등의 수용성 불순물을 함유하는 아실기 함유 조성물과, 실질적으로 물 및 tert-부탄올을 주성분으로 하는 매체와의 혼합 상태로부터, 35 ℃ 내지 80 ℃의 온도에서, 물 층과 아실기 함유 조 성물을 포함하는 유기층으로 분층하여 아실기 함유 조성물 중의 불순물을 제거하는 공정 (물 세척 공정) 중 어느 하나 또는 양쪽을 포함하는 방법.

[5] [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 있어서, 상기 반응 공정의 실시 후에 또는 추가로 상기 산침전 분층 공정 또는 물 세척 공정의 실시 후에 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로부터 유기 용매를 증류하여 제거할 때, 혼합액을 기체-액체 혼합상으로 하여 증발관 내에 분무함으로써 용매를 증발시키는 분무식 증발기를 사용하여, 유기 용매를 증류하여 제거하는 방법.

[6] 하기 화학식 2로 표시되는 1종 이상의 아실 화합물을 함유하는 아실기 함유 조성물이며, 상기 조성물 중 아실 화합물 함유량이 70 중량％ 이상이고, 유리 지방산 함량이 3 중량％ 이하이고, 또한 액체 크로마토그래피를 이용한 205 nm에서의 검출기에 의한 분석에서 분자량이 상기 아실 화합물보다 18이 더 작은 화합물의 함유량이 아실 화합물에 대하여 면적비로 5 ％ 이하인 아실기 함유 조성물.

<화학식 2>

상기 식에서, R¹CO는 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 장쇄 아실기를 나타내고, R²는 수소이거나, 또는 임의로 히드록실기 또는 카르복실기로 치환된 탄소 원자수 1 내지 3의 저급 알킬기를 나타내고, j, k는 각각 독립적으로 0, 1, 2 중 어느 하나이며, 또한 j, k가 동시에 0은 아니고, n 개 (n은 2 내지 20의 정수임 (2와 20을 포함함))의 Z는 X의 치환기인 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개 (m≥n) 관능기와의 결합부이며, 각각 독립적으로 -O-, -NR³- (R³은 수소, 또는 탄소 원자수 1 내지 10의 알킬기 또는 알케닐기 또는 아릴기 또는 알킬아릴기임) 및 -S-로 이루어지는 군으로부터 선택되고, X는 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 분자량 100만 이하의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서이고, Z를 통하여 X에 붙는 n개의 하기 화학식 3으로 표시되는 치환기는 각각이 독립적이고, Y는 카르복실기 또는 그의 염을 나타낸다.

<화학식 3>

(상기 식에서의 정의는 상기 화학식 2와 동일함)

[7] [6]에 있어서, N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이 0.5 내지 30 중량％ 함유되는 조성물.

[8] [6] 또는 [7]에 있어서, 상기 화학식 2에서, X가 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 탄소수 1 내지 40의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서인 조성물.

[9] [6] 내지 [8] 중 어느 하나에 있어서, 상기 화학식 2에서, R¹CO가 탄소 원자수 8 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 장쇄 아실기인 조성물.

[10] [6] 내지 [9] 중 어느 하나에 있어서, 상기 화학식 2에서, X가 각각 독립적으로, 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 및 이들의 염으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 기를 갖는 조성물.

[11] [6] 내지 [10] 중 어느 하나에 있어서, 상기 아실기 함유 화합물 중의 해리기 1 당량에 대하여, 상대이온으로서 염기성 물질을 0.2 내지 1.5 당량 함유하는 조성물.

[12] [6] 내지 [11] 중 어느 하나에 있어서, 상기 아실 함유 조성물을 고형분이 20 중량％이고 pH 10인 수용액으로 제조하였을 때, 430 nm 및 550 nm에서의 투과율이 모두 90 ％ 이상인 조성물.

[13] [10] 또는 [11]에 있어서, 추가로 다른 계면활성제를 포함하는 조성물.

[14] [6] 내지 [13] 중 어느 하나에 있어서, 하기 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과, 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물을, 물 및(또는) 물과 유기 용매와의 혼합 용매 중에서 반응시키는 공정 (반응 공정)에 의해서 얻어지는 상기 화학식 2로 표시되는 1종 이상의 아실 화합물을 함유하는 조성물.

<화학식 1>

상기 식에서의 정의는 상기와 동일하다.

[15] [14]에 있어서, 상기 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물이, 각각 독립적으로, 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기로서, 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 및 이들의 염으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 기를 갖는 조성물.

[16] [14] 또는 [15]에 있어서, 상기 반응 공정 후에, 추가로 (i) 상기 반응 공정에 의해 얻은 반응액을 광산으로 pH를 1 내지 6으로 함으로써 유기층과 물 층으로 분층하여, 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층을 취득하는 공정 (산침전 분층 공정) 및 (ii) 무기염 등의 수용성 불순물을 함유하는 아실기 함유 조성물과, 실질적으로 물 및 tert-부탄올을 주성분으로 하는 매체와의 혼합 상태로부터, 35 ℃ 내지 80 ℃의 온도에서, 물 층과 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로 분층하여 아실기 함유 조성물 중의 불순물을 제거하는 공정 (물 세척 공정) 중 어느 하나 또는 양쪽을 실시함으로써 얻어지는 조성물.

[17] [14] 내지 [16] 중 어느 하나에 있어서, 상기 반응 공정을 실시한 후에 또는 추가로 상기 산침전 분층 공정 또는 물 세척 공정을 실시한 후에 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로부터 유기 용매를 증류하여 제거할 때, 혼합액을 기체-액체 혼합상으로 하여 증발관 내에 분무함으로써 용매를 증발시키는 분무식 증발기를 사용하여, 유기 용매를 증류하여 제거함으로써 얻어지는 조성물.

[18] 상기 [6] 내지 [17] 중 어느 하나에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상을 함유하는 액체상, 고체상, 겔, 페이스트상 또는 미스트상 조성물.

[19] 상기 [6] 내지 [17] 중 어느 하나에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상을 함유하고, 액체상, 고체상, 겔, 페이스트상 또는 미스트상인 향장품 조성물.

[20] [19]에 있어서, 추가로 폴리히드록실 화합물의 1종 이상을 함유하는 향장품 조성물.

[21] [20]에 있어서, 상기 향장품 조성물 중 폴리히드록실 화합물 함량이 0.1 내지 60 중량％이고, 상기 향장품 조성물 중의 아실기 함유 조성물 함량의 폴리히드록실 화합물 함량에 대한 중량비가 10/1 내지 1/100인 향장품 조성물.

[22] [20] 또는 [21]에 있어서, 추가로 유성 성분의 1종 이상을 함유하고, 또한 겔상인 향료품 조성물.

[23] 상기 [6] 내지 [17] 중 어느 하나에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상, 폴리히드록실 화합물의 1종 이상, 및 유성 성분의 1종 이상을 함유하는 겔상 조성물이며, 상기 겔상 조성물 중의 수분 함량이 50 중량％ 이하이고, 또한 상기 조성물 중의 조성이, 1) 아실기 함유 조성물의 총량이 0.1 내지 40 중량％, 2) 폴리히드록실 화합물의 총량이 1 내지 60 중량％, 3) 유성 성분의 총량이 1 내지 95 중량％인 상기 겔상 조성물.

[24] [23]에 있어서, 상기 겔상 조성물 중의 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물 및 물을 포함하는 물 층과, 유성 성분을 포함하는 유성층과의 20 ℃에서의 굴절률 차가 ±0.05 이하인 겔상 조성물.

[25] [23] 또는 [24]에 있어서, 25 ℃에서의 점도가 1000 내지 200,000 mPaㆍs인 겔상 조성물.

[26] 상기 [23] 내지 [25] 중 어느 하나에 기재된 겔상 조성물의 클렌징제를 위한 사용.

[27] 상기 [23] 내지 [25] 중 어느 하나에 기재된 겔상 조성물을 유화시켜 제조되는 향장품 조성물.

[28] 상기 [6] 내지 [17] 중 어느 하나에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상을 함유하고, 액체상, 고체상, 겔, 페이스트상 또는 미스트상인 분산제 조성물.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>

이하, 본 발명을 특히 그 실시 형태를 중심으로 상세히 설명한다.

본 발명에서 말하는 아실기 함유 조성물은, 화학식 2로 표시되는 것과 같은 분자 중에 소수기인 아실기와 친수기를 각각 복수개씩 갖는 아실 화합물을 포함한다.

화학식 2 중, R¹CO로 표시되는 아실기는 각각 독립적으로, 즉, 각각 상이할 수도 동일할 수도 있으며, 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화의 지방산으로부터 유도되는 것이면 어떤 것일 수도 있고, 직쇄, 분지, 환상을 불문한다.

R¹CO의 예로서는 이하에 예를 드는 산으로부터 유도되는 아실기가 포함된다. 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 펜탄산, 헥산산, 헵탄산, 카프릴산, 펠라르곤산, 카프르산, 운데칸산, 라우르산, 트리데칸산, 미리스트산, 펜타데칸산, 팔미트산, 마르가린산, 스테아르산, 노나데칸산, 아라킨산과 같은 직쇄 지방산; 2-부틸-5-메틸펜탄산, 2-이소부틸-5-메틸펜탄산, 디메틸옥탄산, 디메틸노난산, 2-부틸-5-메틸헥산산, 메틸운데칸산, 디메틸데칸산, 2-에틸-3-메틸노난산, 2,2-디메틸-4-에틸옥탄산, 메틸도코산산, 2-프로필-3-메틸노난산, 메틸트리데칸산, 디메틸도데칸산, 2-부틸-3-메틸노난산, 메틸테트라데칸산, 에틸트리데칸산, 프로필도데칸산, 부틸운데칸산, 펜틸데칸산, 헥실노난산, 2-(3-메틸부틸)-3-메틸노난산, 2-(2-메틸부틸)-3-메틸노난산, 부틸에틸노난산, 메틸펜타데칸산, 에틸테트라데칸산, 프로필트리데칸산, 부틸도데칸산, 펜틸운데칸산, 헥실데칸산, 헵틸노난산, 디메틸테트라데칸산, 부틸펜틸헵탄산, 트리메틸트리데칸산, 메틸헥사데칸산, 에틸펜타데칸산, 프로필테트라데칸산, 부틸트리데칸산, 펜틸도데칸산, 헥실운데칸산, 헵틸데칸산, 메틸헵틸노난산, 디펜틸헵탄산, 메틸헵타데칸산, 에틸헥사데칸산, 프로필펜타데칸산, 부틸테트라데칸산, 펜틸트리데칸산, 헥실도데칸산, 헵틸운데칸산, 옥틸데칸산, 디메틸헥사데칸산, 메틸옥틸노난산, 메틸옥타데칸산, 에틸헵타데칸산, 디메틸헵타데칸산, 메틸옥틸데칸산, 메틸노나데칸산, 디메틸옥타데칸산, 부틸헵틸노난산과 같은 분지 지방산; 옥텐산, 노넨산, 데센산, 카프롤렌산, 운데실렌산, 린데르산, 옵투실산(obtusilic acid), 라우롤레산, 트리데센산, 츠즈산(tsuzuic acid), 미리스톨레산, 펜타데센산, 헥사데센산, 팔미톨레산, 헵타데센산, 옥타데센산, 올레산, 노나데센산, 곤도산 같은 직쇄 모노엔산; 메틸헵텐산, 메틸노넨산, 메틸운데센산, 디메틸데센산, 메틸도데센산, 메틸트리데센산, 디메틸도데센산, 디메틸트리데센산, 메틸옥타데센산, 디메틸헵타데센산, 에틸옥타데센산과 같은 분지 모노엔 산; 리놀산, 리노엘라이드산, 엘레오스테아르산, 리놀렌산, 리놀렌엘라이드산, 수도엘레오스테아르산(pseudoeleostearic acid), 파리나르산, 아라키돈산과 같은 디 또는 트리엔산; 옥틴산, 노닌산, 데신산, 운데신산, 도데신산, 트리데신산, 테트라데신산, 펜타데신산, 헵타데신산, 옥타데신산, 노나데신산, 디메틸옥타데신산과 같은 아세틸렌산; 메틸렌옥타데센산, 메틸렌옥타데칸산, 알레프롤산, 알레프레스트산, 알레푸릴산, 알레푸르산, 히드노카르프산, 카울모오그르산(chaulmoogric acid), 고를산(gorlic acid), α-시클로펜틸산, α-시클로헥실산, α-시클로펜틸에틸산과 같은 환상산.

또한, 천연 유지로부터 얻어지는 지방산 유래의 아실기일 수도 있고, 상기 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산을 80 ％ 이상 포함하는 혼합 지방산 유래의 아실기일 수도 있다. 예를 들면, 야자유 지방산, 팜유 지방산, 아마인유 지방산, 해바라기유 지방산, 대두유 지방산, 참기름 지방산, 피마자유 지방산, 올리브유 지방산, 동백유 지방산, 채종유 지방산, 팜핵유 지방산 등으로부터 유도되는 아실기 등을 들 수 있다.

R¹CO의 종류에 의해 계면활성능이 변하기 때문에, 목적에 따라서 그 종류를 바꿀 수 있고, 계면활성제로서 사용하는 경우에는 R¹CO 중의 탄소 원자수가 8 내지 20인 것이 바람직하다.

화학식 2 중, R²는 수소이거나, 또는 히드록실기 또는 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 또는 이들의 염 등이 치환될 수도 있는 탄소 원자수 1 내지 3의 저급 알킬기를 나타내고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기, 히드록시(이소)프로필기, 디히드록시(이소)프로필기, 카르복시메틸기, 카르복시에틸기, 카르복시프로필기, 술포에틸기 등을 들 수 있다.

화학식 2 중, X에 붙는 n개의 치환기 (화학식 3)는 독립적으로, 즉, 각각이 상이할 수도 동일할 수도 있다. 또한, 화학식 3은 소위 산성 아미노산이 N-아실화된 것을 나타내며, 이들이 광학 이성질체, 예를 들면 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

산성 아미노산은 분자 중에 존재하는 카르복실기와 아미노기의 수가 각각 2개와 1개인 모노아미노디카르복실산이고, 아미노기는 N-메틸기 또는 N-에틸기일 수 있다. 또한, 광학 이성질체, 예를 들면 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다. 산성 아미노산으로서는, 예를 들면 글루타민산, 아스파라긴산, 란티오닌, β-메틸란티오닌, 시스타티오닌, 디엔콜산, 펠리닌, 아미노말론산, β-옥시아스파라긴산, α-아미노-α-메틸숙신산, β-옥시글루타민산, γ-옥시글루타민산, γ -메틸글루타민산, γ-메틸렌글루타민산, γ-메틸-γ-옥시글루타민산, α-아미노아디프산, α-아미노-γ-옥시아디프산, α-아미노피멜산, α-아미노-γ-옥시피멜산, β-아미노피멜산, α-아미노수베르산, α-아미노세박산, 판토텐산 등을 들 수 있다.

