CN1497659A - 喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置 - Google Patents
喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1497659A CN1497659A CNA031326617A CN03132661A CN1497659A CN 1497659 A CN1497659 A CN 1497659A CN A031326617 A CNA031326617 A CN A031326617A CN 03132661 A CN03132661 A CN 03132661A CN 1497659 A CN1497659 A CN 1497659A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mentioned
- treatment fluid
- fluid supply
- supply nozzle
- wiper member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 148
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 213
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 230000008520 organization Effects 0.000 claims description 5
- 230000005465 channeling Effects 0.000 claims description 4
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 241000278713 Theora Species 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置，可降低擦拭部件的消耗量，并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括：擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53)，卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54)，使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57)，以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于对向基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫的喷嘴清扫装置以及具备这种喷嘴清扫装置的基板处理装置。
背景技术
作为向半导体晶片或液晶显示板用玻璃基板或半导体制造装置用掩膜基板等基板上供应处理液并进行处理的基板处理装置，在采用通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板进行相对移动、从而向基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴的情况下，随着基板的处理，在处理液供应喷嘴上狭缝状的排出口附近残留有处理液，这将成为污染物质而产生处理液供应喷嘴的污染。作为处理液，在使用抗蚀剂、特别是使用被称为彩色抗蚀剂等包含颜料的抗蚀剂的情况下，特别容易产生这种污染。因此，要通过喷嘴清扫装置定期地清扫处理液供应喷嘴。
以往，这种喷嘴清扫装置的结构为使清洁用的擦拭部件抵接在处理液供应喷嘴上，通过该擦拭部件清扫处理液供应喷嘴。而且，在这种喷嘴清扫装置中，使用卷绕在送出辊和卷取辊之间的长条擦拭部件(例如，参照专利文献1)。
【专利文献1】
特开2001-113213号公报
近年来，由于基板的尺寸越来越大，存在处理液供应喷嘴上狭缝状的排出口的全长也增大的倾向。因此，在以往的喷嘴清扫装置中，擦拭部件的消耗量增加，产生了操作成本庞大的问题。
本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备这种喷嘴清扫装置的基板处理装置，能够降低擦拭部件的消耗量，同时能够可靠地清扫处理液供应喷嘴。
发明内容
本发明的技术方案1为一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：卷绕有长条的擦拭部件的送出辊；卷取从送出辊沿上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的卷取辊；使上述卷取辊旋转的旋转机构；第一清扫机构，通过使从上述送出辊送出的擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行清扫；第二清扫机构，在由上述第一清扫机构对上述处理液供应喷嘴进行清扫之前，通过使从上述送出辊送出的擦拭部件上在上述第一清扫机构的作用下和上述处理液供应喷嘴抵接后的区域抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行预备清扫。
本发明的技术方案2为一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：擦拭部和使上述擦拭部向上述处理液供应喷嘴上的排出口长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件的送出辊，卷取从送出辊沿上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的卷取辊，使上述卷取辊旋转的旋转机构，用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配设在上述擦拭部件的移动路径上的上述送出辊和上述卷取辊之间的位置上的第一清扫机构，以及用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配设在上述擦拭部件的移动路径上的上述第一清扫机构和上述卷取辊之间的位置上的第二清扫机构。
