JPS611651A - Ｎ−アシル酸性アミノ酸ジアミド類およびその製造法並びにそれらを含有する抗潰瘍剤 - Google Patents

Ｎ−アシル酸性アミノ酸ジアミド類およびその製造法並びにそれらを含有する抗潰瘍剤

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JPS611651A
JPS611651A JP59120584A JP12058484A JPS611651A JP S611651 A JPS611651 A JP S611651A JP 59120584 A JP59120584 A JP 59120584A JP 12058484 A JP12058484 A JP 12058484A JP S611651 A JPS611651 A JP S611651A
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Yasuyuki Suzuki
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は同一もしくは異
なって、水素原子、置換基を有するかもしくは有しない
アルキル、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアル
キル基またはＲ１とＲ２および／またはＲ３とＲ４がそ
れぞれ隣接する窒素原子と一緒になって置換基を有する
かもしくは有しない複素環式基を；Ｒ５は置換基を有す
るかもしくは有しないシクロアルキル、アシルまたは複
素環式基を；Ａは結合手を示すかまたは置換基を有する
かもしくは有しないアルキレン、アルケニレンまたはア
ルカジエニレン基を：およびｎは１．２または３を示す
〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミド類および
その製造法並びにそれらを含有する抗潰瘍剤に関する。
〔従来の技術〕
従来、潰瘍の治療薬として、Ｌ−グルタミンが広く用い
られていたが、近年その改良型としてアシルグルタミン
酸誘導体が開発され、潰瘍の治療に用いられるようにな
った。しかし、これらグルタミン酸誘導体の抗潰瘍作用
も満足すべきものではなく、よシ有効な薬剤の開発が望
まれていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従って、本発明の目的は、かかる状況下において従来の
グルタミン酸誘導体に比してより強力な抗潰瘍作用を有
する化合物を見出し、よシ有用な潰瘍治療剤を開発せん
とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意研究した結
果、一般式（１）で表わされる化合物が本発明の目的に
合致することを見出し、本発明を完成するに至った。
以下、本発明の詳細な説明する。
一般式（１）において、Ｒ１，Ｂ２、Ｒ３およびＲ４の
アルキル基としては、たとえば、メチル、エチル、ｎ−
プロピル、１ｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、１ｓｏ−ブ
チル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
ヘキシル、オクチルなどの０１〜８アルキル基が、シク
ロアルキル基としては、たとえば、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチルなどのｃ３〜７シクロアルキル基が、アルケニ
ル基としては、たとえば、ビニル、アリル、イソプロペ
ニル、ブテニル、３−メチル−２−ブテニルなどのｃ２
〜５アルケニル基が、アルアルキル基としては、たとえ
ば、ヘンシル、フェネチル、ナフチルメチルなどのアル
Ｃ１〜４アルキル基が挙げられる。
また、Ｒ１とＲ２および／−１：たはＲ３七Ｂ４がそれ
ぞれ隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環
式基としては、窒素、硫黄、酸素原子の中で窒素原子を
少なくとも１つ以上含有する複素環式基、たとえば、ピ
ロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニ
ル基などが挙げられる。
Ｒ５におけるシクロアルキル基としては、シクロプロピ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
などの基、複素環式基としては、窒素、硫黄、酸素原子
から選ばれる１つ以上の複素原子を含有する５員項、６
員項および縮合環型の複素環式ノを、たとえば、チェニ
ル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チ
アゾリル、イソチアゾリル、オキサシリル、インオキサ
シリル、ピロリジニル、ピロリニル、イミジン１リジニ
ル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、
テトラゾリル、テトラヒドロフリルなどの５員複素環式
基、ピラニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、
ピリダジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリ
ニル、トリアジニル、チアジニルなどの６員複素環式基
、ベンゾチェニル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、
インドリル、イソインドリル、ベンゾフリル、プリニル
、キノリル、イソキノリル、ナフチリジニル、キノキサ
リニル、クロマニル、インドリニル、イソインドリニル
、クロメニル、３．６−エホ＃シー　１−シクロヘキセ
ニルなどの縮合項型複累環式基などが挙げられ、またア
シル基としては、たとえば、アセチル、プロピオニル、
ブチリルなどのアルカノイル基、ベンゾイル、ナフトイ
ルなどのアロイル基、上記しだ複素環式基を有する複素
環式カルボニル基などが挙げられる。
そして、これらＲ１，Ｒ”、　Ｒ３およびＲ４における
アルキル、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアル
キル基　Ｒ１とＲ２および／またはＲ３とＲ４がそれぞ
れ隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環式
基並びにＲ５のシクロアルキル、アシルおよび複素環式
基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な
どのハロゲン原子；ヒドロキシル基ニアミノ基；カルボ
キシル゛基；メチル、エチル、ｎ−プロピル、１ｓｏ−
７’ロピル、ｎ−”エチル、１ｓｏ−ブチル、５ｅｅ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチルなどのアルキル基；オキソ基；メトキシ
、エトキシ、ロープロポキシ、　　１ｓｏ−プロポキシ
、ｎ−ブトキシ、１ｓｏ−ブトキシ、５ｅｃ−ブトキシ
、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシ、
ヘプチルオキシ、オクチルオキシなどのアルコキシ基；
フェニル、ナフチル、クロロフェニルなどのアリールま
たはハロゲン置換アリール基；ベンジル、フェネチル、
ナフチルメチル、（２，３，４−または３，４．５−）
トリメトキシベンジルなどのアルアルキルまたはアルコ
キシ置換アルアルキル基；アミノメチル、アミノエチル
などのアミノアルキル基；ジメチルアミンメチル、ジエ
チルアミノエチルなどのジアルキルアミノアルキル基；
Ｎ−メチルピペラジン−１−イル−メチル基；ヒドロキ
シメチル、ヒドロキシエチルなどのヒドロキシ置換アル
キル基；アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリ
ルオキシなどのアルカノイルオキシ基；スチリルカルボ
ニル、３，４．５−　）リメトキシスチリルカルボニル
などのアルアルケニルカルボニルまたはアルコキシ置換
アルアルケニルカルボニル基；ベンジルオキシ・カルボ
ニルアミノなどのアルアルキルオキシカルボニルアミノ
基；ベンゾイルアミノ、３．４．５−　）リメトキシベ
ンゾイルアミノなどのアロイルアミノまたはアルコキシ
置換アロイルアミノ基；ピロリジニルカルボニルメチル
、ピペＩＪ　’）ニルカルボニルメチル、ヒヘラシニル
カルボニルメチル、モルホリニルカルボニルメチルなど
の複素環カルボニルアルキル基などから選ばれる１つ以
上の置換基で置換されていてもよい。
またＡにおけるアルキレン基としては、たとえハ、メチ
レン、エチレン、フロピレン、メチレンなどの基；アル
ケニレン基としては、たとえば、ビニレン、フロペニレ
ン、フテニレンなトｆ）基；アルカジエニレン基として
は、たとえば、１，４−ブタジェニレン、２，４−ブタ
ジェニレンなどの基が挙げられ、これらは、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルなどのアルキル基；ヒドロキシ
ル基；フェニル、ナフチルなどのアリール基などで置換
されていてもよい。
また、一般式（Ｉ）の化合物は不斉炭素原子を有するた
