KR100578392B1

KR100578392B1 - 노즐 청소장치 및 이 노즐 청소장치를 구비한 기판처리장치

Info

Publication number: KR100578392B1
Application number: KR1020030068555A
Authority: KR
Inventors: 다카기요시노리; 미즈노히로키; 세이노카즈아키
Original assignee: 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
Priority date: 2002-10-07
Filing date: 2003-10-02
Publication date: 2006-05-10
Also published as: CN1497659A; KR20040032055A; TWI234797B; JP2004122067A; CN1252798C; JP3940054B2; TW200414277A

Abstract

불식부재의 소비량을 저감하면서, 처리액 공급노즐을 확실하게 청소하는 것이 가능한 노즐청소장치 및 이 노즐청소장치를 구비한 기판처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

노즐청소장치(18)는 긴 불식부재(52)가 감겨진 언와인드 롤(53)과, 불식부재(52)를 감는 테이크업 롤(54)과, 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)에 접촉시키기 위한 제1 청소기구(57)와, 제1 청소기구(57)의 작용에 의해 처리액 공급노즐(14)의 청소에 사용된 후의 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)에 접촉시키기 위한 제2 청소기구(58)를 구비한 불식부(45)와, 이 불식부(45)를 처리액 공급노즐(14)에서의 토출구의 길이방향으로 왕복 이동시키는 이동기구를 구비한다.

노즐청소장치, 토출구, 처리액 공급노즐, 세정액 공급노즐, 불식부재, 압압부재

Description

노즐 청소장치 및 이 노즐 청소장치를 구비한 기판처리장치{NOZZLE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS HAVING THE SAME}

도1은 본 발명에 관한 노즐청소장치를 적용한 기판처리장치의 개요도,

도2는 처리액 공급노즐(14)에 의한 레지스트의 공급동작을 모식적으로 나타내는 설명도,

도3은 처리액 공급노즐(14)의 하단부의 확대도,

도4는 기판처리장치에 의해 기판(W)에 레지스트를 도포하는 도포동작을 나타내는 설명도,

도5는 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)를 대기포트(36)와 함께 나타내는 측면도,

도6은 불식부(45)의 정면도,

도7은 불식부(45)의 측면도,

도8은 불식부(45)의 평면도,

도9는 회전규제기구(67)를 기어(62)와 함께 나타내는 정면도,

도10은 제1 청소기구(57)의 구성을 나타내는 설명도,

도11은 제1 청소기구(57)의 요부를 나타내는 사시도,

도12는 제2 압압부재(77)와 불식부재(52)와의 관계를 나타내는 설명도,

도13은 제1 청소기구(57)에 의한 처리액 공급노즐(14)의 청소동작을 나타내는 모식도이다.

(부호의 설명)

13 스핀척

14 처리액 공급노즐

18 노즐청소장치

34 토출구

36 대기포트

38 립면

39 측면

41 레일

42 브래킷

43 동기벨트

44 모터

45 불식부

52 불식부재

53 언와인드 롤

54 테이크업 롤

55 세정액 공급노즐

56 세정액 공급노즐

57 제1 청소기구

58 제2 청소기구

61 축

62 기어

63 기어

64 텐션 발생부

65 래크부재

66 에어실린더

67 회전규제기구

71 축

72 커플링

73 모터

74 축

75 케이싱

76 제1 압압부재

77 제2 압압부재

78 오목부

79 안내부

80 지지판

81 볼록부

82 스프링

83 스프링

84 볼록부

85 이동부재

86 스프링

87 고정 안내롤러

88 승강 안내롤러

89 브래킷

90 에어실린더

W 기판

본 발명은 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치 및 이 노즐청소장치를 구비한 기판처리장치에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼와 액정표시패널용 유리기판 혹은 반도체 제조장치용 마스크기판등의 기판에 처리액을 공급하여 처리하는 기판처리장치로서, 슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해 상대적으로 이동하는 것에 의해, 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 사용한 경우에 있어서는 기판의 처리에 따라 처리액 공급노즐에서의 슬릿형상의 토출구 부근에 처리액이 잔존하며, 이것이 오염물질이 되어 처리액 공급노즐의 오염이 발생한다. 처리액으로서 레지스트, 특히 컬러 레지스트라 불리는 안료를 포함하는 레지스트를 사용한 경우에는 이와 같은 오염이 특히 생기기 쉽다. 이 때문에, 처리액 공급노즐을 노즐청소장치에 의해 정기적으로 청소할 필요가 있다.

이와 같은 노즐청소장치는 종래 처리액 공급노즐에 클리닝용의 불식부재를 접촉시켜 이 불식부재에 의해 처리액 공급노즐을 청소하는 구성으로 되어 있다. 그리고, 이와 같은 노즐청소장치에 있어서는 언와인드 롤과 테이크업 롤과의 사이에 감겨지는 긴 불식부재가 사용된다.(예를 들면, 특허문헌 1 일본 특허공개 2001-113213호 공보 참조).

최근, 기판의 사이즈가 크게 되어 있기 때문에, 처리액 공급노즐에서의 슬릿형상의 토출구의 전체 길이도 길게 되는 경향이 있다. 이 때문에, 종래의 노즐청소장치에 있어서는 불식부재의 소비량이 많게 되며, 런닝 코스트가 많아지는 문제가 발생한다.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 행해진 것이며, 불식부재의 소비량을 저감하면서 처리액 공급노즐을 확실하게 청소하는 것이 가능한 노즐청소장치 및 이 노즐청소장치를 구비한 기판처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

청구항 1에 기재의 발명은, 슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하 는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서, 긴 불식부재가 감겨진 언와인드 롤과, 상기 언와인드 롤에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 감는 테이크업 롤과, 상기 테이크업 롤을 회전시키는 회전기구와, 상기 언와인드 롤에서 보낸 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 노즐공급을 청소하는 제1 청소기구와, 상기 제1 청소기구에 의해 상기 처리액 공급노즐을 청소하기 전에, 상기 언와인드 롤에서 보낸 불식부재에서의 상기 제1 청소기구의 작용에 의해 상기 처리액 공급노즐에 접촉한 후의 영역을, 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 공급노즐을 예비청소하는 제2 청소기구를 구비한 것을 특징으로 한다.