本发明的技术方案3为在技术方案2所述的喷嘴清扫装置中，上述第二清扫机构是在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相同的方向移动时使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，而在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相反的方向移动时离开上述处理液供应喷嘴。
本发明的技术方案4为在技术方案3所述的喷嘴清扫装置中，上述旋转机构在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相同的方向移动时使上述卷取辊旋转。
本发明的技术方案5为在技术方案3所述的喷嘴清扫装置中，具备旋转限制机构，在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相反的方向移动时，限制上述送出辊的旋转。
本发明的技术方案6为在技术方案1至5中任一项所述的喷嘴清扫装置中，上述第一清扫机构具备使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴的突棱面上的第一推压部件，以及使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴的侧面上的第二推压部件。
本发明的技术方案7为在技术方案6所述的喷嘴清扫装置中，上述第一清扫机构具备多个上述第一推压部件或上述第二推压部件。
本发明的技术方案8为在技术方案6所述的喷嘴清扫装置中，在上述第二推压部件上形成有与上述处理液供应喷嘴的侧面的形状相对应的凹部，并且还具备支承该第二推压部件、使其能够移动的支承机构。
本发明的技术方案9为在技术方案8所述的喷嘴清扫装置，上述支承机构由多个弹簧构成，在擦拭部的移动方向为X方向的情况下，对上述第二推压部件进行支承、使其能够向Y方向和Z方向移动。
本发明的技术方案10为在技术方案8所述的喷嘴清扫装置中，上述第二推压部件具有对从上述送出辊送出的擦拭部件的两端进行引导的导向部。
本发明的技术方案11为在技术方案6所述的喷嘴清扫装置中，具备向上述擦拭部件供应清洗液的清洗液供应机构。
本发明的技术方案12为一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：供应长条的擦拭部件的供应单元；回收从供应单元沿着上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的回收单元；第一清扫机构，通过使从上述供应单元供应的擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行清扫；第二清扫机构，在由上述第一清扫机构对上述处理液供应喷嘴进行清扫之前，通过使从上述供应单元供应的擦拭部件上在上述第一清扫机构的作用下和上述处理液供应喷嘴抵接后的区域抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行预备清扫。
本发明的技术方案13为一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：擦拭部和使上述擦拭部沿着上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备供应长条的擦拭部件的供应单元，回收从上述供应单元沿着上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的回收单元，用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配设在上述擦拭部件的移动路径上的上述供应单元和上述回收单元之间的位置上的第一清扫机构，以及用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配置在上述擦拭部件的移动路径上的上述第一清扫机构和上述回收单元之间的位置上的第二清扫机构。
本发明的技术方案14为一种基板处理装置，其特征是，包括：保持基板的基板保持机构，通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于由上述保持机构保持的基板相对移动、向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴，以及技术方案1、2、12、13中任一项所述的喷嘴清扫装置。
根据本发明的技术方案1、技术方案2、技术方案12、技术方案13、以及技术方案14，由于可将擦拭部件上通过第一清扫机构用于了处理液供应喷嘴的清扫后的区域用于通过第二清扫机构对处理液供应喷嘴的预备清扫，所以可减少擦拭部件的消耗量，并能够可靠地清扫处理液供应喷嘴。
根据本发明的技术方案3，由于第二清扫机构只在擦拭部向与卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相同的方向移动时使擦拭部件抵接在处理液供应喷嘴上，所以可防止用于了预备清扫后的擦拭部件再次抵接在处理液供应喷嘴上而将处理液供应喷嘴污染。
根据本发明的技术方案4，由于旋转机构在擦拭部向与卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相同的方向移动时使卷取辊旋转，所以可由新的擦拭部件将处理液供应喷嘴清扫干净。
根据本发明的技术方案5，由于具备在擦拭部向与卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相反的方向移动时限制送出辊的旋转的旋转限制机构，所以在擦拭部件移动时，能够可靠地防止送出辊因擦拭部件和处理液供应喷嘴之间的摩擦力而反转。
根据本发明的技术方案6，由于第一清扫机构具备使擦拭部件抵接在处理液供应喷嘴的突棱面上的第一推压部件以及使擦拭部件抵接在处理液供应喷嘴的侧面上的第二推压部件，所以能够可靠地对处理液供应喷嘴的突棱面和侧面进行清扫。
根据本发明的技术方案7，由于第一清扫机构具备多个第一推压部件或第二推压部件，所以能够更加可靠地对处理液供应喷嘴的突棱面或侧面进行清扫。
根据本发明的技术方案8，由于在第二推压部件上形成有与处理液供应喷嘴的侧面的形状相对应的凹部，并且还具备支承该第二推压部件、使其能够移动的支承机构，所以即使在第一清扫机构和处理液供应喷嘴的位置精度存在误差的情况下，也能够使形成在第二推压部件上的凹部和处理液供应喷嘴的侧面可靠地抵接。
