KR100313724B1 - 제초제 - Google Patents

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KR100313724B1
KR100313724B1 KR1019940001904A KR19940001904A KR100313724B1 KR 100313724 B1 KR100313724 B1 KR 100313724B1 KR 1019940001904 A KR1019940001904 A KR 1019940001904A KR 19940001904 A KR19940001904 A KR 19940001904A KR 100313724 B1 KR100313724 B1 KR 100313724B1
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브라쇼트 샤를르
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
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Abstract

본 발명은 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염 ; 및 제초제로서 그의 사용에 관한 것이다.
[식중 :
R 은 수소원자 또는 -CO2R4기를 나타내며 ;
R1은 알킬, 할로알킬 또는 임의로 치환된 시클로알킬기를 나타내며 ;
R2는 할로겐, 임의로 할로겐화된 알킬, 알케닐, 또는 알키닐, 1 이상의 -OR5로 치환된 알킬 ; 또는 니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -COR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5, -OSO2R7및 -(CR9R10)t-s(O)qR7중에서 선택된 기를 나타내며 ;
R3은 -S(O)qR7을 나타내고 ;
X 는 -(CR9R10)t- 를 나타내며 ;
n 은 0 또는 1 내지 4 의 정수를 나타내고 ;
R4는 알킬 또는 할로알킬기를 나타내며 ;
R5는 임의로 할로겐화된 알킬, 알케닐 또는 알키닐을 나타내고 ;
R8, R61및 R62는, 같거나 다를 수 있으며, 각각 알킬, 할로알킬 또는 임의로 치환된 페닐을 나타내며 :
R7은 임의로 할로겐화된 알킬, 알케닐 또는 알키닐 또는 임의로 치환된 페닐 또는 벤질을 나타내고 ;
R8은 수소 또는 임의로 할로겐화된 알킬, 알케닐 또는 알키닐을 나타내며 ;
R9및 R10은, 같거나 다를 수 있으며, 각각 수소, 알킬, 할로알킬 또는 임의로 치환된 페닐을 나타내고 ;
P 는 0, 1 또는 2 를 나타내며 ;
q 는 0, 1 또는 2를 나타내고 ;
m 은 1, 2 또는 3 를 나타내며 ;
t 는 1 내지 4 의 정수를 나타낸다]

Description

제초제
본 발명은 새로운 4 - 벤조일이속사졸 유도체, 그를 함유하는 조성물, 그의 제조방법, 그 제조에 있어서의 중간체 및 제초제로서의 그의 사용에 관한 것이다.
제초적 4 - 벤조일이속사졸은 유럽 특허공고 제 0418175 호에 기재되어 있다.
본 발명에서는 유용한 제초특성을 지닌 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체 및 농업적으로 허용가능한 그의 염을 제공한다.
[식중 :
R 은 수소원자 또는 -CO2R4기를 나타내며 :
R1은 :
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 : 또는
1 이상의 R5기 또는 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 3 내지 6 의 시클로알킬기를 나타내며 :
R2는 :
할로겐 원자 ; 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알케닐 또는 알키닐기 ;
1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는 니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -COR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5, -OSO2R7및 -(CR9R10)t-S(O)qR7중 선택된 기를 나타내며;
R3은 -S(O)qR7을 나타내고 ;
X 는 -(CR9R10)t- 를 나타내며 ;
n 은 0 또는 1 내지 4 의 정수를 나타내며 ; n 이 1 보다 큰 경우 R2는 같거나 다를 수 있으며 ;
R4는 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R5는 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 3 ~ 6 의 직쇄 또는 측쇄 알케닐 또는 알키닐기를 나타내며 ;
R6, R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 :
같거나 다를 수 있는 1 내지 5 의 R2기로 임의로 치환된 페닐을 나타내며;
R7은
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 3 ~ 6 의 직쇄 또는 측쇄 알케닐 또는 알키닐기 ; 또는
-(CR51R52)u- [할로겐, 니트로, 시아노, 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기, 및 -S(O)pR4에서 선택된 같거나 다를 수 있는 1 내지 5 개의 기로 임의로 치환된 페닐] 을 나타내며 ;
R8은 :
수소원자 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 10 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 알케닐 또는 알키닐기를 나타내며 ;
R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
수소원자 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
같거나 다를 수 있는 1 내지 5 의 R2기로 임의로 치환된 페닐을 나타내며; R51및 R52는 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
수소원자 ; 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며,
p 는 0, 1 또는 2 를 나타내고 ;
q 는 0, 1 또는 2 를 나타내며 ;
m 은 1, 2 또는 3 을 나타내며 ;
t 는 1 내지 4 의 정수를 나타내며 ; t 가 1 보다 큰 경우 -CR9R10- 기는 같거나 다를 수 있으며 ;
u 는 0 또는 1 을 나타낸다.]
특정의 경우에 R 내지 R10, R51, R52, R61및 R62기는 광학 및/또는 입체이성질 현상을 일으킨다. 이러한 형태는 모두 본 발명에 포함된다.
"농업적으로 허용가능한 염" 이란 용어는 농업적 또는 원예적 사용을 위한 염의 형성기술에서 공지되고 허용된 양이온 또는 음이온염을 의미한다. 염은 수용성인 것이 바람직하다. 아미노기를 함유한 일반식 I 의 화합물에 의해 형성된 적절한 산 첨가 염으로는 예를 들면 염산염, 황산염, 인산염 및 질산염과 같은 무기산 염 및 예를 들면 아세트산과 같은 유기산 염이 포함된다.
상기 정의한 바의 R2에는 연결기를 통해 연결된 2 이상의 패닐 고리를 함유하는 치환체가 포함되지 않는 것으로 이해된다.
본 발명의 화합물은, 예를 들면 아마란투스 레트로플렉수스 (Amaranthus retroflexus), 에키노클로아 크루스 - 갈리 (Echinochloa crus-galli), 세타리아 위리디스 (Setaria viridis), 세타리아 화베리이 (Setaria faberii), 및 아웨나 화투아 (Avena fatua) 와 같은 중요한 잡초의 억제에서와 같은 그의 활성의 측면에서, 공지의 화합물 이상의 장점을 나타낸다.
일반식 (I) 의 화합물의 바람직한 군은 식중 :
R2는
할로겐 원자 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -COR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5, 및 -OSO2R7중에서 선택된 기를 나타내며 ;
R5는 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ; 및
R7은 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내는 화합물이다.
일반식 (I) 의 더욱 바람직한 군은 식중 :
R1은 :
탄소수 1 내지 3 의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
시클로프로필 또는 1 - 메틸시클로프로필기를 나타내며 ;
R2는 :
할로겐 원자 :
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는 니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CHZ)mOR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5및 -OSO2R7중에서 선택된 기를 나타내며 ;
R4는 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R5및 R6는 같거나 다를 수 있으며, 각각 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R7은 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R8은 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 알케닐 또는 알키닐기를 나타내며 ;
R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
수소원자 ; 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
n 은 0, 1 또는 2 를 나타내고 ; 및
t 는 1 을 나타내는 화합물이다.
일반식 (I) 의 화합물의 더욱 바람직한 군은 식중 :
R2는 :
할로겐 원자 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
-CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7및 -OR5중에서 선택된 기를 나타내며 ;
R4는 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R6, R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 :
R7은 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R8은 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 ;
수소원자 ; 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내는 화합물이다.
일반식 (I) 의 화합물의 더욱 바람직한 군은 식중 :
R1은 메틸, 이소프로필 또는 시클로프로필을 나타내고 ;
R2는 :
할로겐 원자 ;
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
또는
-CO2R5, -S(O)pR6, -NR61R62및 -OR5중에서 선택된 기를 나타내며 ;
R4는 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R5, R6, R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R7은 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
수소원자 : 또는
1 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ; 및
t 는 1 을 나타내는 화합물이다.
더욱 바람직한 화합물은 n 이 0 보다 큰 경우, 일반식 (I) 의 화합물의 벤조일 고리가 2, 4 - 이치환 또는 2, 3, 4 - 삼치환된 것이다. n 이 0 보다 크고, 일반식 (I) 의 화합물의 벤조일 고리가 2, 3 - 이치환된 일반식 (I) 의 화합물 또한 바람직하다.
일반식 (I) 의 화합물의 더욱 바람직한 군은 식중 :
R 은 수소 또는 -CO2Et 를 나타내며 ;
R1은 시클로프로필을 나타내며 ;
R2는 할로겐 원자 또는 -CF3, -S(O)pMe 및 -OMe 중에서 선택된 기를 나타내며;
X 는 -CHR9- 를 나타내고 ;
R3는 -S(O)qR7을 나타내며 ;
n 은 0, 1 또는 2 를 나타내며 ;
R7은 :
1 내지 3 의 불소 원자로 임의로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐기 ; 또는
페닐을 나타내며 ;
R9는 수소 또는 메틸을 나타내며 ; 및
p 및 q 는 같거나 다를 수 있으며, 각각 0, 1 또는 2 를 나타내는 화합물이다.