청구항 2에 기재의 발명은, 슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서, 긴 불식부재가 감긴 언와인드 롤과, 언와인드 롤에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 감는 테이크업 롤과, 상기 테이크업 롤을 회전시키는 회전기구와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 언와인드 롤과 상기 테이크업 롤과의 사이 위치에 배설(配設)된 제1 청소기구와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 제1 청소기구와 상기 테이크업 롤과의 사이의 위치에 배설된 제2 청소기구를 구비한 불식부와, 상기 불식부를 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 왕복 이동시키는 이동기구를 구비한 것을 특징으로 한 다.

청구항 3에 기재의 발명은, 청구항 2에 기재의 발명에 있어서, 상기 제2 청소기구는 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 동일방향으로 상기 불식부가 이동할 때에는 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키고, 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 역방향으로 상기 불식부가 이동할 때에는 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐로부터 떨어뜨린다(離隔한다).

청구항 4에 기재의 발명은, 청구항 3에 기재의 발명에 있어서, 상기 회전기구는 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 동일방향으로 상기 불식부가 이동할 때에, 상기 테이크업 롤을 회전시킨다.

제 5 항에 기재의 발명은, 청구항 3에 기재의 발명에 있어서, 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 역방향으로 상기 불식부가 이동할 때에 상기 언와인드 롤의 회전을 규제하는 회전규제기구를 구비하고 있다.

청구항 6에 기재의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 하나에 기재의 발명에 있어서, 상기 제1 청소기구는 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐의 립면에 접촉시키는 제1 압압(押壓)부재와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐의 측면에 접촉시키는 제2 압압부재를 구비하고 있다.

청구항 7에 기재의 발명은, 청구항 6에 기재의 발명에 있어서, 상기 제1 청소기구가 상기 제1 압압부재 또는 제2 압압부재를 복수개 구비하고 있다.

청구항 8에 기재의 발명은, 청구항 6에 기재의 발명에 있어서, 상기 제2 압압부재에는 상기 처리액 공급노즐의 측면의 형상에 대응한 오목부가 형성됨과 동시 에, 상기 제2 압압부재를 이동 가능하게 지지하는 지지기구를 더 구비하고 있다.

청구항 9에 기재의 발명은, 청구항 8에 기재의 발명에 있어서, 상기 지지기구는 불식부의 이동방향을 X방향으로 한 경우에, 상기 제2 압압부재를 Y방향과 Z방향으로 이동 가능하게 지지하는 복수의 스프링으로 구성된다.

청구항 10에 기재의 발명은, 청구항 8에 기재의 발명에 있어서, 상기 제2 압압부재는 상기 언와인드 롤에서 언와인드되는 불식부재의 양단을 안내하는 안내부를 가진다.

청구항 11에 기재의 발명은, 청구항 6에 기재의 발명에 있어서, 상기 불식부재에 세정액을 공급하는 세정액 공급기구를 구비하고 있다.

청구항 12에 기재의 발명은, 슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서, 긴 불식부재를 공급하는 공급수단과, 공급수단에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 회수하는 회수수단과, 상기 공급수단에서 공급된 불식부재를, 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 공급노즐을 청소하는 제1 청소기구와, 상기 제1 청소기구에 의해 상기 처리액 공급노즐을 청소하기 전에, 상기 공급수단에서 공급된 불식부재에서의 상기 제1 청소기구의 작용에 의해 상기 처리액 공급노즐에 접촉한 후의 영역을, 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 공급노즐을 예비청소하는 제2 청소기구를 구비한 것을 특징으로 한다.

청구항 13에 기재의 발명은, 슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서, 긴 불식부재를 공급하는 공급수단과, 상기 공급수단에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 회수하는 회수수단과, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 공급수단과 상기 회수수단과의 사이의 위치에 배설된 제1 청소기구와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 제1 청소기구와 상기 회수수단과의 사이의 위치에 배설된 제2 청소기구를 구비한 불식부와, 상기 불식부를 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 왕복 이동시키는 이동기구를 구비한 것을 특징으로 한다.

청구항 14에 기재의 발명은, 기판을 유지하는 기판유지기구와, 슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 상기 유지기구에 의해 유지된 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐과, 청구항 1, 청구항 2, 청구항 12, 청구항 13의중 어느 하나에 기재의 노즐청소장치를 구비한 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 의거하여 설명한다.

먼저, 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)를 적용하는 기판처리장치의 구성에 대해서 설명한다. 도1은 본 발명에 관한 노즐청소장치를 적용한 기판처리장치의 개요도이다.

이 기판처리장치는 직사각형을 이루는 액정패널용의 유리기판(이하「기판」이라 한다)(W)에 컬러 레지스트라 불리는 안료를 포함하는 레지스트를 도포하기 위한 것이며, 기판(W)을 흡착 유지한 상태에서 모터(11)의 구동에 의해 축(12)을 중심으로 회전하는 스핀척(13)과, 스핀척(13)에 유지된 기판(W)에 레지스트를 도포하기 위한 처리액 공급노즐(14)과 이 처리액 공급노즐(14)을 이동시키는 노즐이동기구(15)와, 처리액 공급노즐(14)에 대해서 레지스트를 공급하는 레지스트 공급기구(16)와, 스핀척(13)에 의해 레지스트 도포 후의 기판(W)을 회전시켰을 때에 기판(W)의 가장자리에서 비산(飛散)하는 레지스트를 포획하기 위한 레지스트 포획용 컵(17)과, 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)를 구비한다.