X에 붙는 n개의 치환기 (화학식 3)는 L-산성 아미노산 분자가 N-아실화된 것인 경우가 본 발명의 아실기 함유 조성물을 생분해성이 우수하게 하기 때문에 바람직하다.

화학식 2 중, X에 붙는 n개의 Z는, X에 치환된 m개 (m≥n)의 관능기 (히드록실기, 아미노기, 티올기)에서 유래하는 결합부 (-0-, -NR³-, -S-)이고, 각각 독립적으로, 즉, 동일 또는 상이할 수 있다. 여기서, R³은 수소, 또는 탄소 원자수 1 내지 10의 알킬기 또는 알케닐기 또는 아릴기 또는 알킬아릴기이다. X에 붙는 n개의 Z는, X에 치환된 아미노기에서 유래하는 결합부 (-NR³-)로 하는 것이 바람직하다.

화학식 2 중, X는 히드록실기, 아미노기, 티올기로부터 선택되는 1종 이상으로 이루어지는 m개의 관능기를 갖는 분자량 100 만 이하의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서이고, X는 상기 히드록실기, 아미노기, 티올기 이외의 치환기도 가질 수도 있다.

화학식 2 중, X는 바람직하게는 히드록실기, 아미노기, 티올기로부터 선택되는 1종 이상의 관능기를 m개 갖는 분자량 1OO 만 이하의 m가의 화합물의 잔기이며, 히드록실기, 아미노기, 티올기 이외의 치환기를 가질 수도 있는 화합물 잔기이다. 여기서, 상기 m가의 화합물은, m개의 관능기에서 유래하는 결합을 만들 수 있는 화합물을 의미한다. 이들이 광학 이성질체, 예를 들면 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

이러한 m가의 화합물로서는, 예를 들면 세린, 트레오닌, 시스테인, 시스틴, 시스틴디술폭시드, 시스타티오닌, 메티오닌, 아르기닌, 라이신, 티로신, 히스티딘, 트립토판, 옥시프롤린 등의 아미노산류; 아미노에탄올, 아미노프로판올, 아미노부탄올, 아미노펜탄올, 아미노헥산올, 아미노프로판디올, 아미노에틸에탄올아민, 아미노에틸아미노에탄올, 아미노크레졸, 아미노나프톨, 아미노나프톨술폰산, 아미노히드록시벤조산, 아미노히드록시부탄산, 아미노페놀, 아미노펜에틸 알코올, 글루코사민 등의 분자 내에 아미노기와 히드록실기를 갖는 화합물류; 메르캅토에탄올, 메르캅토페놀, 메르캅토프로판디올, 글루코티오스 등의 분자 내에 티올기와 히드록실기를 갖는 화합물류; 아미노티오페놀, 아미노트리아졸티올 등의 분자 내에 티올기와 아미노기를 갖는 화합물류를 들 수 있다. 또한, 단백질이나 펩티드 등, 또는 이들을 가수 분해한 것 등일 수도 있다.

또한, 화학식 2 중, X는 바람직하게는 히드록실기 이외의 치환기를 가질 수도 있는 분자량 100만 이하의 m가 (m≥n)의 폴리히드록실 화합물 잔기이다. 여기서, m가의 폴리히드록실 화합물은, m개의 에스테르 결합을 만들 수 있는 화합물을 의미한다. 이들이 광학 이성질체, 예를 들면 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

이러한 m가의 폴리히드록실 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 펜탄디올, 1,6-헥산디올, 시클로헥산디올, 디메틸올시클로헥산, 네오펜틸 글리콜, 1,8-옥탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 이소프렌 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 소르바이트, 카테콜, 레조르신, 히드로퀴논, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 수소첨가 비스페놀 A, 수소첨가 비스페놀 F, 다이머디올, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 타르타르산, 디히드록시타르타르산, 메발론산, 3,4-디히드록시신남산, 3,4-디히드록시히드로신남산, 히드록시벤조산, 디히드록시스테아르산, 디히드록시페닐알라닌 등 및 이들 각각의 이성질체 등의 2가 히드록실 화합물; 글리세린, 트리옥시이소부탄, 1,2,3-부탄트리올, 1,2,3-펜탄트리올, 2-메틸-1,2,3-프로판트리올, 2-메틸-2,3,4-부탄트리올, 2-에틸-1,2,3-부탄트리올, 2,3,4-펜탄트리올, 2,3,4-헥산트리올, 4-프로필-3,4,5-헵탄트리올, 2,4-디메틸-2,3,4-펜탄트리올, 1,2,4-부탄트리올, 1,2,4-펜탄트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 트리히드록시스테아르산 등의 3가 폴리히드록실 화합물; 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 1,2,3,4-펜탄테트롤, 2,3,4,5-헥산테트롤, 1,2,4,5-펜탄테트롤, 1,3,4,5-헥산테트롤, 디글리세린, 소르비탄 등의 4가 폴리히드록실 화합물; 아도니톨, 아라비톨, 크실리톨, 트리글리세린 등의 5가 폴리히드록실 화합물; 디펜타에리트리톨, 소르비톨, 만니톨, 이디틀, 이노시톨, 달시톨, 탈로스, 알로스 등의 6가 폴리히드록실 화합물; 또는 이들의 탈수 축합물 등을 들 수 있다.

또한, 당류, 예를 들면 에리트로오스, 트레오스, 에리트룰로오스 등의 테트 로오스; 리보오스, 아라비노오스, 크실로오스, 릭코오스(lyxose), 크실룰로오스, 리불로오스 등의 펜토오스; 알로오스, 알트로오스, 글루코오스, 만노오스, 굴로오스, 이도오스, 갈락토오스, 타로오스, 프룩토오스, 소르보오스, 프시코오스, 타가토오스 등의 헥소오스 등의 단당류; 말토오스, 이소말토오스, 셀로비오스, 겐티오비오스, 메리비오스, 락토오스, 투라노오스, 트레하로오스, 사카로오스, 만니트리오스, 셀로트리오스, 겐티아노오스, 라피노오스, 멜레지토오스, 셀로테트로오스, 스타키오스 등의 올리고당류를 들 수 있다.

또한, 그 밖의 당류, 예를 들면 헵토오스, 데옥시당, 아미노당, 티오당, 셀레노당, 알돈산, 우론산, 당산, 케트알돈산, 안하이드로당, 불포화당, 당에스테르, 당에테르, 글리코시드 등의 잔기일 수도 있고, 전분, 글리코겐, 셀룰로오스, 키틴, 키토산 등의 다당류 또는 이들을 가수 분해한 것일 수도 있다.

또한, 화학식 2 중, X는 바람직하게는 아미노기 이외의 치환기를 가질 수도 있는 분자량 100 만 이하의 m가의 폴리아미노 화합물 잔기이다. 여기서, m가의 폴리아미노 화합물은, m개의 산 아미도 결합을 만들 수 있는 화합물을 의미한다. 이들이 광학 이성질체, 예를 들면 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

이러한 m가의 폴리아미노 화합물로서는, 예를 들면 N,N'-디메틸히드라진, 에틸렌디아민, N,N'-디메틸에틸렌디아민, 디아미노프로판, 디아미노부탄, 디아미노펜탄, 디아미노헥산, 디아미노헵탄, 디아미노옥탄, 디아미노노난, 디아미노데칸, 디아미노도데칸, 디아미노아디프산, 디아미노프로판산, 디아미노부탄산 및 이들 각각의 이성질체 등의 지방족 디아민류; 디에틸렌트리아민, 트리아미노헥산, 트리아미노도데칸, 1,8-디아미노-4-아미노메틸-옥탄, 2,6-디아미노카프르산-2-아미노에틸 에스테르, 1,3,6-트리아미노헥산, 1,6,11-트리아미노운데칸, 디(아미노에틸)아민 및 이들 각각의 이성질체 등의 지방족 트리아민류; 디아미노시클로부탄, 디아미노시클로헥산, 3-아미노메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실아민, 트리아미노시클로헥산 등의 지환족 폴리아민류; 디아미노벤젠, 디아미노톨루엔, 디아미노벤조산, 디아미노안트라퀴논, 디아미노벤젠술폰산 및 이들 각각의 이성질체 등의 방향족 폴리아민류; 디아미노크실렌, 디(아미노메틸)벤젠, 디(아미노메틸)피리딘, 디(아미노메틸)나프탈렌 및 이들 각각의 이성질체 등의 방향족 폴리아민류; 디아미노히드록시프로판 및 이들 각각의 이성질체 등의 히드록실기 치환 폴리아민류 등을 들 수 있다.

또한, 화학식 2 중, X는 바람직하게는 티올기 이외의 치환기를 가질 수도 있는 분자량 100 만 이하의 m가의 폴리티올 화합물 잔기이다. 여기서, m가의 폴리티올 화합물은, m개의 티오에스테르 결합을 만들 수 있는 화합물을 의미한다. 이들은 광학 이성질체, 예를 들면 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

이러한 m가의 폴리티올 화합물로서는, 예를 들면 디티오에틸렌 글리콜, 디티오에리트리톨, 디티오트레이톨 등의 디티올 화합물류 등을 들 수 있다.

X는 위에 예를 든 화합물의 잔기 중에서도, 탄소수 1 내지 40의 경우가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 X는 탄소수 1 내지 20이다.

또한, X가, 각각 독립적으로, 치환기로서 1개 이상의 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 또는 이들의 염 등을 함유할 경우, 본 발명의 아실기 함유 조성물이 약산성에서의 용해성에서 우수하다는 점에서 바람직하다. 또한, X는 천연에 존재하는 형태인 경우, 본 발명의 아실기 함유 조성물이 생분해성이 우수하게 되는 점에서 바람직하다.

화학식 2 중, Y로 표시되는 카르복실기, 및 X 중에 포함될 수 있는 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 등은, 여러가지의 염기성 물질과의 사이에서 염을 형성할 수 있다.

이러한 염으로서는, 예를 들면 알칼리 금속염, 알칼리 토류 금속염, 암모늄염, 유기 아민염, 염기성 아미노산염 등을 들 수 있고, 구체적으로는 나트륨, 칼륨, 리튬 등의 알칼리 금속, 칼슘, 마그네슘 등의 알칼리 토류 금속, 알루미늄, 아연 등의 금속, 암모니아, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 유기 아민, 아르기닌, 라이신 등의 염기성 아미노산 등으로부터 임의로 선택되는 1종 이상의 염이다. 이들 중에서도, 나트륨염, 칼륨염, 유기 아민염, 염기성 아미노산염이 바람직하다.

다음으로, 본 발명의 아실기 함유 조성물의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 방법은 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 분자 내에 히드록실기, 아미노기, 티올기로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물을, 물 및(또는) 물과 유기 용매와의 혼합 용매 중에서 반응시키는 공정을 포함한다.

이러한 반응 공정에는, 다음과 같은 효과가 있다는 것이 발견되었다. 첫째로, 예를 들면 원료가 아미노산류나 당류와 같은 물 이외의 용매에 난용성인 화합 물일 수 있으며, 또한 생성물의 아실 화합물도 실온 부근 또는 그 이하의 온도에서의 반응 조건하에서 반응 용매에 용해시킬 수 있기 때문에, 반응액은 반응 종료 시간까지 균일 상태를 유지할 수 있다. 따라서, 온화한 조건에서의 반응이 가능하기 때문에 부반응이 억제되고, 그 결과로서 고순도의 아실기 함유 조성물을 얻을 수 있다. 특히, 종래의 방법으로 피할 수 없었던 탈수 아실 화합물의 부생성을 매우 미소하게 억제하는 것이 가능하다.

두번째로 다음과 같은 효과도 발견되었다. 본 발명의 제조 방법으로서는 반응 용매로서 수계 용매를 이용하기 때문에, 반응 중에 N-아실 산성 아미노산 무수물이 불가피하게 가수 분해하여 생성되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이 아실기 함유 조성물 중에 잔존하게 된다. 본 발명자들은, 이 소량 잔존하는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이, 전혀 예상도 하지 못한 새로운 효과를 초래하는 것을 발견하였다. 즉, 본 발명의 아실기 함유 조성물은 착색이 없을 뿐만 아니라 N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염을 함유하는 것으로 하기의 특성이 향상된다.

ㆍ아실기 함유 조성물의 크래프트점이 저하되고, 저온에서의 사용성이 향상된다.

ㆍ아실기 함유 조성물의, 물에 대한 용해도가 증가하고, 보다 낮고 넓은 pH 범위에서의 사용 (특히 약산성 영역)이 가능해진다.

ㆍ아실기 함유 조성물 수용액을 포함하는 세정제의 안정성이 향상된다.

ㆍ아실기 함유 조성물 수용액을 포함하는 세정제의 포밍성, 거품 크림성이 향상된다.

ㆍ아실기 함유 조성물 수용액을 포함하는 세정제의 거품 결이 미세해 진다.

ㆍ아실기 함유 조성물 수용액을 포함하는 세정제의 헹금 감촉이 향상된다.

ㆍ아실기 함유 조성물 수용액을 포함하는 세정제의 세정 후의 산뜻한 느낌 등의 감촉이 향상된다.

ㆍ증점제에 의한 아실기 함유 조성물 수용액의 증점성이 향상된다.

아실기 함유 조성물 중에 N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이 0.5 내지 30 중량％ 함유되는 것이 상기한 특성의 관점에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 1 내지 15 중량％이다. 더 바람직한 것은 1 내지 10 중량％이다.

본 발명에 이용되는 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물은, 직쇄, 분지, 환상을 불문하는 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화의 지방산 잔기에 의해 산성 아미노산이 아실화된 것이다. 이 아미노산의 아미노기는 N-메틸체, N-에틸체일 수도 있고, 또한 광학 이성질체 즉 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

예를 들면, N-장쇄 아실글루타민산, 아스파라긴산, 란티오닌, β-메틸란티오닌, 시스타티오닌, 디엔콜산, 펠리닌, 아미노말론산, β-옥시아스파라긴산, α-아미노-α-메틸숙신산, β-옥시글루타민산, γ-옥시글루타민산, γ-메틸글루타민산, γ-메틸렌글루타민산, γ-메틸-γ-옥시글루타민산, α-아미노아디프산, α-아미노-γ-옥시아디프산, α-아미노피멜산, α-아미노-γ-옥시피멜산, β-아미노피멜산, α-아미노수베르산, α-아미노세박산, 판토텐산 등이다. 이들 중에서도 산성 아미 노산이 L-산성 아미노산인 경우가, 얻어지는 본 발명의 아실기 함유 조성물의 생분해성이 특히 우수하다기 때문에 바람직하다.