일반식 (I) 의 특히 중요한 화합물에 하기 화합물이 포함된다 :
1. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
2. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
3. 4 - [4 - 클로로 - 2 - 메틸술페닐 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
4. 4 - [4 - 클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
5. 4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
6. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (에틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
7. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술페닐메틸 - 4 - (트리플루오로메틸)벤조일] 이속사졸 ;
8. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
9. 5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 :
10. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (n - 프로필술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
11. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (이소프로필술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
12. 4 - [2 - (에틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
13. 5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 플루오로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
14. 4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2 - 프로페닐) 술페닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
15. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3 - 플루오로 - 4 - 메톡시 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
16. 4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2, 2, 2 - 트리플루오로에틸) 술페닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
17. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (t - 부틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
18. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (페닐술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 :
19. 4 - [2 - 클로로 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 :
20. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 플루오로 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
21. 4 - [2 - 브로모 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
22. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메톡시 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
23. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술페닐 - 4 - (메틸술페닐메틸) 변조일] 이속사졸;
24. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
25. 4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
26. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3,4 - 디클로로 - 2 - (1 - 메틸술페닐) 에틸] 벤조일이속사졸 ;
27. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (에틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
28. 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
29. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 플루오로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
30. 4 - [3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
31. 4 - [4 - 클로로 - 2 - 메톡시 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
32. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2, 4 - 디클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
33. 4 - [2 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
34. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
35. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
36. 4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
37. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
38. 5 - 시클로프로필 - 4 - {3, 4 - 디클로로 - 2 - [1 - (메틸술피닐) 에틸] 벤조일} 이속사졸 ;
39. 4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
40. 4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
41. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (에틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
42. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (에틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
43. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술피닐메틸 - 4 - (트리플루오로메틸)벤조일] 이속사졸 ;
44. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술포닐메틸 - 4 - (트리플루오로메틸)벤조일] 이속사졸 ;
45. 5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
46. 5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸:
47. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
48. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
49. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3,4 - 디클로로 - 2 - (에틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
50. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (에틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
51. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (n - 프로필술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
52. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (n - 프로필술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
53. 4 - [브로모 - 2 - (이소프로필술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
54. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (이소프로필술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
55. 에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
56. 에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
57. 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
58. 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
59. 에틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
60. 에틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
61. 4 - [3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
62. 4 - [3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
63. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 플루오로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
64. 4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2, 2, 2 - 트리플루오로에틸) 술포닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
65. 4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2 - 프로페닐) 술포닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 :
66. 4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2 - 프로페닐) 술피닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
67. 4 - {4 - 브로모 - 2 - [(1 - 프로페닐) 술피닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
68. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
69. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일)] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
70. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (t - 부틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
71. 4 - [4 - 브로모 - 2 - (페닐술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
72. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (에틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
73. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (에틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
74. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3 - 플루오로 - 4 - 메톡시 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
75. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술피닐메틸 - 2 - (메톡시) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
76. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2, 4 - 디클로로 - 3 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
77. 4 - [2 - 클로로 - 4 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
78. 4 - [2 - 클로로 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로피이속사졸 ;
79. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 플루오로 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
80. 4 - [2 - 브로모 - 4 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
81. 4 - [2 - 브로모 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
82. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메톡시 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
83. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술페닐 - 4 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
84. 4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
85. 5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
86. 4 - [4 - 클로로 - 2 - 메톡시 - 3 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
87. 5 - 시클로프로필 - 4 - [2, 4 - 디클로로 - 3 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
88. 에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
89. 에틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
90. 4 - [4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - (메틸술페닐) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸.
이후 참고 및 확인을 위해 이 화합물들에 1 내지 90 의 번호를 지정하였다.
예를 들던 하기 기재된 바와 같은 공지의 방법 (문서에 기재되거나 지금까지 사용된 방법 등) 을 사용 또는 변용하여 일반식 (I) 의 화합물을 제조한다.
하기에서 화학식에 나타나는 기호는 특정하게 정의된 것이 아니며, 명세서에서 각 기호의 첫번째 정의에 따라 "상기 정의된 바와 같은" 으로 이해된다.
하기 방법에서 순서는 서로 다른 순서로 수행될 수 있으며, 목적하는 화합물을 수득하기 위해 적절한 보호기가 요구되는 것으로 이해된다.
본 발명의 특징에 따르면 일반식 (II) 의 화합물과 히드록실아민 또는 히드록실아민염을 반응시켜 R 이 수소를 나타내는 일반식 (I) 의 화합물을 제조한다 :
(상기식에서 L 은 이탈기이며 R1, R2, R3, n 및 X 는 상기 정의된 바와 같다)
일반적으로 히드록실아민 히드로클로라이드가 바람직하다. L 은, 예를 들면 에톡시와 같은 알콕시, 또는 예를 들면 디메틸아미노와 같은 N,N - 디알킬아미노인 것이 일반적이다. 일반적으로 에탄올 또는 아세토니트릴과 같은 유기용매 또는 수혼화성 유기 용매 및 물의 혼합물 내에서, 바람직하게는 유기 용매 대 물의 비율이 1:99 내지 99:1 인 혼합물 내에서, 임의로 0 내지 100℃ 에서 트리에틸아민 또는 아세트산 나트륨과 같은 염기 또는 산 수용체 존재하에서 반응을 수행한다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 일반식 (III) 의 화합물과 그리냐르시약 또는 유기 리튬 시약과 같은 적절한 유기 금속 시약을 반응시켜 R 이 수소를 나타내는 일반석 (I) 의 화합물을 제조한다.
(상기 식에서 R1은 상기 정의된 바와 같으며 Y 는 카르복시기 또는 카르복시산 염화물 또는 카르복시산 에스테르와 같은 그의 반응성 유도체, 또는 시아노기를 나타낸다) 일반적으로 0℃ 내지 혼합물의 환류 온도에서 에테르 또는 테트라히드로푸란과 같은 불활성 용매내에서 반응을 수행한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 일반식 (IV) 의 화합물과 일반식 R4O2CC(Z)=NOH (식중, R4는 상기 정의된 바와 같고 Z 는 할로겐 원자이다. 일반적으로 Z 는 염소 또는 브롬이다) 를 반응시켜 R 이 -CO2R4를 나타내고, q 는 0 또는 2 를 나타내며, R2가 상기 정의된 바와 같은 R2(단, p 는 0 또는 2 이다) 인 R21을 나타내는 일반식 (I) 의 화합물을 제조한다.
(상기 식에서 R1, R21, R3, X 및 n 은 상기 정의된 바와 같고, q 는 0 또는 2 이고, P 는 N,N - 디알킬아미노와 같은 이탈기를 나타낸다) 일반적으로 트리에틸아민과 같은 염기 또는 4Å 분자체 또는 불소이온과 같은 촉매존재하에 톨루엔 또는 디클로로메탄과 같은 불활성 용매하에 반응을 수행한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 일반식 (V) 의 화합물과 일반식 R4O2CC(Z)=NOH (식중, Z 및 R4는 상기 정의된 바와 같다) 인 화합물을 반응시켜, R이 -CO2R4이고, R2가 상기 정의된 바와 같은 R21(단, q 는 0 또는 2 이다) 을 나타내는 일반식 (I) 의 화합물을 제조한다.
(상기 식에서 R1, R21, R3, X 및 n 은 상기 정의된 바와 같으며 q 는 0 또는 2 이다) 임의로 트리에틸아민과 같은 염기 또는 4Å 분자체 또는 불소 이온과 같은 촉매 존재하에서, 일반적으로 톨루엔 또는 디클로로메탄과 같은 불활성 용매내에서 반응을 수행한다. 실온 내지 혼합물의 환류 온도에서 반응을 수행한다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 일반식 (IV) 의 화합물의 염과 일반식 R4O2CC(Z)=NOH (R4및 Z 는 상기 정의된 바와 같다) 인 화합물을 반응시켜, R 가 -CO2R4를 나타내고, R2가 상기 정의된 바와 같은 R21(단, q 는 0 또는 2 이다) 을나타내는 일반식 (I) 의 화합물을 제조한다.
(상기 식에서 R1, R21, R3, X 및 n 은 상기 정의된 바와 같으며 q 는 0 또는 2 이다) 바람직한 염으로는 나트륨 또는 마그네슘 염이 포함된다. 실온 내지 혼합물의 환류 온도에서 디클로로메탄 또는 아세토니트릴과 같은 불활성 용매내에서 반응을 수행한다.