상기 스핀척(13) 및 축(12)은 도시하지 않는 척 승강기구에 의해, 도1에서 실선으로 나타내는 회전위치와 2점쇄선으로 나타내는 도포위치와의 사이에서 승강 가능하게 되어 있다. 여기서, 회전위치는 레지스트 도포 후의 기판(W)이 컵(17)에 수용되어 회전하는 위치이며, 도포위치는 처리액 공급노즐(14)에 의해 기판(W)에 레지스트가 도포되는 위치이다.

상기 노즐이동기구(15)는 수평으로 연장하는 이동 가이드(21)에 따라 왕복 이동하는 이동 프레임(22)을 구비한다. 처리액 공급노즐(14)은 이 이동 프레임(22)에 노즐 지지암(23)을 통해 수평방향으로 이동 자유롭게 지지되어 있다. 또한 상기 노즐이동기구(15)는 상하방향으로는 이동하는 기구를 구비하고 있지 않다. 이 때문에 처리액 공급노즐(14)이 이동 가이드(21)에 따라 이동할 때에, 처리액 공급노즐(14)과 기판(W)과의 거리가 변동하는 것이 방지된다. 따라서, 처리액 공급 노즐(14)을 수평 이동시켜 기판(W)에 레지스트를 도포할 때, 균일한 두께의 도포막을 형성하는 것이 가능하게 된다.

상기 레지스트 공급기구(16)는 밀폐된 구성을 가지는 가압탱크(24)와, 이 가압탱크(24) 내에 수납된 레지스트 탱크(25)를 가진다. 가압탱크(24)는 가압배관(27)에 의해 도시하지 않는 질소가스 혹은 공기의 공급원과 접속되어 있다. 그리고, 이 가압배관(27) 내에는 질소가스의 급배(給排) 전환용의 삼방밸브(28)와, 레귤레이터(29)가 배설되어 있다. 또 레지스트 탱크(25) 내에는 이 레지스트 탱크(25)와 처리액 공급노즐(14)을 접속하는 레지스트 공급배관(31)의 일단이 삽입되어 있다. 이 레지스트 공급배관(31) 중에는 개폐밸브(33)가 배설되어 있다.

이와 같은 구성을 가지는 레지스트 공급기구(15)에 있어서, 개폐밸브(33)가 개방된 상태에 있어서는 레지스트 탱크(25) 내의 레지스트가 가압탱크(24) 내의 질소가스의 압력에 의해 레지스트 공급배관(31)을 통해서 처리액 공급노즐(14)로 압송되고 또 개폐밸브(33)가 폐쇄되는 것에 의해 레지스트의 압송이 정지된다.

도2는 처리액 공급노즐(14)에 의한 레지스트의 공급동작을 모식적으로 나타내는 설명도이다. 이 처리액 공급노즐(14)은 그 길이방향(도2에서 지면에 수직인 방향)으로 연장하는 슬릿형상의 토출구(34)를 가진다. 이 토출구(34)의 길이방향의 길이는 기판(W)에서의 직사각형 형상의 소자 형성부분의 단변의 길이 이상의 길이이지만, 여기서는 상기 직사각형 형상의 소자 형성부분의 단변의 길이와 거의 같게 하고 있다. 레지스트 공급배관(31)에 의해 공급된 레지스트(35)는 도2에 나타내는 바와 같이, 이 슬릿형상의 토출구(34)를 통해서 기판(W)의 표면에 공급된다.

도3은 처리액 공급노즐(14)의 하단부의 확대도이다. 이 도면에 나타내는 바와 같이, 이 처리액 공급노즐(14)은 그곳에 부착하는 레지스트(35)의 량을 최소로 하기 위해 경사진 측면(39)을 구비하고 있다. 이 도면에 있어서, 부호(38)는 토출구(34)를 형성하는 립면이다. 이 립면(38)은 측면(39)의 하단부를 구성한다.

다음에, 상술한 기판처리장치에 의해 기판(W)에 레지스트를 도포하는 도포동작에 대해서 설명한다. 도4는 기판처리장치에 의해 기판(W)에 레지스트를 도포하는 도포동작을 나타내는 설명도이다. 또한 이하의 설명에 있어서, 처리액 공급노즐(14)의 이동은 상술한 노즐이동기구(15)에 의해 실행된다.

레지스트의 도포동작을 실행하기 전의 상태에 있어서는, 처리액 공급노즐(14)은 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)와 대향하는 위치에 배치되어 있다. 이때의 처리액 공급노즐(14) 등의 상태에 대해서는 나중에 상세하게 설명한다.

이 상태에서, 레지스트의 도포동작을 개시할 때에는 노즐청소장치(18) 상방에 처리액 공급노즐(14)을 대기시킨 상태에서, 화살표①로 나타내는 바와 같이 처리액 공급노즐(14)을 노즐청소장치(18)에 관해서 원방(遠方)측의 기판(W)의 일단 상방까지 수평 이동시킨다. 다음에, 척 승강기구에 의해 기판(W)을 도포위치에 배치한다. 이때 기판(W) 표면과 처리액 공급노즐(14)의 토출구(34)와의 간격은 레지스트의 도포에 적합한 소정의 값으로 되어 있다.

이 상태에서, 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)에서 레지스트를 토출시킴과 동시에, 처리액 공급노즐(14)을 화살표②로 나타내는 바와 같이 기판(W)의 표면을 따라 수평 이동시킨다. 이 상태에 있어서는 도2에 나타내는 바와 같이, 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)에서 토출된 레지스트(35)가 기판(W)의 표면에 박막형상으로 도포된다.

처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)가 기판(W)의 타단부와 대향하는 위치까지 이동하면, 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)에서의 레지스트의 토출을 정지시키고, 노즐청소장치(18)의 상방에까지 이동시킨다.

다음에, 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)의 구성에 대해서 설명한다. 도5는 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)를 대기포트(36)와 함께 나타내는 측면도이다.

