JP3936904B2 - ノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に処理液を供給して処理する基板処理装置として、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを使用した場合においては、基板の処理に伴って処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に処理液が残存し、これが汚染物質となって処理液供給ノズルの汚染が発生する。処理液としてレジスト、特に、カラーレジスト等と呼称される顔料を含むレジストを使用した場合には、このような汚染が特に生じやすい。このため、処理液供給ノズルをノズル清掃装置により定期的に清掃する必要がある。
【０００３】
このようなノズル清掃装置は、従来、処理液供給ノズルにクリーニング用の払拭部材を当接させ、この払拭部材により処理液供給ノズルを清掃する構成となっている。また、このようなノズル清掃装置において、送りロールと巻き取りロールとの間に巻回される長尺の払拭部材を使用しているものもある（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１７７８４８号公報
【０００５】
【特許文献２】
特開２００２−１９２０４８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のノズル清掃装置においては、処理液供給ノズルに付着した処理液を完全に除去することが困難であるという問題がある。処理液供給ノズルに処理液による汚染物質が残存した場合には、次の処理液塗布工程において処理液を適正に塗布することが困難となる。
【０００７】
また、近年、基板のサイズが大きくなっていることから、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の全長も長くなる傾向にある。このため、長尺の払拭部材を巻き取って使用する形式のノズル清掃装置においては、払拭部材の消費量が多くなり、ランニングコストがかさむという問題が生ずる。
【０００８】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能なノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、柔軟性を有する多孔質材料より構成される払拭部材と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接させた状態で、前記吐出口の長手方向に移動させる移動機構と、前記払拭部材と同期して前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の長手方向に走行し、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルとを備え、前記洗浄液吐出ノズルは、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口に前記払拭部 材が当接する前、または、後に洗浄液を供給することを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えている。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記洗浄液供給機構は、前記払拭部材に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを含んでいる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記洗浄液供給機構は洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽を含み、前記払拭部材の下端部が前記洗浄液貯留槽に貯留された洗浄液中に浸漬されている。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記払拭部材は、その円周部において前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接する円筒状の外形を有している。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記円筒状の外形を有する払拭部材を、その軸芯を中心として回転させる回転機構を備えている。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより、前記払拭部材の表面を清掃する清掃プレートを有している。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより、前記払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えている。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に移動させる移動機構を備えている。
【００１８】
請求項１０に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に押圧することにより、前記払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えている。
【００１９】
請求項１１に記載の発明は、基板を保持する基板保持機構と、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら前記保持機構により保持された基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載のノズル清掃装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２１】
先ず、この発明に係るノズル清掃装置１８を適用する基板処理装置の構成について説明する。図１はこの発明に係るノズル清掃装置１８を適用した基板処理装置の概要図である。
【００２２】
この基板処理装置は、矩形状をなす液晶パネル用のガラス基板（以下「基板」という）Ｗにカラーレジストと呼称される顔料を含むレジストを塗布するためのものであり、基板Ｗを吸着保持した状態でモータ１１の駆動により軸１２を中心に回転するスピンチャック１３と、スピンチャック１３に保持された基板Ｗにレジストを塗布するための処理液供給ノズル１４と、この処理液供給ノズル１４を移動させるノズル移動機構１５と、処理液供給ノズル１４に対してレジストを供給するレジスト供給機構１６と、スピンチャック１３によりレジスト塗布後の基板Ｗを回転させたときに基板Ｗの端縁より飛散するレジストを捕獲するためのレジスト捕獲用カップ１７と、この発明に係るノズル清掃装置１８とを備える。
【００２３】
上記スピンチャック１３および軸１２は、図示しないチャック昇降機構により、図１において実線で示す回転位置と二点鎖線で示す塗布位置との間で昇降可能となっている。ここで、回転位置はレジスト塗布後の基板Ｗがカップ１７に収容されて回転する位置であり、塗布位置は処理液供給ノズル１４により基板Ｗにレジストが塗布される位置である。
【００２４】
上記ノズル移動機構１５は、水平に延びる移動ガイド２１に沿って往復移動する移動フレーム２２を備える。処理液供給ノズル１４は、この移動フレーム２２にノズル支持アーム２３を介して水平方向に移動自在に支持されている。なお、上記ノズル移動機構１５は上下方向には移動する機構を備えていない。このため、処理液供給ノズル１４が移動ガイド２１に沿って移動するときに、処理液供給ノズル１４と基板Ｗとの距離が変動することが防止される。従って、処理液供給ノズル１４を水平移動させて基板Ｗにレジストを塗布する際、均一な厚さの塗布膜を形成することが可能となる。
【００２５】
上記レジスト供給機構１６は、密閉された構成を有する加圧タンク２４と、この加圧タンク２４内に収納されたレジストタンク２５とを有する。加圧タンク２４は、加圧配管２７により図示しない窒素ガスあるいはエアーの供給源と接続されている。そして、この加圧配管２７内には、窒素ガスの給排切り替え用の三方弁２８と、レギュレータ２９とが配設されている。また、レジストタンク２５内には、このレジストタンク２５と処理液供給ノズル１４とを接続するレジスト供給配管３１の一端が挿入されている。このレジスト供給配管３１中には、開閉弁３３が配設されている。
【００２６】
このような構成を有するレジスト供給機構１５において、開閉弁３３が開放された状態においては、レジストタンク２５内のレジストが加圧タンク２４内の窒素ガスの圧力によりレジスト供給配管３１を介して処理液供給ノズル１４に圧送され、また、開閉弁３３が閉鎖されることによりレジストの圧送が停止される。
【００２７】
図２は、処理液供給ノズル１４によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。この処理液供給ノズル１４は、その長手方向（図２において紙面に垂直な方向）に延びるスリット状の吐出口３４を有する。この吐出口３４の長手方向の長さは、基板Ｗにおける矩形状の素子形成部分の短辺の長さ以上の長さであるが、ここでは、前記矩形状の素子形成部分の短辺の長さとほぼ等しくしてある。レジスト供給配管３１により供給されたレジスト３５は、図２に示すように、このスリット状の吐出口３４を介して基板Ｗの表面に供給される。
【００２８】