根据本发明的技术方案9，由于支承机构由多个弹簧构成，在擦拭部的移动方向为X方向的情况下，对第二推压部件进行支承、使其能够向Y方向和Z方向移动，所以即使在第一清扫机构和处理液供应喷嘴的位置精度存在误差的情况下，也能够使形成在第二推压部件上的凹部和处理液供应喷嘴的侧面更加可靠地抵接。
根据本发明的技术方案10，由于第二推压部件具有对从送出辊送出的擦拭部件的两端进行引导的导向部，所以可有效地防止擦拭部件从第二推压部件上部的位置脱离。
根据本发明的技术方案11，由于具备向擦拭部件供应清洗液的清洗液供应机构。所以可利用清洗液可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。
附图说明
图1为适用本发明的喷嘴清扫装置的基板处理装置的示意图。
图2为示意表示处理液供应喷嘴14进行的抗蚀剂供应动作的说明图。
图3为处理液供应喷嘴14下端部的放大图。
图4为表示通过基板处理装置在基板W上涂敷抗蚀剂的涂敷动作的说明图。
图5为将本发明的喷嘴清扫装置18和待机容器36一起表示的侧视图。
图6为擦拭部45的主视图。
图7为擦拭部45的侧视图。
图8为擦拭部45的俯视图。
图9为将旋转限制机构67和齿轮62一起表示的主视图。
图10为表示第一清扫机构57的结构的说明图。
图11为表示第一清扫机构57的主要部分的立体图。
图12为表示第二推压部件77和擦拭部件52的关系的说明图。
图13为表示由第一清扫机构57进行的处理液供应喷嘴14的清扫动作的示意图。
发明的实施形式
以下，基于附图对本发明的实施方式加以说明。
首先，对适用本发明的喷嘴清扫装置18的基板处理装置的结构加以说明。图1为适用本发明的喷嘴清扫装置的基板处理装置的示意图。
这种基板处理装置是用于在呈矩形的液晶板用玻璃基板(以下称为「基板」)W上涂敷被称为彩色抗蚀剂的含有颜料的抗蚀剂的装置，具备：在吸附保持了基板W的状态下由马达11的驱动而以轴12为中心旋转的旋转卡盘13，在由旋转卡盘13保持的基板W上涂敷抗蚀剂的处理液供应喷嘴14，使该处理液供应喷嘴14移动的喷嘴移动机构15，向处理液供应喷嘴14供应抗蚀剂的抗蚀剂供应机构16，捕获在由旋转卡盘13使抗蚀剂涂敷后的基板W旋转时从基板W的端缘上飞散的抗蚀剂的抗蚀剂捕获杯17，以及本发明的喷嘴清扫装置18。
上述旋转卡盘13和轴12通过未图示的卡盘升降机构可在图1中实线所示的旋转位置和双点化线所示的涂敷位置之间升降。在此，旋转位置为抗蚀剂涂敷后的基板W被收放在杯17中旋转的位置，涂敷位置为由处理液供应喷嘴14在基板W上涂敷抗蚀剂的位置。
上述喷嘴移动机构15具备沿着水平延伸的移动导向件21往复移动的移动框架22。处理液供应喷嘴14经由喷嘴支承臂23可在水平方向上自由移动地支持在该移动框架22上。另外，上述喷嘴移动机构15不具备上下方向移动的机构。因此，防止了在处理液供应喷嘴14沿着移动导向件21移动时，处理液供应喷嘴14和基板W的距离变化。从而，在使处理液供应喷嘴14水平移动，在基板W上涂敷抗蚀剂时，可形成厚度均匀的涂敷膜。
上述抗蚀剂供应机构16包括具有密闭结构的加压罐24，和收放在该加压罐24内的抗蚀剂罐25。加压罐2 4通过加压配管27和未图示的氮气或者空气的供应源相连接。而且，在该加压配管27内配设有用于氮气的供应、排出切换的三通阀28和调节器29。而且，在抗蚀剂罐25内插入有连接该抗蚀剂罐25和处理液供应喷嘴14的抗蚀剂供应配管31的一端。在该抗蚀剂供应配管31中配设有开闭阀33。
在具有这种结构的抗蚀剂供应装置15中，在开闭阀33为打开的状态下，抗蚀剂罐25内的抗蚀剂在加压罐24内氮气的压力作用下经由抗蚀剂供应配管31压送到处理液供应喷嘴14，而且，通过开闭阀33的关闭而停止抗蚀剂的压送。
图2为示意表示处理液供应喷嘴14进行的抗蚀剂的供应动作的说明图。该处理液供应喷嘴14具有沿着其长度方向(在图2中为垂直于纸面的方向)延伸的狭缝状的排出口34。该排出口34长度方向的长度为基板W上矩形的元件形成部分短边的长度以上，但在此，与上述矩形的元件形成部分短边的长度大致相等。由抗蚀剂供应配管31供应的抗蚀剂35如图2所示，经由这种狭缝状的排出口34供应到基板W的表面上。
图3为处理液供应喷嘴14下端部的放大图。如该图所示，这种处理液供应喷嘴14为了使附着在其上的抗蚀剂35的量为最小而具有倾斜的侧面39。在该图中，符号38为形成排出口34的凸棱面。该凸棱面38构成侧面39的下端部。
以下，对通过上述的基板处理装置在基板W上涂敷抗蚀剂的涂敷动作加以说明。图4为表示通过基板处理装置在基板W上涂敷抗蚀剂的涂敷动作的说明图。另外，在以下的说明中，处理液供应喷嘴14的移动是通过上述的喷嘴移动机构15进行的。
在进行抗蚀剂的涂敷动作之前的状态中，处理液供应喷嘴14配置在和本发明的喷嘴清扫装置18对向的位置上。对于此时的处理液供应喷嘴14等的状态以后进行详细说明。
在这种状态下，当开始抗蚀剂的涂敷动作时，从使处理液供应喷嘴14待机在喷嘴清扫装置18上方的状态开始，使处理液供应喷嘴14如箭头①所示地水平移动到相对于喷嘴清扫装置18远方一侧的基板W的一端上方。然后，通过卡盘升降机构将基板W配置在涂敷位置上。此时，基板W的表面和处理液供应喷嘴14的排出口34的间隔为适于抗蚀剂涂敷的规定的值。
在这种状态下，在使抗蚀剂从处理液供应喷嘴14上的狭缝状排出口34排出的同时，使处理液供应喷嘴14如箭头②所示地沿着基板W的表面水平移动。在这种状态下，如图2所示，从处理液供应喷嘴14上的狭缝状的排出口34排出的抗蚀剂35薄膜状地涂敷在基板W的表面上。
若处理液供应喷嘴14上的狭缝状的排出口34移动到与基板W的另一端对向的位置，则停止从处理液供应喷嘴14上的狭缝状的排出口34排出抗蚀剂，并移动到喷嘴清扫装置18的上方。
以下，对本发明的喷嘴清扫装置18的结构加以说明。图5为将本发明的喷嘴清扫装置18和待机容器36一起表示的侧视图。
这种喷嘴清扫装置18具备：可沿着与上述的处理液供应喷嘴14平行配设的导轨41移动的托架42，通过使与该托架42连结的同步皮带143往复移动而使托架42与处理液供应喷嘴14平行地往复移动的马达44，以及配设在托架42上方的擦拭部45。该擦拭部45如以后所述，是用于擦拭处理液供应喷嘴14上狭缝状的排出口34的部件。该擦拭部45在马达44的驱动下在图5中实线所示的位置和双点化线所示的位置之间往复移动。