めにり、ＬおよびＤＬ体が存在し、また二重結合を有す
る場合シス−トランス異性体、互変異性体などが存在す
るが、これらの異性体およびそれらの混合物はいずれも
本発明に包含される。
さらに、一般式（１）の化合物の水和物および溶媒和物
も本発明に包含される。
また、一般式（１）の化合物がカルボキシル基、ヒドロ
キシル基および／またはアミノ基を有している場合、当
該分野で知られる保護基で保護されていてもよい。ここ
においてヒドロキシル基の保護基としては、通常ヒドロ
キシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、
たとえば、ベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、４−プロモベンジルオ中ジカル
ボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３．
４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、４−（フェ
ニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、４−（４−メト
キシフェニルアゾ）ペンジルオキジカルボニル、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル、１，１−ジメチルプロポキシ
カルボニル、インプロポキシカルボニル、ジフェニルメ
トキシカルボニル、２．２．２−　トリクロロエトキシ
カルボニル、　２，２，２−トリブロモエトキシカルボ
ニル、２−フルフリルオキシカルボニル、１−アダマン
チルオキシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシカ
ルボニル、８−キノリルオキシカルボニルまたはトリフ
ルオロアセチルなどの脱離しゃすいアシル基；ベンジル
、トリチル、メトキシメチル、０−ニトロフェニルスル
フェニル、２．４−ジニトロフェニルスルフェニル基な
どが挙げられる。また、アミン基の保護基としては、通
常アミン基の保護基として使用し得るすべての基を含み
、たとえば、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロ
モエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メ
タンスルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンス
ルホニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、　ｏ
−ｊロモベンジルオキシカルボニル、（モノ−、ジー、
トリー）クロロアセチル、トリフルオロアセチル、アセ
チル、ホルミル、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、２−シアノ
エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、
メトキシメトキシカルボニル、アセチルメトキシカルボ
ニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、フェニ
ルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカ
ルボニル、４−（４−メトキシフェニルアゾ）ベンジル
オキシカルボニル、ピリジン−１−オキシド−２−イル
−メトキシカルボニル、２−フリルオキシカルボニル、
ジフェニルメトキシカルボニル、１，１−ジメチルプロ
ポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、１−シ
クロプロピルエトキシカルボニル、フタロイル、スクシ
ニル、１−アダマンチルオキシカルボニル、８−キノリ
ルオキシカルボニル、ベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイ
ル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルなどの脱離しやす
いアシ四基；トリチル、ベンジル、ｐ−二トロベンジル
、０−ニトロフェニルスルフェニル、２．４−シ＝トロ
フェニルスルフェニル、ベンジリデン、ｐ−ニトロベン
ジリチン、２−ヒドロキシベンジリチン、２−ヒドロキ
シ−５−クロロベンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナ
フチルメチレン、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレ
ン、２−　（１−−ｃ　トキシカルボニルー１−プロペ
ニル）、２−Ｅｌ”−１１−モルホリノ）カルボニル−
１−プロペニル）、２−（１−ジエチルアミノカルボニ
ル−１−７’ロベニル）、１−メトキシカルボニル−２
−プロピリデン、１−エトキシカルボニル−２−プロピ
リデン、３−エトキシカルボニル−２−ブチリデン、１
−アセチル−２−プロピリデン、１−ベンゾイル−２−
プロピリデン、１−ＣＮ−（２−メトキシフェニル）カ
ルバモイル〕−２−プロピリデン、１−（Ｎ−（４−メ
トキシフェニル）カルバモイル）−２−７’ロヒリテン
、２−工Ｉ・キシカルボニルシクロへキシリデン、２−
エトキシ力ルポニルシクロペンテリデン、２−アセチル
シクロへキシリデン、３，３−ジメチル−５−オギソシ
クロヘキシリデンなどの脱離しやすい基；ジーもしくは
トリーアルキルシリル基などのアミン基の保護基が挙げ
られる。さらに、カルボキシル基の保護基としては、通
常のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべての
基を含み、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
ｉｓ。
−フロビル、ｔｅｒｔ　−フチル、ｎ−ブチル、フェニ
ル、インタニル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ヘン
ジイルメチル、アセチルメチル、ｐ−ニトロヘンゾイル
メチル、ｐ−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メタンスル
ホニルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、２，２
．２−　トリクロロエチル、１，１−ジメチル−２−プ
ロペニル、１，１−ジメチルプロピル、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、１−アセチルエチル、１−ピバロイルオキシエチル
、１−ピバロイルオキシ−〇−プロピル、アセチルチオ
メチル、ピバロイルチオメチル、１−アセチルチオメチ
ルし、１−ピバロイルチオエチル、メトキシメチル、エ
トキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチ
ル、ｎ−ブトキシメチル、メトキシカルボニルオキシメ
チル、エトキシカルボニルオキシメチル、　ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルオキシメチル、１−メトキシカルボ
ニルオキシエチル、１−エトキシカルボニルオキシエチ
ル、１−インプロポキシカルボニルオキシエチル、フタ
リジル、２−（フタリジリデン）エチル、２−（５−フ
ルオロフタリジリデン）エチル、２−（６−クロロフタ
リジリデン）エチル、２−（６−メドキシフタリジリデ
ン）エチル、５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキ
ソ−ルー４−イル、５−エチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ルー４−イル、５−プロピル−２−オキソ−
１，３−ジオキソ−ルー４−イル、１，１−ジメチル−
２−プロペニル、３−メチル−３−ブテニル、スクシン
イミドメチル、１−シクロプロピルエチル、メチルチオ
メチル、フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、
キノリン−１−オキシド−２−イル−メチル、ピリジン
−１−オキシド−２−イル−メチル、ビス（ｐ−メトキ
シフェニル）メチルなどの基が挙げられ、さらに四塩化
チタンの如き非金属化合物でカルボキシル基が保護され
ている場合、並びに特開昭４６−７０７３号およびオラ
ンダ国公開公報７１０５２５９号に記載されているよう
に、たとえばジメチルクロロシランの如きシリル化合物
でカルボキシル基が保護されている場合などが挙げられ
る。
また一般式（１）の化合物が塩形成能を有する酸性基ま
たは塩基性基を有する場合、それらの塩も本発明に包含
される。ここで酸性基における塩としては、ナトリウム
、カリウムなどのアアルカリ金属原子；マグネシウム、
カルシウムなどのアルカリ土類金属原子；アンモニア；
プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−７
エネチルアミン、１−エフエナミン、Ｎ、Ｎ−ジベンジ
ルエチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなどの含
窒素有機塩基などとの塩が挙げちれ、塩基性基における
塩としては塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸；シュウ
酸、コハク酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸などの有機カルボン酸；メタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−２−スルホ
ン酸、トルエン−４−スルホン酸、メシチレンスルホン
酸（２，４，６−）リメチルベンゼンスルホン酸）、ナ
フタレン−１−スルホン酸、ナフタレン−２−スルホン
酸、フェニルメタンスルホン酸、ベンゼン−１，３−ジ
スルホン酸、トルエン−３，５−ジスルホン酸、ナフタ
レン−Ｒ５−ジスルホン酸、ナフタレン−２，６−ジス
ルホン酸、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸、ベンゼ
ン−１，３，５−トＩＪスルホン酸、ベンゼン−１，２
，４−ト１ｊスルホン酸、ナフタレン−１，３，５−）
ジスルホン酸すどのスルホン酸などとの塩が挙げられる
。
本発明によれば、抗潰瘍剤として有用な一般式（１）の
新規な化合物は、以下に述べる何れかの製造法によって
得ることができる。
製造法１ 一般式 〔式中、Ｒ１，Ｒ２、ＢＳ、　Ｒ４およびｎは前記した
意味を有する〕 で表わされる化合物またはその塩と、一般式Ｒ’　−Ａ
−ＣＯＯＨ（ＩＩＩ） 〔式中、Ｒ６およびＡは前記した意味を有する〕で表わ
される化合物またはそのカルボキシル基における反応性
誘導体を反応させる方法。
製造法２ ＮＨＣＯ−Ａ−Ｒ’ 〔式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ａ、およびｎは前記シタ意
味を有する〕 で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体と、一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は前記した意味を有する〕で表
わされるアミン類を反応させる方法。
製造法３ 一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ａおよびｎは前記した意味
を有する〕 で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体と、一般式 〔式中、Ｒ３およびＲ４は前記した意味を有する〕で表
わされるアミン類を反応させる方法。
製造法４ 一般式 ％式％（） 〔式中、Ｒ５、Ａおよび口は前記し、た意味を有する〕 で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体と、一般式（Ｖ）で表わされるアミン類を
反応させて、一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ］、Ｒ２、Ｒ５、Ａおよびｎは前記した意味
を有する〕 で表わされる化合物を得る方法。
上述の製造法１．２．３および４における原料化合物で
ある一般式（ｎ）、（ＩＶ）、（■）および（■）の化
合物は、たとえば、下のような反応経路によって製造す
ることができる。
（１）一般式（ＩＩ）の化合物またはその塩の製造法以
下余白 アミノ基の保護 ＨＯＯＣ（ＣＨ２）ｎ　ＣＨＣＯＯＨＨＯＯＣ（ＣＨｚ
　）ｎ　ＣＩ（ＣＯＯＨＮＲ２ＮＨＲ （ＩＸ）　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ）（Ｘ
Ｉ） ＮＨＲ （Ｘｌ＋） またはそのカルボキシル 基における反応性誘導体 ＨＥｔ （Ｘｌｌｌ） ＮＲ２ （旧 またはその塩 （１１）一般式（ＩＶ）および（■）の化合物の製造法
Ｒ’−Ａ−ＣＯＯＨ （ＩＩＩ） またはそのカルボ キシル基における 反応性誘導体 ＨＯＯＣ（ＣＲ２）　ｎＣＨＣ００ＨＨＯＯＣ（ＣＨｐ
、　）　ＯＣＨＣＯＯＨＮＲ２、ＮＨＣＯ−Ａ　−Ｒ’ （■）　　　　　　　　　　　　　（■）（ＸＩＶ） ＮＨＣＯ−Ａ−Ｒ’ （ＩＶ） （ｉｉｌ）一般式（Ｖｌ）の化合物の製造法ａ−カルボ
キシル基 およびα−アミン基 の保護 Ｎ１２　　　　　　　　　　　　　　　　　ＮＨＲ（Ｄ
Ｏ（ＸＶ） またはそのカルボ キシル基における （ＸＶＩ）　　ｌ””　　　　　　　　　　（ＸＶＩ）
　ＮＩ（Ｒ（ＸＤｏ 〔反応式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ａおよび
ｎは前記した意味を有し、Ｒはア、ミノ保護基を、Ｘは
カルボキシル保護基を示す〕 Ｘのカルボキシル保護基としては、前述したと同様のカ
ルボキシル基の保護基が挙げられ、特にメチル、エチル
、　　ｔｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基、ベンジル、
フェネチルなどのアルアルキル基などが好ましい。また
凡のアミン保護基としては、前述したと同様のアミノ基
の保護基が挙けられる。
一般式（Ｉｔ）における塩としては、塩酸、臭化水木酸
などとの酸付加塩が挙げられる。
つぎに、本発明化合物の製造法と原料製造工程をさらに
詳細に説明する。
製造法１ 一般式（■）の化合物（ｎ＝１のときはアスパラギン酸
、ｎ＝２のときはグルタミノ酸およびｎ＝３のときはア
ミノアジピン酸）を出発原料として、該化合物のアミン
基を、通常のベプタイド合成におけるアミノ保護基、た
とえば、ベンジルオキシカルボニル、置換ベンジルオキ
シカルボニル、ト：シル基などで保饅することによシ一
般式（Ｘ）の化合物が得られる。
得られた一般式（Ｘ）の化合物をクロロホルム、１．１
．２−　トリクロミニタンなどのハロゲン化炭化水素類
、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類などの溶
媒中、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸などの反応促進剤
の存在下に、パラホルムアルデヒドと脱水縮合させれば
、一般式（Ｘｌ）の化合物が得られる。バラホームアー
プヒト冒ホ・ムア；デヒドとして）の使用量は一般式（
Ｘ）の化合物に対して１．５倍モル程度が好ましい。な
お、反応促進剤の添加量は、一般式（Ｘ）の化合物に対
して２〜５％（容量／容量）程度が好ましく、本反応は
、使用する溶媒によって若干異なるが、５０〜１１０℃
で行われ、おおむね１時間〜１０４間で完了する。
このようにして得られた一般式ＣＭ）の化合物と一般式
（■）のアミン類を反応させれば、一般式（２）Ｄ化合
物が得られる。この反応において一般式（２）リアミノ
類の使用量は、一般式（ＸＩ）の化合物に対して２５倍
モル程度でおればよく、溶媒と１〜で、た、！−ｔば、
　クロロホルム、　　１，１．２−　）リクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化
水素類などの反応に関与しない溶媒が使用されるが、反
応試薬のアミン類を過剰に用いて溶媒兼用としてもよい
。一般式■のアミン類としては、たとえば、メチルアミ
ン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、１ｓｏ−プロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、　　ｔｅｒｔ−ブチル
アミン、ｎ−アミルアミン、＋ＳＯ−アミルアミン、ｎ
−ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジー（β−ヒドロ
キシエチル）アミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピ
ルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどのＣ１〜４−モノ
−またはジアルキルアミン類：アリルアミン、（３−メ
チル−２−ブテン）アミンナトのＣ２〜４アルケニルア
ミン類；シクロヘキシルアミンなどの０３〜７シクロア
ルキルアミン類；（３−アセドキシー０−プロピル）ア
ミン、２−クロロエチルアミンなどの置換０１〜４アル
キルアミン類；ベンジルアミンなどのアル０１〜４アル
キルアミン類；ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、
Ｎ−メチルピペラジンなどの複素環式アミン類が挙げら
れる。
このようにして得られた一般式（Ｘｌ）の化合物と一般
式（Ｖ）のアミン類を反応させれば、一般式（ＸＩＩＩ
）の化合物が得られる。一般式（Ｘｌ）の化合物を反応
に供する場合には、該化合物に縮合剤、たとエバ、ジシ
クロへキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾー
ル、ウッドワード試薬−になどの存在下に、一般式（Ｖ
）のアミン類を反応させるのが好ましい。また一般式（
刈）の化合物のカルボキシル基における反応性誘導体を
反応に供する場合には一般式（Ｘｌｌ）の化合物にクロ
ル炭酸エチルの如き炭酸モノアルキルエステル類を反応