図３は、処理液供給ノズル１４の下端部の拡大図である。この図に示すように、この処理液供給ノズル１４は、そこに付着するレジスト３５の量を最小とするために、傾斜した側面３９を備える。この図において、符号３８は吐出口３４を形成するリップ面である。このリップ面３８は、側面３９の下端部を構成する。
【００２９】
次に、上述した基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作について説明する。図４は、基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作を示す説明図である。なお、以下の説明において、処理液供給ノズル１４の移動は上述したノズル移動機構１５により実行される。
【００３０】
レジストの塗布動作を実行する前の状態においては、処理液供給ノズル１４は、この発明に係るノズル清掃装置１８と対向する位置に配置されている。このときの処理液供給ノズル１４等の状態については、後程詳細に説明する。
【００３１】
この状態において、レジストの塗布動作を開始するときには、ノズル清掃装置１８上方に処理液供給ノズル１４を待機させた状態から、矢印１．に示すように処理液供給ノズル１４をノズル清掃装置１８に関して遠方側の基板Ｗの一端上方まで水平移動させる。次に、チャック昇降機構によって基板Ｗを塗布位置に配置する。このとき基板Ｗ表面と処理液供給ノズル１４の吐出口３４との間隔は、レジストの塗布に適した所定の値となっている。
【００３２】
この状態において、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４からレジストを吐出させるとともに、処理液供給ノズル１４を矢印２．に示すように基板Ｗの表面に沿って水平移動させる。この状態においては、図２に示すように、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４から吐出されたレジスト３５が基板Ｗの表面に薄膜状に塗布される。
【００３３】
処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４が基板Ｗの他端部と対向する位置まで移動すれば、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４からのレジストの吐出を停止させ、ノズル清掃装置１８の上方にまで移動させる。
【００３４】
次に、この発明に係るノズル清掃装置１８の構成について説明する。図５は、この発明に係るノズル清掃装置１８を待機ポット３６とともに示す側面図である。
【００３５】
このノズル清掃装置１８は、上述した処理液供給ノズル１４と平行に配設されたレール４１に沿って移動可能なブラケット４２と、このブラケット４２と連結された同期ベルト４３を往復回転させることによりブラケット４２を処理液供給ノズル１４と平行に往復移動させるモータ４４と、ブラケット４２の上方に配設された払拭部４５とを備える。この払拭部４５は、後述するように、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４を払拭するためのものである。この払拭部４５は、モータ４４の駆動により、図５において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動する。
【００３６】
一方、待機ポット３６は、レジストを塗布しない状態において、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近のレジストが乾燥して変質することを防止するためのものである。この待機ポット３６の内部には、例えば、レジストを溶解する溶剤等が貯留されている。この待機ポット３６は、エアシリンダ３７の駆動により、図５において二点鎖線で示すその上端の開口部が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と対向する上昇位置と、実線で示す下降位置との間を昇降可能な構成となっている。このため、処理液供給ノズル１４をノズル清掃装置１８の上方に待機させた状態で待機ポット３６が上昇位置をとると、処理液供給ノズル１４の吐出口３４は待機ポット３６によって閉じられた空間に露出することになる。このとき、該空間は溶剤の蒸気が含まれる雰囲気で満たされているので、吐出口３４付近のレジストが乾燥することが防止される。
【００３７】
次に、上述した払拭部４５の構成について説明する。図６はこの発明の第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図であり、図７はその正面図である。
【００３８】
この払拭部４５は、洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽５１と、この洗浄液貯留槽５１内において支軸５５に支持された払拭部材５２と、この払拭部材５２に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル５７と、払拭部材５２に当接する清掃プレート５３および絞りローラ５４と、支軸５５を回転させるモータ５６とを備える。
【００３９】
洗浄液貯留槽５１は、図５に示すレール４１に沿って移動可能なブラケット４２と連結されている。この洗浄液貯留槽５１には、オーバフロー管６１と、排液排出管６２とが配設されている。この洗浄液貯留槽５１は、洗浄液供給ノズル５７から吐出された洗浄液を貯留する構成となっている。
【００４０】
払拭部材５２は、柔軟性を有する多孔質材料より構成される。この払拭部材５２の材質としては、例えば、スポンジゴムを使用することができる。この払拭部材５２は、その円周部において処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と当接する円筒状の外形を有する。この払拭部材５２の下端部は、洗浄液貯留槽５１に貯留された洗浄液中に浸漬されている。また、この払拭部材５２を支持する支軸は、モータ５６の回転軸６３と接続されており、払拭部材５２は、モータ５６の駆動によりその軸芯を中心として回転する。
【００４１】
清掃プレート５３は、モータ５６の駆動により回転する払拭部材５２の表面に当接することにより、払拭部材５２の表面に付着するレジスト等を除去して払拭部材５２を清掃するためのものである。この清掃プレート５３の基端部は、洗浄液貯留槽５１に固定されている。また、絞りローラ５４は、モータ５６の駆動により回転する払拭部材５２の表面に当接することにより、払拭部材５２に浸透した過剰な洗浄液を絞るためのものである。この絞りローラ５４は、ばね６４を介して洗浄液貯留槽５１に連結されている。
【００４２】
以上のような構成を有するノズル清掃装置１８により処理液供給ノズル１４を清掃する際には、モータ５６の駆動により払拭部材５２をその軸芯を中心として低速で回転させる。また、洗浄液供給ノズル５７から払拭部材５２に向けて洗浄液を供給する。この状態において、図５に示すモータ４４の駆動により、払拭部５２を処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と平行な方向に走行させる。これにより、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４は、低速で回転する外形が円筒状の払拭部材５２の外周面によりその全域が清掃される。
【００４３】
このとき、このノズル清掃装置１８によれば、払拭部材５２が柔軟性を有する多孔質材料より構成されており、また、この払拭部材５２には、洗浄液貯留槽５１および洗浄液供給ノズル５７により洗浄液が供給されているため、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４を確実に清掃することが可能となる。
【００４４】
なお、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の清掃に供された払拭部材５２の外周面は、洗浄液貯留槽５１内の洗浄液中に浸漬された後、洗浄液供給ノズル５７からさらに洗浄液を供給される。そして、この払拭部材５２は、清掃プレート５４の作用でその表面に付着するレジスト等を除去された後、絞りローラ５４によりそこに浸透した過剰な洗浄液を絞り取られ、再度、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の清掃に供される。
【００４５】
なお、上述した実施形態においては、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の清掃時に、払拭部材５２をその軸芯を中心として低速で回転させている。しかしながら、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の長さが比較的短い場合等においては、吐出口３４の清掃時に払拭部材５２の回転を停止させておいてもよい。この場合においては、払拭部材５２の外周面が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４から離隔した状態において払拭部材５２を回転させ、清掃プレート５４によるレジスト等の除去と、絞りローラ５４による過剰な洗浄液の絞り取りとを実行する。
【００４６】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図８は、この発明の第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４７】