N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물은 일반적인 합성법에 의해 쉽게 얻을 수 있다. 예를 들면, 무수 아세트산과 같은 무수 카르복실산과 N-장쇄 아실 산성 아미노산을 반응시키고, 계속해서 반응액을 정석(晶析)ㆍ여과ㆍ건조시켜 얻어진 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물의 조결정도 그대로 본 발명에 적용할 수 있다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정은, 예를 들면 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물과 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을, 수용매 또는 물과 유기 용매 (단수종 또는 복수종의 혼합물)와의 혼합 용매 중에서 혼합 교반함으로써 실시할 수가 있다. 여기서는, 히드록실기, 아미노기, 티올기로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물이 이용되는 반응 조건에 있어서, 반응 용매에 용해되는 것이 중요하다.

종래의 방법으로 아미노산이나 당류를 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과 반응시킬 경우에는, 적당한 용매가 없기 때문에 이러한 원료를 액 중에 분산시킨 상태로 반응시켜야 하고, 따라서 반응 온도를 올리는 등 반응 조건을 엄격하게 하여야 했다. 이에 대하여, 반응 매체를 수계로 하는 본 발명의 방법에 있어서는, 매우 온화한 조건으로 반응을 실시하는 것이 가능하다. 이와 같은 온화한 반응 조건에 의해 부산물의 생성은 최소한으로 억제된다.

물과 유기 용매와의 혼합비는 100/0 내지 1/99 (용량비), 바람직하게는 100/0 내지 20/80 (용량비)의 범위에서 사용할 수 있다. 이 때, 혼합 용매의 상태는 균일상일 수도 있고, 석출 등이 없는 한 2상 등의 불균일상일 수도 있다.

유기 용매로서는, 테트라히드로푸란, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 사염화탄소, 클로로포름, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥산, 디옥산, tert-부탄올 등의 용매를 사용할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 이용되는 유기 용매는 고순도일 필요는 없고, 물과의 공비에 의해서 얻어지는 것과 같은 물 함유품일 수도 있다. 또한, 반응 정제계에서 회수된 유기 용매도 정제하지 않고 사용할 수 있다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정에서는, 반응 온도는 특별히 한정되지 않지만 일반적으로 말할 수 있는 것은, 반응 온도가 낮을수록 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물의 가수 분해물의 생성 비율이 적어지기 때문에 유리하다. 또한, 너무 저온으로 하면 반응액이 고점도화 또는 고화하기도 하여 혼합 불능이 되거나, 반응 속도가 현저히 늦어져 버리기 때문에, 이러한 사태가 되지 않는 범위에서 반응 온도를 설정하여야 한다. 반응 중 경시적으로 반응 온도를 변화시킬 수도 있다. 통상 반응 온도는 -5 내지 100 ℃의 범위, 바람직하게는 0 내지 60 ℃의 범위, 더욱 바람직하게는 5 내지 40 ℃의 범위이다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정에서의 투입 농도는 특별히 한정되지 않지만, 반응 중 교반 혼합이 가능한 정도의 투입 농도로 해야한다. 바람직하게는 고형분 농도로서 0.1 내지 50 중량％이다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정에서는, 반응액의 pH 범위를 4 내지 14로 유지하여 반응시키는 것이 좋다. pH를 조정하기 위해서 사용되는 알칼리 물질 로서는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화바륨 등의 무기 염기 등, 또는 암모니아, 유기 암모늄 등의 유기 염기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 무기 염기의 수용액을 이용하는 것이 좋다.

pH가 4를 하회(下回)하면 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물의 가수 분해에 의한 부산물이 증가하고, 한편, pH가 14를 초과하면 실질적으로 불리한 점은 발생하지 않지만, 필요 이상의 알칼리량 및 그에 따라서 다음 공정에서 소비하는 산의 양이 증가하기 때문에 자원 낭비의 관점에서 반응액의 pH는 4 내지 14가 바람직하다. 보다 바람직하게는 pH는 6 내지 13이다. pH 9 내지 12가 더 바람직하다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정의 반응 형태는, 우선 교반조에서 소정량의 원료의 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과 용매와 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을 전부 투입한다. 여기에 계속하여 pH 범위를 유지하기 위해서 알칼리를 공급하는 회분 방식을 행할 수 있다. 또한, 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물과 용매를 투입한 후, N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을 연속적으로 공급하면서, pH 범위를 유지하기 위해서 동시에 알칼리를 공급하는 반회분 방식일 수도 있다. 또한, 반응 용매를 투입한 후, 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을 동시에 연속 공급하는 방식일 수도 있다. 소정량을 반응시킨 후 교반조 내의 반응액을 다음 공정의 산침전 분층 공정에 붙일 수가 있다. 교반조 내에 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물을 공급할 때, 분체 또는 고체로서 투입할 수도 있고, 또는 이것을 용해하는 불활성 유기 용매에 용해하여 공급하도록 할 수도 있고, 불활성 유기 용매 등에 슬러리로서 분산시킨 상태로 공급할 수도 있다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정에서 이용하는 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물로서는, 분자량 100만 이하의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄인 방향족 탄화수소를 함유하고/하거나 함유하지 않는 탄화수소쇄를 갖는 화합물이고, 히드록실기, 아미노기, 티올기 이외의 치환기를 가질 수도 있다. 이러한 화합물로서, 예를 들면 상기 X와 같은 화합물 잔기를 갖는 화합물로서 예시되는 것 같은 화합물을 사용할 수 있다. 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 화합물은 바람직하게는, 탄소수 1 내지 40의 화합물이다. 또한, 각각 독립적으로 분자 내에 히드록실기, 아미노기, 티올기 이외의 치환기로서, 1개 이상의 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 또는 이들의 염을 갖는 경우, 본 발명의 아실기 함유 조성물이 약산성에서의 용해성이 우수하다는 점에서 바람직하다.

본 발명의 제조 방법에서의 반응 공정에서, 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물에 포함되는 이들의 관능기의 합계의 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물에 대한 몰비는 통상 0.1 내지 5 배가 바람직하다. 목적에 따라서도 다르지만 될 수 있는 한 반응 후에 분리 정제 처리 등을 하는 일 없이 고순도의 아실기 함유 조성물을 얻기 위해서는 0.5 배 내지 2 배의 범위에서 반응을 실시하는 것이 바람직하다. 몰비가 0.5 배보다 적으면 무수물이 가수 분해하여 N-장쇄 아실 산성 아미노산이 생성되는 비율이 증가하는 경향이 있다. 한편, 2 배 보다 많으면 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물이 미반응하여 잔존하는 양이 증가하는 경향이 있고, 목적에 따라서 이러한 불순물의 분리 정제 처리가 필요하다. 더욱 바람직하게는, 몰비가 0.6 내지 1.4 배의 범위이고, 보다 바람직하게는 몰비가 0.75 내지 1.15 배이다.

본 발명의 제조 방법에 있어서, 산침전 분층 공정을 채용할 경우, 상기 반응 공정에서 얻어지는 반응액에 염산, 황산과 같은 무기산을 가하여 pH를 1 내지 6의 범위로 함으로써 유기층과 물 층의 2층으로 분리하여 아실기 함유 조성물을 함유하는 유기층을 취득한다. 반응액은 생성된 아실기 함유 조성물의 일부 또는 전부가 알칼리염의 형태로 존재한다. 여기에 무기산을 가함으로써 아실기 함유 조성물 중의 카르복실기의 일부 또는 전부를 유리 산으로 함으로써 유기층과 물 층으로 분층하는 것이다. 이 공정에서, 수용성 불순물인 무기 염류, 미반응의 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물은 물 층으로 이행하고 아실기 함유 조성물 중으로부터 제거된다.

산침전 분층 공정에 있어서는, 유기 용매가 존재하고 있든지, 없든지 상관이 없지만, 존재하는 쪽이 분층이 쉽게 발생되기 때문에, 유기 용매 존재 하에서 실시하는 쪽이 좋다. 예를 들면, 반응 공정에서 수용매만으로 반응을 실시한 경우, 산침전 분층 공정에서 유기 용매를 첨가한다. 산침전 분층에 있어서의 유기 용매의 함량은 임의로 결정되지만 혼합액 중 0.01 내지 99 중량％가 바람직하다.

산침전 분층 시에 이용하는 유기 용매는, 상기 반응 공정에서 유기 용매를 이용한 경우 그것을 그대로 사용할 수 있지만, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올 등도 이용할 수 있다. 또한, 이러한 용매의 2종 이상을 병용할 수도 있다. 이하에서는 이 중에서도 바람직한 친수성 유기 용매로서 tert-부탄올 단독을 이용한 계로 상술한다.

산침전 분층 시의 pH에 의해서, 카르복실기의 해리 상태가 변하고, 그에 따라 분층 상태, 즉 유기층과 물 층과의 중량비나 무기 염류의 제거성이 약간 변하기 때문에, 상기 pH 범위 중에서도 pH 1 내지 3으로 실시하는 것이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 pH 1 내지 2.5로 실시한다.

산침전 분층 온도는 35 ℃ 내지 친수성 유기 용매의 비점, 예를 들면 친수성 유기 용매가 tert-부탄올이면 80 ℃가 바람직하다. 보다 바람직하게는 40 내지 70 ℃이다. 35 ℃보다 낮은 온도에서는 분층 평형에 도달하기까지의 시간이 길거나 평형에 도달하여도 유기층 중에 상당한 양의 무기염이 잔존하거나 아실기 함유 조성물의 종류나 그 액 중 농도에 따라서는 분층되지 않는 경우가 있기 때문이다. 한편, 물/tert-부탄올의 공비 조성의 상압에 있어서의 비점이 80 ℃ 근방에 있기 때문에 80 ℃를 초과하면 비등이 발생하기 쉬워서 불리하다.

본 발명의 제조 방법에 있어서, 물 세척 공정을 채용할 경우, 주로 산침전 분층 공정에서 완전히 제거할 수 없었던 불순물의 제거를 목적으로 하는 것이지만, 물 세척 공정을 단독으로 실시할 수도 있다. 구체적으로는, 아실기 함유 조성물, tert-부탄올 및 물을 유기층과 물 층으로 분층하는 것과 같은 조성으로 혼합하고, 액체-액체 추출에 의해 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층 중의 수용성 불순물, 주로 무기 염류나 미반응의 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물을 물 층 중에 이행시키는 것을 행한다. 상기 산침전 분층 공정과 같이, 친수성 유기 용매로서 tert-부탄올을 단독으로 사용한 계에서 상술한다.

본 발명자 등은 본 발명의 아실기 함유 조성물/tert-부탄올/물의 조성이 소정 범위 내가 되도록 조정하기만 하면 아실기 함유 조성물을 함유하는 유기층과 물 층으로 분층하는 것, 이에 따라 유기층 중의 무기 염류나 미반응의 히드록실기, 티올기, 아미노기를 갖는 화합물을 제거할 수 있다는 것을 발견하였다. 구체적으로는, 산침전 분층에서 얻어진 유기상에 대하여 물 및(또는) tert-부탄올을 상기한 분층이 발생하는 조성이 되도록 첨가함으로써, 또는 무기염 등의 불순물을 많이 포함하는 아실기 함유 조성물에 tert-부탄올 및(또는) 물을 첨가함으로써 계가 분층되고, 유기층 중의 무기 염류 등을 제거할 수 있다.

산침전 분층 공정 및 물 세척 공정에서, 분층 평형에 달하는 시간은 분층 영역에서 tert-부탄올 농도가 많을수록 짧아지기 때문에 분층이 실시 가능한 범위에서 tert-부탄올 농도를 많게 하는 것이 바람직하다. 물 세척 공정을 채용하는 경우, 상기 산침전 분층 공정에서 설명한 것과 동일한 이유로, 물 세척 온도는 35 내지 80 ℃, 바람직하게는 40 내지 70 ℃이다.

이와 같이 하여 분층한 후의 무기염 등의 수용성 불순물의 저감된 유기층으로부터 아실기 함유 조성물을 추출하기 위해서는, 유기 용매를 증류 분리에 의해서 제거하거나, 또는 유기층을 산성화ㆍ냉각하여 정석시킨 후 여과 분리하는 등에 의해서 제거하면 된다.

유기 용매를 증류 분리에 의해서 제거하는 방식으로서는, 통상의 방법에 따라서 교반조를 이용하여 실시할 수도 있고, 유하(流下) 박막식, 원심 박막식, 교반 박막식 등의 박막식 증발기, 또는 분무식 증발기 등을 이용하여 실시할 수도 있다. 또한, 유기 용매를 증류 분리에 의해서 제거할 경우에는, 아실기 함유 조성물 중의 카르복실기의 일부를 중화하여 용매 증류 제거를 실시할 수도, 또는 중화하지 않고 실시할 수도 있다. 아실기 함유 조성물 중의 카르복실기의 일부를 중화하여 증류 분리를 실시하는 방법은, 유기 용매를 제거하는 것으로 그대로 아실기 함유 조성물의 중화 수용액을 얻을 수 있다는 점에서 바람직하다.

또한, 아실기 함유 조성물을 포함하는 액체는 발포성을 갖기 때문에, 공업적 규모에 있어서 발포를 억제하고 효율적으로 증류를 실시하는 것은 용이하지 않다. 그 점에서 분무식 증발기를 이용한 증류이면 공업적 규모에 있어서도 효율적으로 증류 실시가 가능하고, 이 점에서 분무 증발기를 이용하는 방법이 바람직하다.

이 방법은, 예를 들면 일본 특허 공고 평 7-51201호 공보에서 볼 수 있는 것과 같은 장치를 이용하고, 증발관의 하부로부터 액을 추출하고, 이것을 펌프로 열 교환기에 순환, 송액하여 소정의 과열 상태로 한 후, 증발관 상부에 설치된 배관으로부터 증발관 내에 분무, 용매를 증발시키는 방법으로서 이하와 같은 특징을 갖는 다; (1) 증발관의 기상부에는 액면을 향하여 설치되어 있는 1개 또는 복수개의 거의 원통형의 관단(管端)이 있고, 이것이 관상부에 설치한 배관에 접속하고 있다; (2) 열교환기에 있어서의 액의 유량과 열교환기 출구부에서의 과열도를 제어함으로써, 열교환기를 나온 과열 액체를 관단까지의 사이에 증발시키고 기액혼상류로 한다; (3) 관단에서 분무된 액적 중의 잔여 과열 열량을, 액적이 증발관 내부의 액상에 착수(着水)하기까지의 사이에 기상부에서 방출한다.