이 노즐청소장치(18)는 상술한 처리액 공급노즐(14)과 평행하게 배설된 레일(41)을 따라 이동 가능한 브래킷(42)과, 이 브래킷(42)과 연결된 동기 벨트(43)를 왕복 회전시키는 것에 의해 브래킷(42)을 처리액 공급노즐(14)과 평행하게 왕복 이동시키는 모터(44)와, 브래킷(42)의 상방에 배설된 불식부(45)를 구비한다. 이 불식부(45)는 후술하는 바와 같이, 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)를 불식하기 위한 것이다. 이 불식부(45)는 모터(44)의 구동에 의해, 도5에서 실선으로 나타내는 위치와 2점쇄선으로 나타내는 위치와의 사이를 왕복 이동한다.

한편, 대기포트(36)는 레지스트를 도포하지 않는 상태에서, 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34) 부근의 레지스트가 건조하여 변질하는 것을 방지하기 위한 것이다. 이 대기포트(36)의 내부에는 예를 들면 레지스트를 용해하는 용제 등이 저류되어 있다. 이 대기포트(36)는 에어실린더(37)의 구동에 의 해, 도5에서 2점쇄선으로 나타내는 그 상단의 개구부가 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)와 대향하는 상승위치와, 실선으로 나타내는 하강위치와의 사이를 승강 가능한 구성으로 되어 있다. 이 때문에 처리액 공급노즐(14)을 노즐청소장치(18)의 상방에 대기시킨 상태에서 대기포트(36)가 상승위치를 취하면, 처리액 공급노즐(14)의 토출구(34)는 대기포트(36)에 의해 닫혀진 공간에 노출하게 된다. 이때 상기 공간은 용제의 증기가 포함되는 분위기로 충만되어 있으므로, 토출구(34) 부근의 레지스트가 건조되는 것이 방지된다.

다음에 상술한 불식부(45)의 구성에 대해서 설명한다. 도6은 불식부(45)의 정면도이며, 도7은 불식부(45)의 측단면도, 또 도8은 불식부(45)의 평면도이다. 또한 도7 및 도8에 있어서는 설명의 편의상, 불식부재(52)의 도시를 일부 생략하고 있다.

이 불식부(45)는 케이싱(51)과, 긴 불식부재(52)가 감겨진 언와인드 롤(53)과, 언와인드 롤(53)에서 보낸 불식부재(52)를 감는 테이크업 롤(54)과, 불식부재(52)에 세정액을 공급하는 세정액 공급노즐(55, 56)과, 제1, 제2의 청소기구(57, 58)을 구비한다. 또한 불식부재(52)에는 시트형상의 다공성 물질이 사용된다. 이와 같은 다공성 물질으로서는 여과지 등의 종이와 부직포 등의 포목 혹은 수지를 사용할 수 있다.

언와인드 롤(53)의 축(61)에는 기어(62)가 부설되어 있다. 이 기어(62)는 기어(63)를 통해서 로터리 댐퍼 등의 텐션 발생부재(64)와 연결되어 있다. 이 때문에 언와인드 롤(53)은 일정한 저항력을 지닌 상태로 회전한다.

또 도9에 나타내는 바와 같이, 언와인드 롤(53)의 축(61)에 부설된 기어(62)의 하방에는 언와인드 롤(53)의 회전을 규제하기 위한 회전규제기구(67)가 배설되어 있다. 이 회전규제기구(67)는 에어실린더(66)의 실리더 로드에 연결된 래크부재(65)를 구비한다. 이 래크부재(65)는 에어실린터(66)의 구동에 의해, 도9에서 실선으로 나타내는 대기위치와, 도9에서 가상선으로 나타내는 규제위치와의 사이를 승강한다. 래크부재(65)가 규제위치에 배치된 상태에 있어서는, 래크부재(65)가 기어(62)와 맞물려 언와인드 롤(53)의 회전이 규제된다.

재차, 도6 내지 도8을 참조하여, 테이크업 롤(54)의 축(71)은 커플링(72)을 통해서 모터(73)의 축(74)과 연결되어 있다. 이 때문에, 테이크업 롤(54)은 모터(73)의 구동에 의해 회전한다.

언와인드 롤(53)에서 테이크업 롤(54)에 이르는 불식부재(52)의 하방의 위치, 즉 불식부재(52)의 이동경로에서의 언와인드 롤(53)과 테이크업 롤(54)과의 사이에는 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)을 향해 압압(押壓)하는 것에 의해, 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)에 접촉되기 위한 제1 청소기구(57)가 배설되어 있다.

이하, 제1 청소기구(57)의 구성에 대해서 설명한다. 도10은 제1 청소기구(57)의 구성을 나타내는 설명도이며, 도11은 그 요부를 나타내는 사시도이다. 또한 도10(a)는 제1 청소기구(57)의 케이싱(75)을 벗겨내서 본 평면도이며, 도10(b)는 제1 청소기구(57)의 종단면도, 도10(c)는 제1 청소기구(57)의 측면도이다. 또 도11에 있어서는 제1 청소기구(57)의 케이싱(75)을 가상선으로 표현하고 있 다.

이 제1 청소기구(57)는 언와인드 롤(53)에서 보낸 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)에 접촉시켜 처리액 공급노즐(14)을 청소하기 위한 것이며, 케이싱(75)과, 이 케이싱(75) 내에 그 하단부가 수납된 한쌍의 제1 압압부재(76)와, 케이싱(75) 내에 그 하단부가 수납된 제2 압압부재(77)와, 지지판(80)을 구비한다. 상술한 불식부재(52)에 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급노즐(55)(도8 참조)은 이 제1 청소기구(57)의 상방에 배설되어 있다.

상기 제1 압압부재(76)는 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)에 접촉시키기 위해 사용되는 것이다. 이 제1 압압부재(76)는 후술하는 처리액 공급노즐(14)의 청소공정에 있어서, 처리액 공급노즐(14)과의 접촉시의 충격을 완화하기 위해, 그 머리부가 둥근형상으로 깍여진 아르(R)형상으로 되어 있다. 또한 아르형상 대신에, 테이퍼 형상으로 해도 된다.