上述した第１実施形態に係るノズル清掃装置１８においては、洗浄液貯留槽５１内に単一の払拭部材５２を配設しているが、この第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、洗浄液貯留槽５１内に一対の払拭部材５２を配設するとともに、これらの払拭部材５２に対応させて洗浄液供給ノズル５７、清掃プレート５３および絞りローラ５４等を配設している。
【００４８】
この第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を使用した場合においては、払拭部４５が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４方向に移動する際に、一対の払拭部材５２によりスリット状の吐出口３４を二度清掃することになるため、スリット状の吐出口３４をより確実に清掃することが可能となる。
【００４９】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図９はこの発明の第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図であり、図１０はその正面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５０】
この第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５に対して、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口付近３４に向けて洗浄液を吐出する一対の洗浄液吐出ノズル７４を付設してある。この洗浄液吐出ノズル７４は、払拭部材５２と同じ移動経路上を払拭部材５２と所定距離をおいて共に移動するように払拭部４５に取り付けられている。そして、払拭部４５が処理液供給ノズル１４に対して一方向（図９における右方向）に移動する際には、洗浄液吐出ノズル７４が払拭部材５２よりも先に処理液供給ノズル１４に対して作用する。すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口付近３４のある位置が払拭部材５２によって払拭されるのに先立って洗浄液吐出ノズル７４が当該位置に対して洗浄液を吐出する。また、払拭部４５が処理液供給ノズル１４に対して他の方向（図９における左方向）に移動する際には、洗浄液吐出ノズル７４が払拭部材５２よりも後に処理液供給ノズル１４に対して作用する。すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口付近３４のある位置が払拭部材５２によって払拭された後に、洗浄液吐出ノズル７４が当該位置に対して洗浄液を吐出する。これら一対の洗浄液吐出ノズル７４は、洗浄液貯留槽５１と同期して処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と平行に走行する一対の支持部材７３に支持されている。
【００５１】
この第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、払拭部４５が前記一方向に移動する際には、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近に付着したレジストを洗浄液により予め膨潤させておくことができ、また、払拭部４５が前記他の方向に移動する際には、払拭部材５２によって拭き取られた後に処理液供給ノズル１４にわずかに残ったレジストを洗い流すことができる。したがって、払拭部４５を前記一方向、ついで前記他の方向に往復移動させてその両方向移動の間に処理液供給ノズル１４に作用させることで、スリット状の吐出口３４をより確実に清掃することが可能となる。なお、払拭部４５をどちらかひとつの方向のみに移動させて作用させる場合であっても有効に清掃することができる。
【００５２】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１１は、この発明の第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５３】
この第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、円筒状の払拭部材５２の軸芯方向の寸法（その外形を形成する円筒の高さ方向の寸法）を、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５における払拭部材５２より大きくしている。そして、この第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５に対して、払拭部材５２をモータ５６を支持するブラケット７２等とともに払拭部材５２の軸芯方向（すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と交差する方向）に移動させるための図示しない移動機構に連結されたモータ７１を付設している。
【００５４】
この第４実施形態におけるノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、一定期間処理液供給ノズル１４を清掃して払拭部材５２が汚染されたときに、払拭部材５２をその軸芯方向に移動させることにより、払拭部材５２における新しい領域を使用して処理液供給ノズル１４を清掃することが可能となる。このため、払拭部材５２の寿命を延ばして、長期間、処理液供給ノズル１４を清掃することが可能となる。
【００５５】
なお、この実施形態においては、払拭部材５２をその軸芯方向に移動させているが、払拭部材５２を移動させる代わりに、処理液供給ノズル１４を払拭部材５２の軸芯方向に移動させるようにしてもよい。
【００５６】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１２および図１３は、この発明の第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を模式的に示す側面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５７】
この第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、円筒状の払拭部材８２の両端に一対の支持板８６を配設し、一対の支軸８５によりこれらの支持板８６を支持する構成を有する。そして、この第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５に対して、モータ５６を支持するブラケット８３を払拭部材５２の軸芯方向（すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と交差する方向）に移動させるためのモータ８１と、このモータ５６の移動に伴って、図１３に示すように、一方の支持板８６を他方の支持板８６に近接する方向に移動させる図示しない移動機構とを付設している。
【００５８】
この第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、モータ８１の駆動により払拭部材５２を図１２に示す状態から図１３に示す状態に変化させることにより、払拭部材８２に浸透した過剰な洗浄液を絞ることができ、また、ノズル清掃装置１８の使用を停止する際に払拭部材５２に浸透した洗浄液を除去することが可能となる。
【００５９】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１４は、この発明の第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６０】
上述した第１実施形態に係るノズル清掃装置１８においては、払拭部材５２としてその外形が円筒状のものを使用しているが、この第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、その外周面に処理液供給ノズル１４の側面３９（図３参照）の形状と対応する形状の凹部９１が形成された払拭部材９２を使用している。この第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近のみならず、その側面３９をも広く清掃することが可能となる。
【００６１】
また、払拭部材として、図７（第１実施形態）に示したような円筒状の払拭部材５２と、図１４に示した払拭部材９２とのを両方備える構成として、円筒状の払拭部材５２で処理液供給ノズル１４の主として先端部を、払拭部材９２で主として側面３９を、それぞれ払拭するよう構成してもよい。また、図１１に示したような大寸法の払拭部材５２を用い、その一部に図１４の払拭部材９２のような凹部９１を形成して処理液供給ノズル１４との相対位置を変化させることで、図７円筒状の払拭部材５２と、図１４に示した払拭部材９２との両方の機能を備えた構成としてもよい。
【００６２】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１５は、この発明の第７実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５の要部を模式的に示す正面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６３】