させて得られる混合酸無水物または酸アジドなどの通常
知られている反応性誘導体を、一般式（Ｖ）のアミン類
と反応させるのが好ましい。このようにすると一般式（
刈）の化合物はω−アミド化されて一般式（Ｘｌｌｌ）
の化合物が得られる。なお、このとき一般式（Ｖ）のア
ミン類とは、一般式（■）のアミン類と同様なものが拳
けられる。一般式ｆＶ）のアミン類の使用量は一般式（
Ｘｌｌ）の化合物またはそのカルボキシル基における反
応性誘導体に対して１．１倍モル程度が好ましい。上記
の反応において、縮合剤を用いて反応を行う場合、反応
条件は通常のアミド化反応の条件が適用されるが、特に
溶媒として塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類を
使用し、Ｏｃ前後で反応させるのが好ましい。寸た、混
合酸無水物または酸アジドを経由して反応を行う場合も
おおむね同じ条件で反応は進行する。
得られた一般式（ＸＩＩＩ）の化合物のアミノ保護基の
脱離は、用いた保護基によりその脱離条件は異なるが、
いずれも通常の方法によって脱離させることができ、′
に七えば、保＠基がペンジルオギシ力ルポニル基の場合
、酢酸中で臭化水素を加えるかまたは接触還元すること
により容易に脱離し、一般式（■）の化合物またはその
塩が得られる。
ついで、一般式＋ＩＩ）の化合物またはその塩と一般式
（ＩＩＩ）の化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体を反応させれば、目的とする一般式（１）
の化合物またはその塩が得られる。一般式（ＩＩＩ）の
化合物またはそのカルボキシル基における反応性誘導体
の使用量は、一般式で旧の化合物またはその塩に対して
０．９５〜１０５倍モルが好ましい。一般式（ＩＩＩ）
の化合物の遊離酸を反応に供する場合には、ジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどの縮合剤が使用される。また
一般式（ＩＩＩ）の化合物のカルボキシル基における反
応性誘導体、たとえば酸ハロゲニド（たとえば、酸クロ
リド）または混合酸無水物（たとえば、クロル炭酸エチ
ルなどとの混合酸無水物）または活性エステル（たとえ
ば、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドとの活性エステル）
−！たは酸アジドなどを反応に供する場合には、通常の
アミド化反応の条件が適用される。
本反応に使用される溶媒としては、反応に関与しないす
べての溶媒が挙げられるが、たとえば、塩化メチレンな
どのハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類またはアセトニトリルなどのニ
トリル類などの使用が好ましい。反応は、使用する化合
物によって異なるが、通常−２５〜５０℃の温度で行う
のが好ましく、特に一般式（ｎ［）の化合物の酸ハロゲ
ニドを使用する場合には、トリエチルアミンまたはピリ
ジンなどの脱酸剤の存在下に室温で、混合酸無水物また
は活性エステルを使用する場合には、−２５〜０℃で、
酸アジドを使用する場合には室温で、またカルボン酸を
使用する場合には、縮合剤の存在下に０℃前後に保つこ
とが好ましい。そして、本反応は、通常数分〜数十時間
で完結する。
なお、上述した製造法における一連の反応では、出発原
料である一般式（ＩＫ）のアミノ酸として、ＤＬ体を用
いればＤＬ体の目的物が、５体を用いれば５体の目的物
が、また９体を用いれば９体の目的物がそれぞれ得られ
る。
製造法２ 一般式（ＩＸ）の化合物と一般式（Ｉｌｌ）の化合物の
カルボキシル基における反応性誘導体をショツテン−バ
ラ−ｒ　ｙ　（Ｓｅｈｏｔｔｅｎ−＝Ｂａｕｍａｎｎ　
）反応に付して一般式（■）の化合物を得、ついで、こ
れを無水酢酸などのカルボン酸無水物と共に加熱して、
一般式ＣＸＮ）の化合物を形成させた後、一般式（■）
のアミン類を水、含水アセトンまたは含水ジオキサン、
好ましくは、水中にて一５〜５℃で反応させれば、一般
式（Ｒ／）の化合物が得られる。このときａ−アミド体
のほかに若干のω−アミド体も生成するが、これらは、
ｐＨ分割などによって容易に・分離することができる。
ついで、一般式（■）の化合物またはそのカルボキシル
基における反応性誘導体と一般式（Ｖ）のアミン類を、
製造法１の一般式（Ｘｌｌ）の化合物またはそのカルボ
キシル基における反応性誘導体から一般式（Ｘ［［）の
化合物へ誘導する方法と同様に反応させれば、目的とす
る一般式（１）の化合物またはその塩が得られる。ここ
で、一般式（ＩＶ）の化合物のカルボキシル基における
反応性誘導体としては、クロル炭酸エチルの如き炭酸モ
ノアルキルエステル類と反応させて得られる混合酸無水
物または酸アジドなどの通常知られている反応性誘導体
が挙げられる。上述した製造法において、一般式（■）
の化合物から一般式（ＩＶ）の化合物を得る工程″にお
いてラセミ化が起シ、目的物がＤＬ体として得られるこ
ともある。
製造法３ 一般式（罵のアスパラギン、グルタミンまたは２−アミ
ノ−５−カルバモイル吉草酸を、−ｆｆ式（Ｉ［ｌ）の
化合物のカルボキシル基における反応性誘導体と前述し
たと同様のクヨツテンーバウマ″ン（Ｓｃｈｏｔｔｅｎ
−Ｂａｕｍａｎｎ　）反応に付せば、Ｒ１およびＲ２が
水素原子でおる一般式（Ｖｌ）の化合物が得られる。ま
た、ＢｌおよびＲ２が水素原子以外の一般式（６）の化
合物を得る場合には、一般式（ＩＸ）のアスパラギン酸
、グルタミン酸または２−アミノアジピン酸のα−カル
ボキシル基とａ−アミノ基を前述した当該分野で常用さ
れる保護基で保護する。これらの保護基は、脱離条件の
異なるカルボキシル保護基とアミン保護基の組合せが好
ましく、たとえば、ｔｅｒｔ−ブチル基とベンジルオキ
シカルボニル基、ベンジル基とｔｅｒｔ−ブチルオキシ
カルボニル基などの組合せが挙げられる。該保護基で保
護して一般式（ＸＶ）の化合物またはそのカルボキシル
基における反応性誘導体を得た後、これに一般式（７）
のアミン類を製造法ＩＱアミド化反応と同様な条件で反
応させれば、一般式（９）の化合物が得られる。ついで
、ａ−カルボキシル保護基およびａ−アミン保護基を同
時に脱離させて一般式（■の化合物とするか、またはａ
−アミノ基保護基のみを脱離させて一般式（Ｍの化合物
となし、ついでこれらに一般式（Ｉ［ｌ）の化合物のカ
ルボキシル基における反応性誘導体を、製造法２のアシ
ル化反応と同様の条件にて反応させれば、それぞれ一般
式（ロ）または（ＸＤＯの化合物が得られる。さらに、
一般式（Ｗの化合物は、通常の方法によってａ−カルボ
キシル保護基を脱離させて一般式（Ｖｌ）の化合物へ導
くことができる。
このようにして製造された一般式（Ｖｌ）の化合物、ま
たはそのカルボキシル基における反応性誘導体と一般式
（■）のアミン類を、製造法２のアミド化反応と同様の
条件で反応させれば、一般式（１）の化合物またはその
塩が得られる。
製造法４ 一般式（■）の化合物またはそのカルボキシル基におけ
る反応性誘導体に対して一般式（Ｖ）のアミン類を２倍
モル以上用いるほかは、製造法１で述べたと同様のアミ
ド化反応の条件で、一般式（■）の化合物またはそのカ
ルボキシル基における反応性誘導体と一般式（Ｖ）のア
ミン類を反応させれば、一般式（Ｔａ）の化合物が得ら
れる。
葦だ上述した各製造法において、アミド化に際し、一般
式＋Ｖ）または（■）のアミン類は目的に応じて同一の
アミン類または異なるアミン類を用いてアミド化するこ
とができる。
〔発明の効果〕
次に、本発明の代表的化合物の薬理効果について説明す
る。
１、抗潰瘍作用 （１）２４時間絶食させたＷｉｓｔａｒ系ラット（♂。
体重１８０〜２２０９．一群８匹）に本発明化合物また
はプロゲルミドを経口投与し、１時間後にインドメサシ
ン（登録商標）２５■／にりを経口投与した。一方、対
照群には同量のイントメサシ／のみを経口投与した。５
時間後に胃を摘出し、潰瘍面の長さを測定し、その総和
が対照群の５０チになる本発明化合物およびプロゲルミ
ドの投与量（ＥＤＢｏ値）を求めた。その結果を表−１
に示す。
試験化合物： 以下余白 （２２４時間絶食させたｗ＋５ｔａｒ系ラット（♂。
体重１８０〜２２０ｒ、一群８匹）に本発明化合物まだ
はプロゲルミドを５ｏｗ／Ｋｒ腹腔内投与し、１時間後
にインドメサシン（登録商標）２５〜／Ｋｑを経口投与
した。一方、対照群には同量のインドメサシンのみを経
口投与した。５時間後に胃を摘出し、潰瘍面の長さの総
和を測定し、対照群と比較し、−抑制率を算出した。そ
の結果を表−２に示す。
試験化合物； 以下余白 （３）２４時間絶食させたｗｌ　５ｔａｒ系ラツト（♂
、体重１８０〜２２０２、一群８匹）に本発明化合物ま
たはプロゲルミドを１０■／Ｋｆ経口投与し、３０分後
に０．２Ｎ−ＮａＯＨ１，５ｍ／ラットを経口投与した
。一方、対照群［’ｌｊ同量の０．２Ｎ　−ＮａＯＨの
みを経口投与した。１時間後に青金摘出し、潰瘍面の長
さの総和全測定し、対照群と比較し、抑制率全算出した
。その結果全表−３に示す。
試験化合物： 抑制率： ＋：抑制率が８０％以上 ±：　〃　　５０〜７９％ 一：　　〃　　５０チ以下 ２゜　急性毒性 ｄｄＹ系マウス（♂２体重２３±２２．一群１０匹）に
、薬剤ｌ＠３〜６の化合物を腹腔内投与してＬＤｓ。値
を求め゛たところ、いずれも６００ｍｆ／に４以上であ