이 제1 압압부재(76)의 하면과 지지판(80)의 사이에는 제1 압압부재(76)를 불식부재(52) 방향으로 부세(付勢)하는 한쌍의 스프링(82)이 배설되어 있다. 또 제1 압압부재(76)의 하단부에는 제1 압압부재(76)가 케이싱(75)에서 튀어나오는 것을 방지하기 위한 볼록부(81)가 형성되어 있다.

상기 제2 압압부재(77)는 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)에 접촉시키기 위해 사용되는 것이다. 이 제2 압압부재(77)에는 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)의 형상에 대응한 오목부(78)가 형성되어 있다. 또 이 제2 압압부재(77)도 후술하는 처리액 공급노즐(14)의 청소공정에 있어서, 처리액 공급 노즐(14)과의 접촉시의 충격의 완화를 위해 그 머리부가 둥근형상으로 깍여진 아르형상으로 되어 있다.

이 제2 압압부재(77)의 하면과 지지판(80)과의 사이에는 제2 압압부재(77)를 불식부재(52) 방향으로 부세하는 한쌍의 스프링(83)이 배설되어 있다. 또 제2 압압부재(77)의 하단부에는 제2 압압부재가 케이싱(75)에서 튀어나오는 것을 방지하기 위한 볼록부(84)가 형성되어 있다. 또한 케이싱(75)의 내부에는 케이싱(75)에 대해 접동 가능한 한쌍의 이동부재(85)가 배설되어 있으며, 이 이동부재(85)와 제2 압압부재(77)와의 사이에는 한쌍의 스프링(86)이 배설되어 있다.

제2 압압부재(77)는 이들의 스프링(83, 86) 및 이동부재(85)의 작용에 의해, 이동 가능하게 지지되어 있다. 즉, 이 제2 압압부재(77)는 스프링(83, 86) 및 이동부재(85)의 작용에 의해, 후술하는 청소공정에서의 불식부(45)의 이동방향을 도10 및 도11에 나타내는 X방향으로 한 경우에, Y방향 및 Z방향으로 이동 가능하게 지지되어 있다. 이것에 의해, 제1 청소기구(57)와 처리액 공급노즐(14)과의 위치 정밀도에 오차가 있는 경우라도, 제2 압압부재(77)에 형성된 오목부(78)와 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)을 확실하게 접촉시키는 것이 가능하게 된다.

제2 압압부재(77)의 상단부에는 한쌍의 안내부(79)가 형성되어 있다. 이 한쌍의 안내부(79)는 언와인드 롤(53)에서 언와인드되는 불식부재(52)의 양단을 안내하기 위한 것이다. 즉, 도12(a)에 나타내는 바와 같이, 이들 한쌍의 안내부(79)는 불식부재(52)의 폭과 거의 동일한 거리만큼 서로 떨어져 배치되어 있으며, 불식부재(52)의 양단과 접촉하는 구성을 가진다. 이 때문에, 이들의 안내부의 작용에 의 해, 불식부재(52)가 제2 압압부재(77)의 상부의 위치에서 이탈하는 것을 유효하게 방지하는 것이 가능하게 된다.

또한 후술하는 청소공정에 있어서, 처리액 공급노즐(14)과 제2 압압부재(77)가 불식부재(52)를 통해서 접촉한 상태에 있어서는, 도12(b)에 나타내는 바와 같이, 불식부재(52)는 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)에 의해 압압되고, 제2 압압부재(77)에서의 오목부(78) 내에 진입한다.

재차, 도6 내지 도8을 참조하여, 불식부재(52)의 이동경로에서의 제1 청소기구(57)와 테이크업 롤(54)과의 사이의 위치에는 일단 처리액 공급노즐(14)과 접촉한 후의 불식부재(52)를 재차 처리액 공급노즐(14)을 향해 압압하는 것에 의해, 이 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)에 접촉시키기 위한 제2 청소기구(58)가 배설되어 있다.

이 제2 청소기구(58)는 불식부재(52)를 안내하기 위한 고정 안내롤러(87) 및 승강 안내롤러(88)를 구비한다. 고정 안내롤러(87)는 케이싱(51)에 대해서 회전 가능하게 지지되어 있다. 한편, 승강 안내롤러(88)는 에어실린더(90)의 구동에 의해 승강하는 거의 L자형상의 브래킷(89)의 선단에 회전 가능하게 지지되어 있다. 이 때문에, 승강 안내롤러(88)는 에어실린더(90)의 구동에 의해 도6에서 실선으로 나타내는 청소위치와, 가상선으로 나타내는 퇴피위치와의 사이를 승강한다. 여기서, 이 청소위치는 승강 안내롤러(88)가 불식부재(52)를 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)에 접촉시켜 그곳을 불식부재(52)에 의해 청소하는 위치이다. 또한 상술한 불식부재(52)에 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급노즐(56)은 이 승강 안내롤러(88)의 측방에 배설되어 있다.

또한 상술한 불식부(45)에 있어서는, 제1, 제2 청소기구(57, 58) 등을 언와인드 롤(53)과 테이크업 롤(54) 등과 함께 탈착 가능한 카셋트 기구가 채용되어 있다.

다음에, 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)에 의한 처리액 공급노즐(14)의 청소동작에 대해서 설명한다.

이 노즐청소장치를 사용하여 처리액 공급노즐(14)의 청소동작을 실행할 때에는, 처리액 공급노즐(14)이 청소기구(18)의 상방에 위치한 상태에서, 대기포트(36)가 도5에서 2점쇄선으로 나타내는 상승위치에서 실선으로 나타내는 하강위치까지 하강한다. 또 불식부(45)는 도5에서 가상선으로 나타내는 주행 스트로크 오른쪽 끝 위치에 정지하고 있다. 이 위치는 불식부재(45)가 언와인드 롤(53) 측의 단부에 배치되는 위치이다.