이러한 방법에 의해, 매우 착색도가 낮은 아실기 함유 조성물을 고순도로 취득할 수가 있다.

이러한 방법으로 얻어지는 아실기 함유 조성물로부터 적절하게 당업계에서 공지된 정제 수단에 의해 화학식 2로 표시되는 아실 화합물을 단리할 수가 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물은, 조성물 중에서의 아실 화합물 순도가 70 중량％ 이상인 것이다. 이 순도가 적으면 계면활성제로서의 효율이 저하되거나, 기타 본 발명의 아실기 함유 조성물의 원하는 물성적 특징을 손상시키는 경우가 있다. 더욱 바람직하게는, 아실 화합물 순도는 85 중량％ 이상이다.

본 발명의 아실기 함유 조성물은, 아실 화합물로부터의 탈수 아실 화합물 생성물 함량이 매우 미량이고, 그 함량은 고속 액체 크로마토그래피를 이용한 205 nm에서의 검출기에 의한 분석에 있어서, 상기 아실 화합물에 대하여 면적비로 바람직하게는 5 ％ 이하이다. 이 탈수 아실 화합물은 아실 화합물과의 분리가 매우 곤란하고, 일단 이 탈수 아실 화합물이 생성되면 정제에 의해 그것을 완전히 제거하는 것이 매우 곤란하다. 이 탈수 아실 화합물의 함량이 적을수록 아실기 함유 조성물을 수용액으로 하였을 때 수용액의 탁함이나 착색이 적기 때문에, 그 함량은 보다 바람직하게는 3 ％ 이하이다. 더욱 바람직하게는 1 ％ 이하로 한다 (상기 분석 방 법에 기초한다).

본 발명의 아실기 함유 조성물은 염기성 물질로 중화할 수가 있고, 염기성 물질에 의한 중화율을 조정함으로써 광범위한 pH 영역에서 사용할 수가 있다. 바람직하게는 상기 조성물 중의 해리기 (카르복실기) 1 당량 중 0.2 내지 2 당량이 중화되는 상태 (중화도 0.2 내지 2)에서 사용하는 것이 좋다.

본 발명의 아실기 함유 조성물은 상기 조성물을 예를 들면, 수산화나트륨을 이용하여 중화하고, 20 중량％, pH 10의 수용액으로서 제조하였을 때, 430 nm 및 550 nm에서의 투과율이 모두 90 ％ 이상인 것이 바람직하다. 수용액에 탁함이나 착색이 발생되면 상품 가치가 저하되기 때문에 어느 것도 투과율이 90 ％ 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 95 ％ 이상이다.

본 발명의 아실기 함유 조성물은, 그 자체로 용도에 따라서 계면활성제 등으로서 사용할 수 있지만, 수용액의 상태에서도 사용할 수 있다. 조성물의 성상에 따라서는 상온에서 고체로서의 취급이 곤란한 경우도 있고, 이 경우에는 수용액으로서 취급하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 상기 아실기 함유 조성물을 포함하는 수용액은 pH 3 내지 12로 사용할 수 있다. 바람직하게는 상기 수용액의 pH를 4.5내지 11로 조정한다. 이와 같이 제조된 수용액은 피부 등으로의 자극성이 적고, 또한 저농도에서도 매우 우수한 계면활성능을 갖는 수용액이다. 보다 바람직하게는, 수용액의 pH는 5 내지 8이다.

본 발명의 아실기 함유 조성물의 수용액에 있어서의, 아실기 함유 조성물의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 그 용도에 따라서 0.01 내지 99 중량％, 바람직하 게는 0.01 내지 50 중량％의 계면활성능을 갖는 농도 범위 내에서 사용할 수가 있다.

또한, 이 아실기 함유 조성물을 함유하는 수용액 중에, 또한 그 밖의 계면활성제, 예를 들면 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양성 계면활성제 등의 계면활성제를 적절하게 함유할 수도 있다. 그 중에서도 상기 수용액 중에 음이온성 계면활성제로서 N-장쇄 아실 아미노산 또는 그의 염을, 이 수용액 중에 (A) 아실기 함유 조성물과, (B) N-장쇄 아실 아미노산 또는 그의 염을, (A)/(B)의 질량비로 1/100 내지 100/1의 조성으로 함유하는 것이 바람직하다.

여기서 말하는 N-장쇄 아실 아미노산이란, 아미노산의 아미노기에 탄소수 8 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 아실기를 도입한 것이다. N-장쇄 아실 아미노산 중의 아미노산 잔기는 α-아미노산, β-아미노산, γ-아미노산이나 ω-아미노산 등 각종 아미노산이고, 아미노기는 N-메틸체, N-에틸체일 수도 있다. 또한 광학 이성질체, 즉 D-이성질체, L-이성질체, 라세미체인지는 불문한다.

예를 들면, 글루타민산, 아스파라긴산, 글리신, 알라닌, 란티오닌, β-메틸란티오닌, 시스타티오닌, 디엔콜산, 펠리닌, 아미노말론산, β-옥시아스파라긴산, α-아미노-α-메틸숙신산, β-옥시글루타민산, γ-옥시글루타민산, γ-메틸글루타민산, γ-메틸렌글루타민산, γ-메틸-γ-옥시글루타민산, α-아미노아디프산, α,α'-디아미노아디프산, β,β'-디아미노아디프산, α-아미노-γ-옥시아디프산, α- 아미노피멜산, α-아미노-γ-옥시피멜산, β-아미노피멜산, α-아미노수베르산, α-아미노세박산, 판토텐산이다.

아실기로서는 탄소 원자수 8 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 것이면 무엇이든 좋고, 직쇄, 분지, 환상을 불문한다. N-장쇄 아실 아미노산이 N-장쇄 아실-L-아미노산인 것이 생분해성의 점에서 바람직하다.

본 발명의 아실기 함유 조성물 및 그 수용액의 용도의 대표적인 예로서는, 예를 들면 공업용 세정제 및 처리제 원료, 가정용 (의료, 부엌, 주거, 식기 등) 세제 원료, 향장품 원료, 식품용, 의약품용, 유화(중합)용, 농약용, 섬유 가공용 (정련제, 염색조제, 유연제, 발수제), 오염방지 가공제, 콘크리트용 혼화제, 인쇄 잉크용, 윤활유용, 대전 방지제, 방담(防曇)제, 윤활제, 분산제, 탈묵(脫墨)제 등을 들 수 있다.

이들 용도는 본 발명품의 특징 중 하나인 제품 착색도의 낮음, 피부 등으로의 저자극성 및 저농도에서의 계면활성능, 보습성, 안료 분산 안정성, 세정성, 높은 유화 안정성, 생분해성에 의한 저환경 부하를 살린 유용한 용도라고 말할 수 있다. 이러한 용도에 사용되는 경우, 본 발명품은 용도에 따라서 배합 조성물 (예를 들면, 향장품 조성물 등)으로서 제조되지만, 배합 조성물 중에 있어서의 본 발명품의 배합량은 특별히 한정되지 않고, 그 용도에 따라서 0.01 내지 99 중량％, 바람직하게는 0.01 내지 50 중량％의 범위에서 사용할 수가 있다. 또한, 본 발명의 아실기 함유 조성물은 염기성 물질에 의한 중화율을 조정함으로써, 예를 들면 pH 3 내지 12의 광범위한 pH 영역에서 사용할 수가 있고, 바람직하게는 상기 조성물의 pH 4.5 내지 11에서 사용할 수 있다. 보다 바람직하게는, pH 5 내지 8에서 사용할 수 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 여러가지의 용도의 배합 조성물로서 사용하는 경우에는, 그 형태는 액체상, 고체상, 겔상, 페이스트, 미스트상 등의 목적에 따른 여러가지의 형태로 사용할 수가 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물 및 그 수용액의 용도로서는 향장품 원료로서 사용된다.

본 발명에서의 향장품이란 약사법에서 말하는 의약 부외품 및 화장품의 총칭이고, 구체적으로는 의약 부외품으로서는 입안 청량제, 액취 방지제, 첨가분류, 양모제, 제모제, 염모제, 퍼머넌트 웨이브용제, 목욕용제, 약용 화장품, 약용 치약류 등을 열거할 수가 있고, 화장품으로서는 화장 비누, 세안료 (크림ㆍ페이스트상, 액ㆍ겔상, 과립ㆍ분말상, 에어졸 사용 등), 샴푸, 린스 등의 청정용 화장품; 염모료, 헤어 트리트먼트제 (크림상, 미스트상, 오일상, 겔상 그 밖의 형태의 물건 및 가지모(갈라진 머리) 코팅제를 포함한다), 헤어 셋팅제 (머리 기름, 셋팅 로션, 칼라 로션, 포마드, 스틱 포마드, 빈쯔께(bintsuke)유, 헤어 스프레이, 헤어 미스트, 헤어 리퀴드, 헤어 폼, 헤어 젤, 워터 그리스(grease)) 등의 두발용 화장품; 일반 크림, 유액 (클렌징 크림, 콜드 크림, 바니싱 크림, 핸드 크림 등), 수염 면도용 크림 (에프터 쉐이빙 크림, 쉐이빙 크림 등), 화장수 (핸드 로션, 일반 화장수 등), 오데 코롱, 수염 면도용 로션 (에프터 쉐이빙 로션, 쉐이빙 로션 등), 화장유, 팩 등의 기초 화장품; 분 (크림 분, 고형 분, 가루 분, 탈컴 파우더, 그리스 페인트, 베이비 파우더, 바디 파우더, 물 분 등), 파우더, 파운데이션 (크림상, 액상, 고형 등), 볼터치, 아이라이너, 아이크림, 아이 섀도우 마스카라 등의 메이크 업 화장품; 일반 향수, 그리스 향수, 분말 향수 등의 향수류; 겔 타입, 액체 타입, 도기(陶器) 타입 등의 방향제, 소취제, 탈취제; 선텐ㆍ선블럭 크림, 선텐ㆍ선블럭 로션, 선텐ㆍ선블럭 오일 등의 선텐ㆍ선블럭 화장품; 손톱 크림, 에나멜, 에나멜 제거액 등의 손톱 화장품; 아이라이너 화장품; 입술 연지, 립 크림 등의 입술 화장품; 치약 등 구강 화장품; 목욕 소금, 목욕 오일, 거품 목욕 등의 목욕용 화장품 등을 열거할 수가 있다. 그 중에서도, 본 발명의 아실기 함유 조성물의 배합 조성물은, 청정용 화장품, 두발용 화장품, 기초 화장품에 사용되는 경우가 많고, 특히 청정용 화장품에서의 사용에 매우 적합하다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 향장품 조성물로서 사용하는 경우, 바람직하게는 상기 아실기 함유 조성물의 1종 이상 및 폴리히드록실 화합물을 함유하는 화장료로서 이용하는 것이 좋다.

여기서, 분자 내에 히드록실기를 2개 이상 갖는 폴리히드록실 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 펜탄디올, 1,6-헥산디올, 시클로헥산디올, 디메틸올시클로헥산, 네오펜틸글리콜, 1,8-옥탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 이소프렌 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 소르바이트, 카테콜, 레졸신, 히드로퀴논, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 수소 첨가 비스페놀 A, 수소 첨가 비스페놀 F, 다이머디올, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 타르타르산, 디히드록시타르타르산, 메발론산, 3,4-디히드록시신남산, 3,4-디히드록시히드로신남산, 히드록시벤조산, 디히드록시스테아르산, 디히드록시페닐알라닌 등 및 이들 각각의 이성질체 등의 2가 히드록실 화합물; 글리세린, 트리옥시이소부탄, 1,2,3-부탄트리올, 1,2,3-펜탄트리올, 2-메틸-1,2,3-프로판트리올, 2-메틸-2,3,4-부탄트리올, 2-에틸-1,2,3-부탄트리올, 2,3,4-펜탄트리올, 2,3,4-헥산트리올, 4-프로필-3,4,5-헵탄트리올, 2,4-디메틸-2,3,4-펜탄트리올, 1,2,4-부탄트리올, 1,2,4-펜탄트리올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 트리히드록시스테아르산 등의 3가 폴리히드록실 화합물; 펜타에리트리톨, 에리트리톨, 1,2,3,4-펜탄테트롤, 2,3,4,5-헥산테트롤, 1,2,4,5-펜탄테트롤, 1,3,4,5-헥산테트롤, 디글리세린, 소르비탄 등의 4가 폴리히드록실 화합물; 아도니톨, 아라비톨, 크실리톨, 트리글리세린 등의 5가 폴리히드록실 화합물; 디펜타에리트리톨, 소르비톨, 만니톨, 이디톨, 이노시톨, 달시톨, 탈로스, 알로스 등의 6가 폴리히드록실 화합물; 또는 이들 탈수 축합물, 폴리글리세린 등을 들 수 있다.

또한, 당류, 예를 들면 에리트로오스, 트레오스, 에리트룰로오스 등의 테트로오스; 리보오스, 아라비노오스, 크실로오스, 릭코오스, 크실룰로오스, 리불로오스 등의 펜토오스; 알로오스, 알트로오스, 글루코오스, 만노오스, 굴로오스, 이도오스, 갈락토오스, 타로오스, 프룩토오스, 소르보오스, 프시코오스, 타가토오스 등의 헥소오스 등의 단당류; 말토오스, 이소말토오스, 셀로비오스, 겐티오비오스, 메리비오스, 락토오스, 투라노오스, 트레하로오스, 사카로오스, 만니트리오스, 셀로트리오스, 겐티아노오스, 라피노오스, 멜레지토오스, 셀로테트로오스, 스타키오스 등의 올리고당류를 들 수 있다.