上述した第１実施形態に係るノズル清掃装置１８においては、払拭部材５２としてその外形が円筒状のものを使用しているが、この第７実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、その外形が略四角柱である払拭部材９３を使用している。なお、この払拭部材９３を使用する場合においては、一定回数処理液供給ノズル１４を清掃するたびに、払拭部材９３を９０度だけ回転させるようにする。
【００６４】
なお、上述した実施形態においては、いずれも、各払拭部材５２、８２、９２、９３に洗浄液を供給する洗浄液供給機構として、洗浄液供給ノズル５７と洗浄液貯留槽５１との両方を使用しているが、これらのうちいずれか一方のみを使用して、各払拭部材５２、８２、９２、９３に洗浄液を供給する構成としてもよい。
【００６５】
また、上述した実施形態においては、いずれも、この発明に係るノズル清掃装置１８を、処理液供給ノズル１４により基板Ｗにレジストを塗布した後、この基板Ｗをスピンチャック１３により回転させる構成の基板処理装置に適用した場合について説明したが、この発明に係るノズル清掃装置１８を、処理液供給ノズル１４により基板Ｗに処理液を供給した後、基板Ｗを回転させないタイプの基板処理装置に適用してもよい。
【００６６】
【発明の効果】
請求項１および請求項１１に記載の発明によれば、柔軟性を有する多孔質材料より構成される払拭部材と、払拭部材を処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接させた状態で吐出口の長手方向に移動させる移動機構とを備えたことから、払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００６７】
また、払拭部材と同期して処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の長手方向に走行し、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを備えることから、処理液供給ノズルに付着した汚染物を洗浄液により予め膨潤させ、あるいは、処理液供給ノズルに残存する汚染物を洗い流すことにより、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口をより確実に清掃することが可能となる。
【００６８】
請求項２乃至請求項４に記載の発明によれば、払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えることから、洗浄液を含有した払拭部材により処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００６９】
請求項５に記載の発明によれば、その円周部において処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接する円筒状の外形を有する払拭部材により、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００７０】
請求項６に記載の発明によれば、円筒状の外形を有する払拭部材をその軸芯を中心として回転させることから、処理液供給ノズルをより確実に清掃することが可能となる。
【００７１】
請求項７に記載の発明によれば、払拭部材の表面を清掃する清掃プレートを有することから、払拭部材の表面に付着する汚染物を除去することが可能となる。
【００７２】
請求項８に記載の発明によれば、回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えることから、払拭部材に浸透した過剰な洗浄液を絞ることが可能となる。
【００７３】
請求項９に記載の発明によれば、払拭部材を処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に移動させる移動機構を備えることから、払拭部材を移動させることにより、払拭部材における新しい領域を使用して処理液供給ノズルを清掃することが可能となる。
【００７４】
請求項１０に記載の発明によれば、払拭部材を処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に押圧することにより払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えることから、払拭部材に浸透した過剰な洗浄液を絞ることができ、また、ノズル清掃装置の使用を停止する際に払拭部材に浸透した洗浄液を除去することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明に係るノズル清掃装置１８を適用した基板処理装置の概要図である。
【図２】 処理液供給ノズル１４によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。
【図３】 処理液供給ノズル１４の下端部の拡大図である。
【図４】 基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作を示す説明図である。
【図５】 この発明に係るノズル清掃装置１８を待機ポット３６とともに示す側面図である。
【図６】 この発明の第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図７】 この発明の第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。
【図８】 この発明の第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図９】 この発明の第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図１０】 この発明の第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。
【図１１】 この発明の第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図１２】 この発明の第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を模式的に示す側面図である。
【図１３】 この発明の第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を模式的に示す側面図である。
【図１４】 この発明の第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。
【図１５】 この発明の第７実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５の要部を模式的に示す正面図である。
【符号の説明】
１３ スピンチャック
１４ 処理液供給ノズル
１８ ノズル清掃装置
３４ 吐出口
３６ 待機ポット
３８ リップ面
３９ 側面
４１ レール
４２ ブラケット
４３ 同期ベルト
４４ モータ
４５ 払拭部
５１ 洗浄液貯留槽
５２ 払拭部材
５３ 清掃プレート
５４ 絞りローラ
５５ 支軸
５６ モータ
５７ 洗浄液供給ノズル
６１ オーバフロー管
６２ 排液排出管
６３ 回転軸
６４ ばね
７１ モータ
７２ ブラケット
７３ 支持部材
７４ 洗浄液吐出ノズル
８１ モータ
８２ 払拭部材
８３ ブラケット
８５ 支軸
８６ 支持板
９１ 凹部
９２ 払拭部材
９３ 払拭部材
Ｗ 基板
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に処理液を供給して処理する基板処理装置として、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを使用した場合においては、基板の処理に伴って処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に処理液が残存し、これが汚染物質となって処理液供給ノズルの汚染が発生する。処理液としてレジスト、特に、カラーレジスト等と呼称される顔料を含むレジストを使用した場合には、このような汚染が特に生じやすい。このため、処理液供給ノズルをノズル清掃装置により定期的に清掃する必要がある。
【０００３】
このようなノズル清掃装置は、従来、処理液供給ノズルにクリーニング用の払拭部材を当接させ、この払拭部材により処理液供給ノズルを清掃する構成となっている。また、このようなノズル清掃装置において、送りロールと巻き取りロールとの間に巻回される長尺の払拭部材を使用しているものもある（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１７７８４８号公報
【０００５】
【特許文献２】
特開２００２−１９２０４８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のノズル清掃装置においては、処理液供給ノズルに付着した処理液を完全に除去することが困難であるという問題がある。処理液供給ノズルに処理液による汚染物質が残存した場合には、次の処理液塗布工程において処理液を適正に塗布することが困難となる。
【０００７】
また、近年、基板のサイズが大きくなっていることから、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の全長も長くなる傾向にある。このため、長尺の払拭部材を巻き取って使用する形式のノズル清掃装置においては、払拭部材の消費量が多くなり、ランニングコストがかさむという問題が生ずる。