另一方面，待机容器36是在不涂敷抗蚀剂的状态下防止处理液供应喷嘴14上的狭缝状排出口34附近的抗蚀剂干燥而变质的容器。在该待机容器36的内部，例如储存有溶解抗蚀剂的溶剂等。该待机容器36的结构为在气缸37的驱动下可在图5中双点化线所示的其上端开口部和处理液供应喷嘴14上的狭缝状排出口34对向的上升位置以及实线所示的下降位置之间升降。因此，当在使处理液供应喷嘴14在喷嘴清扫装置18的上方待机的状态下待机容器36取上升位置时，处理液供应喷嘴14的排出口34露出在由待机容器36封闭的空间中，此时，由于该空间充满了包含溶剂的蒸汽的气体，所以防止了排出口34附近的抗蚀剂干燥。
以下，对上述的擦拭部45的结构加以说明。图6为擦拭部45的主视图，图7为擦拭部45的侧视图，而且，图8为擦拭部45的俯视图。另外，在图7和图8中，为了便于说明，省略了一部分擦拭部件52的图示。
该擦拭部45具备：壳体51，卷绕有长条的擦拭部件52的送出辊53，卷取从送出辊53送出的擦拭部件52的卷取辊54，向擦拭部件52供应清洗液的清洗液供应喷嘴55、56，以及第一、第二清扫机构57、58。另外，擦拭部件52使用了片状的多孔性物质。作为这种多孔性物质，可使用滤纸等的纸和无纺布等的布或者树脂。
在送出辊53的轴61上附设有齿轮62。该齿轮62经由齿轮63与回转式翻车机等张力发生部件64连结在一起。因此，送出辊53以具有一定阻力的状态旋转。
而且，如图9所示，在附设在送出辊53的轴61上的齿轮62的下方配设有用于限制送出辊53的旋转的旋转限制机构67。该旋转限制机构67具备连结在气缸66的气缸杆上的齿条部件65。该齿条部件65通过气缸66的驱动而在图9中实线所示的待机位置和图9中假想线所示的限制位置之间升降。在齿条部件65配置在限制位置的状态下，齿条部件65与齿轮62啮合，限制送出辊53的旋转。
再次参照图6至图8，卷取辊54的轴71经由联轴节72和马达73的轴74连结在一起。因此，卷取辊54在马达73的驱动下旋转。
在从送出辊53到卷取辊54的擦拭部件52的下方位置、即擦拭部件52的移动路径上的送出辊53和卷取辊54之间的位置上配设有第一清扫机构57，该第一清扫机构57用于将擦拭部件52向处理液供应喷嘴14推压，从而使擦拭部件52抵接在处理液供应喷嘴14上。
以下，对第一清扫机构57的结构加以说明。图10为表示第一清扫机构57的结构的说明图，图11为表示其主要部分的立体图。另外，图10(a)为取下第一清扫机构57的壳体75所看到的俯视图，图10(b)为第一清扫机构57的纵剖视图，图10(c)为第一清扫机构57的侧视图。而且，在图11中，以假想线表示出第一清扫机构57的壳体75。
该第一清扫机构57是用于使从送出辊53送出的擦拭部件52抵接在处理液供应喷嘴14上而对处理液供应喷嘴14进行清扫的机构，具备壳体75，下端部收放在该壳体75内的一对第一推压部件76，下端部收放在壳体75内的第二推压部件77，以及支承板80。用于向上述的擦拭部件52供应清洗液的清洗液供应喷嘴55(参照图8)配设在该第二清扫机构57的上方。
上述第一推压部件76是用于使擦拭部件52抵接在处理液供应喷嘴14的突棱面38上的部件。该第一推压部件76为其头部倒成圆弧状的弧形，以便在后述的处理液供应喷嘴14的清扫工序中缓和与处理液供应喷嘴14接触时的冲击。另外，也可以制成锥形以取代弧形。
在该第一推压部件76的下表面和支承板80之间配设有使第一推压部件76向擦拭部件52的方向依附的一对弹簧82。而且，在第一推压部件76的下端部上形成有用于防止第一推压部件76从壳体75上飞出的凸部81。
上述第二推压部件77是用于使擦拭部件52抵接在处理液供应喷嘴14的侧面39上的部件。在该第二推压部件77上形成有与处理液供应喷嘴14的侧面39的形状相对应的凹部78。而且，该第二推压部件77也为其头部倒成圆弧状的弧形，以便在后述的处理液供应喷嘴1 4的清扫工序中缓和与处理液供应喷嘴14接触时的冲击。
在该第二推压部件77的下表面和支承板80之间配设有使第二推压部件77向擦拭部件52的方向依附的一对弹簧83。而且，在第二推压部件77的下端部上形成有用于防止第二推压部件77从壳体75上飞出的凸部84。另外，在壳体75的内部配设有可相对于壳体75滑动的一对移动部件85，在该移动部件85和第二推压部件77之间配设有一对弹簧86。
第二推压部件77可在这些弹簧83、86和移动部件85的作用下移动地得到支承。即，该第二推压部件77在弹簧83、86和移动部件85的作用下，在后述的清扫工序中擦拭部45的移动方向为图10和图11所示的X方向的情况下，可向Y方向和Z方向移动。因此，即使在第一清扫机构57和处理液供应喷嘴14的位置精度存在误差的情况下，也能够使形成在第二推压部件77上的凹部78和处理液供应喷嘴14的侧面39可靠地抵接。
在第二推压部件77的上端部上形成有一对导向部79。该一对导向部79是用于对从送出辊53送出的擦拭部件52的两端进行引导的部件。即，如图12(a)所示，一对导向部77具有隔开与擦拭部件52的宽度大致相等的距离配置、并与擦拭部件52的两端抵接的结构。因此，在这些导向部的作用下，能够有效地防止擦拭部件52从第二推压部件77上部的位置脱离。
另外，在后述的清扫工序中，在经由擦拭部件52使处理液供应喷嘴14和第二推压部件77抵接的状态下，如图12(b)所示，擦拭部件52被处理液供应喷嘴14的侧面39推压，进入第二推压部件77上的凹部78内。
再次参照图6至图8，在擦拭部件52的移动路径上第一清扫机构57和卷取辊54之间的位置上配设有第二清扫机构58，该第二清扫机构58用于将已与处理液供应喷嘴14抵接后的擦拭部件52再次向处理液供应喷嘴14推压，从而使该擦拭部件52抵接在处理液供应喷嘴14上。
该第二清扫机构58具备用于引导擦拭部件52的固定导向辊87和升降导向辊88。固定导向辊87可旋转地支承在壳体51上。另一方面，升降导向辊88可旋转地支承在通过气缸90的驱动而升降的、大致为L字形的托架89的前端上。因此，升降导向辊88在气缸90的驱动下在图6中实线所示的清扫位置和假想线所示的退避位置之间升降。在此，该清扫位置为升降导向辊88使擦拭部件52抵接在处理液供应喷嘴14的突棱面38上，通过擦拭部件52对该处进行清扫的位置。另外，在该升降导向辊88的侧方配设有向上述的擦拭部件52供应清洗液的清洗液供应喷嘴56。