공지의 방법을 사용 또는 변용하여 일반식 (I) 의 화합물 제조에 있어서의 중간치를 제조한다.
일반식 (VI) 의 화합물과 트리에틸 오르토포르메이트와 같은 트리알킬 오르토포르메이트 또는 N,N - 디메틸포름아미드 디메틸 아세탈과 같은 N,N - 디메틸포름아미드 디알킬 아세탈중 하나를 반응시켜, L 이 알콕시 또는 N,N - 디알킬아미노를 나타내는 일반식 (II) 의 화합물을 제조한다.
혼합물의 환류 온도에서 아세트산 무수물 존재하에 트리에틸 오르토포르메이트와의 반응을 수행하고 임의로 실온 내지 혼합물의 환류 온도에서 불활성용매 존재하의 디메틸포름아미드 디알킬 아세탈과의 반응을 수행한다.
일반식 (VII) 의 화합물과 일반식 (VIII) 의 벤조일 클로라이드를 반응시켜일반식 (IV) 의 화합물을 제조한다 :
(상기 식에서, R1, R21, R3, X, n 및 P 는 상기 정의된 바와 같으며, 단 -XR3 기는 카르복시기에 오르토위치가 아니고, q 는 0 또는 2 이다) 일반적으로 -20℃ 내지 실온에서 톨루엔 또는 디클로로메탄과 같은 불활성 용매내에서 트리에틸아민과 같은 유기 염기 존재하에서 반응을 수행한다.
일반석 (IX) 의 아세틸렌의 금속화후 수득된 금속염과 일반식 (VIII) 의 벤조일 클로라이드를 반응시켜 일반식 (V) 의 화합물을 제조한다.
R1C≡CH (IX)
(상기 식에서 R1은 상기 정의된 바와 같다) 일반적으로 -78℃ 내지 0℃ 에서 에테르 또는 테트라히드로푸란과 같은 불활성 용매내에서 n - 부틸리튬을 사용하여 금속화를 수행한다. -78℃ 내지 실온에서 동일한 용매내에서 벤조일 클로라이드와의 다음 반응을 수행한다.
일반식 (VIII) 의 산염화물과 일반식 (X) 의 화합물의 금속염을 반응시켜 일반식 (XI) 의 화합물을 제조하고 난 후 디카르복실화시켜 일반식 (VI) 의 화합물을제조한다.
(식중 R1, R21, R3, X 및 n 은 상기 정의된 바와 같으며 q 는 0 또는 2 이다)일반적으로 저급 알콜, 바람직하게는 메탄올과 같은 용매내에서 일반식 (X) 의 화합물의 금속염을 제조하는 반응을 수행한다. 금속은 마그네슘인 것이 바람직하다. 다음에 톨루엔 또는 아세토니트릴과 같은 불활성 용매내에서 일반식 (X) 의 화합물의 금속 염과 일반식 (VIII) 의 산 염화물을 반응시킨다. 일반적으로 톨루엔과 같은 불활성 용매내에서 파라 - 톨루엔술폰산과 같은 촉매 존재하에서 일반식 (XI) 의 화합물을 환류시켜 디카르복실화를 수행한다.
일반식 (XII) 의 벤조산에스테르를 일반식 (xIII) 의 화합물과 반응시켜 일반식 (VI) 의 화합물을 제조한다.
(상기 식에서 R21, R3, X, n 및 R1은 상기 정의된 바와 같으며, q 는 0 또는 2 이고 R11은 저급 알킬기를 나타낸다) 일반적으로 0℃ 내지 환류온도에서 염기존재하에 (바람직하게는 수소화나트륨과 같은 알칼리금속 염기), 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 또는 N,N - 디메틸포름아미드와 같은 용매내에서 반응을 수행한다.
일반식 (XIV) 의 벤조산을 혼합물의 환류온도에서 예를 들어 티오닐클로라이드와 같은 염소화 시약과 반응시켜, -XR3기가 카르복시기에 오르토위치가 아닌 일반식 (VIII) 의 산염화물을 제조한다.
(상기 식에서 R21, R3, X 및 n 은 상기 정의된 바와 같으며 q 는 0 또는 2 이고, -XR3기는 카르복시기에 오르토위치가 아니다) 일반식 (XIV) 의 벤조산의 다수가 새로운 것이며 그 자체로서 본 발명의 또 다른 특징을 구성한다. 특히, -XR3가 -CH2S(O)qR7이고 벤조산의 2 - 위치에 있으며 ; (R21)n은 3,4 - 디할로겐, 3 - 할로겐, 3 - SMe - 4 - 할로겐, 3 - SMe, 4 - 브로모, 4 - 플루오로, 4 - CF3및 4 - OCF3에서 선택된 것이며 ; q 는 0, 1 또는 2 및 R7은 탄소수 3 이하를 함유하는 직쇄, 측쇄 또는 할로알킬기를 나타내는 일반식 (XIV) 의 화합물이 바람직하다. 또한, -XR3가 -CH2S(O)qR7이고 벤조산의 3 - 위치에 있으며 ; (R21)n은 4 - 할로겐 - 2 - (-SMe, -OMe 또는 -할로겐) 이고 ; q 는 0, 1 또는 2 및 R7은 탄소수 3 이하를 함유하는 직쇄 또는 측쇄 또는 할로알킬기인 일반식 (XIV) 의 화합물도 바람직하다.
-XR3기가 수소원자로 교체된 해당되는 일반식 (XII) 의 화합물과 염소화제 (바람직하게는 N - 클로로숙신이미드 또는 t - 부틸 하이포클로리트) 를 반응시킨 후, 일반식 MeS-R7의 술피드 및 염기 (바람직하게는 트리에틸아민 또는 소듐 메톡시드와 같은 소듐 알콕시드) 와 -78℃ 내지 50℃ 에서 디클로로메탄과 같은 불활성 용매내에서 반응시켜, 식중 -XR3는 -CH2SR7이고 R21기중 하나가 -XR3기에 오르토위치인 비치환 아미노기인 일반식 (XII) 의 화합물을 제조한다. 반응은 -NR3가 -CH2SMe 를 나타내는 일반식 (XII) 의 화합물을 제조하는데 특히 유용하며 문헌에 기재되어 있다 (예를 들면 Gassman 등 J.American Chem. Soc., Vol. 95, page 588, 1973). 표준 디아조화 화학을 사용하여 비치화된 아미노기를 다른 R21기로 전환시킨다.
-XSR7이 -XL (식중 L 은 이탈기이며 바람직하게는 브롬 또는 염소이다) 로 교체된 일반식 (XII) 의 해당되는 화합물과 일반식 HSR7의 티올 또는 바람직하게는 그의 염 (나트륨 또는 칼륨염) 을 반응시켜, -XR3가 -XSR7을 나타내는 일반식 (XII) 의 화합물을 제조한다. 임의로 요오드화 나트륨, 요오드화 칼륨 또는 요오드화 테트라알킬암모늄과 같은 요오드화물 존재하에서 반응을 수행하며, 티올 HSR7의 염은 미리 형성시키거나 또는 티올모체에 염기 (예를 들어 탄산 나트륨 또는 탄산 칼륨, 수소화나트륨 또는 소듐알콕시드) 를 처리하여 자체로서 생성시킨다.
일반식 (III), (VII), (IX), (X), (XII) 및 (XIII) 의 중간체는 공지되어 있거나 또는 공지의 방법을 사용 또는 변용하여 제조한다.
다른 일반식 (I) 의 화합물의 내부 변환으로 일반식 (I) 의 몇몇 화합물을 제조하며 이러한 내부변환은 본 발명의 또 다른 특징을 구성하는 것으로 당해 분야의 전문가들은 평가할 것이다. 이러한 내부변환의 예를 하기에 기술한다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 해당되는 화합물 (단, p 및/또는 q 는 0 또는 1) 의 황원자의 산화로 p 는 1 또는 2 및/또는 q 는 1 또는 2 인 화합물을 제조한다. 일반적으로, 예를 들면 -40℃ 내지 실온에서 디클로로메탄과 같은 불활성 용매내에서 3 - 클로로퍼옥시벤조산, 또는 아세트산 무수물 또는 진한 황산 존재하에서 아세트산 내의 과산화수소를 사용하거나, 산화제로 포타슘 퍼옥시모노술페이트를 사용하여 황원자의 산화를 수행한다.
하기의 실시예들은 일반식 (I) 의 화합물 제조를 설명하고 하기의 참고예들은 발명의 중간체의 제조를 설명한다. 본 명세서에서 b.p 는 비점을 의미하고 ; m.p 는 융점을 의미하며 ; cPr 은 시클로프로필을 나타낸다.