った。
以上の如（、本発明化合物は、市販の抗潰瘍剤プロゲル
ミドに比較し、極めて強力な抗潰瘍作用を有しているこ
とがわかる。
本発明化合物は、人および動物の潰瘍の治療に供するこ
とができ、そのために当該分野において常用される剤形
、たとえは、カプセル剤、錠剤、顆粒剤などで使用され
、それら全調製するために種々の添加剤、たとえは、賦
形剤、滑沢剤、糖などを添ガロしてもよい。
本発明の抗潰瘍剤を人に投与する場合、投与量、投与方
法および投与回数などに症状に応じて適宜選択されるが
、一般に、成人、１人、１日当たり、ｌ岬〜１０００■
を１回〜数回経口投与すればよい。
〔実施例〕□ つぎに、本発明化合物の実施例および製剤例について述
べるが、本発明はこれらに限定さ−れるものではない。
実施例１ （１）ＤＬ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグルタミン
ｔｓ３ｏｏｔ、、ニラホルムアルデヒド４８１およびｐ
−トルエンスルホン酸ｌ水和物１２ｆをトルエン１ｔに
訓え、１時間共沸脱水する。ついで、トルエン全減圧下
に留去し、得られた油状物を酢酸エチル５００ｍに溶解
させ、水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に溶媒を留去すれば、油状のＤＬ−３−べ／ジルオ
キシ力ルボニ＃−４−（２−カルボキシエチル〕オキサ
ゾリジン−５−オ／を得る。
これ全トルエン６００−に溶解させ、ジ−ｎ−プロピル
アミｙ４２０ｆ１（加えて共沸脱水する。
ついで、減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢酸エチル５
００ｄを加える。この溶液を希塩酸３００−で洗浄し、
１０チー水酸化ナトリウム水溶液５００ｆｎｌを加えて
十分振盪した後、水層を分取する。ついで、こ九を希塩
酸でｐＨ６に調整し、酢酸エチル５００ゴをガロえ、十
分振盪した後、有機層を分取する０この溶液を無水硫酸
マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去すれ
は、融点１０８〜１１０Ｃｋ示すＤＬ−Ｎ２−ベンジル
オキシカルボニル−Ｎｌ　、　Ｎｌ−ジーｎ−プロピル
−α−グルタミルアミド２７２ｆ（収率７０％）を得る
。
（２）　　Ｄ　Ｌ　−Ｎ２−ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ１゜Ｎ１−ジ−ｎ−プロピル−α−グルタミルアミ
ド３６．４ｆｔ−塩化メチレン５００−に溶解させ、−
２０〜−１５０でトリエチルアミン２５．２　ｔおよび
クロル炭酸エチル１２ｆ’ｉｉ滴下し、３０分間攪拌し
た後、メチルアミン塩酸塩ｚ４ｆ′ｌｌ−分割添加する
。
ついで、同温度で２時間攪拌した後、反応液を希塩ｔＲ
１００ゴ、希アルカリ１００ゴおよび水１００−で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去すれば、融点７５〜７６Ｃを示すＤＬ・−２−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−Ｎ５−メチル−Ｎｉ
、　Ｎｌ−ジ−ｎ−プロピルペンタン−１，５−ジアミ
ド３５．８　ｆ　（収率９５チ）を得る。
（３）　　Ｄ　Ｌ　−２−ヘンシルオキシカルボニルア
ミノ−Ｎｌ−メチＡ／−Ｎ’ＩＮ’−ジーｎ−プＯヒ／
Ｉ／　ヘア　タノ・−１，５−ジアミド９．３　ｔ　’
ｌｘイソプロピルアルコール５０−に溶解させ、濃塩酸
ｚ２ゴおよび１０　　□チーパラジウム炭素０．５ｔｋ
加え、室温常圧にて接触還元上行う。ついで、パラジウ
ム炭素を濾去し、濾液から減圧下に溶媒を留去すれば、
融点１２５〜１２７Ｃを示すＤＬ−２−アミノ−Ｎ３−
メチル−Ｎｌ　、　Ｎｌ−ジーｎ−ン″ロビルペンタン
ー１，５−ジアミド・塩酸塩６．７　ｆ　（収率９７チ
）を得る。
（４ン　　β−２−）、リルアクリル＄１．５ｆｆ塩化
メチレン７５−に溶解させ、これに−２５〜−２０℃で
トリエチルアミン２．７ｆおよびクロル炭酸エチルＬ３
ｆｋ順次滴下し、３０分間反応させた後、ＤＬ−２−７
ミ／−Ｎ’−メチルＮ”　ｒ　Ｎ”−ジ−ｎ−プロピル
ペンタン−１，５−ジアミド・塩酸塩３２を添力ロレ、
１時間反応させる。ついで、反応液を希水酸化す）　Ｉ
Ｊウム水溶液３０−１希塩酸３０ｄおよび水３０−で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去すれば、融点１１２〜１１３Ｃを示すＤ
　Ｌ−’２−　（β−２−フリルアクリルアミド）−Ｎ
５−メチル−Ｎ’ＩＮ’−ジ−ｎ−プロピルペンタノ−
１，５−ジアミド３．１ｆ（収率８０％）を得る。
元素分析値（Ｃ１ｏＨｕＮｓ０４） Ｃ（％）　　Ｈ（イ）　　Ｎ（イ） 計算値　６２．７８　　８．０４　　１１．５６実測値
　６２．８５　　８．２３　　１１．６２ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ２）δ値； ｏ、８５（３ｆ（、ｔ　、−ＣＨａ）、０．９７（３Ｈ
，ｔ　、−ＣＨ５）。
１．２５〜１６０（８Ｈ，ｍ、〉ＣＬＸ４）、２．８７
（３Ｈ。
ｄ　、　−ＣＨ５）　、　３．０５〜３．９０　（４Ｈ
、ｒｎ　、：；ＣＬ　Ｘ　２　）　。
５、１５　（Ｉ　Ｈ、ｒｎ　、”；ＣＨ）　、６．４５
〜６．６７　（２Ｈ、ｒｎ　。
フラン環ＨＸ２）、６．６６（ＩＨ，ｄ、−Ｃ）Ｉ＝　
　）、７．０５−７．４５　（ＩＨ，ｍ、　’：：；Ｎ
Ｈ）　、　７．５４　（ＩＨ，ｄ　、　”ＣＨ＝）。
７．５７　（ＩＨ，ｓ　、フラン環ｆ（）　、　７．８
３（Ｉｆ−Ｉ、　ｄ　。
”；ＮＨ） ＩＲ（ＫＢｒ　）ｍ−１； νＮＨ３３００ ν。−８１６３５，１６１５ 実施例２ ρ−２−フリルアクリル酸１．７ｒ全塩化メチレン７５
−に溶解させ、−２５〜−２００でトリエチルアミン３
りおよびクロル炭酸エチル１．５ｆ’を順次滴下し、実
施例１（１）〜（３）と同様にして得られたＤＬ−２−
アミ／−Ｎ”、Ｎ”−ジイチＡ／−Ｎ’ＩＮ’−シー　
ｎ　−フロビルペンタン−１，５−シ７ミＦ・塩散塩４
２￥Ｃ添加踵１時間反応させる。ついで、実施例１（４
）と同様に後処理すれば、融点１１４〜１１６Ｃ’ｉ示
すＤＩ、−２−（β−２−）ｉノルアクリルアミド）　
−Ｎ５　、　ＮＩ′−ジメチル−Ｎｌ　、　Ｎｌ−ジー
ｎ−プロビルベ／りｙ　−１＋　５−ジアミド３．５ｆ
（収率７６％）を得る。
元素分析値（Ｃ２゜Ｎ３１　Ｎ３０４　）Ｃ（イ）　　
　Ｈ（％）　　　Ｎ（＠ 計算値　６３．６３　　８．２８　　１１．１３実測値
　６３．４３　　８．３８　　１１．０８ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ！　）δ値： ０．８５（３Ｈ，ｔ　、−ＣＨ５八０へ９９（３Ｈ，ｔ
　、−ＣＨ５）。
１．２５−２．７０（８Ｈ，ｍ、’；ＣＨ２Ｘ４）、２
．９５（６Ｈ。
ａ　、　ＣＨｓｘ２　）　、３．１０−４．９５　（４
Ｈ，ｍ　、＞ＣＨ２×２　）　、５．１９　（Ｉ　Ｈ、
ｒｎ　、；ＣＨ）　、６−１４〜６．５７　（２Ｈ１ｍ
、フラｙｉＨＸ２）、６．６２（ＩＨ，ｄ　、−ＣＨ＝
）。
７．４６（ＩＨ，ｄ、−ＣＨ＝）、７．４８（ＩＨ，ｓ
、７ラン環Ｈ）、８．０７（ＩＨ，ｄ、ンＮＨ）ＩＲ（
ＫＢｒ　）ｃｍ−’　； νＮＨ３３７０ シｏ＝ｏ１６６５，１６４５．１６１０実施例３ （１）ＤＬ−グルタミン酸６．５２を水７５−に懸濁さ
せ、水酸化ナトリウム５２２を添加した後、−１０〜−
７℃に冷却し、これにβ−２−フリルアクリル酸クロリ
ド６ｙ全ソエチルエーテル７５ｍに溶解させた溶液を、
１時間ケ要して滴下する。
ついで、５時間同温度で反応させた後、水層を分取し、
希塩酸會ガロえてｐＨ５，５に調製し、酢酸エチル５０
ｎ！で２回抽出処理し、水層全分取する。この溶液全希
塩酸で田２に調整した後、酢酸エチル１００−で抽出処
理し有機層を分取する。これを無水ｉ酸マグネシウムで
乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すれば、融点１７４．５
〜１７５．５Ｃを示すＤＬ−Ｎ　−（β−２−フリルア
クリロイル〕グルタミン酸５．５ｙ（収率５２チ）を得
る。
（２）　　Ｄ　Ｌ　−Ｎ　−（β−２−フリルアクリロ
イル）グルタミン酸５１を塩化メチレン１００ｆｎｔに
懸濁させ、トリエチルアミン７１’ｒ７ＪＯえ溶解させ
る。
この溶液全一２０〜−１５℃に冷却し、クロル炭酸エチ
ル４．６９　ｋ滴下し、３０分間反応させた後、ジメチ
ルアミン・塩酸塩３．１ｆを添加し、同温度で２時間反
応させる。ついで、反応液全希水酸化ナトリウム水溶液
５０−１希塩酸５０−および水５０−で順次洗浄し、無
水２ａ８マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を
留去すれば、融点１７８〜１８０℃を示すＤＬ−２−（
β−２−フリルアクリルアミド）−Ｎ’　、　Ｎ’　、
　Ｎ″ＩＮ’−テトラメチルペンタン−１，５−ジアミ
ド３．５　ｆ　Ｃ収率５５％）を得る。
元素分析値（ＣＩａＨ２ｓＮｓＯ＋　）Ｃ（％　　Ｈ（
イ）　　Ｎ（４） 計算値　５９．７９　　７．２１　　１３．０８実測値
　５９．９３　　７．３２　　１３．０９ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ、　）δ値； １．５〜２．７（４ＨＩｍ＋）ＣＨ２Ｘ２）、２．９３