【０００８】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能なノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、柔軟性を有する多孔質材料より構成される払拭部材と、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接させた状態で、前記吐出口の長手方向に移動させる移動機構と、前記払拭部材と同期して前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の長手方向に走行し、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルとを備え、前記洗浄液吐出ノズルは、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口に前記払拭部 材が当接する前、または、後に洗浄液を供給することを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えている。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記洗浄液供給機構は、前記払拭部材に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを含んでいる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記洗浄液供給機構は洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽を含み、前記払拭部材の下端部が前記洗浄液貯留槽に貯留された洗浄液中に浸漬されている。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記払拭部材は、その円周部において前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接する円筒状の外形を有している。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記円筒状の外形を有する払拭部材を、その軸芯を中心として回転させる回転機構を備えている。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより、前記払拭部材の表面を清掃する清掃プレートを有している。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより、前記払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えている。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に移動させる移動機構を備えている。
【００１８】
請求項１０に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の発明において、前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に押圧することにより、前記払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えている。
【００１９】
請求項１１に記載の発明は、基板を保持する基板保持機構と、スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら前記保持機構により保持された基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載のノズル清掃装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２１】
先ず、この発明に係るノズル清掃装置１８を適用する基板処理装置の構成について説明する。図１はこの発明に係るノズル清掃装置１８を適用した基板処理装置の概要図である。
【００２２】
この基板処理装置は、矩形状をなす液晶パネル用のガラス基板（以下「基板」という）Ｗにカラーレジストと呼称される顔料を含むレジストを塗布するためのものであり、基板Ｗを吸着保持した状態でモータ１１の駆動により軸１２を中心に回転するスピンチャック１３と、スピンチャック１３に保持された基板Ｗにレジストを塗布するための処理液供給ノズル１４と、この処理液供給ノズル１４を移動させるノズル移動機構１５と、処理液供給ノズル１４に対してレジストを供給するレジスト供給機構１６と、スピンチャック１３によりレジスト塗布後の基板Ｗを回転させたときに基板Ｗの端縁より飛散するレジストを捕獲するためのレジスト捕獲用カップ１７と、この発明に係るノズル清掃装置１８とを備える。
【００２３】
上記スピンチャック１３および軸１２は、図示しないチャック昇降機構により、図１において実線で示す回転位置と二点鎖線で示す塗布位置との間で昇降可能となっている。ここで、回転位置はレジスト塗布後の基板Ｗがカップ１７に収容されて回転する位置であり、塗布位置は処理液供給ノズル１４により基板Ｗにレジストが塗布される位置である。
【００２４】
上記ノズル移動機構１５は、水平に延びる移動ガイド２１に沿って往復移動する移動フレーム２２を備える。処理液供給ノズル１４は、この移動フレーム２２にノズル支持アーム２３を介して水平方向に移動自在に支持されている。なお、上記ノズル移動機構１５は上下方向には移動する機構を備えていない。このため、処理液供給ノズル１４が移動ガイド２１に沿って移動するときに、処理液供給ノズル１４と基板Ｗとの距離が変動することが防止される。従って、処理液供給ノズル１４を水平移動させて基板Ｗにレジストを塗布する際、均一な厚さの塗布膜を形成することが可能となる。
【００２５】
上記レジスト供給機構１６は、密閉された構成を有する加圧タンク２４と、この加圧タンク２４内に収納されたレジストタンク２５とを有する。加圧タンク２４は、加圧配管２７により図示しない窒素ガスあるいはエアーの供給源と接続されている。そして、この加圧配管２７内には、窒素ガスの給排切り替え用の三方弁２８と、レギュレータ２９とが配設されている。また、レジストタンク２５内には、このレジストタンク２５と処理液供給ノズル１４とを接続するレジスト供給配管３１の一端が挿入されている。このレジスト供給配管３１中には、開閉弁３３が配設されている。
【００２６】
このような構成を有するレジスト供給機構１５において、開閉弁３３が開放された状態においては、レジストタンク２５内のレジストが加圧タンク２４内の窒素ガスの圧力によりレジスト供給配管３１を介して処理液供給ノズル１４に圧送され、また、開閉弁３３が閉鎖されることによりレジストの圧送が停止される。
【００２７】
図２は、処理液供給ノズル１４によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。この処理液供給ノズル１４は、その長手方向（図２において紙面に垂直な方向）に延びるスリット状の吐出口３４を有する。この吐出口３４の長手方向の長さは、基板Ｗにおける矩形状の素子形成部分の短辺の長さ以上の長さであるが、ここでは、前記矩形状の素子形成部分の短辺の長さとほぼ等しくしてある。レジスト供給配管３１により供給されたレジスト３５は、図２に示すように、このスリット状の吐出口３４を介して基板Ｗの表面に供給される。
【００２８】
図３は、処理液供給ノズル１４の下端部の拡大図である。この図に示すように、この処理液供給ノズル１４は、そこに付着するレジスト３５の量を最小とするために、傾斜した側面３９を備える。この図において、符号３８は吐出口３４を形成するリップ面である。このリップ面３８は、側面３９の下端部を構成する。
【００２９】
次に、上述した基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作について説明する。図４は、基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作を示す説明図である。なお、以下の説明において、処理液供給ノズル１４の移動は上述したノズル移動機構１５により実行される。
【００３０】
レジストの塗布動作を実行する前の状態においては、処理液供給ノズル１４は、この発明に係るノズル清掃装置１８と対向する位置に配置されている。このときの処理液供給ノズル１４等の状態については、後程詳細に説明する。
【００３１】
この状態において、レジストの塗布動作を開始するときには、ノズル清掃装置１８上方に処理液供給ノズル１４を待機させた状態から、矢印１．に示すように処理液供給ノズル１４をノズル清掃装置１８に関して遠方側の基板Ｗの一端上方まで水平移動させる。次に、チャック昇降機構によって基板Ｗを塗布位置に配置する。このとき基板Ｗ表面と処理液供給ノズル１４の吐出口３４との間隔は、レジストの塗布に適した所定の値となっている。
【００３２】
この状態において、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４からレジストを吐出させるとともに、処理液供給ノズル１４を矢印２．に示すように基板Ｗの表面に沿って水平移動させる。この状態においては、図２に示すように、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４から吐出されたレジスト３５が基板Ｗの表面に薄膜状に塗布される。
【００３３】