另外，在上述的擦拭部45上，采用了能够和送出辊53或卷取辊54等一起安装、拆卸第一、第二清扫机构57、57的盒式机构。
以下，对本发明的喷嘴清扫装置18进行的处理液供应喷嘴14的清扫动作加以说明。
在使用这种喷嘴清扫装置进行处理液供应喷嘴14的清扫动作时，在处理液供应喷嘴14位于清扫机构18上方的位置的状态下，待机容器36从图5中双点化线所示的上升位置下降到实线所示的下降位置。而且，擦拭部45停止在图5中假想线所示的行走行程右端位置上。该位置为擦拭部45配置在送出辊53一侧的端部上的位置。
之后，通过马达44的驱动，擦拭部45和托架42一起开始向图5中的左方移动。该方向为与处理液供应喷嘴14上的狭缝状排出口34平行的方向，并且是与卷取辊54进行的擦拭部件52的卷取方向相同的方向。而且，在擦拭部件52向左方移动时，第二清扫机构58的升降导向辊88配置在图6中实线所示的清扫位置上。
当在这种状态下擦拭部45继续移动时，最初，在第二清扫机构58的升降导向辊88的作用下，处理液供应喷嘴14的突棱面38和擦拭部件52抵接，通过擦拭部件52预备清扫处理供应喷嘴14的突棱面38。在这种预备清扫工序中，根据需要从清洗液供应喷嘴56向擦拭部件52供应清洗液。
此时，用于这种预备清扫的擦拭部件52如下所述，是在以前的清扫工序中已用于通过第一清扫机构57清扫了处理液供应喷嘴14的突棱面38和侧面39的部分。因此，虽然预备清扫中使用的擦拭部件52已在某种程度上被抗蚀剂污染，但由于之后实行第一清扫机构57进行的清扫，所以在预备清扫工序中，这种程度的污染没有问题。
之后，当擦拭部45继续移动时，在第一清扫机构57的作用下，处理液供应喷嘴14和擦拭部件52抵接，由擦拭部件52对处理液供应喷嘴14进行主清扫。
参照图13对第一清扫机构57进行的清扫动作加以详细说明。图13为表示第一清扫机构57进行的处理液供应喷嘴14的清扫动作的示意图。
当随着擦拭部45的移动，处理液供应喷嘴14和第一清扫机构57的配置关系从图13(a)所示的状态转为图13(b)所示的状态时，最初，在卷取辊54一侧的第一推压部件76的作用下，处理液供应喷嘴14的突棱面38和擦拭部件52抵接，由擦拭部件52清扫处理液供应喷嘴14的突棱面38。在这种状态下。卷取辊54一侧的第一推压部件76被处理液供应喷嘴14推压而下降。另外，如上所述，由于第一推压部件76的头部位倒成圆弧状的弧形，所以可缓和第一推压部件76和处理液供应喷嘴14接触时的冲击。
当擦拭部45从这种状态进一步移动，处理液供应喷嘴14和第一清扫机构57的配置关系转为图13(c)所示的状态时，在第二推压部件77的作用下，处理液供应喷嘴14的侧面39和擦拭部件52抵接，由擦拭部件52清扫处理液供应喷嘴14的侧面39。在这种状态下，第二推压部件77被处理液供应喷嘴14推压而下降。另外，如上所述，由于第二推压部件77的头部也为倒成圆弧状的弧形，所以可缓和第二推压部件77和处理液供应喷嘴14接触时的冲击。
此时，如上所述，由于第二推压部件77被支承在可向Y方向和Z方向移动，所以即使在第一清扫机构57和处理液供应喷嘴14的位置精度存在误差的情况下，也能够使形成在第二推压部件77上的凹部78和处理液供应喷嘴14的侧面39可靠地抵接。因此，能够使处理液供应喷嘴14的侧面39和擦拭部件52可靠地抵接，由擦拭部件52可靠地清扫处理液供应喷嘴14的侧面39。
当擦拭部45进一步移动，处理液供应喷嘴14和第一清扫机构57的配置关系转为图13(d)所示的状态时，在送出辊53一侧的第一推压部件76的作用下，处理液供应喷嘴14的突棱面38和擦拭部件52再次抵接，由擦拭部件52再次清扫处理液供应喷嘴14的突棱面38。在这种状态下，卷取辊54一侧的第一推压部件76被处理液供应喷嘴14推压而下降。另外，由于该第一推压部件76的头部也为倒成圆弧状的弧形，所以可缓和第一推压部件76和处理液供应喷嘴14接触时的冲击。
在上述的第一清扫机构57进行的处理液供应喷嘴14的清扫时，根据需要从清洗液供应喷嘴55向擦拭部件52供应清洗液。而且，在第一清扫机构57进行处理液供应喷嘴14的清扫时，在马达73的驱动下，卷取辊54以低速旋转。因此，可由新的擦拭部件52清扫处理液供应喷嘴14的突棱面38和侧面39。而且，由第一清扫机构57进行了清扫后的擦拭部件52如上所述，再次用于第二清扫机构58进行的预备清扫。
另外，在处理液供应喷嘴14上的狭缝状排出口34的长度方向的长度较短的情况下，也可以不使卷取辊5旋转地清扫处理液供应喷嘴14的突棱面38和侧面39。
通过以上的动作，擦拭部45从图5中假想线所示的行走行程右端的位置移动到图5中实线所示的行走行程左端的位置时，在马达44的驱动下，擦拭部45和托架42一起向图5中所示的右方移动。该方向为与处理液供应喷嘴14上的狭缝状排出口34平行的方向，而且是和卷取辊54进行的擦拭部件52的卷取方向相反的方向。
在该擦拭部件52向左方移动时，在第一清扫机构57的作用下，由擦拭部件52再次清扫处理液供应喷嘴14的突棱面38和侧面39。但是，在该擦拭部件52向左方移动时，第二清扫机构58的升降导向辊88配置在图6中假想线所示的退避位置。因此，清扫后的处理液供应喷嘴14的突棱面38和侧面39不会和预备清扫中使用过的擦拭部件52抵接而污染。
而且，当该擦拭部件52向左方移动时，图9中所示的旋转限制机构67的齿条部件65配置在限制位置，送出辊5 3的旋转受到限制。因此，在擦拭部件52向左方移动时，即使在擦拭部件52因擦拭部件52和处理液供应喷嘴14之间的摩擦力而被拉伸的情况下，送出辊53也不会反转。
之后，若擦拭部45移动到图5中假想线所示的行走行程右端的位置，则处理液供应喷嘴14的清扫动作结束。但是，也可以使擦拭部45往返数次对处理液供应喷嘴14进行清扫。
另外，在上述的实施方式中，对本发明的喷嘴清扫装置18适用于在通过处理液供应喷嘴14在基板W上涂敷了抗蚀剂后、通过旋转卡盘13使该基板W旋转的结构的基板处理装置中的情况进行了说明，但本发明的喷嘴清扫装置也适用于在通过处理液供应喷嘴14向基板W上供应了处理液后、不使基板W旋转的类型的基板处理装置。
而且，在上述的实施方式中，对在第一清扫机构57上配设了多个第一推压部件76的情况进行了说明，但也可以在第一清扫机构57上配设多个第二推压部件77。
Claims (14)
1.一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：
卷绕有长条的擦拭部件的送出辊；