실시예 1
에탄올내의 1 - (4 - 브로모 - 2 - 메틸술페닐메틸페닐) - 3 - 시클로프로필 - 2 - N,N - 디메틸아미노메틸렌 프로판 - 1,3 - 디온 (2 g) 및 히드록실아민 히드로클로라이드 (0.45 g) 의 혼합물을 실온에서 1 시간 동안 교반한다. 반응혼합물을 물에 붓고, 에테르로 추출하여 무수황산 나트륨으로 건조시킨다. 용매를 증발시켜 갈색 고무를 수득하여 실리카겔 상의 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 (화합물 1, 1.22 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.22 (2H, m), 1.47 (2H, m), 2.00 (3H, s), 2.69 (1H, m), 3.85 (2H, s), 7.29 (1H, m), 7.50 (1H, m), 7.59 (1H, m), 8.20 (1H, s).
유사한 방법으로 적절한 초기물질로부터 일반식 I 의 하기 화합물을 제조한다.
NMR (특별한 언급이 없으면 CDCl3)
(a) 1.0 (t,3H), 1.05 (m,2H), 1.2 (m,2H), 2.35 (q,3H), 2.5 (m,1H), 3.75 (s,2H), 7.15 (d,1H), 7.35 (d,1H), 7.5 (s,1H), 8.05 (s,1H).
(b) 1.11 (m,2H), 1.25 (m,2H), 1.9 (5,3H), 2.5 (m,1H), 3.82 (s,2H), 7.33 (m,4H), 8.17 (s,1H).
(c) 1.25 (m,2H), 1.4 (m,2H), 2.0 (s,3H), 2.5 (s,3H), 2.65 (m,1H), 3.9 (s,2H), 7.15 (d,1H), 7.25 (s,1H), 7.35 (d,1H), 8.25 (s,1H).
(d) 0.95 (t,3H), 1.3 (m,2H), 1.4 (m,2H), 1.55 (m,2H), 2.4 (t,2H), 2.6 (m,1H), 3.9 (s,2H), 7.25 (d,1H), 7.45 (d,1H), 7.55 (s,1H), 8.2 (s,1H).
(e) 1.12 (m,SH), 1.27 (m,2H), 2.3 (q,2H), 2.51 (m,1H), 3.88 (s,2H), 7.28 (m,4H), 8.17 (s,1H).
(f) 1.13 (m,2H), 1.25 (m,2H), 1.92 (s,3H), 2.5(m,1H), 3.8 (s,2H), 6.96 (m,1H), 7.1 (dd,1H), 7.33 (dd,1H), 8.13 (s,1H).
(g) 1.25 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.6 (m,1H), 3.0 (d,2H), 3.8 (s,2H), 5.1 (dd,2H), 5.7 (m,1H), 7.3 (d,1H), 7.45 (d,1H), 7.55 (s,1H), 8.2 (s,1H).
(h) 1.2 (m,2H), 1.3 (m,2H), 2.55 (m,1H), 2.95 (q,2H), 3.95 (s,2H), 7.25 (d,1H), 7.45 (d,1H), 7.5 (s,1H), 8.1 (s,1H).
(i) 1.35 (m,2H), 1.45 (m,2H), 2.55 (m,1H), 4.3 (s,2H), 7.2 (d,1H), 7.25 (m,5H), 7.5 (d,1H), 7.6 (s,1H), 8.15 (s,1H).
(j) 1.25 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.0 (s,3H), 2.8 (m,1H), 3.7 (s,2H), 7.1 ∼ 7.3 (m,2H), 7.55 (t,1H), 8.3 (s,1H).
(k) 1.2 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.0 (s,3H), 2.6 (m,1H), 3.65 (s,2H), 7.2 ~ 7.4 (m,2H), 7.6 (s,1H), 8.15 (s,1H).
(I) 1.2 (m,2H), 1.3 (m,2H), 2.0 (s,3H), 2.75 (m,1H), 3.65 (s,2H), 3.8 (s,3H), 6.95 (m,2H), 7.4 (d,1H), 8.2 (s,1H).
(m) 1.2 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.0 (brs,3H), 2.5 (s,3H), 2.7 (m,1H), 3.7 (brs,2H), 7.1 (d,1H), 7.3 (s,1H), 7.45 (d,1H), 8.2 (s,1H).
실시예 2
메탄올 내의 1 - [4 - 클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) - 2 - (메틸술페닐) 페닐] - 2 - 에톡시메틸렌 - 3 - 시클로프로필프로판 - 1, 3 - 디온 (2.3 g), 히드록실아민 히드로클로라이드 (0.52 g) 및 아세트산 나트륨 (0.46 g) 을 실온에서 하룻밤 교반한다. 생성된 혼합물을 여과하고 고체를 수집하여, 수세하고 공기 중 건조시켜 황색 고체로서 융점이 79.9 내지 80.5℃ 인 4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐) - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 (화합물 3, 0.46 g) 을 수득한다.
유사한 방법으로 화합물 4 를 제조한다.
NMR (CDCl3) 1.3 (2H,m), 1.4 (2H,m), 2.1 (3H,s), 2.75 (1H,m), 3.85 (2H,m), 7.55 (1H,d), 7.65 (1H,m), 7.8 (1H,d), 8.4 (1H,s).
또한, 유사한 방법으로 적절한 초기 물질로부터 일반식 I 의 하기 화합물을제조한다.
NMR (특별한 언급이 없으면 CDCl3)
(a) 1.25 (m,4H), 2.0 (s,3H), 2.4 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.3 (s,2H), 7.3 (dd,2H), 8.2 (s,1H).
(b) 1.2 (m,4H), 1.95 (s,3H), 2.4 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.3 (s,2H), 7.3 (dd,2H), 8.2 (s,1H).
(c) 1.2 (m,4H), 2.2 (s,3H). 2.6 (m,1H), 4.05 (s,2H), 7.3 (dd,2H), 8.15 (s,1H).
(d) 1.2 (m,4H), 1.9 (s,3H), 2.5 (m,1H), 4.0 (s,2H), 7.25 (dd,2H) 8.1(m,1H).
(e) 1.2 ∼ 1.45 (m,4H), 2.05 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.2 (s,2H), 7.25 (d,1H), 7.45 (d,1H), 8.2 (s,1H).
(f) 1.25 (m,4H), 2.15 (s,3H), 2.55 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.05 (s,2H), 7.2 (dd,2H), 8.15 (s,1H).
(g) 1.1 ~ 1.4 (m,4H), 2.05 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.1 (s,2H), 7.2 (dd,1H), 7.3 (d,1H), 7.7 (d,1H), 8.2 (s,1H).
(h) 1.1 ∼ 1.4 (m,4H), 1.6 (d,3H), 1.9 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.4 (q,1H), 7.05 (d,1H), 7.4 (d,1H), 8.05 (s,1H).
(i) 1.3 (m,4H), 1.4 (t,3H), 2.3 (s,3H), 2.7 (m,1H), 4.3 (s,2H), 7.15 (d,1H), 7.4 (d,1H), 8.1 (s,1H).
실시예 3
디클로로메탄내의 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 (0.7 g) 및 3 - 클로로퍼벤조산 (1.5 g) 의 혼합물을 0℃ 에서 30 분 동안 교반한 후 25℃ 에서 1 시간 동안 교반한다. 혼합물을 소디움비술페이트 수용액으로 처리한 후 여과한다. 경사분리 후, 유기층을 아세트산 나트륨 용액, 염수로 세척하고, 황산나트륨으로 건조시키고, 여과 및 증발시켜 에테르로부터 결정화된 정제유를 수득하여 백색 고체로서 융점 154.2℃ 인 5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 (화합물 2, 0.61 g) 을 수득한다.
유사한 방법으로 적절한 초기물질로 부터 상기 일반식 (I) 의 하기 화합물을제조한다.
적절한 술폭시드, 화합물 45 로 화합물 46 을 제조한다. 적절한 술피드의 혼합물로 화합을 65 및 66 을 제조한다.
NMR (특별한 언급이 없으면 CDCl3)
(a) 1.2 (m,2H), 1.35 (m,2H), 1.35 (t,3H), 2.6 (m,1H), 2.73 (m,2H), 3.95 (d,1H), 4.4 (d,1H), 7.4 (d,1H), 7.6 (d,1H), 7.7 (s,1H), 8.25 (s,1H).
(b) 1.25 (t,3H), 1.25 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.25 (m,1H), 2.7 (s,3H), 4.1 (q,2H). 4.2 (d,1H). 4.55 (d,1H), 7.4 (d,1H), 7.55 (d,1H), 7.7 (s,1H).
(c) 1.0 ~ 1.4 (m,4H), 1.25 (t,3H), 2.3 (m,1H), 2.7 (s,3H), 4.2 (q,4H), 4.7 (d,1H), 4.8 (d,1H), 7.25 (dd,1H), 7.5 (d,1H), 7.85 (d,1H).