処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４が基板Ｗの他端部と対向する位置まで移動すれば、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４からのレジストの吐出を停止させ、ノズル清掃装置１８の上方にまで移動させる。
【００３４】
次に、この発明に係るノズル清掃装置１８の構成について説明する。図５は、この発明に係るノズル清掃装置１８を待機ポット３６とともに示す側面図である。
【００３５】
このノズル清掃装置１８は、上述した処理液供給ノズル１４と平行に配設されたレール４１に沿って移動可能なブラケット４２と、このブラケット４２と連結された同期ベルト４３を往復回転させることによりブラケット４２を処理液供給ノズル１４と平行に往復移動させるモータ４４と、ブラケット４２の上方に配設された払拭部４５とを備える。この払拭部４５は、後述するように、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４を払拭するためのものである。この払拭部４５は、モータ４４の駆動により、図５において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動する。
【００３６】
一方、待機ポット３６は、レジストを塗布しない状態において、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近のレジストが乾燥して変質することを防止するためのものである。この待機ポット３６の内部には、例えば、レジストを溶解する溶剤等が貯留されている。この待機ポット３６は、エアシリンダ３７の駆動により、図５において二点鎖線で示すその上端の開口部が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と対向する上昇位置と、実線で示す下降位置との間を昇降可能な構成となっている。このため、処理液供給ノズル１４をノズル清掃装置１８の上方に待機させた状態で待機ポット３６が上昇位置をとると、処理液供給ノズル１４の吐出口３４は待機ポット３６によって閉じられた空間に露出することになる。このとき、該空間は溶剤の蒸気が含まれる雰囲気で満たされているので、吐出口３４付近のレジストが乾燥することが防止される。
【００３７】
次に、上述した払拭部４５の構成について説明する。図６はこの発明の第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図であり、図７はその正面図である。
【００３８】
この払拭部４５は、洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽５１と、この洗浄液貯留槽５１内において支軸５５に支持された払拭部材５２と、この払拭部材５２に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル５７と、払拭部材５２に当接する清掃プレート５３および絞りローラ５４と、支軸５５を回転させるモータ５６とを備える。
【００３９】
洗浄液貯留槽５１は、図５に示すレール４１に沿って移動可能なブラケット４２と連結されている。この洗浄液貯留槽５１には、オーバフロー管６１と、排液排出管６２とが配設されている。この洗浄液貯留槽５１は、洗浄液供給ノズル５７から吐出された洗浄液を貯留する構成となっている。
【００４０】
払拭部材５２は、柔軟性を有する多孔質材料より構成される。この払拭部材５２の材質としては、例えば、スポンジゴムを使用することができる。この払拭部材５２は、その円周部において処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と当接する円筒状の外形を有する。この払拭部材５２の下端部は、洗浄液貯留槽５１に貯留された洗浄液中に浸漬されている。また、この払拭部材５２を支持する支軸は、モータ５６の回転軸６３と接続されており、払拭部材５２は、モータ５６の駆動によりその軸芯を中心として回転する。
【００４１】
清掃プレート５３は、モータ５６の駆動により回転する払拭部材５２の表面に当接することにより、払拭部材５２の表面に付着するレジスト等を除去して払拭部材５２を清掃するためのものである。この清掃プレート５３の基端部は、洗浄液貯留槽５１に固定されている。また、絞りローラ５４は、モータ５６の駆動により回転する払拭部材５２の表面に当接することにより、払拭部材５２に浸透した過剰な洗浄液を絞るためのものである。この絞りローラ５４は、ばね６４を介して洗浄液貯留槽５１に連結されている。
【００４２】
以上のような構成を有するノズル清掃装置１８により処理液供給ノズル１４を清掃する際には、モータ５６の駆動により払拭部材５２をその軸芯を中心として低速で回転させる。また、洗浄液供給ノズル５７から払拭部材５２に向けて洗浄液を供給する。この状態において、図５に示すモータ４４の駆動により、払拭部５２を処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と平行な方向に走行させる。これにより、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４は、低速で回転する外形が円筒状の払拭部材５２の外周面によりその全域が清掃される。
【００４３】
このとき、このノズル清掃装置１８によれば、払拭部材５２が柔軟性を有する多孔質材料より構成されており、また、この払拭部材５２には、洗浄液貯留槽５１および洗浄液供給ノズル５７により洗浄液が供給されているため、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４を確実に清掃することが可能となる。
【００４４】
なお、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の清掃に供された払拭部材５２の外周面は、洗浄液貯留槽５１内の洗浄液中に浸漬された後、洗浄液供給ノズル５７からさらに洗浄液を供給される。そして、この払拭部材５２は、清掃プレート５４の作用でその表面に付着するレジスト等を除去された後、絞りローラ５４によりそこに浸透した過剰な洗浄液を絞り取られ、再度、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の清掃に供される。
【００４５】
なお、上述した実施形態においては、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の清掃時に、払拭部材５２をその軸芯を中心として低速で回転させている。しかしながら、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４の長さが比較的短い場合等においては、吐出口３４の清掃時に払拭部材５２の回転を停止させておいてもよい。この場合においては、払拭部材５２の外周面が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４から離隔した状態において払拭部材５２を回転させ、清掃プレート５４によるレジスト等の除去と、絞りローラ５４による過剰な洗浄液の絞り取りとを実行する。
【００４６】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図８は、この発明の第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４７】
上述した第１実施形態に係るノズル清掃装置１８においては、洗浄液貯留槽５１内に単一の払拭部材５２を配設しているが、この第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、洗浄液貯留槽５１内に一対の払拭部材５２を配設するとともに、これらの払拭部材５２に対応させて洗浄液供給ノズル５７、清掃プレート５３および絞りローラ５４等を配設している。
【００４８】
この第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を使用した場合においては、払拭部４５が処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４方向に移動する際に、一対の払拭部材５２によりスリット状の吐出口３４を二度清掃することになるため、スリット状の吐出口３４をより確実に清掃することが可能となる。
【００４９】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図９はこの発明の第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図であり、図１０はその正面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５０】