또한, 그 밖의 당류, 예를 들면 헵토오스, 디옥시당, 아미노당, 티오당, 셀레노당, 알돈산, 우론산, 당산, 케토알돈산, 안하이드로당, 불포화당, 당에스테르, 당에테르, 글리코시드 등의 잔기일 수 있고, 전분, 글리코겐, 셀룰로오스, 키틴, 키토산 등의 다당류 또는 이들을 가수 분해한 것일 수도 있다. 이들 폴리히드록실 화합물은 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다. 폴리히드록실 화합물로서 바람직하게는, 3가 이상의 폴리히드록실 화합물이 좋다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 화장료는, 바람직하게는 아실기 함유 조성물의 1종 이상 및 폴리히드록실 화합물을 함유하고, 폴리히드록실 화합물의 함량이 0.001 내지 40 중량％이고, 아실기 함유 조성물의 함량이 폴리히드록실 화합물에 대하여 중량비로 10/1 내지 1/100이다. 폴리히드록실 화합물의 함량이 O.001 중량％ 미만이면, 촉촉한 느낌이 저하되어 보습 효과가 얻어지기 어렵고, 또한 40 중량％를 초과하면 끈적 거림이 생기기 쉽다. 아실기 함유 조성물의 양이 폴리히드록실 화합물에 대하여 중량비로 1/100 미만이면 폴리히드록실 화합물 등의 다른 성분 유래의 끈적 거림이 생기기 쉽고, 한편, 10/1을 초과하면 아실기 함유 조성물 유래의 끈적 거림이 생기기 쉽다. 보다 바람직하게는 폴리히드록실 화합물의 함량이 0.1 내지 30 중량％이고, 아실기 함유 조성물의 양이 폴리히드록실 화합물에 대하여 중량비로 5/1 내지 1/50이다. 더욱 바람직하게는 아실기 함유 조성물의 양이 폴리히드록실 화합물에 대하여 중량비로 5/1 내지 1/20이다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 화장료에 있어서, 유성 성분은, 보습 효과 및(또는) 연화(emollient) 효과를 부여하는 점에서 사용하는 것이 바람직하다. 유성 성분으로서는, 액상유 또는 고체지(solid fat) 중 어느 것을 사용할 수도 있고, 화장료나 외용의 의약품 등의 성분으로서 관용되어 있는 유성 성분일 수도 있다.

예를 들면, 아보카도유, 아몬드유, 올리브유, 카카오유, 참기름, 홍화유, 대두유, 동백유, 페르식유(persic oil), 피마자유, 포도 종자유, 마카데미아 너트유, 밍크유, 면실유, 목랍, 야자유, 난황유, 팜유, 팜핵유, 트리이소옥탄산글리세릴, 트리 2-에틸헥산산글리세릴, 콜레스테롤 지방산 에스테르 등의 유지, 고래랍, 카르나우바 랍, 칸델리아 랍, 호호바 기름, 밀랍, 라놀린 등 및 그 유도체 등의 납류, 유동 파라핀, 파라핀, 바셀린, 세레신, 마이크로크리스탈린 왁스, 스크아란, 스쿠알렌 등의 탄화수소, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아린, 올레산, 베헨산, 운데실렌산, 라놀린 지방산, 경질 라놀린 지방산, 연질 라놀린 지방산 등의 고급 지방산, 라우릴 알코올, 세틸 알코올, 세토스테아릴 알코올, 스테아릴 알코올, 이소스테아릴 알코올, 2-옥틸도데칸올, 올레일 알코올, 베헤닐 알코올, 라놀린 알코올, 수소 첨가 라놀린 알코올, 헥실데칸올 등의 고급 알코올, 미리스트산이소프로필, 미리스트산옥타데실, 미리스트산 2-옥틸도데실, 2-에틸헥산산세틸, 말산디이소스테아릴, 이소스테아르산이소스테아릴, 이소스테아릴 콜레스테릴 에스테르, 스테아르산부틸 등의 고급 알코올 지방산 에스테르, (디)메틸실리콘, 메틸페닐실리콘, 아미노 변성 실리콘, 환상 실리콘 등의 실리콘유 등의 휘발성 및 불휘발성의 유성 성분을 들 수 있다. 이들 유성 성분은 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 화장료는, 아실기 함유 조성물과 폴리히드록실 화합물과, 필요에 따라 수분과 유성 성분 등을 교반 혼합함으로써 제조할 수가 있다. 특히, 유성 성분을 함유하는 유액 등의 유화액을 제조하는 경우에 있어서는, 후술하는 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물 및 유성 성분을 포함하는 유성 겔상 조성물을 이용하여 유화 제조하는 방법이 바람직하다.

구체적으로는, 유성 겔상 조성물에 물을 가하여 교반하면 이 겔은 매우 쉽게 안정된 유화 분산 상태가 되기 때문에, 따라서 유성 겔상 조성물에 물을 가하는 것만으로 화장료를 제조할 수가 있다. 보다, 촉촉한 느낌이나 보습 효과가 우수하고, 또한 안정된 유화 상태의 화장료를 제조하기 위해서는, 상기 겔상 조성물로부터 화장료를 제조하는 경우에, 물 이외에 폴리히드록실 화합물이나 고급 알코올, 또는 유성 성분 등을 적절하게 배합 첨가하는 방법이 바람직하다.

이렇게 하여 얻어지는 본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 화장료의 특징은, 촉촉한 느낌과 보습 효과가 우수하고, 경시적으로도 매우 안정된 유화 상태를 유지할 수 있는 것이다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 화장료는, 예를 들면 유액, 크림, 로션, 화장수 등 이외에 클렌징 로션, 세안료, 바디 샴푸 등의 피부의 세정을 목적으로 하는 것에 대하여도 적용할 수 있다. 또한, 본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 화장료는 필요에 따라 액상, 페이스트상, 겔상, 에어졸상 등의 여러가지의 제형으로 할 수 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 배합 조성물로서 이용하는 경우, 바람직하게는 상기 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물, 유성 성분을 함유하는 겔상 조성물로서 이용할 수 있다.

본 발명의 겔상 조성물에 있어서, 분자 내에 히드록실기를 2개 이상 갖는 폴리히드록실 화합물로서는, 예를 들면 상술한 바와 같은 폴리히드록실 화합물을 들 수 있다. 본 발명의 겔상 조성물에서, 폴리히드록실 화합물로서 바람직하게는 3가 이상의 폴리히드록실 화합물일 수 있다.

또한, 폴리히드록실 화합물은 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있고, 또한 이 때, 2가의 폴리히드록실 화합물과 3가의 폴리히드록실 화합물과 같이 다른 가수의 폴리히드록실 화합물을 조합할 수 있다.

본 발명의 겔상 조성물에 있어서, 유성 성분으로서는 또한, 예를 들면 상술한 바와 같은 유성 성분을 들 수 있다.

본 발명의 겔상 조성물은, 아실기 함유 조성물의 1종 이상, 분자 내에 히드록실기를 2개 이상 갖는 폴리히드록실 화합물의 1종 이상, 및 유성 성분의 1종 이상을 함유하는 겔상 조성물로서, 상기 겔상 조성물 중의 수분 함량이 50 중량％ 이하이고, 또한 상기 겔상 조성물 중의 조성이, 1) 아실기 함유 조성물의 총량이 O.1 내지 40 중량％, 2) 폴리히드록실 화합물의 총량이 1 내지 60 중량％, 3) 유성 성분의 총량이 1 내지 95 중량％로 하는 것이 바람직하다. 여기서, 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물, 유성 성분의 각각의 함량은, 각각에 해당하는 성분의 총합이다. 수분 함량이 이 범위 이외에서는 겔상을 안정적으로 유지하기 어려운 경우가 있다. 수분 함량은 보다 바람직하게는 30 중량％ 이하이다. 더욱 바람직하게는, 20 중량％ 이하로 한다.

각 성분의 조성이 이 범위 이외이어도 겔상의 제형이 되는 경우는 있지만, 유성 성분이 분리되어 안정성이 부족하거나 겔 형성력이 불충분하거나 목적에 따라서는 오염의 세정력이 저하되거나, 사용감이 바람직하지 않게 되는 경우가 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 겔상 조성물에 있어서는, 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물, 유성 성분의 각 성분 조성은, 보다 바람직하게는, 1) 계면활성제의 총량이 1 내지 25 중량％, 2) 폴리히드록실 화합물의 총량이 5 내지 40 중량％, 3) 유성 성분의 총량이 20 내지 80 중량％이다. 더욱 바람직하게는 1) 계면활성제의 총량이 3 내지 15 중량％, 2) 폴리히드록실 화합물의 총량이 5 내지 30 중량％, 3) 유성 성분의 총량이 30 내지 70 중량％이다.

본 발명의 겔상 조성물에 있어서, 외관이 투명한 겔상 조성물을 얻기 위해서는 상기 조성물 중의 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물 및 물을 포함하는 수성상과, 유성 성분을 포함하는 유성상과의 20 ℃에서의 굴절률의 차를 ±0.05 이하로 하는 것이 바람직하다. 양쪽 상의 굴절률의 차가 이 범위를 벗어나면 외관이 투명한 조성물을 얻을 수 없고, 양쪽 상의 굴절률 차는 O에 가깝게 하는 쪽이 좋다. 보다 바람직하게는 양쪽 상의 굴절률의 차를 ±0.03 이하로 한다. 더욱 바람직하게는, 양쪽 상의 굴절률 차를 ±0.01 이하로 한다. 또한 양쪽 상의 굴절률 차를 0으로 하면 보다 바람직하다.

본 발명의 겔상 조성물을 제조하기 위해서는, 아실기 함유 조성물, 폴리히드 록실 화합물, 유성 성분 및 경우에 따라서는 물을 고전단력하에서 교반ㆍ혼합함으로써 제조된다. 바람직한 제조 방법으로서는, 유성 성분 이외의 성분을 충분히 교반ㆍ혼합하고, 여기에 유성 성분을 서서히 첨가하는 방법이 좋다.

이렇게 하여 얻어지는 본 발명의 겔상 조성물은, 1) 겔상 조성물 형성력이 높고, 경시적으로 매우 안정된 겔을 유지하고, 2) 겔상 조성물의 점도 폭이 넓고, 3) 물을 첨가하면 매우 쉽게 에멀젼 상태로 미분산되고, 4) 클렌징제 등의 세정제로서 사용하는 경우, 쉽게 물로 씻어 버릴 수 있고, 후에 남김 없는 산뜻한 느낌이 있는 매우 우수한 특징을 갖는다.

본 발명의 겔상 조성물의 용도의 대표적인 예로서는, 예를 들면 각종 외용제 용도, 겔 기재 용도, 클리너 용도 등으로 바람직하게 사용할 수 있다. 외용제로서는, 세안ㆍ클렌징용의 크림이나 겔, 콜드 크림, 바니싱 크림이나 수분 크림 등의 각종 화장료, 마사지 겔, 이발료 등의 피부용 또는 모발용 화장료, 소염제나 겔상 의약품류, 또는 해충 기피제 등의 약제 등을 들 수 있다. 또한, 포괄ㆍ담지형의 겔 기재로서, 향료나 활성탄 등의 흡수ㆍ흡착제를 포괄ㆍ분산시킨 서방성 향료 겔, 소취 겔 기재용, 이에 더하여 물 분산성을 살린 농약용, 목욕 용제 등으로의 이용을 들 수 있다. 또한, 클리너로서 유성 성분과의 친화성이 좋은 성질을 이용하여, 예를 들면 부엌ㆍ렌지 주위 등의 기름 오염 클리너, 마찬가지로 기계유 오염 클리너, 핸드 클리너 등 클리너 용도, 또는 자동차 등의 금속의 도막면, 불단(佛壇)ㆍ불구(佛具)ㆍ장롱ㆍ책상 등의 목제 도장면, 텔레비젼ㆍ퍼스널 컴퓨터 등의 가전품의 플라스틱 표면, 유리면 등의 클리너 용도 등을 들 수 있다.

특히, 본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 겔상 조성물을 클렌징제로 사용할 경우, 상기 겔상 조성물의 25 ℃에서의 점도가 1000 내지 200000 mPaㆍs의 범위의 것이 피부 등에 도포하였을 때의 신장이 우수하기 때문에 바람직하다. 더욱 바람직하게는 25 ℃에서의 점도가 3000 내지 60000 mPaㆍs의 범위의 것이 좋다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 배합 조성물로서 사용할 경우, 바람직하게는 상기 아실기 함유 조성물을 포함하는 분산제 조성물로서 이용하는 것이 좋다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 분산제 조성물은, 친수성 및(또는) 소수성 분체에 대하여 응집을 방지하고, 분산 안정성이 우수하며, 예를 들면 하기와 같은 용도 분야에서 각종 안료에 대하여 응용할 수 있다. 즉, 수계ㆍ비수계 도료 분야; 티탄 백, 적 산화철, 알루미늄 가루, 탈크, 카본 블랙, 아조계 안료, 프탈로시아닌계 등의 안료/인쇄 잉크 분야; 카본 블랙, 아조계 안료, 프탈로시아닌계 등의 안료/향장품 분야 (목욕용제 포함); 탈크, (미립자) 산화 티탄, 티탄, 운모, 알루미나, 벤토나이트, 적 산화철, 라우르산아연, 스테아르산아연, 산화아연, 산화크롬, 군청, 감청, 산화철, 카올린, 세리사이트, 홍화 색소, 코치닐 등의 안료/강화 고무ㆍ플라스틱 분야; 클레이, 탄산칼슘, 실리카, 카본 블랙, 프탈로시아닌계 등의 안료/섬유ㆍ염색 분야; 안료 날염(捺染), 분산 염료 등/시멘트ㆍ콘크리트 분야; 시멘트 등/코팅지용 코팅 칼라 분야; 탄산칼슘, 탈크, 산화티탄, 클레이 등의 안료/광촉매 분야; (초)미립자 산화티탄 등을 들 수 있다. 또한, 그 밖의 안료로서 코발트 블루, 크롬 그린, 산화크롬, 무수 규산, 규산알루민산 마그네슘염 등의 무기 안료; 식물의 열매의 껍질을 분말상으로한 것, 노송 나무를 분말상으로 한 것, 폴리에틸렌 분말, 폴리메틸실세스퀴옥산 분말, 한사(Hansa) 옐로우, 벤지딘 옐로우, 퍼머넌트 옐로우, 타르트라진 레이크, 퀴논 옐로우, 수단 1, 퍼머넌트 오렌지 등의 유기 안료: 브론즈 파우더 등의 금속 가루 안료; 황화아연, 규산아연, 황산아연카드뮴, 황화칼슘, 황화스트론튬, 텅스텐산칼슘 등의 무기 형광 안료, 기타 공지된 유기 형광 안료 등을 들 수 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 분산제 조성물에 있어서는, 수분을 포함할 수도 포함하지 않을 수도 있고, 예를 들면 아실기 함유 조성물과 안료 등을 단순히 혼합한 고체, 액체 또는 페이스트와 같은 형태이어도 상관없다. 또한, 안료를 아실기 함유 조성물로 피복한 형태, 중합체 등을 매트릭스로서 안료에 아실기 함유 조성물을 고착시킨 형태, 안료에 아실기 함유 조성물을 담지한 형태, 안료와 아실기 함유 조성물을 직접 또는 어떠한 가교제 등을 통하여 화학적으로 결합한 형태 등의 형태로 사용할 수가 있다.