（６Ｈ，ｓ。
−Ｃ＆ｘ２　）　、　３．００　（３Ｈ，ｓ　、　−Ｃ
Ｈａ　）、　３．２４（３ＨＩ　Ｓ　ｌ　−ＣＨａ　）
　１５．１６（ＩＨ，ｍ　、’ＣＨ−１１６，３４〜６
．５２（２Ｈ，ｒｎ、フラｙｌｌＨｘ２）、６．５５　
（ＩＨ，ｄ。
−ＣＨ＝）、７．３４（ｉｆ（、ｄ、−ＣＨ＝）、７．
４１（ＩＨ。
Ｓ、フラン１１１Ｈ）、７．７４（ＩＨ，ｄ　、；ＮＨ
）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）ｃｒｎ−”　； νＮ、　　３３１０ ν（＝Ｑ　１６６０，１６４０．１６１５実施例４ （１）Ｌ−グルタミン６．５ｆをＩＮ−水酸化ナトリウ
ム水溶液４５−とジエチルエーテル５０−に溶解させ、
−１５〜−１０℃で激しく攪拌しながら、β−２−フリ
ルアクリル酸クロリド９ｆｉジエチルエーテル２５−に
溶解させた溶液とＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液６０ｄ
ｔ−１時間を要して同時に滴下する。ついで、１時間反
応さ、せた後、水層奮分取し、６Ｎ−塩酸でｐＩ（５，
５に調整する。酢酸エチル５０ｓｄずつで３回洗浄した
後、６Ｎ−塩酸で州４．５に調整し、酢酸エチル５０−
で洗浄し、さらに、６Ｎ−塩酸でｐＨ２に調整し、酢酸
エチル５０＋ｄで２回抽出する。得られた有機層を無水
硫識マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去
すれば、融点１６３〜１６４０′ｆｔ示すＬ−Ｎ−（β
−２−フリルアクリロイル）グルタミン１．２ｆ（収率
１０チ）ｉ−得る０ （２）Ｌ−Ｎ−（β−２−フリルアクリロイル）グルタ
ミン１．１ｆ’ｌ無水塩化メチレン２７．５１ＩＩｌｌ
！および・トリエチルアミン０．６９−に溶解させ、−
２０〜−１５Ｃでクロル炭酸エチｙ　Ｏ，４４ｔｄｔ−
添加する。同温度で１時間反応させた後、ジ−ｎ−プロ
ピルアミン０．６８ｔＲｔｔ−添加し、同温度で１時間
、室温で２時間反応させる。ついで、反応液を水１〇−
１α５Ｎ−塩１！１０ｄ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
Ｗｔ、１０−および飽和食塩水１０−で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留
去すれば、融点１５２．５〜１５３℃を示すＤＬ−２−
（β−２−フリルアクリルアミド）　−Ｎｌ　、　Ｎｌ
−ジ−ｎ−プロピルヘンタフ　−１＋　５−ジアミド０
．２５　ｔ　（収率１７％）ｔ−得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）δ値； ０．８６（３Ｈ，ｔ　、−ＣＨａ）　、０，９３（３Ｈ
，ｔ　、　−ＣＨａ）。
Ｌ２０−２．６５（８）１１ｍ、、−ＣＨａＸ４）、２
Ｊ５〜３．８５（’４Ｈ，ｍ、ンＣｆ％ｘ’２）、５．
２０（ＩＨ，ｍ、３ｃｆ（）。
６．４５〜６．７５（２Ｈ，ｍ、７ラン１１ＨＸ　２　
）　、　６．６９（ＩＨ，ｄ　、−ＣＨ＝）、７．０７
　（２Ｈ，ｂｓ　、　−ＮＨｔ）　。
７．５５　（ＩＨ，ｄ　、−ＣＨ＝）、７．５８（ＩＨ
，ａ　、フラン環Ｈ）、８．１１　（ＩＨ，ｄ　、＞Ｎ
Ｈ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）傳−”　； ｙＮＨ３４００，３２６０，３１９０ νｃ−＝ｏ　１６７０．１６３０ 実施例５ （１）　　Ｄ　Ｌ　−Ｎ　−（β−２−フリルアクリロ
イル）グルタミン酸５ｆｔ−無水酢＠２０−に溶解させ
、１５分間１００Ｃで加熱し、減圧下に過剰の無水酢＃
！を留去して、ＤＬ−Ｎ−（β−２−フリルアクリロイ
ル）グルタミｙｌｌ無水物を得る０これをジ−ｎ−プロ
ピルアミ７５１Ｉ１ｇおよび水５ｍから成る混合液に、
水冷下に添加し、２時間反応させる０ついで、反応液全
希塩酸で声４に調整し、酢酸エチル２０−ずつで２回抽
出し、得られた有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させｆｃ、後、減圧下に溶媒を留去すれば、融
点１３０〜１３１Ｃを示すＤＬ−Ｎ”−（β−２−フリ
ルアクリロイル２）Ｎｌ　、　Ｎｌ−ジ−ｎ−プロピル
−α−グルタミルアミド４２（収率６２％）？得る。
（２Ｊ　　ＤＬ−Ｎ２−（β−２−フリルアクリロイル
）Ｎｌ　、　Ｎｌ−ジ−ｎ−プロピル−α−グルタミル
アミド４１を塩化メチレン１００−に溶解させ、これに
−２５〜−２００でトリエチルアミ７１．３　Ｆおよび
クロル炭酸エチル１．４２全順次滴下し、３０分間反応
させた後、ジエチルアミン１２を同温度で滴下し、さら
に１時間反応させる。ついで、実施例１−（４）と同様
に後処理すれば、融点１１７〜１１７．５Ｃ全示すＤ　
Ｌ　−Ｎ５．　Ｎ５−ジエチル−２−（β−２−フリル
アクリルアミド）−ＮＩ、ＮＩ−ジ−ｎ−プロピルベン
タ”　−１＋　５−ジアミド３．２ｆ（収率７０％）を
得る。
元素分析値（Ｃ２２ＨａＩＩＮｓＯ＋　）Ｃ（銹　　　
Ｈ（４）　　　Ｎ（！！ｉｔ計算値　６５，１６　　８
．７０　　１０．３６実測値　６５．４５　　８．８５
　　　ｉｏ、４２ＨＭＲ（ＣＤＣＩｇ　）δ値； ０．６０〜１．４０（１２Ｈ，ｒｒｚ、　　ＣＨａＸ４
）　、１．４０〜２７０（８Ｈ，ｍ、ンＣＨ２ｘ４）、
２７０〜４．４０（８１（、ｍ。
、：’ＣＨ２Ｘ４）、５．２０（ｉＨ，ｍ、”；ＣＨ）
、６．５２〜６．６５（２Ｈ＋ｍ、フラン３Ｊｉｆ（Ｘ
２）、６．５９（ＩＨ，ｄ、−ＣＨ＝）。
７．５２（ＩＨ，ｄ　、−ＣＩ（−）、７．５７　（Ｉ
ｆｆ、ｓ　、フラン＠Ｈ）、７．６５　（１）１．ｄ　
、＞ＮＨ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）（Ｍ−’　　； νＮＨ３２５０ ν。−０１６２５ 実施例６ の製造 （１）　　β−２−フリルアクリル酸６５２全塩化メチ
レンｘｔｖｃ懸濁させ、−１５〜−１００でトリエチル
アミン１０５２およびクロル炭酸エチル５６１全順次滴
下し、３０分間反応させた後、ＤＬ−グルタミン酸ジエ
チルエステル・塩酸塩１００Ｐ全分割添加する。同温度
で１時間攪拌した後、室温でさらに３時間攪拌する。つ
いで、反応液？希塩酸３００ｍ１、希水酸化ナトリウム
水溶液３００ゴおよび水３００ゴでｊ＠次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒全留去
すれば、融点９３〜９６℃全示すＤＬ−Ｎ−（β〜２−
フリルアクリロイル）グルタミン酸ジメチルエステル１
００Ｆ（収率８１％）全行る。
（２ン　ＤＬ−Ｎ−（β−２−フリルアクリロイル）グ
ルタミン酸ジメチルエステル１００ｆｔ−水４０〇−、
メタノール８０ｒｎ！、および水酸化ナトリウム４５１
の混合液ｌ′ｃ加え、６０〜６５Ｃて４時間加熱し、加
水分解する。反応液を室温まで冷却し、塩酸酸性とした
後、析出晶を濾取すれば、融点１７４．５〜１７５．５
Ｃ金示すＤＬ−Ｎ−（β−２−フリルアクリロイル）グ
ルタミン酸ａ　ｏ　ｙ　（収率９０％）を得る。
（３）　　Ｄ　Ｌ　−Ｎ　−（β−２−フリルアクリロ
イル）グルタミン酸５ｆ′に塩化メチレン３００−に溶
解させ、室温でＮ−ヒドロキシスクシンイミド５．４ｙ
、ｃ：３−メチル−２−ブテニル）アミン・塩酸塩５２
、トリエチルアミン５７およびジシクロへキシルカルボ
ジイミド９．６　ｒ　ｆ順次加えて６時間攪拌する。つ
いで、析出したジシクロヘキシル尿素全戸別し、ろ液を
希塩酸１００−１希水酸化ナトリワム水溶液１ｏｏｙお
よび水１００　ｍｌで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去すれば、融点１
９９〜２０３℃全示すＤＬ−２−（ｉｙ−２−フリルア
クリルアミド）−Ｎ’、Ｎ’−ビス（３−メチル−２−
ブテニル）ペンタン−１，５−ジアミド４ｆ（収率５１
チ）金得る。
ＩＲ（ＫＥ　ｒ　）、、−１； νＮＨ３２９０ ν。−８１６５０〜１６００ 実施例７ ＤＬ ＊ （１）３−アミノプロパツール５０ｆｋ塩化メチレン３
００−に溶解させ、−１０〜−５０でトリエチルアミ／
３３ｆおよび塩化ベンジルオキシカルボニル５７２會順
次滴下する。同温度で１時間攪拌した後、室温でさらに
１時間攪拌する。ついで、反応液を希塩酸１００−およ
び水１００−で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、減圧下に溶媒を留去すれば、融点５５〜５
６℃を示す３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ〕フ
。
ロバノール６０ｔ（収率８６チ）を得る。
（２）３．−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）プロ
パノール２’　１　ｆ　全塩化メチレ／２００−に溶解
させ、トリエチルアミン１１ｆＴｈ加え、−１０〜−５
℃で塩化アセチル８．６　ｆ　’ｔ−滴下し、１時間反
応させる。ついで、室温で反応液を希塩酸５０−１飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液５０−および水５〇−で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下