この第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５に対して、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口付近３４に向けて洗浄液を吐出する一対の洗浄液吐出ノズル７４を付設してある。この洗浄液吐出ノズル７４は、払拭部材５２と同じ移動経路上を払拭部材５２と所定距離をおいて共に移動するように払拭部４５に取り付けられている。そして、払拭部４５が処理液供給ノズル１４に対して一方向（図９における右方向）に移動する際には、洗浄液吐出ノズル７４が払拭部材５２よりも先に処理液供給ノズル１４に対して作用する。すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口付近３４のある位置が払拭部材５２によって払拭されるのに先立って洗浄液吐出ノズル７４が当該位置に対して洗浄液を吐出する。また、払拭部４５が処理液供給ノズル１４に対して他の方向（図９における左方向）に移動する際には、洗浄液吐出ノズル７４が払拭部材５２よりも後に処理液供給ノズル１４に対して作用する。すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口付近３４のある位置が払拭部材５２によって払拭された後に、洗浄液吐出ノズル７４が当該位置に対して洗浄液を吐出する。これら一対の洗浄液吐出ノズル７４は、洗浄液貯留槽５１と同期して処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と平行に走行する一対の支持部材７３に支持されている。
【００５１】
この第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、払拭部４５が前記一方向に移動する際には、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近に付着したレジストを洗浄液により予め膨潤させておくことができ、また、払拭部４５が前記他の方向に移動する際には、払拭部材５２によって拭き取られた後に処理液供給ノズル１４にわずかに残ったレジストを洗い流すことができる。したがって、払拭部４５を前記一方向、ついで前記他の方向に往復移動させてその両方向移動の間に処理液供給ノズル１４に作用させることで、スリット状の吐出口３４をより確実に清掃することが可能となる。なお、払拭部４５をどちらかひとつの方向のみに移動させて作用させる場合であっても有効に清掃することができる。
【００５２】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１１は、この発明の第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５３】
この第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、円筒状の払拭部材５２の軸芯方向の寸法（その外形を形成する円筒の高さ方向の寸法）を、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５における払拭部材５２より大きくしている。そして、この第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５に対して、払拭部材５２をモータ５６を支持するブラケット７２等とともに払拭部材５２の軸芯方向（すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と交差する方向）に移動させるための図示しない移動機構に連結されたモータ７１を付設している。
【００５４】
この第４実施形態におけるノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、一定期間処理液供給ノズル１４を清掃して払拭部材５２が汚染されたときに、払拭部材５２をその軸芯方向に移動させることにより、払拭部材５２における新しい領域を使用して処理液供給ノズル１４を清掃することが可能となる。このため、払拭部材５２の寿命を延ばして、長期間、処理液供給ノズル１４を清掃することが可能となる。
【００５５】
なお、この実施形態においては、払拭部材５２をその軸芯方向に移動させているが、払拭部材５２を移動させる代わりに、処理液供給ノズル１４を払拭部材５２の軸芯方向に移動させるようにしてもよい。
【００５６】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１２および図１３は、この発明の第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を模式的に示す側面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５７】
この第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、円筒状の払拭部材８２の両端に一対の支持板８６を配設し、一対の支軸８５によりこれらの支持板８６を支持する構成を有する。そして、この第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５に対して、モータ５６を支持するブラケット８３を払拭部材５２の軸芯方向（すなわち、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４と交差する方向）に移動させるためのモータ８１と、このモータ５６の移動に伴って、図１３に示すように、一方の支持板８６を他方の支持板８６に近接する方向に移動させる図示しない移動機構とを付設している。
【００５８】
この第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、モータ８１の駆動により払拭部材５２を図１２に示す状態から図１３に示す状態に変化させることにより、払拭部材８２に浸透した過剰な洗浄液を絞ることができ、また、ノズル清掃装置１８の使用を停止する際に払拭部材５２に浸透した洗浄液を除去することが可能となる。
【００５９】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１４は、この発明の第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６０】
上述した第１実施形態に係るノズル清掃装置１８においては、払拭部材５２としてその外形が円筒状のものを使用しているが、この第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、その外周面に処理液供給ノズル１４の側面３９（図３参照）の形状と対応する形状の凹部９１が形成された払拭部材９２を使用している。この第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５によれば、処理液供給ノズル１４におけるスリット状の吐出口３４付近のみならず、その側面３９をも広く清掃することが可能となる。
【００６１】
また、払拭部材として、図７（第１実施形態）に示したような円筒状の払拭部材５２と、図１４に示した払拭部材９２とのを両方備える構成として、円筒状の払拭部材５２で処理液供給ノズル１４の主として先端部を、払拭部材９２で主として側面３９を、それぞれ払拭するよう構成してもよい。また、図１１に示したような大寸法の払拭部材５２を用い、その一部に図１４の払拭部材９２のような凹部９１を形成して処理液供給ノズル１４との相対位置を変化させることで、図７円筒状の払拭部材５２と、図１４に示した払拭部材９２との両方の機能を備えた構成としてもよい。
【００６２】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１５は、この発明の第７実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５の要部を模式的に示す正面図である。なお、上述した第１実施例に係るノズル清掃装置１８と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６３】
上述した第１実施形態に係るノズル清掃装置１８においては、払拭部材５２としてその外形が円筒状のものを使用しているが、この第７実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５においては、その外形が略四角柱である払拭部材９３を使用している。なお、この払拭部材９３を使用する場合においては、一定回数処理液供給ノズル１４を清掃するたびに、払拭部材９３を９０度だけ回転させるようにする。
【００６４】
なお、上述した実施形態においては、いずれも、各払拭部材５２、８２、９２、９３に洗浄液を供給する洗浄液供給機構として、洗浄液供給ノズル５７と洗浄液貯留槽５１との両方を使用しているが、これらのうちいずれか一方のみを使用して、各払拭部材５２、８２、９２、９３に洗浄液を供給する構成としてもよい。
【００６５】
また、上述した実施形態においては、いずれも、この発明に係るノズル清掃装置１８を、処理液供給ノズル１４により基板Ｗにレジストを塗布した後、この基板Ｗをスピンチャック１３により回転させる構成の基板処理装置に適用した場合について説明したが、この発明に係るノズル清掃装置１８を、処理液供給ノズル１４により基板Ｗに処理液を供給した後、基板Ｗを回転させないタイプの基板処理装置に適用してもよい。
【００６６】
【発明の効果】
請求項１および請求項１１に記載の発明によれば、柔軟性を有する多孔質材料より構成される払拭部材と、払拭部材を処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接させた状態で吐出口の長手方向に移動させる移動機構とを備えたことから、払拭部材の消費量を低減しながら、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００６７】