본 발명의 아실기 함유 조성물을 함유하는 분산제 조성물에 있어서는, 아실기 함유 조성물이 안료에 대하여, O.01 중량％ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 O.1 중량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 1 중량％ 이상이 좋다. 분산제 조성물 중에서의 아실기 함유 조성물의 안료에 대한 양은 다른 문제가 없으면 많은 쪽이 안정성이 향상되지만, 500 중량％를 초과하면 용도에 따라서는, 예를 들면 잉크의 경우에서는 잉크의 내수성이 저하되는 등의 문제가 발생하는 경우가 있다. 본 발명의 분산제 조성물을 이용하여 안료 분산액을 제조하는 방법으로서는, 분산제 조성물과 안료, 및 분산매를 통상의 분산기, 예를 들면 볼 밀, 롤 밀, 샌드 밀, 플로우 밀, 다이노 밀, 아트라이터(attritor), 호모 믹서, 균질기, 고속 분산기 등 공지된 교반기로 교반, 혼합할 수가 있다. 또한, 교반, 혼합하는 경우에는, 상온 또는 가열하는 경우에도 상관하지 않고, 필요에 따라서 실시할 수 있다.

또한, 본 발명의 아실기 함유 조성물은, 세정제 조성물로서도 유용하고, 저농도로부터 표면장력 저하능이 있고, 자극성이 적고, 포밍성, 세정 후의 산뜻함 등이 우수한 세정제 조성물이 제공될 수 있다. 또한, 본 발명의 아실기 함유 조성물은, 예를 들면 희박한 수용액으로 하고 이것을 이용하여 피지를 닦아 내면, 닦아 낸 후 보슬보슬한 감촉이 얻어지는 특징이 있다. 또한, 아실기 함유 조성물 자체에 보습능이 있기 때문에, 보습제로서 사용힐 수 있다.

또한, 본 발명의 아실기 함유 조성물은 용도와 목적에 따라서 각종의 기재와 병용할 수가 있다.

구체적으로는, 아라비아 고무, 트라간트 고무 등의 천연 고무류, 사포닌 등의 글루코시드류, 메틸셀룰로오스, 카르복시셀룰로오스, 히드록시메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 리그닌 술폰산염, 쉘락(shellac) 등의 천연 고분자, 폴리아크릴산염, 스티렌-아크릴산 공중합물의 염, 비닐나프탈렌-말레산 공중합물의 염, β-나프탈렌술폰산 포르말린 축합물의 나트륨염, 인산염 등의 음이온성 고분자나 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜 등의 비이온성 고분자 등의 분산제;

지방산염 (비누), 알킬황산 에스테르염 (AS), 폴리옥시에틸렌알킬 에테르 황산에스테르염 (AES), 알파-올레핀 술폰산염 (AOS), 알킬벤젠 술폰산염, 알킬나프탈 렌 술폰산염, 알킬 술폰산염 (SAS), 디알킬 술포숙신산염, 알파-술폰화 지방산염, N-장쇄 아실 아미노산염, N-아실-N-메틸타우린염, 황산화 유지, 폴리옥시에틸렌스티렌화 페닐에테르 황산염, 알킬 인산염, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 인산염, 폴리옥시에틸렌 알킬 페닐 에테르 인산염, 나프탈렌 술폰산염 포르말린 축합물 등의 음이온성 계면활성제;

알킬 베타인류, 알킬 아미드 베타인류, 알킬 술포 베타인류, 이미다졸리늄 베타인류 등의 양성 계면활성제;

지방산 알킬올 아미드, 알킬 아민 옥시드, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 (AE), 폴리옥시에틸렌 알킬 페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 폴리스티릴 페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 폴리옥시프로필렌 글리콜, 폴리옥시에틸렌 폴리옥시프로필렌 알킬 에테르, 다가 알코올 지방산 부분 에스테르, 폴리옥시에틸렌 다가 알코올 지방산 부분 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 경화 피마자 기름, 폴리옥시에틸렌 알킬 아민, 트리에탄올 아민 지방산 부분 에스테르 등의 비이온성 계면활성제;

제1 내지 제3급 지방 아민염, 염화알킬암모늄염, 테트라알킬암모늄염, 트리알킬벤질암모늄염, 알킬피리디늄염, 알킬히드록시에틸이미다졸리늄염, 디알킬모르폴리늄염 등의 양이온성 계면활성제;

아르긴산나트륨, 전분 유도체, 트라간트 고무 등의 고분자 계면활성제;

레시틴, 라놀린, 콜레스테롤, 사포닌 등의 천연 계면활성제;

아보카도 기름, 아몬드유, 올리브유, 카카오유, 참기름, 홍화유, 대두유, 동 백유, 페르식유, 피마자유, 밍크유, 면실유, 목랍, 야자유, 난황유, 팜유, 팜핵유, 합성 트리글리세라이드, 호호바 기름 등의 유지;

유동 파라핀, 바셀린, 세레신, 마이크로크리스탈린 왁스, 이소파라핀 등의 탄화수소;

밀랍, 고래랍, 라놀린, 카르나우바랍, 칸델리아랍 및 그 유도체 등의 랍;

라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 올레산, 베헨산, 운데실렌산, 라놀린 지방산, 경질 라놀린 지방산, 연질 라놀린 지방산 등의 고급 지방산;

라우릴 알코올, 세타놀, 세토스테아릴 알코올, 스테아릴 알코올, 올레일 알코올 , 베헤닐 알코올, 라놀린 알코올, 수소 첨가 라놀린 알코올, 헥실데칸올, 옥틸도데칸올 등의 고급 알코올;

미리스트산이소프로필, 스테아르산부틸 등의 그 밖의 에스테르유;

금속 비누, 스트레이트 실리콘유, 변성 실리콘유 등의 실리콘류 등의 휘발성 및 불휘발성의 기름성분;

글리세린, 디글리세린, 폴리글리세린, 1,3-부탄디올, 프로판디올, 폴리에틸렌글리콜 등의 폴리올류;

트리메틸글리신, 소르비톨, 라피노오스, 피롤리돈 카르복실산염류, 젖산염류, 히알루론산염류, 세라마이드류 등의 보습제;

히드록시에틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 히드록시프로필 트리메틸 암모늄 클로라이드 에테르, 메틸셀룰로오스, 에틸셀 룰로오스, 히드록시프로필 셀룰로오스, 메틸히드록시프로필 셀룰로오스, 가용성 전분, 카르복시메틸 전분, 메틸 전분, 알긴산 프로필렌 글리콜 에스테르, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 메틸 에테르, 카르복시비닐 중합체, 폴리아크릴산염, 구아검, 로코스트 빈 검, 모과씨, 카라기난, 갈락탄, 아라비아검, 펙틴, 만난, 전분, 크산탄검, 덱스트란, 숙시노글루칸, 쿠르들란(curdlan), 히알루론산, 젤라틴, 카제인, 알부민, 콜라겐, 메톡시에틸렌 말레산 무수물 공중합체, 양성 메타크릴산에스테르 공중합체, 폴리 염화디메틸메틸렌피페리디늄, 폴리아크릴산 에스테르 공중합체, 폴리아세트산비닐, 니트로셀룰로오스, 실리콘 수지 등의 수용성 및 유용성 고분자;

폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르 메틸글리코시드, 테트라데센술폰산염 등의 증점, 증포 성분;

에틸렌디아민 테트라아세트산 및 그의 염류, 히드록시에틸렌디아민 트리아세트산 및 그의 염류, 인산, 아스코르브산, 숙신산, 글루콘산, 폴리인산염류, 메타인산염, 히노키티올류 등의 금속 이온 봉쇄제;

파라옥시벤조산 에스테르류, 벤조산 및 그의 염류, 페녹시에탄올, 히노키틸 등의 방부제;

시트르산, 말산, 아디프산, 글루타민산, 아스파라긴산 등의 pH 조정제;

그 밖에 트리클로로카르바닐라이드, 살리실산, 아연 피리티온, 이소프로필메틸페놀 등의 비듬ㆍ가려움 방지제;

벤조페논 유도체, 파라아미노벤조산 유도체, 파라메톡시신남산 유도체, 살리 실산 유도체, 그 밖의 자와선 흡수제;

알부틴, 코직산(kojic acid), 아스코르브산, 히노키티올 및 그 유도체 등의 미백제;

스워티아(swertia) 허브 추출물, 세파란틴, 비타민 E 및 그 유도체, 감마-오리자놀 등의 혈액 순환 촉진제;

고추 팅크(capsicum tincture), 생강 팅크, 칸타리드 팅크, 니코틴산벤질 에스테르 등의 국소 자극제;

각종 비타민이나 아미노산 등의 영양제;

여성 호르몬제;

모근 부활제;

글리시리진산, 글리시리진산 유도체, 알란토인, 아줄렌, 아미노카프로산, 히드로코르티존 등의 항염증제;

산화아연, 황산아연, 알란토인히드록시알루미늄, 염화알루미늄, 술포 석탄산 아연, 탄닌산 등의 수렴제;

멘톨, 캄퍼 등의 청량제;

항히스타민제:

고분자 실리콘, 환상 실리콘 등의 실리콘계 물질, 토코페롤류, BHA, BHT, 갈산, NDGA 등의 산화 방지제;

정제수 등과 병용할 수가 있다.

특히, 지방산 디에탄올 아미드, 폴리옥시에틸렌 디올레산메틸글루코시드, 디 스테아르산 폴리에틸렌 글리콜, 테트라데센 술폰산염, 미리스트산염류, 미리스틸디메틸 아민과의 병용은 점도, 기포력을 증가시킨다는 점에서 유용하고, 또한, 각 양이온성 계면활성제와의 병용은 자극성을 한층 저감시킨다는 점에서 매우 유용하다.

이하에서, 본 발명을 실시예 등을 이용하여 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예 등에 의해 아무것도 한정시키는 것이 아니다.

본 발명의 실시예 등에서 사용하는 평가 수단 등은 이하와 같다.

(A) 아실 화합물, 탈수 아실 화합물, 유리 지방산, N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염 정량

ODS 칼럼 (YMC-Pack, AM-312)을 구비한 고속 액체 크로마토그래피 (HPLC)에 있어서, 용리액으로서 메탄올/물/인산계 (메탄올/1,4-디옥산/물/85％ 인산 = 2450/60/490/1 (용량비))를 이용하고, 자외 검출기 (시마즈 세이사꾸쇼 제조; SPD-10A) 205 nm 및 시차 굴절률 검출기 (시마즈 세이사꾸쇼 제조; RID-10A)를 사용하여 각 성분의 정량을 행하였다. 탈수 아실 화합물 이외의 성분에 대해서는 시차 굴절률 검출기를 이용하여 검출하고, 탈수 아실 화합물에 대해서는 자외 검출기로 확인을 하였다 (존재량이 작고 시차 굴절률 검출기에서의 검출이 곤란하기 때문임).

실시예 중, 유리 지방산, N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염의 함량은 아실 화합물에 대한 중량％로 환산하여 표시하였다. 탈수 아실 화합물 함량은 자외 검출기 205 nm에서 확인하고, 아실기 함유 화합물에 대한 피크 면적％로 표시하 였다.

하기의 「아실기 함유 조성물 순도」란 생성물인 아실 화합물 중량의 아실기 함유 조성물의 총 중량에 대한 비율로서 표시된다.

평가 기준을 이하에 나타낸다.

(아실기 함유 조성물 순도의 평가 기준)

순도 85 ％ 이상 ◎

70 ％ 내지 85 ％ 미만 ○

70 ％ 미만 ×

(유리 지방산 함량의 평가 기준)

함량 3 ％ 이상 ×

1 ％ 내지 3 ％ 미만 ○

1 ％ 미만 ◎

(탈수 아실 화합물 함량의 평가 기준)

함량 5 ％ 이상 ×

1 ％ 내지 5％ 미만 ○

1 ％ 미만 ◎

(N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염 함량의 평가 기준)

함량 15 ％ 이상 ×

1 ％ 이상 내지 10 ％ 미만 ○

1％ 미만 ◎

(B) 수용액 투과율의 측정

아실기 함유 조성물을 수산화 나트륨으로 중화시켜 제조한 20 중량％(pH 10)의 수용액을 이용하여, 광로 길이 10 mm의 셀에 의해 430 nm 및 550 nm에서 투과율을 측정하였다.

평가 기준을 이하에 나타낸다.

430 nm, 550 nm 어느 쪽의 투과율도 95 ％ 이상 ◎

430 nm, 550 nm 어느 쪽의 투과율도 90 ％ 내지 95％ 미만 ○

430 nm, 550 nm 어느 하나 또는 양쪽의 투과율이 90 ％ 미만 △

(C) 겔상 조성물의 안정성

각 겔상 조성물을 40 ℃에서 보존하고, 1 개월 후의 상태를 관찰하고, 안정성을 하기 기준에 따라 평가하였다.

○: 상태 변화가 없이 양호

△: 약간의 분리를 볼 수 있음

×: 확실한 분리를 볼 수 있음

(D) 겔상 조성물의 사용감

패널리스트 5명에 의해, 겔상 조성물을 손에 바르고 잘 맛사지한 후, 물로 씻어 낸 후의 사용감을 하기 기준에 따라서 관능 평가하였다.

○: 끈적 거림이 없고, 사용감이 양호하다고 느낀 사람이 3명 이상

△: 끈적 거림이 없고, 사용감이 양호하다고 느낀 사람이 1 또는 2 명

×: 끈적 거림이 없고, 사용감이 양호하다고 느낀 사람이 0 명

(E) 점도 측정

B형 점도계 (Brookfield사 제조; LVDVE 115)로 25 ℃에서 겔상 조성물의 점도를 측정하고, 하기 5 단계 기준에 의해 평가하였다.

겔상 조성물의 점도가 200,000 mPa 이상

겔상 조성물의 점도가 60,000 이상 내지 200,0000 mPa 미만

겔상 조성물의 점도가 3,000 이상 내지 60,000 mPa 미만

겔상 조성물의 점도가 1,000 이상 내지 3,000 mPa 미만

겔상 조성물의 점도가 1,000 mPa 미만

(F) 사용시의 신장 용이성

패널리스트 5 명에 의해 클렌징제의 사용시의 신장 용이성을 하기 기준에 따라서 관능 평가하였다.

○: 양호하다고 느낀 사람이 3 명 이상

△: 양호하다고 느낀 사람이 1 또는 2 명

×: 양호하다고 느낀 사람이 0 명

(G) 외관

각 겔상 조성물을 육안으로 확인함으로써 평가하였다 (「투명」,「반투명」, 또는 「분리」에 의해서 평가).

(H) 굴절률 측정

굴절률계에 의해 각 상의 20 ℃에서의 굴절률을 측정하였다. 유상, 수상의 굴절률 차를 하기 4 단계 기준으로 평가하였다.