(d) 1.15 ∼ 1.45 (m,4H), 2.6 (s,3H), 2.65 (m,1H), 4.7(d,1H), 4.75 (d,1H), 7.4 (d,1H), 7.6 (d,1H), 8.25 (s,1H).
(e) 1.2 (m,4H), 2.45 (s,3H), 2.6 (m,1H), 4.35 (dq,2H), 7.3 (m,2H), 8.15 (s,1H).
(f) 1.2 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.5 (m,1H), 3.76 (d,2H), 4.55 (s,2H), 5.45 (dd,2H), 5.85 (m,1H), 7.4 (d,1H), 7.6 (d,1H), 7.65 (s,1H), 8.25 (s,1H).
(g) 1.25 (m,2H), 1.4 (m,2H), 2.6 (m,1H), 3.5 (m,2H), 4.0 (d,1H), 4.45 (d,1H), 5.45 (dd,2H), 5.95 (m,1H), 7.45 (d,1H), 7.6 (d,1H), 7.65 (s,1H), 8.25 (s,1H).
(h) 1.3 (m,2H), 1.4 (m,2H), 1.9 (d,3H), 2.7 (m,1H) 4.2 (d,1H), 4.35 (d,1H), 6.15 (d,1H), 6.25 (m,1H), 7.45 (d,1H), 7.6 (d,1H), 7.65 (s,1H), 8.25(s,1H).
(i) 1.25 (m,2H), 1.4 (m,2H), 2.6 (m,1H), 4.8 (s,2H), 7.35 (d,1H), 7.5 (t,2H), 7.6 (m,3H), 7.75 (d,2H), 8.15 (s,1H).
(j) 1.2 (m,4H), 2.6 (s,3H), 2.7 (m,1H), 3.65 (s,3H), 4.25 (q,2H), 7.25 (d,1H), 7.3 (d,1H), 8.15 (s,1H).
(k) 1.2 (m,2H), 1.3 (m,2H), 2.5 (s,3H), 2.65 (m,1H) 3.9 (d,1H), 3.95 (d,1H), 7.3 (dd,1H), 7.4 (m,2H), 8.1 (s,1H).
(l) 1.25 (m,2H), 1.35 (m,2H), 2.5 (s,3H), 2.7 (m,1H), 3.9 (d,1H), 4.0 (d,1H), 7.3 (s,2H), 7.6 (s,1H), 8.2 (s,1H).
(m) 1.2 (m,2H), 1.3 (m,2H), 2.4 (s,3H), 2.5 (s,3H), 2.65 (m,1H), 3.9 (d,1H), 3.95 (d,1H), 7.1 (d,1H), 7.25 (s,1H), 7.4 (d,1H), 8.15 (d,1H).
(n) 1.15 (m,4H), 2.35 (s,3H), 2.58 (m,1H), 4.8 (q,2H), 7.35 (dd,2H), 8.2 (s,1H).
실시예 4
4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 (0.8 g), 아세트산 무수물 (7.ml), 아세트산 (25 ml) 및 과산화수소 (30 % w/v, 3.0 ml) 의 혼합물을 70℃ 에서 4 시간 동안 가열한다. 냉각 후, 용액을 물로 희석하고, 에틸 아세테이트로 추출하여, 물, 황산 철 (II) 용액, 물의 순서로 세척한 후, 황산 마그네슘으로 건조시키고 건조상태로 증발시켜 백색 고체로서 융점 89 내지 90℃ (유리를 형성할 경우, 융점 110℃) 인 4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 (화합물 84, 0.63 g) 을 수득한다.
유사한 방법으로 적절한 초기물질로부터 하기 화합물을 제조한다 ;
5 - 시클로프로필 - 4 - [3,4 - 디클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 (화합물 85), 융점 142 내지 144℃ ;
4 - [4 - 클로로 - 2 - 메톡시 - 3 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필 이속사졸 (화합물 86), 융점 127 내지 127.5℃ ;
5 - 시클로프로필 - 4 - [2,4 - 디클로로 - 3 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 (화합물 87), 융점 136 내지 138℃.
실시예 5
메탄올 내의 마그네슘 (1.07 g) 의 교반된 현탁액에 요오드 결정을 가하고 용액이 수득될 때까지 환류 조건하에서 혼합물을 가열한다. 환류조건하에서 가열하면서 1 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 페닐] - 3 - 시클로프로판 - 1,3 - 디온 (13.09 g) 을 가한다. 1 시간 후 현탁액을 냉각, 증발시키고 톨루엔을 가한 후 재증발시킨다. 잔류물을 디클로로메탄내에 용해시키고 디클로로메탄의 에틸 클로로옥시미도아세테이트 (7.27 g) 용액을 5℃ 에서 교반된 용액에 가한다. 2 일후, 희석된 염산을 가하여 유기상을 분리하고, 수세한 후, 황산마그네슘으로 건조, 증발시킨다. 에틸 아세테이트 / 헥산으로 용리하는 크로마토그래피로 잔류물을 정제하여 융점 42 내지 43℃ 의 에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 (7.4 g) 을 수득한다.
유사한 방법으로 예틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필 - 이속사졸 - 3 - 카르복실레이트를 제조한다.
NMR (CDCl3) : 1.0 ~ 1.3 (m,4H), 1.1 (t,3H), 2.1 (s,3H), 2.0 ~ 2.2 (m,1H), 4.1 (m,4H), 7.1 (dd,1H), 7.3 (d,1H), 7.65 (d,1H).
참고예 1
톨루엔내에서 2.2 g 의 1 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 페닐] - 3 - 시클로프로필프로판 - 1,3 - 디온 및 1.2 g 의 N,N - 디메틸포름아미드 디메틸아세탈의 혼합물을 80℃ 에서 6 시간동안 가열한다. 혼합물을 증발시켜 점성 녹색오일 (2.5 g) 로서 1 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 페닐] - 3 - 시클로프로필 - 2 - N,N - 디메틸아미노메틸렌 - 프로판 - 1,3 - 디온을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 0.55 (2H,m), 0.85 (2H,m), 1.95 (4H,m), 2.70 (3H,s), 3.15 (3H,s), 3.88 (2H,s), 7.1 ~ 7.55 (4H,m).
유사한 방법으로 적절한 초기물질로부터 L 이 NMe2를 나타내는 일반식 (II)의 화합물을 제조한다.
(a) NMR (CDCl3) : 0.6 (m,2H), 0.92 (m,2H), 2.0 (m,4H), 2.8 (br,3H), 3.25 (br,3H), 3.95 (s,2H), 7.5 (m,3H), 7.61 (s,1H).
참고예 2
아세트산 무수물 (25 ㎖) 내의 1 - [2 - (메틸술페닐) - 3 - (메틸술페닐메틸) - 4 - 클로로페닐] - 3 - 시클로프로필프로판 - 1,3 - 디온 (1.5 g) 및 트리에틸오르토포르메이트 (8 ml) 의 혼합물을 환류온도에서 4 시간 동안 가열한다. 과량의 시약 및 용매는 감압하에 증발시키고 갈색오일 (2.3 g) 로서 1 - [2 - (메틸술페닐) - 3 - (메틸술페닐메틸) - 4 - 클로로페닐] - 2 - 에톡시메틸렌 - 3 - 시클로프로판 - 1,3 - 디온을 수득한다.
유사한 방법으로 1 - [4 - 클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 패닐] - 2 - 에톡시메틸렌 - 3 - 시클로프로필프로판 - 1,3 - 디온을 제조한다.
유사한 방법으로 적절한 초기 물질로부터 L 이 OEt 를 나타내는 일반식 (II)의 화합물을 제조한다.
참고예 3
테트라히드로푸란내의 시클로프로필 메틸케톤 (1.1 g) 및 메틸 4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트 (3.6 g) 의 용액을 테트라히드로푸란내의 수소화나트륨 (80 %, 0.9 g)의 환류 현탁액에 가한다. 첨가 완료후, 혼합물을 환류 온도에서 30 분 동안 유지시킨다. 상기 혼합물을 냉각시키고 100 g 의 얼음 및 50 ml 의 중탄산나트륨 포화수용액에 붓는다. 혼합물을 헥산으로 추출하여 무수 황산나트륨으로 유기용액을 건조하고 용매를 증발시켜 오렌지색 오일 (2.23 g) 로서 1 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 페닐] - 3 - 시클로프로필프로판 - 1,3 - 디온을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.00 (2H,m), 1.20 (2H,m), 1.75 (1H,m), 2.03 (3H,s), 3.92 (2H,s), 6.00 (1H,s), 7.35 (1H,m), 7.45 (1H,m), 7.58 (1H,m), 14.74 (1H,s).