また、払拭部材と同期して処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の長手方向に走行し、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを備えることから、処理液供給ノズルに付着した汚染物を洗浄液により予め膨潤させ、あるいは、処理液供給ノズルに残存する汚染物を洗い流すことにより、処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口をより確実に清掃することが可能となる。
【００６８】
請求項２乃至請求項４に記載の発明によれば、払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えることから、洗浄液を含有した払拭部材により処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００６９】
請求項５に記載の発明によれば、その円周部において処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接する円筒状の外形を有する払拭部材により、処理液供給ノズルを確実に清掃することが可能となる。
【００７０】
請求項６に記載の発明によれば、円筒状の外形を有する払拭部材をその軸芯を中心として回転させることから、処理液供給ノズルをより確実に清掃することが可能となる。
【００７１】
請求項７に記載の発明によれば、払拭部材の表面を清掃する清掃プレートを有することから、払拭部材の表面に付着する汚染物を除去することが可能となる。
【００７２】
請求項８に記載の発明によれば、回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えることから、払拭部材に浸透した過剰な洗浄液を絞ることが可能となる。
【００７３】
請求項９に記載の発明によれば、払拭部材を処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に移動させる移動機構を備えることから、払拭部材を移動させることにより、払拭部材における新しい領域を使用して処理液供給ノズルを清掃することが可能となる。
【００７４】
請求項１０に記載の発明によれば、払拭部材を処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に押圧することにより払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えることから、払拭部材に浸透した過剰な洗浄液を絞ることができ、また、ノズル清掃装置の使用を停止する際に払拭部材に浸透した洗浄液を除去することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明に係るノズル清掃装置１８を適用した基板処理装置の概要図である。
【図２】 処理液供給ノズル１４によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。
【図３】 処理液供給ノズル１４の下端部の拡大図である。
【図４】 基板処理装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作を示す説明図である。
【図５】 この発明に係るノズル清掃装置１８を待機ポット３６とともに示す側面図である。
【図６】 この発明の第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図７】 この発明の第１実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。
【図８】 この発明の第２実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図９】 この発明の第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図１０】 この発明の第３実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。
【図１１】 この発明の第４実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す側面図である。
【図１２】 この発明の第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を模式的に示す側面図である。
【図１３】 この発明の第５実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を模式的に示す側面図である。
【図１４】 この発明の第６実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５を処理液供給ノズル１４とともに模式的に示す正面図である。
【図１５】 この発明の第７実施形態に係るノズル清掃装置１８の払拭部４５の要部を模式的に示す正面図である。
【符号の説明】
１３ スピンチャック
１４ 処理液供給ノズル
１８ ノズル清掃装置
３４ 吐出口
３６ 待機ポット
３８ リップ面
３９ 側面
４１ レール
４２ ブラケット
４３ 同期ベルト
４４ モータ
４５ 払拭部
５１ 洗浄液貯留槽
５２ 払拭部材
５３ 清掃プレート
５４ 絞りローラ
５５ 支軸
５６ モータ
５７ 洗浄液供給ノズル
６１ オーバフロー管
６２ 排液排出管
６３ 回転軸
６４ ばね
７１ モータ
７２ ブラケット
７３ 支持部材
７４ 洗浄液吐出ノズル
８１ モータ
８２ 払拭部材
８３ ブラケット
８５ 支軸
８６ 支持板
９１ 凹部
９２ 払拭部材
９３ 払拭部材
Ｗ 基板
Claims (11)
- スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルを清掃するためのノズル清掃装置であって、
柔軟性を有する多孔質材料より構成される払拭部材と、
前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接させた状態で、前記吐出口の長手方向に移動させる移動機構と、
前記払拭部材と同期して前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口の長手方向に走行し、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口付近に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルとを備え、
前記洗浄液吐出ノズルは、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口に前記払拭部材が当接する前、または、後に洗浄液を供給する、
ことを特徴とするノズル清掃装置。 - 請求項１に記載のノズル清掃装置において、
前記払拭部材に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を備えたノズル清掃装置。 - 請求項２に記載のノズル清掃装置において、
前記洗浄液供給機構は、前記払拭部材に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを含むノズル清掃装置。 - 請求項２に記載のノズル清掃装置において、
前記洗浄液供給機構は洗浄液を貯留する洗浄液貯留槽を含み、前記払拭部材の下端部が前記洗浄液貯留槽に貯留された洗浄液中に浸漬されるノズル清掃装置。 - 請求項２に記載のノズル清掃装置において、
前記払拭部材は、その円周部において前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と当接する円筒状の外形を有するノズル清掃装置。 - 請求項５に記載のノズル清掃装置において、
前記円筒状の外形を有する払拭部材を、その軸芯を中心として回転させる回転機構を備えたノズル清掃装置。 - 請求項６に記載のノズル清掃装置において、
前記回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより、前記払拭部材の表面を清掃する清掃プレートを有するノズル清掃装置。 - 請求項６に記載のノズル清掃装置において、
前記回転機構により回転する払拭部材の表面と当接することにより、前記払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えたノズル清掃装置。 - 請求項１乃至請求項８のいずれかに記載のノズル清掃装置において、
前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に移動させる移動機構を備えたノズル清掃装置。 - 請求項１乃至請求項８のいずれかに記載のノズル清掃装置において、
前記払拭部材を前記処理液供給ノズルにおけるスリット状の吐出口と交差する方向に押圧することにより、前記払拭部材に浸透した洗浄液を絞る絞り機構を備えたノズル清掃装置。 - 基板を保持する基板保持機構と、
スリット状の吐出口から処理液を吐出しながら前記保持機構により保持された基板に対して相対的に移動することにより、前記基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、
請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載のノズル清掃装置と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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