그런 후, 모터(44)의 구동에 의해, 불식부(45)가 브래킷(42)과 함께, 도5에 나타내는 왼쪽방향으로 이동을 개시한다. 이 방향은 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)와 평행한 방향이며, 또 테이크업 롤(54)에 의한 불식부재(52)의 감는 방향과 동일방향이다. 또 불식부재(52)의 왼쪽방향으로의 이동시에는 제2 청소기구(58)의 승강 안내롤러(88)는 도6에서 실선으로 나타내는 청소위치에 배치되어 있다.

이 상태에서 불식부(45)가 이동을 계속하면, 처음에 제2 청소기구(58)에서의 승강 안내롤러(88)의 작용에 의해, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)과 불식부재(52)가 접촉하고, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)이 불식부재(52)에 의해 예비청소된다. 이 예비청소공정에 있어서는, 필요에 따라 세정액 공급노즐(56)에서 불식부재(52)에 세정액이 공급된다.

이때 이 예비청소에 사용되는 불식부재(52)는 후술하는 바와 같이, 이 이전의 청소공정에 있어서, 제1 청소기구(57)에 의해 처리액 공급노즐(14)의 립면(38) 및 측면(39)의 청소에 이미 사용되고 있는 부분이다. 따라서, 이 예비청소에 사용되는 불식부재(52)는 어느 정도 레지스트에 의해 오염되어 있지만, 나중에 제1 청소기구(57)에 의한 청소가 실행되기 때문에, 예비청소공정에서는 이 정도의 오염은 문제가 되지 않는다.

그런후, 불식부(45)가 더 이동을 계속하면, 제1 청소기구(57)의 작용에 의해, 처리액 공급노즐(14)과 불식부재(52)가 접촉하고, 처리액 공급노즐(14)이 불식부재(52)에 의해 본(本) 청소된다.

이 제1 청소기구(57)에 의한 청소동작에 대해서, 도13을 참조하여 상세하게 설명한다. 도13은 제1 청소기구(57)에 의한 처리액 공급노즐(14)의 청소동작을 나타내는 모식도이다.

불식부(45)의 이동에 따라, 처리액 공급노즐(14)과 제1 청소기구(57)와의 배치관계가 도13(a)에 나타내는 상태에서 도13(b)에 나타내는 상태로 되면, 처음에 테이크업 롤(54) 측의 제1 압압부재(76)의 작용에 의해, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)과 불식부재(52)가 접촉하고, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)이 불식부재(52)에 의해 청소된다. 이 상태에서는, 테이크업 롤(54) 측의 제1 압압부 재(76)는 처리액 공급노즐(14)에 압압되어 하강한다. 또한 상술한 바와 같이, 제1 압압부재(76)의 머리부는 둥근형상으로 깍여진 아르형상으로 되어 있기 때문에, 제1 압압부재(76)와 처리액 공급노즐(14)과의 접촉시의 충격을 완화하는 것이 가능하게 된다.

이 상태에서 불식부(45)가 더 이동하여 처리액 공급노즐(14)과 제1 청소기구(57)와의 배치관계가 도13(c)에 나타내는 상태로 되면, 제2 압압부재(77)의 작용에 의해, 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)과 불식부재(52)가 접촉하고, 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)이 불식부재(52)에 의해 청소된다. 이 상태에서는, 제2 압압부재(77)는 처리액 공급노즐(14)에 압압되어 하강한다. 또한 상술한 바와 같이, 제2 압압부재(77)의 머리부도 둥근형상으로 깍여진 아르형상으로 되어 있기 때문에, 제2 압압부재(77)와 처리액 공급노즐(14)과의 접촉시의 충격을 완화하는 것이 가능하게 된다.

이때, 상술한 바와 같이, 제2 압압부재(77)는 Y방향 및 Z방향으로 이동 가능하게 지지되어 있기 때문에, 제1 청소기구(57)와 처리액 공급노즐(14)과의 위치 정밀도에 오차가 있는 경우라도, 제2 압압부재(77)에 형성된 오목부(78)와 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)을 확실하게 접촉시키는 것이 가능하게 된다. 이때문에, 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)과 불식부재(52)를 확실하게 접촉시킬 수 있으며, 처리액 공급노즐(14)의 측면(39)을 불식부재(52)에 의해 확실하게 청소하는 것이 가능하게 된다.

불식부(45)가 더 이동하여 처리액 공급노즐(14)과 제1 청소기구(57)와의 배 치관계가 도13(d)에 나타내는 상태로 되면, 언와인드 롤(53) 측의 제1 압압부재(76)의 작용에 의해, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)과 불식부재(52)가 재차 접촉하여 처리액 공급노즐(14)의 립면(38)이 불식부재(52)에 의해 재차 청소된다. 이 상태에서는, 테이크업 롤(54) 측의 제1 압압부재(76)는 처리액 공급노즐(14)에 압압되어 하강한다. 또한 이 제1 압압부재(76)의 머리부도 둥근형상으로 깍여진 아르형상으로 되어 있기 때문에, 제1 압압부재(76)와 처리액 공급노즐(14)과의 접촉시의 충격을 완화하는 것이 가능하게 된다.

상술한 제1 청소기구(57)에 의한 처리액 공급노즐(14)의 청소시에 있어서는 필요에 따라, 세정액 공급노즐(55)에서 불식부재(52)에 세정액이 공급된다. 또 제1 청소기구(57)에 의한 처리액 공급노즐(14)의 청소시에 있어서는 모터(73)의 구동에 의해 테이크업 롤(54)이 저속으로 회전한다. 이때문에, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38) 및 측면(39)을 새로운 불식부재(52)에 의해 깨끗하게 청소하는 것이 가능하게 된다. 그리고, 제1 청소기구(57)에 의해 청소에 사용된 후의 불식부재(52)는 상술한 바와 같이, 제2 청소기구(58)에 의한 예비청소에 재이용된다.