유사한 방법으로 하기 화합물을 제조한다 :
1 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐) - 3 - 메틸술페닐메틸) 페닐] - 3 - 시클로프로필프로판 - 1,3 - 디온, NMR (CDCl3) : 0.95 (2H,m), 1.20 (2H,m), 1.75 (1H,m), 2.2 (3H,s), 2.45 (3H,s), 4.25 (2H,s), 6.05 (1H,s), 7.3 (2H,q), 15.8 (1H,s) ;
1 - [4 - 클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 페닐]- 3 - 시클로프로필프로판 - 1,3 - 디온, NMR (CDCl3) : 0.9 (2H,m), 1.1 (2H,m), 1.7 (1H,m). 1.9 (3H,s). 3.7 (2H,s), 6.1 (1H,s), 7.3 (1H,d), 7.55 (1H,m), 7.7 (1H,d), 16.1 (1H,s).
유사한 방법으로 일반식 (VI) 의 하기 화합물을 제조한다.
(1) 메틸 2 - 플루오로 - 4 - 메틸술페닐메틸벤조에이트와 시클로프로필 메틸케톤의 반응을 통해 부산물로서 수득된 것.
(2) 해당되는 이중 결합 이성질체 1 - (4 - 브로모 - 2 - [(1 - 프로페닐)술페닐메틸] 페닐} - 3 - 시클로프로필 - 1, 3 - 디온과의 혼합물로서 수득된 것.
NMR (특별한 언급이 없으면 CDCl3)
(a) 0.85 (m, 2H), 1.05 (m, 2H), 1.6 (m, 1H), 1.9 (s, 3H), 3.8 (s, 2H), 5.4 (s, 1H), 7.1 (d, 1H), 7.25 (s, 1H), 7.30 (d, 1H), 15.95 (s, 1H).
(b) 0.75 (m, 2H), 0.95 (m, 2H), 1.65 (m, 1H), 2.1 (t, 3H), 2.4 (q, 2H), 3.85 (s, 2H), 5.95 (s, 1H), 7.2 (d, 1H), 7.3 (d, 1H), 7.5 (s, 1H), 16.0 (s, 1H).
(c) 1.0 (m, 2H), 1.25 (m, 2H). 1.8 (m, 1H), 2.1 (s, 3H), 2.55 (s, 3H), 4.0 (s, 2H), 6.05 (s, 1H), 7.1 (d, 1H), 7.25 (s, 1H), 7.4 (d, 1H), 16.25 (s, 1H).
(d) 1.0 (t, 3H), 1.05 (m, 2H), 1.25 (m, 2H), 1.6 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.45 (t, 2H), 3.95 (s, 2H), 6.05 (s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.6 (s, 1H) 16.1 (s, 1H).
(e) 1.0 (m, 2H), 1.2 (m, 2H), 1.3 (d, 6H), 1.8 (m, 1H), 2.9(m, 1H), 3.95 (s, 2H), 6.05 (s, 1H), 7.3 (d, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.6 (s, 1H), 16.25 (s, 1H).
(f) 1.0 (m, 2H), 1.2 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 3.1 (d, 2H), 3.9 (s, 2H), 5.1 (dd, 2H), 5.75 (m, 1H), 6.05 (s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.45 (d, 1H), 7.55 (s, 1H), 16.1(s, 1H).
(g) 0.9 (m, 2H), 1.15 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.95 (m, 2H), 3.85 (s, 2H), 5.95 (s, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.45 (s, 1H), 7.75 (d, 1H), 16.1 (s, 1H).
(h) 0.9 (m, 2H), 1.1 (m, 2H), 1.25 (s, 9H), 1.65 (m, 1H), 3.85 (s, 2H), 6.0 (s, 1H), 7.2 (d, 1H), 7.3 (d, 1H), 7.5 (s, 1H), 16.0 (s, 1H).
(i) 0.7 (m, 2H), 0.9 (m, 2H), 1.6 (m, 1H), 4.25 (s, 2H), 5.8 (s, 1H), 7.1 (m, 5H), 7.3 (d, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.3 (s, 1H), 15.95 (s, 1H).
(j) 1.0 (m, 2H), 1.2 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.0 (s, 3H), 3.6 (s, 2H), 6.2 (s, 1H), 7.2 (dd, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.6 (d, 1H), 15.9 (bs, 1H).
(k) 1.0 (m, 2H), 1.2 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.0 (s, 3H), 3.6 (s, 2H), 6.1 (s, H), 7.25 (dd, 1H), 7.5 (d, 1H), 7.6 (d, 1H), 16.0 (bs, 1H).
(l) 1.9 (s, 3H),3.6 (s, 2H), 3.85 (s, 3H), 7.05 (m, 2H), 7.85 (t, 1H).
(m) 1.0 (m, 2H), 1.3 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.0 (bs, 3H), 2.5 (s, 3H), 3.7 (bs, 2H), 6.1 (s, 1H), 7.1 (d, 1H), 7.2 (s, 1H). 7.5 (d, 1H), 16.1 (bs, 1H).
(n) 0.9 (m, 2H), 1.15 (m, 2H), 2.0 (s, 3H), 2.3 (s, 3H), 4.28 (s, 2H), 5.9 (s, 1H), 7.25 (dd, 2H), 15.9 (s, 1H).
(o) 1.1 (m, 4H), 1.7 (m, 1H) 2.05 (d, 3H), 3.95 (d, 2H), 6.0 (s, 1H), 7.2 (m, 2H), 16.0 (s, 1H).
(p) 0.9 (m, 2H), 1.15 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.1 (s, 3H), 3.8 (s, 3H), 3.9 (s, 2H), 6.4 (s, 1H), 7.25 (d, 1H), 7.6 (d, 1H), 16.15 (s, 1H).
(q) 1.1 (m, 4H), 1.7 (m, 1H), 2.1 (s, 3H), 4.1 (s, 2H), 6.0 (s, 1H), 7.25 (dd, 2H), 15.9 (s, 1H).
(r) 1.05 (m, 2H), 1.22 (m, 2H), 1.75 (m, 1H), 2.1 (s, 3H), 4.2 (s, 2H), 6.0 (s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.4 (d, 1H), 16.0 (bs, 1H).
(s) 1.0 (m, 4H), 1.7 (m, 1H), 2.1 (s, 3H), 2.5 (s, 3H), 4.0 (s, 2H), 6.0 (s, 1H), 7.25 (dd, 2H), 16.0 (s, 1H).
(t) 0.95 (m, 4H), 1.25 (t, 3H), 1.75 (m, 1H), 2.6 (q, 2H), 4.2 (s, 2H), 6.05 (s, 1H), 7.3 (d, 1H), 7.4 (d, 1H), 16.0 (bs, 1H).
(u) 1.0 (m, 4H), 1.7 (d, 3H), 1.8 (m, 1H), 1.95 (s. 3H), 3.7 (m, 2H), 7.0 (d, 1H), 7.35 (d, 1H).
(v) 0.95 (m, 2H), 1.13 (m, 2H), 1.71 (m, 1H), 1.92 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 5.98 (s, 1H), 7.32 (m, 4H), 16.06 (s, 1H).
(w) 0.95 (m, 2H), 1.15 (m, 5H), 1.69 (m, 1H), 2.4 (q, 2H), 3.93 (s, 2H), 6.0 (s, 1H), 7.32 (m, 4H), 16.05 (br, 1H).
(x) 0.93 (m, 2H), 1.12 (m, 2H), 1.68 (m, 1H), 1.98 (s, 3H), 3.88 (s, 2H), 5.93 (s, 1H), 6.90 (m, 1H), 7.07 (dd, 1H), 7.45 (m, 1H).
(y) 1.0 (m, 2H), 1.2 (m, 2H), 1.73 (m, 1H), 2.1 (s, 3H), 3.92 (s, 3H), 4.07 (s, 2H), 6.08 (s, 1H), 6.88 (dd, 1H), 7.32 (d, 1H), 16.22 (br, 1H).
참고예 4
톨루엔 내의 메틸 4 - 브로모 - 2 - (브로모메틸) 벤조에이트 (12 g) 및 소듐 티오메톡시드 (2.5 g) 의 혼합물을 100℃ 에서 2시간 동안 교반한다. 혼합물을 냉각 시킨 후, 물에 붓고, 에틸 아세테이트로 추출한다. 유기층을 분리, 염수로 세척하고, 무수 황산 나트륨으로 건조, 증발시켜 갈색 오일을 수득하여 실리카겔 상의 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 백색 결정으로서 융점이 79.3℃ 인 메틸 4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트 (4.1 g) 을 수득한다.