유상과 수상과의 굴절률 차가 0.05 이상

유상과 수상과의 굴절률 차가 0.03 이상 내지 0.05 미만

유상과 수상과의 굴절률 차가 0.01 이상 내지 0.03 미만

유상과 수상과의 굴절률 차가 O.01 미만

(I) 화장료의 안정성

각 화장료를 40 ℃에서 보존하고, 1 개월 후의 상태를 관찰하여 안정성을 하기 기준에 따라서 평가하였다.

○: 상태 변화가 없고 양호

△: 약간의 분리를 볼 수 있음

×: 확실한 분리를 볼 수 있음

(J) 화장료의 사용감

패널리스트 5 명에 의해, 화장료를 손에 바르고 사용감 (끈적 거림, 촉촉한 느낌)을 하기 기준에 따라서 관능 평가하였다.

○: 끈적 거림이 없고, 촉촉하고, 사용감이 양호하다고 느낀 사람이 3 명 이상

△: 끈적 거림이 없고, 촉촉하고, 사용감이 양호하다고 느낀 사람이 1 또는 2 명

×: 끈적 거림이 없고, 촉촉하고, 사용감이 양호하다고 느낀 사람이 0 명

이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세히 설명한다.

<실시예 1>

(반응 공정)

L-라이신염산염 9.1 g (0.05 mol)을 물 57 g 중에 혼합하였다. 이 혼합액의 pH의 범위를 25 ％ 수산화나트륨 수용액으로 10 내지 11로 조정하면서, 또한 반응 온도를 5 ℃로 유지하면서, 교반하에서 N-라우로일-L-글루타민산 무수물 31.1 g (0.1 mol)을 2 시간 동안 첨가하여 반응을 실시하였다.

(산침전 분층 공정)

또한, 30 분 교반을 계속한 후, tert-부탄올을 액중 농도 20 중량％가 되도록 첨가한 후, 75 ％ 황산을 적하하여 pH 값을 2로, 또한 액 온도를 65 ℃로 조정하였다. 적하 종료 후, 교반을 정지하고 20 분간 65 ℃에서 정치하면 유기층과 물 층으로 분층되고, 이들로부터 유기층을 분리하였다.

(물 세척 공정)

분리한 유기층에 tert-부탄올 및 물을 첨가하고, 조성이 아실 화합물/tert-부탄올/물로 33/25/42 (각 중량％)의 혼합액을 제조하고, 온도를 65 ℃로 하여 20 분 교반하였다. 교반 정지 후, 20 분간 65 ℃에서 정치하여 유기층과 물 층으로 분층하였다. 얻어진 유기층에 대하여 동일 물 세척 조작을 반복한 후, 얻어진 유기층으로부터 용매를 제거하여, 아실기 함유 조성물 34.6 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1 에 나타내었다.

<실시예 2>

실시예 1에 있어서, 반응 공정에서의 조건을, 물을 물과 tert-부탄올의 혼합액 (tert-부탄올 농도 20 중량％)로 하여, N-라우로일-L-글루타민산 무수물을 N-라 우로일-D-글루타민산 무수물로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일 조건으로 실시하여, 아실기 함유 조성물 33.8 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

<실시예 3>

실시예 1에 있어서, 반응 공정에서의 조건을 L-라이신염산염과 그 양을 옥탄디아민 7.2 g으로 하고, 반응 온도를 55 ℃, pH 범위를 11 내지 12로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일 조건으로 실시하여, 아실기 함유 조성물 32.9 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

<실시예 4>

실시예 1에 있어서, 반응 공정에서의 조건을 N-라우로일-L-글루타민산 무수물과 그 양을 N-미리스토일-L-글루타민산 무수물 33.9 g으로 하고, 반응 온도를 15 ℃, pH 범위를 12 내지 13으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일 조건으로 실시하여, 아실기 함유 조성물 37.1 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

<실시예 5>

실시예 1에 있어서, 반응 공정에서의 조건을 N-라우로일-L-글루타민산 무수물과 그 양을 N-코코일-L-글루타민산 무수물 31.1 g, L-라이신염산염 9.1 g과 그 양을 에틸렌디아민 3.0 g으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일 조건으로 실시하여, 아실기 함유 조성물 29.0 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

<실시예 6>

실시예 1에 있어서, 반응 공정에서의 조건을 N-라우로일-L-글루타민산 무수물과 그 양을 N-팔미토일-L-아스파라긴산 무수물 3.53 g, 물을 물과 톨루엔의 혼합액 (톨루엔 농도 30 중량％), 반응 온도를 30 ℃로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일 조건으로 실시하여, 아실기 함유 조성물 38.3 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

<비교예 1>

일본 특허 공개 평 2002-167313호 공보의 실시예 9와 동일하게, N-라우로일-L-글루타민산 무수물 31.1 g (0.1 mol)을 톨루엔 40O mL에 가하여, 95 ℃에서 교반, 용해하고, 여기에 1,3-프로판디아민 3.7 g (0.05 mol)을 2 시간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후 1 시간 교반을 계속한 후에 톨루엔을 증류 제거하여, 아실기 함유 조성물 33.1 g을 얻었다. 이것을 크로마토그래피로 정제하여, 아실기 함유 조성물 23.0 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

<비교예 2>

비교예 1에 있어서, 1,3-프로판디아민과 그 양을 L-라이신 7.3 g으로 한 것 이외에는 비교예 1과 동일 조건으로 실시하여 아실기 함유 조성물 25.0 g을 얻었다. 이것의 분석 결과를 표 1에 나타내었다.

실시예	N-아실 산성 아미노산 무수물	반응물	반응 용매	반응 온도	반응시 pH	생성물 순도	탈수체 함량	유리 지방산 함량	20% 수용액 투과율	N-아실 산성 아미노산 함량
실시예 1	N-라우로일-L-글루타민산 무수물	L-라이신염산염	물	5℃	10-11	◎	◎	◎	◎	1~10%
실시예 2	N-라우로일-D-글루타민산 무수물	L-라이신염산염	물/tert-부탄올	5℃	10-11	◎	◎	◎	◎	1~10%
실시예 3	N-라우로일-L-글루타민산 무수물	옥탄디아민	물	55℃	11-12	◎	◎	◎	◎	1~10%
실시예 4	N-미리스토일-L-글루타민산 무수물	L-라이신염산염	물	15℃	12-13	◎	◎	◎	◎	1~10%
실시예 5	N-코코일-L-아스파라긴산 무수물	에틸렌디아민	물	5℃	10-11	◎	◎	◎	◎	1~10%
실시예 6	N-팔미토일-L-아스파라긴산 무수물	L-라이신염산염	물/톨루엔	30℃	10-11	◎	◎	◎	◎	1~10%
비교예 1	N-라우로일-L-글루타민산 무수물	1,3-프로판디아민	톨루엔	90℃	-	○	x	◎	x	<0.5%
비교예 2	N-라우로일-L-글루타민산 무수물	L-라이신	톨루엔	90℃	-	○	x	◎	x	<0.5%

<실시예 7>

실시예 1에서 얻은 조성물을 수산화나트륨으로 중화하여 고형분이 30 중량％이고 pH 6.5인 수용액으로 만든 후, 이것을 건조하여 중화한 아실기 함유 조성물의 분말을 얻었다.

<실시예 8>

실시예 5에서 얻은 조성물을 수산화나트륨으로 중화하여 고형분이 30 중량％이고 pH 7.5인 수용액으로 만든 후, 이것을 건조하여 중화한 아실기 함유 조성물의 분말을 얻었다.

<실시예 9 내지 22, 비교예 3 내지 6>

표 2에 나타낸 조성의 겔상 조성물을 제조하고, 각각에 대하여 안정성, 사용감 및 점도, 투명성을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타내었다. 배합 조성은 중량％이다.

(제법)

어느 쪽의 겔상 조성물도 하기의 방법으로 제조하였다.

유성 성분 이외의 성분을 70 ℃에서 교반하면서 혼합하였다. 여기에, 교반하면서 유성 성분을 천천히 적하하고, 또한 교반한 후, 냉각하여 겔상 조성물을 얻었다.

성분 (wt%)	실시예 9	실시예 10	실시예 11	실시예 12	실시예 13	실시예 14	실시예 15	실시예 16	실시예 17
실시예 7의 아실기 함유 조성물	4	7.1		6.8	1	1			6
실시예 8의 아실기 함유 조성물			5				2	3
라우로일글루타민산나트륨	2							3
라우릴디페닐에테르디술폰산나트륨
폴리옥시에틸렌(5)라우릴 에테르						3
글리세린	30	28	21	24	31.2	18	20		32
디글리세린
소르비톨								30
POE(20)메틸글리코시드
수크로오스
정제수	4	15.9	4	9.2	7.8	10	13	4	2
유동 파라핀
미리스트산이소프로필			70
이소스테아르산이소스테아릴							65
포도 종자유									60
TEG+실리콘(10CS)
스쿠아란
올리브유	60	49						60
실리콘(10CS)
트리 2-에틸헥산산글리세릴				60	60	34
저비점 실리콘						34
안정성	○	○	○	○	○	○	○	○	○
외관	투명	반투명	투명	투명	투명	투명	반투명	불투명	투명
사용감	○	○	○	○	○	○	○	○	○
굴절률 차	<0.01	0.05	0.03	<0.01	<0.01	<0.01	0.05	0.03	<0.01
점도(Pa·s)	>200	3-60	60-200	3-60	3-60	3-60	3-60	>200	>200
신장	x	○	△	○	○	○	○	x	x

성분 (wt%)	실시예 18	실시예 19	실시예 20	실시예 21	실시예 22	비교예 3	비교예 4	비교예 5	비교예 6
실시예 7의 아실기 함유 조성물	1	5	1	5	6
실시예 8의 아실기 함유 조성물
라우로일글루타민산나트륨						11	4
라우릴디페닐에테르디술폰산나트륨								13
폴리옥시에틸렌(5)라우릴 에테르		2							12
글리세린	14.3		20	20	12	17	17	17	20
디글리세린		19
소르비톨
POE(20)메틸글리코시드	4.8
수크로오스
정제수	4.6	4	2	0	22	14	10	12	5
유동 파라핀			77
미리스트산이소프로필
이소스테아르산이소스테아릴
포도 종자유
TEG+실리콘(10CS)
스쿠아란		70		60			69
올리브유						58		58	63
실리콘(10CS)					60
트리 2-에틸헥산산글리세릴	75.3
저비점 실리콘
안정성	○	○	○	○	○	x	x	x	x
외관	투명	투명	투명	불투명	투명	분리	분리	분리	분리
사용감	○	○	○	○	○	x	x	x	x
굴절률 차	<0.01	<0.01	0.03	>0.05	<0.01	-	-	-	-
점도(Pa·s)	3-60	>200	>200	>200	<1	-	-	-	-
신장	○	x	x	x	△	-	-	-	-

<실시예 23 내지 24>

실시예 21에서 얻은 겔상 조성물을 70 ℃에서 교반하고, 이것에 유상부를 70 ℃에서 교반하면서 첨가하고, 또한 잔여의 수상부를 전체가 100 중량부가 되도록 첨가하고, 냉각하여 각각의 배합물을 얻었다. 이에 대하여 안정성, 사용감을 평가하였다. 결과를 표 3에 나타내었다. 표 3 중의 배합 조성은 중량％이다.

<비교예 7>

표 3의 비교예 7에 나타내는 유상부와 수상부를 각각 70 ℃로 가열하여 용해하고, 유상부를 수상부에 혼합 유화시킨 후, 냉각하여 배합물을 얻었다. 이에 대하여 안정성, 사용감을 평가하였다. 결과를 표 3에 나타내었다. 표 3 중의 배합 조성은 중량％이다.

	실시예 23	실시예 24		비교예 7
	로션	크림		크림
(유성 겔)			(유상부)
스쿠아란	13	13	스쿠아란	13
실시예 7의 조성물	1	1	스테아르산	2
글리세린	6	6	세타놀	1.5
(유상부)			바셀린	5
스테아르산	2	3	트리 2-에틸헥산산글리세릴	4
세타놀	1.5	5
바셀린		5	(수상부)
트리 2-에틸헥산산글리세릴		4	트리에탄올아민	0.5
(수상부)			시트르산	적정량
트리에탄올아민	0.5	1	제조예 1의 조성물	0.05
시트르산	적정량	적정량	글리세린	6
정제수	잔여	잔여	정제수	잔여
안정성	○	○	안정성	x
사용감	○	○	사용감	x

<참고예 1>

실시예 7에서 얻은 조성물과 이것의 대조 물질로서 우레아를 사용하고, 고습하에서의 흡습률과 저습하에서의 보습률을 다음과 같은 방법으로 평가하였다. 즉, 건조 시료 1 g을 칭량병 중에서 건조하고 이것을 칭량한 후, 25 ℃, 상대 습도 84 ％의 고습하의 데시케이터 중에 방치하여 경시적으로 313 시간 경과 후까지 시료 중량을 측정하였다. 그 후, 동 시료를 25 ℃, 상대 습도 33 ％의 저습하의 데시케이터로 옮겨, 이 중에서 방치하여 상기 313 시간 경과 후를 시험 개시 (0 시간)로 하여 마찬가지로 경시적으로 시료 중량을 측정하여, 다음 식에 따라서 흡습률을 구하였다.

흡습율 (％)=(W_t-W₀ / W_O)×10O

W₀: 방치 전 건조 중량, W_t: 각 측정 시의 중량

결과를 표 4에 나타내었다. 우레아는 흡습하는 도중에서 조해성을 나타내고, 또한 이것을 저습하에 두면 거의 수분을 전부 방습하여 버린다. 한편, 실시예 7에서 얻은 아실기 함유 조성물은 조해성을 나타내는 일도 없고, 우레아에 비하여 높은 보습성을 나타내었다.

시료	고습하에서의 각 시간에서의 흡습율(%)
	5 hr	27 hr	48 hr	120 hr	197 hr	313 hr
실시예 7의 조성물	7.9	26.8	35.0	43.1	44.2	44.7
우레아	0.2	3.2	7.4	24.7	42.6	72.7
시료	저습하에서의 각 시간에서의 흡습율(%)
	0 hr	25 hr	49 hr	75 hr	141 hr
실시예 7의 조성물	44.7	22.3	10.9	7.8	7.0
우레아	72.7	1.2	0.3	0.4	0.3

<실시예 25 내지 26, 비교예 8>

실시예 7에서 얻은 아실기 함유 조성물을 사용하고, 표 5의 조성으로 화장수를 제조하고, 평가를 실시하였다. 결과를 표 5에 나타내었다. 표 5 중의 배합 조성은 중량％이다.

실시예 7의 아실기 함유 조성물을 배합한 화장수는, 사용 후의 감촉이 우수하였다.