또한 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)의 길이방향의 길이가 비교적 짧은 경우에 있어서는 테이크업 롤(54)을 회전시키지 않고, 처리액 공급노즐(14)의 립면(38) 및 측면(39)을 청소하도록 해도 된다.

이상의 동작에 의해, 불식부(45)가 도5에서 가상선으로 나타내는 주행 스트로크 오른쪽끝의 위치에서 도5에서 실선으로 나타내는 주행 스트로크 왼쪽끝의 위치까지 이동하면 모터(44)의 구동에 의해 불식부(45)가 브래킷(42)과 함께, 도5에 나타내는 오른쪽 방향으로 이동한다. 이 방향은 처리액 공급노즐(14)에서의 슬릿형상의 토출구(34)와 평행한 방향이며, 또 테이크업 롤(54)에 의한 불식부재(52)의 감는 방향과 역방향이다.

이 불식부재(52)의 왼쪽방향으로의 이동시에는 제1 청소기구(57)의 작용에 의해 처리액 공급노즐(14)의 립면(38) 및 측면(39)이 불식부재(52)에 의해 재차 청소된다. 단, 이 불식부재(52)의 왼쪽방향으로의 이동시에 있어서는 제2 청소기구(58)의 승강 안내롤러(88)는 도6에서 가상선으로 나타내는 퇴피위치에 배치되어 있다. 이때문에, 청소후의 처리액 공급노즐(14)의 립면(38) 및 측면(39)이 예비청소에 사용된 불식부재(52)와 접촉하여 오염되는 일은 없다.

또 이 불식부재(52)의 왼쪽방향으로의 이동시에 있어서는 도9에 나타내는 회전규제기구(67)의 래크부재(65)가 규제위치에 배치되어 언와인드 롤(53)의 회전이 규제된다. 이때문에 불식부재(52)의 왼쪽방향으로의 이동시에, 불식부재(52)와 처리액 공급노즐(14)과의 사이의 마찰력에 의해 불식부재(52)가 인장된 경우에 있어서도 언와인드 롤(53)이 역전하는 일은 없다.

그런 후, 불식부(45)가 도5에서 가상선으로 나타내는 주행 스트로크 오른쪽끝의 위치까지 이동하면, 처리액 공급노즐(14)의 청소동작이 완료한다. 단, 불식부(45)를 복수회 왕복시켜 처리액 공급노즐(14)을 청소하도록 해도 된다.

또한 상술한 실시형태에 있어서는, 본 발명에 관한 노즐청소장치(18)를, 처리액 공급노즐(14)에 의해 기판(W)에 레지스트를 도포한 후, 이 기판(W)을 스핀척(13)에 의해 회전시킨 구성의 기판처리장치에 적용한 경우에 대해서 설명했 으나, 본 발명에 관한 노즐청소장치를, 처리액 공급노즐(14)에 의해 기판(W)에 처리액을 공급한 후, 기판(W)을 회전시키지 않는 타입의 기판처리장치에 적용해도 된다.

또 상술한 실시형태에 있어서는, 제1 청소기구(57)에 제1 압압부재(76)를 복수개 배설한 경우에 대해서 설명했으나, 제1 청소기구(57)에 제2 압압부재(77)를 복수개 배설하도록 해도 된다.

청구항 1, 청구항 2, 청구항 12, 청구항 13 및 청구항 14에 기재의 발명에 의하면, 불식부재에서의 제1 청소기구에 의해 처리액 공급노즐의 청소에 사용한 영역을 제2 청소기구에 의해 처리액 공급노즐의 예비청소에 사용할 수 있기 때문에, 불식부재의 소비량을 저감하면서 처리액 공급노즐을 확실하게 청소하는 것이 가능하게 된다.

청구항 3에 기재의 발명에 의하면, 제2 청소기구가 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 동일방향으로 불식부가 이동할 때에만 불식부재를 처리액 공급노즐에 접촉시키기 때문에, 예비청소에 사용된 불식부재가 처리액 공급노즐에 재차 접촉하여 처리액 공급노즐이 오염되는 것을 방지할 수 있다.

청구항 4에 기재의 발명에 의하면, 회전기구가 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 동일방향으로 불식부가 이동할 때에 테이크업 롤을 회전시키기 때문에, 처리액 공급노즐을 새로운 불식부재에 의해 깨끗하게 청소하는 것이 가능하게 된다.

청구항 5에 기재의 발명에 의하면, 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 역방향으로 불식부가 이동할 때에 언와인드 롤의 회전을 규제하는 회전규제기구를 구비하기 때문에, 불식부재의 이동시에 불식부재와 처리액 공급노즐과의 사이의 마찰력에 의해 언와인드 롤이 역전하는 것을 확실하게 방지하는 것이 가능하게 된다.

청구항 6에 기재의 발명에 의하면, 제1 청소기구가 불식부재를 처리액 공급노즐의 립면에 접촉시키는 제1 압압부재와 불식부재를 처리액 공급노즐의 측면에 접촉시키는 제2 압압부재를 구비하기 때문에, 처리액 공급노즐의 립면과 측면을 확실하게 청소하는 것이 가능하게 된다.

청구항 7에 기재의 발명에 의하면, 제1 청소기구가 제1 압압부재 또는 제2 압압부재를 복수개 구비하기 때문에, 처리액 공급노즐의 립면 또는 측면을 보다 확실하게 청소하는 것이 가능하게 된다.

청구항 8에 기재의 발명에 의하면, 제2 압압부재에는 처리액 공급노즐의 측면의 형상에 대응한 오목부가 형성됨과 동시에, 상기 제2 압압부재를 이동 가능하게 지지하는 지지기구를 더 구비하기 때문에, 제1 청소기구와 처리액 공급노즐과의 위치 정밀도에 오차가 있는 경우라도 제2 압압부재에 형성된 오목부와 처리액 공급노즐의 측면을 확실하게 접촉시키는 것이 가능하게 된다.