유사한 방법으로 상기 일반식 (XII) 의 하기 화합물을 제조한다 :
이 반응에서는 다른 불활성 용매를 사용하고 (예를 들면 테트라히드로푸란, 또는 N, N - 디메틸포름아미드), 염기 (바람직하게는 탄산칼륨, 탄산나트륨 또는 수소화나트륨) 를 사용하여 그 자체로서 티올의 나트륨염을 제조한다. 임의로 반응 혼합물내에 적절한 촉매 (예를 들면 요오드화 나트륨 또는 요오드화 테트라에틸 암모늄) 를 존재시킨다.
주(1) 비점 136 ∼ 140℃ (0.7 torr)
(2) 비점 130 ~ 137℃ (0.7 torr)
NMR (특별한 언급이 없으면 CDCl3)
(a) 2.0 (s, 3H), 3.8 (s, 3H), 4.3 (s, 2H), 7.35 (d, 1H), 7.65 (d, 1H).
(b) 2.1 (d, 3H), 3.85 (d, 2H), 3.9 (s, 3H), 7.21 (dd, 1H), 7.8 (t, 1H).
(c) 1.65 (d, 3H), 1.9 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 4.65 (q, 1H), 7.32 (m, 2H).
(d) 1.4 (t, 3H), 2.0 (s, 3H), 4.1 (d, 2H), 4.35 (q, 2H), 7.45 (m, 2H).
(e) 1.4 (t, 3H), 2.15 (s, 3H), 4.1 (s, 2H), 4.35 (q, 2H), 7.4 (dd, 2H).
(f) 1.25 (t, 3H), 2.0 (s, 3H), 4.25 (q, 2H), 4.3 (s, 2H), 7.5 (m, 2H).
(g) 1.45 (t, 3H), 2.0 (s, 3H), 4.3 (q, 2H), 7.1 (dd, 1H), 7.6 (d, 1H), 7.7 (d, 1H).
(h) 1.2 (t, 3H), 1.35 (t, 3H), 2.5 (q, 2H), 4.35 (q, 2H), 4.35 (s, 2H), 7.55 (m, 2H).
(i) 1.9 (s, 3H), 3.6 (s, 2H), 3.85 (s, 3H), 7.25 (dd, 1H), 7.55 (d, 1H), 7.7 (d, 1H).
(j) 1.9 (s, 3H), 3.6 (s, 2H), 3.9 (s, 3H), 7.2 (dd, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.7 (d, 1H).
(k) 1.9 (s, 3H), 3.6 (s, 2H), 3.85 (s, 3H), 7.05 (m, 2H), 7.85 (t, 1H).
(l) 1.93 (s, 3H), 3.86 (s, 3H), 4.04 (s, 2H), 7.5 (m, 2H), 7.96 (m, 1H).
(m) 1.92 (s, 3H), 3.8 (s, 3H), 4.04 (s, 2H), 7.25 (m, 2H), 7.37 (dd, 1H), 7.84 (dd, 1H).
(n) 1.21 (t, 3H), 2.45 (q, 2H), 3.91 (s, 3H), 4.12 (s, 2H), 7.28 (m, 2H), 7.4 (m, 1H), 7.9 (d, 1H).
(o) 2.06 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 4.18 (s, 2H), 7.12 (dd, 1H), 7.77 (m, 1H).
(p) 1.9 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 3.95 (s, 2H), 6.86 (m, 1H), 7.83 (dd, 1H), 7.93 (dd, 1H).
(q) 1.25 (t, 3H), 2.45 (s, 2H), 3.9 (s, 3H), 4.1 (s, 2H), 7.45 (d, 1H), 7.55 (s, 1H), 7.8 (d, 1H).
(r) 3.05 (q, 2H), 3.9 (s, 3H), 4.7 (s, 2H), 7.45 (s, 1H), 7.5 (d, 1H), 7.85 (d, 1H).
참고예 5
테트라히드로푸란내의 메틸 4 - 클로로 - 2 - 플루오로 - 3 - (브로모메틸) 벤조에이트 (8.6 g) 및 소듐 티오메톡시드 (2.1 g) 을 50℃ 에서 5 시간동안 교반하고 실온으로 냉각시킨다. 반응 혼합물을 물로 급냉시키고, 디에틸 에테르로 추출한 후, 무수 황산 나트륨으로 유기상을 건조시키고 용매를 증발시켜 메틸 4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐) - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트 (7.4 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 2.1 (3H, s), 2.35 (3H, s), 3.85 (3H, s), 4.2 (2H, s), 7.3 (2H, m).
유사한 방법으로 백색 고체로서, 융점이 47.1℃ 인 메틸 4 - 클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트를 제조한다.
또한 유사한 방법으로 적절한 초기물질로부터 하기 화합물을 제조한다 :
용매로서 N, N -디메틸포름아미드를 사용하여 메틸 4 - 브로모 - 2 - (브로모메틸) 벤조에이트로부터 메틸 4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트를 제조하고,
용매로서 N, N -디메틸포름아미드내의 탄산칼륨 및 메탄티올을 사용하여, 메틸 3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트로부터 메틸 3 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트를 제조하며,
메틸 2 - 메틸술페닐 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트를 제조한다.
참고예 6
메틸 2 - 플루오로 - 4 -메틸술페닐벤조에이트 (4.1 g), 소듐 티오메톡시드 (1.48 g) 및 N, N - 디메틸포름아미드 (16 ml) 의 혼합물을 50℃ 에서 18 시간동안 교반한 후, 물에 붓고 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 수세하고, 황산 마그네슘으로 건조, 증발시켜 오렌지색 오일로서 메틸 2 - 메틸술페닐 - 4 - 메틸술페닐벤조에이트 (2.09 g) 을 제조한다.
NMR (CDCl3) : 2.0 (s, 3H), 2.4 (s, 3H), 3.65 (s, 2H), 3.9 (s, 3H), 7.05(dd, 1H), 7.15 (d, 1H), 7.9 (d, 1H).
유사한 방법으로 에틸 2, 4 - 디클로로 - 3 -메틸술페닐벤조에이트로부터 에틸 2 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 3 - 메틸술페닐메틸벤조에이트를 제조하고 ;
NMR (CDCl3) : 1.4 (t, 3H), 2.15 (s, 3H), 2.5 (s, 3H), 4.05 (s, 2H), 7.1 (d, 1H), 7.65 (d, 1H) :
메틸 4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - 플루오로벤조에이트로부터 메틸 4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - 메틸술페닐벤조에이트를 제조한다.
NMR (CDCl3) : 1.1 (t, 3H), 2.4 (s, 3H), 2.6 (d, 2H), 3.9 (s, 3H), 4.2 (s, 2H), 7.3 (2dd, 2H).
참고예 7
클로로포름내의 에틸 3 - 아미노 - 4 - 클로로 - 2 - 메틸술페닐벤조에이트 (53.0 g) 의 분리 용액, 및 t - 부틸 니트리트 (36 ml) 를 교반된 디메틸 디술피드 (38.1 ml) 에 발열이 억제되는 속도로 0.5 시간 동안 가한다. 2 시간 더 지난후 물을 가하고 희석된 염산으로 유기층을 세척하고 황산 마그네슘으로 건조, 증발시킨다. 잔류물은 에틸 아세테이트 / 석유 에테르로 용리하는 크로마토그래피로 정제하여 황색 오일로서 에틸 4 - 클로로 - 3 - 메틸술페닐 - 2 - 메틸술페닐메틸벤조에이트 (22.3 g) 를 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.35 (t, 3H), 2.1 (s, 3H), 2.4 (s, 3H), 4.35 (q, 2H), 4.6 (s, 2H), 7.55 (dd, 2H).
참고예 8
N - 클로로숙신이미드 (215 g) 을 에틸 3 - 아미노 - 4 - 클로로벤조에이트 (108 g) 및 디클로로메탄내의 디메틸술피드 (117 ml) 을 함유한 용액에 0℃ 이하를 유지하면서 10 분 동안 가한다. 트리에틸아민 (80 ml) 을 가하고, 20 분 후, 디메틸술피드 (117 ml), N - 클로로숙신이미드 (215 g) 및 트리에틸아민 (80 ml) 를 추가로 가한다. 0.5 시간 후 추가로 트리에틸아민 (280 ml) 을 주입한 다음 환류 조건하에서 하룻밤 혼합물을 가열하여 증발시킨다. 에테르를 가하고 이것을 물, 희석된 중탄산나트륨으로 세척하고 황산 마그네슘으로 건조, 증발시킨다. 에틸 아세테이트 / 석유 에테르로 용리하는 크로마토그래피로 정제하여 에틸 3 - 아미노 - 4 - 클로로 - 2 - 메틸술페닐메틸벤조에이트 (47.6 g) 을 제조한다.
NMR (CDCl3) : 1.45 (t, 3H), 2.1 (s, 3H), 4.1 (s, 2H), 4.3 (q, 2H), 4.7 (s, 2H), 7.2 (m, 2H).