に溶媒上留去すれば、油状の１−アセドキシー３−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ〕プロパン２８９″ｆ：
得る。
（３）　　１−アセトキシ−３−（ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）プロパ７２８１′にインプロパツール２
００１１！７！に溶解させ、５ｑ６−パラジウム炭素２
．５２および濃塩酸１０ｄ′ｔ−加え、室温で接触還元
を行う。ついで、パラジウム炭素を濾去し、減圧下に溶
媒を留去すれば、油状の１−アセトキシ−３−アミノプ
ロパン・塩酸塩１２ｆｉ得る。
（４）　　Ｄ　Ｌ　−Ｎ　−（β−２−フリルアクリロ
イル）グルタミン１ＲＬ５ｆｋ塩化メチレン２００−に
溶解させ・　１−アセトキと−３−アミツブｌｊ　Ｉ＜
　’／　＋＋塩酸塩２２．Ｎ−ヒドロキシスクシンイミ
ドＬ５’Ｖおよびジシクロへキシルカルボジイミド３．
２ｆｔ加え、室温で６時間反応させる。ついで、実施例
６−（３）と同様に処理すれば、融点１３２〜１３４Ｃ
ｋ示ｆＤＬ　−Ｎ’、Ｎ”−ヒｘ　（３−７セトー？シ
ーｎ−プロピル）−２−（β−２−フリルアクリルアミ
ド）ペンタン−１，５−ジアミド２２（収率３６チ）を
得る。
Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、）＋ｎ−’　； νＮＨ３２８０ ν（＝Ｑ　１７３０．１６３０．１６１０実施例８ ｇＬ ＣＨｓＣｏｏ（ＣＨｚ）ｓ　ＮＨＣＯＣＨ２ＣＨＩＣＨ
ＣＯＮＨ（ＣＨ２）！　ＣＥｌｓ　　の製造（１）ＤＬ
−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグルタミンｆｌ１１０
０ｆ、ｆ＆末状状パラホルムアルデヒド２０？よびパラ
トルエンスルホン酸・１水和ｆｄｌＪ４ｆをトルエフ　
３００　ｍｌに加え、３時間共沸脱水する。
ついで、トルエンを減圧下に留去し、得られた油状物を
酢酸エチル２００ゴに溶解させ、水洗した後、有機層を
分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶
媒を留去子れば、油状のＤＬ−３−＜フリルオキシカル
ボニル−４−（２−カルボキシエチル〕オキサゾリジン
−５−オンを得る。これをトルエン２５０−に加熱溶解
させた後、ｎ−プロピルアミン１２０２ｔ−加え３．５
時間還流する。ついで、減圧下に溶媒上留去し、残留物
を酢酸エチル２５０ｄに溶解させ、希塩酸１００ｍで３
回洗浄した後、有機層を分取し、３％水酸化ナトリウム
水溶液ｒｐＨ１０にｉｌｌ！Ｉした後、水層を分取する
。ついで、これを希塩酸でｐＨ６に調整し、析出晶’ｔ
Ｆ取すれば、融点１３２〜１３５Ｃｔ−示−ｊ−ＤＬ−
Ｎ２−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ’−１１−プロピ
ル−α−グルタミルアミド８７ｆ〔収率７６チ〕を得る
〇 （２）　Ｄ　Ｌ　−Ｎ”−ベンジルオキシカルボニル−
Ｎ１−ｎ−プロピル−α−グルタミルアミド１４２ｔ−
塩化メチレン５００−に溶解させ、−２０〜−１００で
トリエチルアミ７１３．１−およびクロル炭酸エチル４
．９ｆｔ−滴下し、３０分間攪拌した後、実施例７−（
３）で得られ−ｆｃ１−アセトキシー３−アミノプロパ
／・塩酸塩７．５　ｆ　を分割添加する。ついで、同温
度で１時間攪拌した後、室温でさらに】時間攪拌する。
反応液を水５００　ｍｌに投入し、有機層上分取する。
これを希塩酸２０ｏｒｎｌおよび飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２００−で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、減圧下に溶媒全留去す九ば、融点９８〜１
０２Ｃを示すＤＬ−Ｎ’−３−アセトキシプロピル−２
−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−Ｎ’−ｎ−ン
゛ロビルペンタンー１．５−ジアミド１４．６ｆ（収率
８１チ）を得る。
（３）　　Ｄ　Ｌ　−Ｎ’−３〜７セトキシグロピルー
２−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−Ｎ’−ｎ−
フ。
ロビルベンクンー１．５−ジアミド１４．６ｆｉメタノ
ール２００−に溶解させ、５チーパラジウム炭素１．５
２および濃塩酸８ｒｎｌを加え、室温で接触還元を行う
。ついで、パラジウム炭Ｒを濾去し、減圧下に溶媒を留
去すれｄ１油状のＤ　Ｌ　−Ｎ”　３−アセトキシプロ
ピル−２−アミノ−Ｎ’−ｎ−プロピルペンタン−１，
５−ジアミド・ｍ酸ｍ’ｔｉる。これ全塩化メチレン５
ｏ−に溶解させ、実施例８（２）と同様にしてβ−２−
フリルアクリル酸４．３ｙ、）リエチルアミン１０ｒｓ
１．およびクロル炭酸エチル３．７２より別途に形成し
た混合酸無水物の塩化メチレン溶液に−２０〜−１００
で滴下し、同温度で３０分間攪拌する。ついで、室温で
さらに３０分間攪拌し、希塩酸５０＃Ｉ／、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液５０ｄおよび水５０−で順次洗浄し
、無水硫酸′マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶
媒を留去すれば、融点１５４〜１５６０を示すＤＬ−Ｎ
’−３−アセトキシプロピルー２−（β−２−フリルア
クリルアミドつ−Ｎ’−ｎＮグーピルペンタンー１，５
−ジアミド４．．２Ｆ（収率２４％）金得る。
Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）ｉｙ−’　； シＮＮ、３２８０ νに＝Ｑ　１７３０．１６３０．１６１０実施例９ 実施例１〜８で行ったと同様の製造法１〜４の方法で次
の表−４の化合物を得た。
Ｎｆ（Ｃｏ−Ａ−Ｒ１′ なお、表中記号は次のものを示す。
Ｍｅ　　メチル基、Ｅｔ：エチル基、ｎ−ｐｒ：ｎ−プ
ロピＡ４．１−Ｐｒ　：　１ｓｏ−プロピル基、ｎ−Ｂ
ｕ、ｎ−ブチル基、１−Ｂｕ　：　１ｓｏ−ブチル基、
を−１３ｕ　：　ｔａｒｔ−ブチル基、ｎ−Ａｍ：ｎ−
アミル基、ｉ　−Ａｍ　：　１ｓＯ−アミル基、”　−
Ｈｅｘ　：　ｎ　−ヘキシル基、ＡＣニアセチル基、へ
：メチレン基、／：エチレン基、／イ：プロピレン基、
／ゝ（へ、／：　’；’チＬ／ン基、へｚ；アリレン基
、ｐｈ：フェニル基、ｚ：ベンジルオキシカルボニル基 以下余白 製剤例Ｉ ＤＬ−２−（β−２−フリルアクリルアミド）−Ｎｌ、
Ｎ’、ＮＢ、Ｎ’−テトラメチルペンタン−１゜５−ジ
アミドＩＯｆ！、乳糖１４０？、デンプン４５？および
タルク５？を混合し、１０００カプセル、カプセル剤を
製造する。
製剤例２ ＤＬ−２−（β−２−ベンゾフリルアクリルアミド）−
Ｎｌｌ、ＮＢ−ジメチル−懇、Ｎｌ−ジ−ｎ−プロピル
ペンクン−１，５−ジアミド１０デ、コーンスターチ２
５　ｆＦ、　結晶セルロースｉｏｙ、乳糖１００？およ
びステアリン酸マグネシウム１．５１を混合し、１００
０錠、錠剤を製造する。
以上

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一も
    しくは異なつて、水素原子、置換基を有するかもしくは
    有しないアルキル、シクロアルキル、アルケニルまたは
    アルアルキル基またはＲ＾１とＲ＾２および／またはＲ
    ＾３とＲ＾４がそれぞれ隣接する窒素原子と一緒になつ
    て置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を；Ｒ
    ＾５は置換基を有するかもしくは有しないシクロアルキ
    ル、アシルまたは複素環式基を；Ａは結合手を示すかま
    たは置換基を有するかもしくは有しないアルキレン、ア
    ルケニレンまたはアルカジエニレン基を；およびｎは１
    、２または３を示す〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドおよびそ
    の塩。
  2. （２）Ｒ＾１およびＲ＾２が同一もしくは異なつて、水
    素原子またはアルキル基である特許請求の範囲第（１）
    項記載のＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドおよびその塩
    。
  3. （３）Ｒ＾３およびＲ＾４が同一もしくは異なつて、水
    素原子またはアルキル基である特許請求の範囲第（１）
    または（２）項記載のＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミド
    およびその塩。
  4. （４）Ｒ＾３とＲ＾４が隣接する窒素原子と一緒になつ
    て置換基を有するかもしくは有しない複素環式基である
    特許請求の範囲第（１）または（２）項記載のＮ−アシ
    ル酸性アミノ酸ジアミドおよびその塩。
  5. （５）Ｒ＾３とＲ＾４が隣接する窒素原子と一緒になつ
    て置換基を有するかもしくは有しないピロリジニル、ピ