卷取从送出辊沿上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的卷取辊；
使上述卷取辊旋转的旋转机构；
第一清扫机构，通过使从上述送出辊送出的擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行清扫；
第二清扫机构，在由上述第一清扫机构对上述处理液供应喷嘴进行清扫之前，通过使从上述送出辊送出的擦拭部件上在上述第一清扫机构的作用下和上述处理液供应喷嘴抵接后的区域抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行预备清扫。
2.一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：
擦拭部，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件的送出辊，卷取从上述送出辊沿上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的卷取辊，使上述卷取辊旋转的旋转机构，用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配设在上述擦拭部件的移动路径上的上述送出辊和上述卷取辊之间的位置上的第一清扫机构，以及用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配设在上述擦拭部件的移动路径上的上述第一清扫机构和上述卷取辊之间的位置上的第二清扫机构；
使上述擦拭部向上述处理液供应喷嘴上的排出口长度方向往复移动的移动机构。
3.根据权利要求2所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
上述第二清扫机构是在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相同的方向移动时使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，而在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相反的方向移动时离开上述处理液供应喷嘴。
4.根据权利要求3所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
上述旋转机构在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相同的方向移动时使上述卷取辊旋转。
5.根据权利要求3所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
具备旋转限制机构，在上述擦拭部向与上述卷取辊进行的擦拭部件的卷取方向相反的方向移动时，限制上述送出辊的旋转。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
上述第一清扫机构具备使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴的突棱面上的第一推压部件，以及使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴的侧面上的第二推压部件。
7.根据权利要求6所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
上述第一清扫机构具备多个上述第一推压部件或上述第二推压部件。
8.根据权利要求6所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
在上述第二推压部件上形成有与上述处理液供应喷嘴的侧面的形状相对应的凹部，并且还具备支承该第二推压部件、使其能够移动的支承机构。
9.根据权利要求8所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
上述支承机构由多个弹簧构成，在擦拭部的移动方向为X方向的情况下，对上述第二推压部件进行支承、使其能够向Y方向和Z方向移动。
10.根据权利要求8所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
上述第二推压部件具有对从上述送出辊送出的擦拭部件的两端进行引导的导向部。
11.根据权利要求6所述的喷嘴清扫装置，其特征是，
具备向上述擦拭部件供应清洗液的清洗液供应机构。
12.一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：
供应长条的擦拭部件的供应单元；
回收从供应单元沿着上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的回收单元；
第一清扫机构，通过使从上述供应单元供应的擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行清扫；
第二清扫机构，在由上述第一清扫机构对上述处理液供应喷嘴进行清扫之前，通过使从上述供应单元供应的擦拭部件上在上述第一清扫机构的作用下和上述处理液供应喷嘴抵接后的区域抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行预备清扫。
13.一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：
擦拭部，所述擦拭部具备供应长条的擦拭部件的供应单元，回收从上述供应单元沿着上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的回收单元，用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配设在上述擦拭部件的移动路径上的上述供应单元和上述回收单元之间的位置上的第一清扫机构，以及用于使上述擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上的、配置在上述擦拭部件的移动路径上的上述第一清扫机构和上述回收单元之间的位置上的第二清扫机构；
使上述擦拭部沿着上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向往复移动的移动机构。