	실시예 25	실시예 26	비교예 8
실시예 7의 조성물	0.5	1	0
우레아	0	0	1
1,3-부틸렌글리콜	5	2	2
올레일 알코올	0.1	0	0
에탄올	5	10	10
정제수	잔여	잔여	잔여
pH	6.5	6.5	6.5
사용감	○	○	x

<실시예 27>

분산제로서 실시예 7에서 얻은 조성물을 사용하고, 정제수 300 ㎖ 중에 분산제의 고형분 농도가 0.01 중량％가 되도록 분산제를 첨가하고, 안료로서 미립자 산화티탄 (이시하라 산교(주) 상표 「TTO-55(A)」)를 고형분 농도가 1 중량％가 되도록 첨가한 후, 상온에서 호모 믹서에 의해 10000 rpm에서 2 분간 교반하여 분산시켰다. 이 분산액을 40 ℃에서 정치하여 상청의 300 nm에서의 투과율을 경시적으로 측정하였다. 결과를 표 6에 나타내었다.

미립자 산화티탄은 분산되어 자외선 차폐 효과를 발휘하기 때문에, 측정 투과율이 작을수록 응집ㆍ침강하지 않고 안정적으로 분산되었다고 생각되며, 실시예 27의 조성물은 분산 안정성이 특히 우수하였다.

<비교예 9 내지 11>

실시예 27의 분산제의 종류를 다음과 같이 바꾼 것 이외에는 실시예 27과 동일한 방법으로 실시하였다. 결과를 표 6에 나타내었다.

비교예 9: 라우로일글루타민산나트륨

비교예 10: 폴리에틸렌글리콜(20)모노스테아레이트

비교예 11: 폴리옥시에틸렌(20)소르비탄모노라우레이트

		상청 투과율의 경시적 변화 (T%)
	분산제	0 hr	5 hr	30 hr	50 hr	75 hr	100 hr	200 hr
실시예 27	실시예 7의 조성물	1.4	1.3	1.2	1.3	1.2	0.9	0.8
비교예 9	라우로일글루타민산나트륨	1.4	83.2	98.6	100	100	100	100
비교예 10	폴리에틸렌글리콜(20)모노스테아레이트	1.4	1.3	1.2	13.5	81.3	85.1	97.3
비교예 11	폴리옥시에틸렌(20)소르비탄모노라우레이트	1.4	1.7	3.2	10.0	9.9	84.5	88.5

<실시예 28, 비교예 12 내지 13>

안료로서 미립자 산화티탄을 활성탄 (다케다 야꾸힝(주) 상표 「시라사기」)으로 하고, 분산제를 하기와 같이 바꾸고, 상청의 측정 투과율 300 nm를 660 nm로 한 것 이외에는 실시예 27과 동일한 조건으로 실시하였다. 결과를 표 7에 나타낸다. 상청의 측정 투과율이 작을수록 활성탄이 응집ㆍ침강하지 않고 안정적으로 분산되었고 생각되며, 실시예 7의 조성물이, 특히 분산 안정성이 우수하였다.

실시예 28: 실시예 7의 조성물

비교예 12: 라우로일글루타민산나트륨

비교예 13: 폴리에틸렌글리콜(20)모노스테아레이트

비교예 14: 폴리옥시에틸렌(20)소르비탄모노라우레이트

		상청 투과율의 경시적 변화 (T%)
	분산제	0 hr	5 hr	30 hr	80 hr	150 hr
실시예 28	실시예 7의 조성물	0.6	0.6	0.6	0.7	0.8
비교예 12	라우로일글루타민산나트륨	0.6	0.6	0.6	0.7	5.7
비교예 13	폴리에틸렌글리콜(20)모노스테아레이트	0.6	0.6	2.8	3.6	24.7
비교예 14	폴리옥시에틸렌(20)소르비탄모노라우레이트	0.6	0.6	1.1	4.4	23.0

본 발명의 아실기 함유 조성물은, 세정제, 및 의약 부외품, 화장품 등 향장품 분야에서 이용할 수 있는 음이온 계면활성제이고, 특히, 저농도에서 계면활성 효과를 나타내고, 자극성이 적고, 또한 보습성을 갖는 계면활성제이다. 또한, 이 아실기 함유 조성물은, 끈적 거리지 않고 촉촉한 느낌을 부여하여 피부 보습 효과를 향상시킨 화장료, 페이스트상으로부터 고체 상태까지 임의의 경도가 가능한 겔상 조성물, 사용감이 우수한 클렌징제, 안료 등의 분산 안정성이 우수한 분산제 등에 응용할 수 있는 것이다.

Claims (28)

1. 하기 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과, 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물을, 수용매 중 및(또는) 물과 유기 용매와의 혼합 용매 중에서 반응시키는 공정 (반응 공정)을 포함하는, 하기 화학식 2로 표시되는 1종 이상의 아실 화합물을 함유하는 아실기 함유 조성물의 제조 방법.

   <화학식 1>

   

   <화학식 2>

   

   상기 식에서, R¹CO는 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 장쇄 아실기를 나타내고, R²는 수소이거나, 또는 임의로 히드록실기 또는 카르복실기로 치환된 탄소 원자수 1 내지 3의 저급 알킬기를 나타내고, j, k는 각각 독립적으로 0, 1, 2 중 어느 하나이며, 또한 j, k가 동시에 0은 아니고, n개 (n은 2 내지 20의 정수임 (2와 20을 포함함))의 Z는 X의 치환기인 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개 (m≥n) 관능기와의 결합부이며, 각각 독립적으로 -O-, -NR³- (R³은 수소, 또는 탄소 원자수 1 내지 10의 알킬기 또는 알케닐기 또는 아릴기 또는 알킬아릴기임) 및 -S-로 이루어지는 군으로부터 선택되고, X는 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 분자량 100만 이하의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서이고, Z를 통하여 X에 붙는 n개의 하기 화학식 3으로 표시되는 치환기는 각각이 독립적이고, Y는 카르복실기 또는 그의 염을 나타낸다.

   <화학식 3>

   

   (상기 식에서의 정의는 상기 화학식 1, 2와 동일함)
2. 제1항에 있어서, 상기 화학식 2에서 X가 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 탄소수 1 내지 40의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서인 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반응 공정에서 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물에 포함되는 이들 관능기의 합계의, 상기 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물에 대한 몰비가 0.5 내지 1.4이고, 또한 반응 시에 반응액의 pH가 4 내지 14로 유지되는 방법.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반응 공정 후에 실시되는 공정으로서, (i) 상기 반응 공정에 의해 얻은 반응액을 광산으로 pH를 1 내지 6으로 함으로써 유기층과 물 층으로 분층하여, 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층을 취득하는 공정 (산침전 분층 공정) 및 (ii) 무기염 등의 수용성 불순물을 함유하는 아실기 함유 조성물과, 실질적으로 물 및 tert-부탄올을 주성분으로 하는 매체와의 혼합 상태로부터, 35 ℃ 내지 80 ℃의 온도에서, 물 층과 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로 분층하여 아실기 함유 조성물 중의 불순물을 제거하는 공정 (물 세척 공정) 중 어느 하나 또는 양쪽을 포함하는 방법.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반응 공정의 실시 후에 또는 추가로 상기 산침전 분층 공정 또는 물 세척 공정의 실시 후에 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로부터 유기 용매를 증류하여 제거할 때, 혼합액을 기체-액체 혼합상으로 하여 증발관 내에 분무함으로써 용매를 증발시키는 분무식 증발기를 사용하여, 유기 용매를 증류하여 제거하는 방법.
6. 하기 화학식 2로 표시되는 1종 이상의 아실 화합물을 함유하는 아실기 함유 조성물이며, 상기 조성물 중 아실 화합물 함유량이 70 중량％ 이상이고, 유리 지방산 함량이 3 중량％ 이하이고, 또한 액체 크로마토그래피를 이용한 205 nm에서의 검출기에 의한 분석에서 분자량이 상기 아실 화합물보다 18이 더 작은 화합물의 함유량이 아실 화합물에 대하여 면적비로 5 ％ 이하인 아실기 함유 조성물.

   <화학식 2>

   

   상기 식에서, R¹CO는 탄소 원자수 2 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 장쇄 아실기를 나타내고, R²는 수소이거나, 또는 임의로 히드록실기 또는 카르복실기로 치환된 탄소 원자수 1 내지 3의 저급 알킬기를 나타내고, j, k는 각각 독립적으로 0, 1, 2 중 어느 하나이며, 또한 j, k가 동시에 0은 아니고, n개 (n은 2 내지 20의 정수임 (2와 20을 포함함))의 Z는 X의 치환기인 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개 (m≥n)의 관능기와의 결합부이며, 각각 독립적으로 -O-, -NR³- (R³은 수소, 또는 탄소 원자수 1 내지 10의 알킬기 또는 알케닐기 또는 아릴기 또는 알킬아릴기임) 및 -S-로 이루어지는 군으로부터 선택되고, X는 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 분자량 100만 이하의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서이고, Z를 통하여 X에 붙는 n개의 하기 화학식 3으로 표시되는 치환기는 각각이 독립적이고, Y는 카 르복실기 또는 그의 염을 나타낸다.

   <화학식 3>

   

   (상기 식에서의 정의는 상기 화학식 2와 동일함)
7. 제6항에 있어서, N-장쇄 아실 산성 아미노산 또는 그의 염이 0.5 내지 30 중량％ 함유되는 조성물.
8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 화학식 2에서, X가 임의로 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기도 갖는 탄소수 1 내지 40의 직쇄 또는 분지쇄 또는 환상쇄로서 방향족 탄화수소를 함유하거나 또는 함유하지 않는 탄화수소쇄인 스페이서인 조성물.
9. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 화학식 2에서, R¹CO가 탄소 원자수 8 내지 20의 포화 또는 불포화 지방산으로부터 유도되는 장쇄 아실기인 조성물.
10. 제6항에 있어서, 상기 화학식 2에서, X가 각각 독립적으로, 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 및 이들의 염으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 기를 갖는 조성물.
11. 제6항에 있어서, 상기 아실기 함유 화합물 중의 해리기 1 당량에 대하여, 상대이온으로서 염기성 물질을 0.2 내지 1.5 당량 함유하는 조성물.
12. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 아실 함유 조성물을 고형분이 20 중량％이고 pH 10인 수용액으로 제조하였을 때, 430 nm 및 550 nm에서의 투과율이 모두 90 ％ 이상인 조성물.
13. 제10항 또는 제11항에 있어서, 추가로 다른 계면활성제를 포함하는 조성물.
14. 제6항에 있어서, 하기 화학식 1로 표시되는 N-장쇄 아실 산성 아미노산 무수물과, 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물을, 물 및(또는) 물과 유기 용매와의 혼합 용매 중에서 반응시키는 공정 (반응 공정)에 의해서 얻어지는 상기 화학식 2로 표시되는 1종 이상의 아실 화합물을 함유하는 조성물.

    <화학식 1>

    

    상기 식에서의 정의는 제1항과 동일하다.
15. 제14항에 있어서, 상기 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 m개의 관능기를 갖는 1종 이상의 화합물이, 각각 독립적으로, 분자 내에 히드록실기, 아미노기 및 티올기 이외의 치환기로서, 카르복실기, 술폰산기, 황산에스테르기, 인산에스테르기 및 이들의 염으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 기를 갖는 조성물.
16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 반응 공정 후에, 추가로 (i) 상기 반응 공정에 의해 얻은 반응액을 광산으로 pH를 1 내지 6으로 함으로써 유기층과 물 층으로 분층하여, 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층을 취득하는 공정 (산침전 분층 공정) 및 (ii) 무기염 등의 수용성 불순물을 함유하는 아실기 함유 조성물과, 실질적으로 물 및 tert-부탄올을 주성분으로 하는 매체와의 혼합 상태로부터, 35 ℃ 내지 80 ℃의 온도에서, 물 층과 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로 분층하여 아실기 함유 조성물 중의 불순물을 제거하는 공정 (물 세척 공정) 중 어느 하나 또는 양쪽을 실시함으로써 얻어지는 조성물.
17. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 반응 공정을 실시한 후에 또는 추가로 상기 산침전 분층 공정 또는 물 세척 공정을 실시한 후에 아실기 함유 조성물을 포함하는 유기층으로부터 유기 용매를 증류하여 제거할 때, 혼합액을 기체-액체 혼합상으로 하여 증발관 내에 분무함으로써 용매를 증발시키는 분무식 증발기를 사용하여, 유기 용매를 증류하여 제거함으로써 얻어지는 조성물.
18. 제6항 또는 제7항에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상을 함유하는 액체상, 고체상, 겔, 페이스트상 또는 미스트상 조성물.
19. 제6항 또는 제7항에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상을 함유하고, 액체상, 고체상, 겔, 페이스트상 또는 미스트상인 향장품 조성물.
20. 제19항에 있어서, 추가로 폴리히드록실 화합물의 1종 이상을 함유하는 향장품 조성물.
21. 제20항에 있어서, 상기 향장품 조성물 중 폴리히드록실 화합물 함량이 0.1 내지 60 중량％이고, 상기 향장품 조성물 중의 아실기 함유 조성물 함량의 폴리히드록실 화합물 함량에 대한 중량비가 10/1 내지 1/100인 향장품 조성물.
22. 제20항 또는 제21항에 있어서, 추가로 유성 성분의 1종 이상을 함유하고, 또한 겔상인 향료품 조성물.
23. 제6항에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상, 폴리히드록실 화합물의 1종 이상, 및 유성 성분의 1종 이상을 함유하는 겔상 조성물이며, 상기 겔상 조성물 중의 수분 함량이 50 중량％ 이하이고, 또한 상기 조성물 중의 조성이, 1) 아실기 함유 조성물의 총량이 0.1 내지 40 중량％, 2) 폴리히드록실 화합물의 총량이 1 내지 60 중량％, 3) 유성 성분의 총량이 1 내지 95 중량％인 겔상 조성물.
24. 제23항에 있어서, 상기 겔상 조성물 중의 아실기 함유 조성물, 폴리히드록실 화합물 및 물을 포함하는 물 층과, 유성 성분을 포함하는 유성층과의 20 ℃에서의 굴절률 차가 ±0.05 이하인 겔상 조성물.
25. 제23항 또는 제24항에 있어서, 25 ℃에서의 점도가 1000 내지 200,000 mPaㆍs인 겔상 조성물.
26. 제23항 또는 제24항에 기재된 겔상 조성물을 함유하는 클렌징제.
27. 제23항 또는 제24항에 기재된 겔상 조성물을 유화시켜 제조되는 향장품 조성물.
28. 제6항 또는 제7항에 기재된 아실기 함유 조성물의 1종 이상을 함유하고, 액체상, 고체상, 겔, 페이스트상 또는 미스트상인 분산제 조성물.