    ペリジニル、ピペラジニルまたはモルホリニル基である
    特許請求の範囲第（４）項記載のＮ−アシル酸性アミノ
    酸ジアミドおよびその塩。
  6. （６）Ａが置換基を有するかもしくは有しないアルケニ
    レン基である特許請求の範囲第（１）〜（５）項いずれ
    か一項記載のＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドおよびそ
    の塩。
  7. （７）Ａがビニレン基である特許請求の範囲第（６）項
    記載のＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドおよびその塩。
  8. （８）Ｒ＾５が置換基を有するかもしくは有しない複素
    環式基である特許請求の範囲第（１）〜（７）項いずれ
    か一項記載のＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドおよびそ
    の塩。
  9. （９）ｎが２である特許請求の範囲第（１）〜（８）項
    いずれか一項記載のＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドお
    よびその塩。
  10. （１０）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一も
    しくは異なつて、水素原子、置換基を有するかもしくは
    有しないアルキル、シクロアルキル、アルケニルまたは
    アルアルキル基またはＲ＾１とＲ＾２および／またはＲ
    ＾３とＲ＾４がそれぞれ隣接する窒素原子と一緒になつ
    て置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を；お
    よびｎは１、２または３を示す〕 で表わされる化合物またはその塩と、一般式、Ｒ＾５−
    Ａ−ＣＯＯＨ 〔式中、Ｒ＾５は置換基を有するかもしくは有しないシ
    クロアルキル、アシルまたは複素環式基を；およびＡは
    結合手を示すかまたは置換基を有するかもしくは有しな
    いアルキレン、アルケニレンまたはアルカジエニレン基
    を示す〕 で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
    反応性誘導体を反応させることを特徴とする一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ａ
    およびｎは前記した意味を有する〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドまたはそ
    の塩の製造法。
  11. （１１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一もしくは異なつて、
    水素原子、置換基を有するかもしくは有しないアルキル
    、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアルキル基ま
    たはＲ＾３とＲ＾４が隣接する窒素原子と一緒になつて
    置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を；Ｒ＾
    ５は置換基を有するかもしくは有しないシクロアルキル
    、アシルまたは複素環式基を；Ａは結合手を示すかまた
    は置換基を有するかもしくは有しないアルキレン、アル
    ケニレンまたはアルカジエニレン基を；およびｎは１、
    ２または３を示す〕で表わされる化合物またはそのカル
    ボキシル基における反応性誘導体と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は同一もしくは異なつて、
    水素原子、置換基を有するかもしくは有しないアルキル
    、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアルキル基ま
    たはＲ＾１とＲ＾２が隣接する窒素原子と一緒になつて
    置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を示す〕 で表わされるアミン類を反応させることを特徴とする一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ａ
    およびｎは前記した意味を有する〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドまたはそ
    の塩の製造法。
  12. （１２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は同一もしくは異なつて、
    水素原子、置換基を有するかもしくは有しないアルキル
    、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアルキル基ま
    たはＲ＾１とＲ＾２が隣接する窒素原子と一緒になつて
    置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を；Ｒ＾
    ５は置換基を有するかもしくは有しないシクロアルキル
    、アシルまたは複素環式基を；Ａは結合手を示すかまた
    は置換基を有するかもしくは有しないアルキレン、アル
    ケニレンまたはアルカジエニレン基を；およびｎは１、
    ２または３を示す〕 で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
    反応性誘導体と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一もしくは異なつて、
    水素原子、置換基を有するかもしくは有しないアルキル
    、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアルキル基ま
    たはＲ＾３とＲ＾４が隣接する窒素原子と一緒になつて
    置換基を有すかもしくは有しない複素環式基を示す〕 で表わされるアミン類を反応させることを特徴とする一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ａ
    およびｎは前記した意味を有する〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドまたはそ
    の塩の製造法。
  13. （１３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾５は置換基を有するかもしくは有しないシ
    クロアルキル、アシルまたは複素環式基を；Ａは結合手
    を示すかまたは置換基を有するかもしくは有しないアル
    キレン、アルケニレンまたはアルカジエニレン基を；お
    よびｎは１、２または３を示す〕 で表わされる化合物またはそのカルボキシル基における
    反応性誘導体と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は同一もしくは異なつて、
    水素原子、置換基を有するかもしくは有しないアルキル
    、シクロアルキル、アルケニルまたはアルアルキル基ま
    たはＲ＾１とＲ＾２が隣接する窒素原子と一緒になつて
    置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を示す〕 で表わされるアミン類を反応させることを特徴とする一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾５、Ａおよびｎは前記し
    た意味を有する〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドまたはそ
    の塩の製造法。
  14. （１４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一も
    しくは異なつて、水素原子、置換基を有するかもしくは
    有しないアルキル、シクロアルキル、アルケニルまたは
    アルアルキル基またはＲ＾１とＲ＾２および／またはＲ
    ＾３とＲ＾４がそれぞれ隣接する窒素原子と一緒になつ
    て置換基を有するかもしくは有しない複素環式基を；Ｒ
    ＾５は置換基を有するかもしくは有しないシクロアルキ
    ル、アシルまたは複素環式基を；Ａは結合手を示すかま
    たは置換基を有するかもしくは有しないアルキレン、ア
    ルケニレンまたはアルカジエニレン基を；およびｎは１
    、２または３を示す〕 で表わされるＮ−アシル酸性アミノ酸ジアミドまたはそ
    の塩を含有する抗潰瘍剤。
JP59120584A 1984-06-12 1984-06-12 Ｎ−アシル酸性アミノ酸ジアミド類およびその製造法並びにそれらを含有する抗潰瘍剤 Granted JPS611651A (ja)

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