14.一种基板处理装置，其特征是，包括：
保持基板的基板保持机构；
一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于由上述保持机构保持的基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴；
权利要求1、2、12、13中任一项所述的喷嘴清扫装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP293302/2002 | 2002-10-07 | ||
| JP293302/02 | 2002-10-07 | ||
| JP2002293302A JP3940054B2 (ja) | 2002-10-07 | 2002-10-07 | ノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1497659A true CN1497659A (zh) | 2004-05-19 |
| CN1252798C CN1252798C (zh) | 2006-04-19 |
Family
ID=32284253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB031326617A Expired - Fee Related CN1252798C (zh) | 2002-10-07 | 2003-09-30 | 喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3940054B2 (zh) |
| KR (1) | KR100578392B1 (zh) |
| CN (1) | CN1252798C (zh) |
| TW (1) | TWI234797B (zh) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100418641C (zh) * | 2004-10-04 | 2008-09-17 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置以及基板处理方法 |
| CN101204707B (zh) * | 2006-12-15 | 2010-06-02 | 中外炉工业株式会社 | 排出管嘴清洗设备 |
| CN102674702A (zh) * | 2011-03-07 | 2012-09-19 | 东丽工程株式会社 | 清扫部件、涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法 |
| CN109248892A (zh) * | 2017-07-12 | 2019-01-22 | 哈里斯股份有限公司 | 清扫系统、透明基板的清扫方法及电子部件的制造方法 |
| CN109285798A (zh) * | 2017-07-21 | 2019-01-29 | 细美事有限公司 | 基板处理设备及基板处理方法 |
| CN110121472A (zh) * | 2016-11-02 | 2019-08-13 | 株式会社瑞光 | 片体送出系统及片体送出方法 |
| CN110891697A (zh) * | 2017-07-27 | 2020-03-17 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100945360B1 (ko) | 2005-12-29 | 2010-03-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 롤 스토커 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 |
| KR100787908B1 (ko) | 2006-07-28 | 2007-12-27 | 주식회사 케이씨텍 | 예비 토출 장치와 이를 포함하는 기판 코팅 장치 및 기판 코팅 방법 |
| KR200467097Y1 (ko) * | 2007-11-30 | 2013-05-27 | 주식회사 케이씨텍 | 슬릿코터의 예비토출장치 |
| JP2010240550A (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP5537581B2 (ja) * | 2012-03-08 | 2014-07-02 | 株式会社東芝 | 塗布装置及び塗布体の製造方法 |
| CN103567160B (zh) * | 2012-07-27 | 2015-07-15 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种自动清洁印刷电路板的装置及其使用方法 |
| CN105436037B (zh) * | 2016-01-06 | 2018-10-30 | 苏州赛腾精密电子股份有限公司 | 一种针头清胶机构及点胶机 |
| US11919031B2 (en) | 2019-10-28 | 2024-03-05 | Kyocera Corporation | Coating device and wiping method |
-
2002
- 2002-10-07 JP JP2002293302A patent/JP3940054B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-09-03 TW TW092124338A patent/TWI234797B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-30 CN CNB031326617A patent/CN1252798C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-02 KR KR1020030068555A patent/KR100578392B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101276148B (zh) * | 2004-10-04 | 2011-06-01 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置 |