청구항 9에 기재의 발명에 의하면, 지지기구는 불식부의 이동방향을 X방향으로 한 경우에, 제2 압압부재를 Y방향과 Z방향으로 이동 가능하게 지지하는 복수의 스프링으로 구성되기 때문에, 제1 청소기구와 처리액 공급노즐과의 위치 정밀도에 오차가 있는 경우라도, 제2 압압부재에 형성된 오목부와 처리액 공급노즐의 측면을 보다 확실하게 접촉시키는 것이 가능하게 된다.

청구항 10에 기재의 발명에 의하면, 제2 압압부재가 언와인드 롤에서 언와인드되는 불식부재의 양단을 안내하는 안내부를 가지기 때문에, 불식부재가 제2 압압부의 상부의 위치에서 이탈하는 것을 유효하게 방지하는 것이 가능하게 된다.

청구항 11에 기재의 발명에 의하면, 불식부재에 세정액을 공급하는 세정액 공급기구를 구비하기 때문에, 세정액을 이용하여 처리액 공급노즐을 보다 확실하게 청소하는 것이 가능하게 된다.

Claims

슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서,

긴 불식부재가 감겨진 언와인드 롤과,

언와인드 롤에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 감는 테이크업 롤과,

상기 테이크업 롤을 회전시키는 회전기구와,

상기 언와인드 롤에서 보낸 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 노즐공급을 청소하는 제1 청소기구와,

상기 제1 청소기구에 의해 상기 처리액 공급노즐을 청소하기 전에, 상기 언와인드 롤에서 보낸 불식부재에서의 상기 제1 청소기구의 작용에 의해 상기 처리액 공급노즐에 접촉한 후의 영역을, 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 공급노즐을 예비청소하는 제2 청소기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐청소장치.
슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서,

긴 불식부재가 감긴 언와인드 롤과, 상기 언와인드 롤에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 감는 테이크업 롤과, 상기 테이크업 롤을 회전시키는 회전기구와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 언와인드 롤과 상기 테이크업 롤과의 사이의 위치에 배설된 제1 청소기구와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 제1 청소기구와 상기 테이크업 롤과의 사이의 위치에 배설된 제2 청소기구를 구비한 불식부와,

상기 불식부를 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 왕복 이동시키는 이동기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐청소장치.
제 2 항에 있어서,

상기 제2 청소기구는 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 동일방향으로 상기 불식부가 이동할 때에는 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키고, 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 역방향으로 상기 불식부가 이동할 때에는 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐로부터 떨어뜨리는 노즐청소장치.
제 3 항에 있어서,

상기 회전기구는 상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 동일방향으로 상기 불식부가 이동할 때에, 상기 테이크업 롤을 회전시키는 노즐청소장치.
제 3 항에 있어서,

상기 테이크업 롤에 의한 불식부재의 감는 방향과 역방향으로 상기 불식부가 이동할 때에 상기 언와인드 롤의 회전을 규제하는 회전규제기구를 구비한 노즐청소장치.
제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한항에 있어서,

상기 제1 청소기구는 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐의 립면에 접촉시키는 제1 압압(押壓)부재와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐의 측면에 접촉시키는 제2 압압부재를 구비하는 노즐청소장치.
제 6 항에 있어서,

상기 제1 청소기구가 상기 제1 압압부재 또는 제2 압압부재를 복수개 구비한 노즐청소장치.
제 6 항에 있어서,

상기 제2 압압부재에는 상기 처리액 공급노즐의 측면의 형상에 대응한 오목부가 형성됨과 동시에,

상기 제2 압압부재를 이동 가능하게 지지하는 지지기구를 더 구비한 노즐청소장치.
제 8 항에 있어서,

상기 지지기구는 불식부의 이동방향을 X방향으로 한 경우에, 상기 제2 압압부재를 Y방향과 Z방향으로 이동 가능하게 지지하는 복수의 스프링으로 구성되는 노즐청소장치.
제 8 항에 있어서,

상기 제2 압압부재는 상기 언와인드 롤에서 언와인드되는 불식부재의 양단을 안내하는 안내부를 가지는 노즐청소장치.
제 6 항에 있어서,

상기 불식부재에 세정액을 공급하는 세정액 공급기구를 구비하는 노즐청소장치.
슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서,

긴 불식부재를 공급하는 공급수단과,

공급수단에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 회수하는 회수수단과,

상기 공급수단에서 공급된 불식부재를, 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 공급노즐을 청소하는 제1 청소기구와,

상기 제1 청소기구에 의해 상기 처리액 공급노즐을 청소하기 전에, 상기 공급수단에서 공급된 불식부재에서의 상기 제1 청소기구의 작용에 의해 상기 처리액 공급노즐에 접촉한 후의 영역을, 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키는 것에 의해, 상기 처리액 공급노즐을 예비청소하는 제2 청소기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐청소장치.
슬릿형상의 토출구에서 처리액을 토출하면서 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 청소하기 위한 노즐청소장치로서,

긴 불식부재를 공급하는 공급수단과, 상기 공급수단에서 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 보낸 불식부재를 회수하는 회수수단과, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 공급수단과 상기 회수수단과의 사이의 위치에 배설된 제1 청소기구와, 상기 불식부재를 상기 처리액 공급노즐에 접촉시키기 위한 상기 불식부재의 이동경로에서의 상기 제1 청소기구와 상기 회수수단과의 사이의 위치에 배설된 제2 청소기구를 구비한 불식부와,

상기 불식부를 상기 처리액 공급노즐에서의 토출구의 길이방향으로 왕복 이동시키는 이동기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐청소장치.
청구항1, 청구항 2, 청구항 12 및 청구항 13 중 어느 한 항에 기재된 노즐청소장치를 구비하는 기판처리장치로서,

기판을 유지하는 기판 유지기구와,

슬릿형상의 토출구로부터 처리액을 토출하면서 상기 유지기구에 의해 유지된 기판에 대해서 상대적으로 이동하는 것에 의해, 상기 기판의 표면에 처리액을 공급하는 처리액 공급노즐을 더 구비한 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.