| CN100418641C (zh) * | 2004-10-04 | 2008-09-17 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置以及基板处理方法 |
| CN101204707B (zh) * | 2006-12-15 | 2010-06-02 | 中外炉工业株式会社 | 排出管嘴清洗设备 |
| CN102674702A (zh) * | 2011-03-07 | 2012-09-19 | 东丽工程株式会社 | 清扫部件、涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法 |
| CN102674702B (zh) * | 2011-03-07 | 2014-05-28 | 东丽工程株式会社 | 清扫部件、涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法 |
| CN110121472A (zh) * | 2016-11-02 | 2019-08-13 | 株式会社瑞光 | 片体送出系统及片体送出方法 |
| US11352230B2 (en) | 2016-11-02 | 2022-06-07 | Zuiko Corporation | Sheet-feeding system and sheet-feeding method |
| CN109248892B (zh) * | 2017-07-12 | 2022-04-15 | 哈里斯股份有限公司 | 清扫系统、透明基板的清扫方法及电子部件的制造方法 |
| CN109248892A (zh) * | 2017-07-12 | 2019-01-22 | 哈里斯股份有限公司 | 清扫系统、透明基板的清扫方法及电子部件的制造方法 |
| CN109285798A (zh) * | 2017-07-21 | 2019-01-29 | 细美事有限公司 | 基板处理设备及基板处理方法 |
| CN109285798B (zh) * | 2017-07-21 | 2022-04-15 | 细美事有限公司 | 基板处理设备及基板处理方法 |
| US11927886B2 (en) | 2017-07-21 | 2024-03-12 | Semes Co., Ltd. | Substrate treating method |
| CN110891697B (zh) * | 2017-07-27 | 2022-02-25 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质 |
| CN110891697A (zh) * | 2017-07-27 | 2020-03-17 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200414277A (en) | 2004-08-01 |
| KR20040032055A (ko) | 2004-04-14 |
| CN1252798C (zh) | 2006-04-19 |
| TWI234797B (en) | 2005-06-21 |
| JP2004122067A (ja) | 2004-04-22 |
| JP3940054B2 (ja) | 2007-07-04 |
| KR100578392B1 (ko) | 2006-05-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1252798C (zh) | 喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置 | |
| CN2832525Y (zh) | 喷墨记录装置 | |
| CN1830672A (zh) | 喷墨涂敷装置及喷墨头的清洁方法 | |
| CN1290707C (zh) | 液滴喷头的擦拭单元以及具备该单元的装置 | |
| CN101930184B (zh) | 显影处理装置 | |
| CN102161028A (zh) | 狭缝喷嘴清洗装置和涂覆装置 | |
| CN2784187Y (zh) | 喷墨记录设备 | |
| CN1908819A (zh) | 显影处理装置以及显影处理方法 | |
| JP2007529106A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板保持装置 | |
| CN110114857B (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
| WO2007116609A1 (ja) | 予備吐出装置及び予備吐出方法 | |
| CN110698049B (zh) | 一种玻璃切割机 | |
| CN1693081A (zh) | 头维护装置和装有该装置的喷墨打印机 | |
| CN1278391C (zh) | 干燥装置 | |
| CN1453075A (zh) | 膜体形成装置、镜片的制造方法、彩色滤光片的制造方法以及有机el装置的制造方法 | |
| CN103386812A (zh) | 丝网印刷装置 | |
| CN1750232A (zh) | 基板的处理装置 | |
| CN1231352C (zh) | 液体喷射设备 | |
| JP2004122065A (ja) | ノズル清掃装置およびこのノズル清掃装置を備えた基板処理装置 | |
| CN101061761A (zh) | 基板的处理装置、输送装置及处理方法 | |
| JP4437499B2 (ja) | ノズル洗浄機構および基板処理装置 | |
| JP3964254B2 (ja) | ノズル洗浄機構および基板処理装置 | |
| CN1680049A (zh) | 清洗装置 | |
| CN1130128A (zh) | 薄膜形成装置及薄膜形成方法 | |
| JP2023009394A (ja) | 液滴吐出装置及び液滴吐出方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20060419 Termination date: 20120930 |