참고예 9
테트라히드로푸란 내의 메틸 4 - 클로로 - 2 - 플루오로 - 3 - 메틸술페닐 메틸벤조에이트 (11.4 g) 용액을 소듐 메톡시드 (3.5 g) 를 가하면서 교반한다. 2 시간 후 물을 가하고 혼합물을 에테르로 추출하여, 황산 마그네슘으로 건조, 증발시켜 메틸 4 - 클로로 - 2 - 메톡시 - 3 - 메틸술페닐메틸벤조에이트 (10.1 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 2.15 (s, 3H), 3.9 (3s, 8H), 7.15 (d, 1H), 7.65 (d, 1H).
참고예 10
메틸 4 - 브로모 - 2 - 브로모메틸벤조에이트 (24.6 g) 를 교반된 알릴메르캅탄 (70 %, 9 g), 소듐 에톡시드 (5.77 g) 및 요오드화 테트라부틸암모늄 (0.4 g)의 혼합물에 15 분 동안 가한다. 차가운 중탄산나트륨 용액을 가하고 혼합물을 에테르로 추출한다. 추출물을 염수로 세척하고 황산 마그네슘으로 건조, 증발시켜 메틸 4 - 브로모 - 2 - (2 -프로페닐술페닐메틸) 벤조에이트 (2.41 g) 를 수득한다.
NMR (CDCl3) : 3.05 (d, 2H), 3.9 (s, 3H), 4.0 (s, 2H), 5.1 (m, 2H), 5.75 (m, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.5 (s, 1H), 7.75 (d, 1H).
유사한 방법으로 하기 화합물을 제조한다 :
메틸 4 - 브로모 - 2 - 페닐술페닐메틸벤조에이트,
NMR (CDCl3) : 3.9 (s, 3H), 4.5 (s, 2H), 7.3 (m, 5H), 7.35 (s, 1H), 7.45 (d, 1H), 7.8 (d, 1H).
메틸 4 - 브로모 - 2 - t - 부틸술페닐메틸벤조에이트,
NMR (CDCl3) : 1.4 (s, 9H), 3.9 (s, 3H), 4.15 (s, 2H), 7.4 (d, 1H), 7.65 (s, 1H), 7.75 (d, 1H).
참고예 11
사염화탄소 (0.1 ml) 를 건조 메탄올 내의 마그네슘 조각 (0.3 g) 에 가하고, 마그네슘이 용해되면, 30℃ 에서 t - 부틸 3 - 시클로프로필 - 3 - 옥소프로피오네이트 (2.0 g) 을 가한다. 혼합물을 가열하고 60℃ 에서 0.5 시간동안 교반한후, 톨루엔에 용해시키고 증발시켜 고체로서 t - 부틸 3 - 시클로프로필 - 3 - 옥소프로피오네이트 마그네슘 에놀레이트 (2.5 g) 을 수득한다. 이것을 톨루엔 내에서 교반하여 톨루엔 내의 4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - 메틸술페닐벤조일 클로라이드 (3.3 g) 용액을 가한다. 12 시간 후, 용액을 희석된 염산으로 세척하고 물로 세척한 다음 증발시켜 갈색 오일로서 t - 부틸 2 - [4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - (메틸술페닐) 벤조일] - 3 - 시클로프로필 - 3 - 옥소프로피오네이트 (4.6 g) 를 수득한다. 이것을 건조 톨루엔에 용해시키고 p - 톨루엔술포네이트 (0.13 g) 을 가하면서 교반한다. 혼합물을 교반하고 6 시간 동안 환류하에서 가열한 다음, 냉각시키고, 수세하며, 황산 마그네슘으로 건조, 증발시켜 갈색 오일로서 1 - [4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - (메틸술페닐) 페닐] - 3 - 시클로프로판 - 1, 3 - 디온 (2.3 g) 을 제조한다.
NMR (CDCl3) : 1.0 (m, 2H), 1.2 (m, 2H), 1.3 (m, 1H), 2.4 (s, 3H), 2.7 (q, 2H), 4.3 (s, 2H), 6.1 (s, 1H), 7.3 (d, 1H), 7.4 (d, 1H), 15.9 (s, 1H).
참고예 12
메탄올 (2 방울) 을 수소화나트륨 (0.9 g) 및 테트라히드로푸란의 혼합물에 가하고 환류 조건하에서 가열한다. 환류를 계속하면서 테트라히드로푸란 (36 ml) 내의 메틸 4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - 메틸술페닐벤조에이트 (4.0 g) 및 메틸 시클로프로필 케톤의 혼합물을 0.5 시간 동안 가한다. 혼합물을 실온에서 하룻밤 교반한 다음, 메탄올로 급냉시킨다. 에테르 및 물을 가하고 수용액 층을 희석된 염산으로 산성화시킨 다음 에테르로 추출하고 탄산나트륨 용액으로 에테르성 용액을 추출한다. 이 염기 추출물을 염산으로 재산성화시키고 에테르로 추출하여 증발시켜 4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - 메틸술페닐벤조산 (3.0 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.35 (t, 3H), 2.5 (s, 3H), 2.7 (q, 2H), 4.3 (s, 2H), 7.5 (d, 1H), 7.8 (d, 1H).
참고예 13
에틸 3, 4 - 디클로로 - 2 - 메틸벤조에이트 (34.0 g), N - 브로모숙신이미드 (30.0 g) 및 사염화탄소의 혼합물에 3 시간 동안 광화학 반응기내에서 자외선을 조사한다. 냉각된 혼합물을 여과하고 여액을 수세한 다음 황산 마그네슘으로 건조, 증발시켜 오일로서 에틸 2 - 브로모메틸 - 3, 4 - 디클로로벤조에이트 (51.0 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.45 (t, 3H), 4.4 (q, 2H), 5.15 (s, 2H), 7.7 (m, 2H).
유사한 방법으로 적절한 톨루엔으로부터 상기의 일반식 (XII) 의 하기 알킬 α - 브로모알킬 벤조에이트를 제조한다. 일부 경우에는 자외선을 텅스텐 램프로 교체하여 또한 라디칼 개시제 (아조비스 - 이소부티로니트릴) 를 반응 혼합물에 가한다.
NMR (특별한 언급이 없으면 CDCl3)
(a) 1.4 (t, 3H), 4.4 (q, 2H), 5.0 (d, 2H), 7.6 (m, 2H).
(b) 3.9 (s, 3H), 4.6 (d, 2H), 7.2 (dd, 1H), 7.8 (t, 1H).
(c) 1.3 (t, 3H), 4.4 (q, 2H), 4.8 (s, 2H), 7.5 (dd, 2H).
(d) 1.35 (t, 3H), 4.35 (q, 2H), 5.15 (s, 2H), 7.6 (m, 2H).
(e) 1.4 (t, 3H), 4.35 (q, 2H), 7.15 (dd, 1H), 7.7 (d, 1H), 7.8 (d, 1H).
(f) 2.1 (d, 3H), 3.9 (s, 3H), 6.0 (q, 1H), 7.4 (m, 2H).
(g) 3.9 (s, 3H), 4.45 (s, 2H), 7.3 (dd, 1H), 7.5 (d, 1H), 7.8 (d, 1H).
(h) 3.95 (s, 3H), 4.4 (s, 2H), 7.2 (m, 2H), 7.9 (t, 1H).
(i) 3.92 (s, 3H), 4.9 (s, 2H), 7.95 (d, 1H), 7.68 (s, 1H), 8.0 (d. 1H).
(j) 3.97 (s, 3H), 5.0 (s, 2H), 7.2 (dd, 1H), 7.84 (m, 1H).
(k) 3.94 (s, 3H), 4.94 (s, 2H), 7.07 (m, 1H), 7.2 (dd, 1H), 8.02 (m, 1H).
참고예 14
n - 부틸리튬 (헥산내의 2.5 M, 180 ml) 을 1 시간 동안 78℃ 에서 3, 4 - 디클로로벤조산 (40.0 g) 의 교반된 용액에 가하고 상기 온도에서 하룻밤 교반을 계속한다. 테트라히드로푸란내의 요오드화 메틸 (72 ml) 용액을 1.5 시간 동안 가하고 혼합물을 -78℃ 에서 3 시간동안 유지하고 하룻밤 실온으로 보온한다. 용매를 증발시키고 혼합물을 물에 가한 다음 진한 염산으로 산성화시키고 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 황산 마그네슘으로 건조시켜 증발시키고 에테르로 연화시켜 백색 고체로서 융점 177 내지 178℃ 인 3, 4 - 디클로로 - 2 - 메틸벤조산 (33.3 g) 을 수득한다.
유사한 방법으로 하기 화합물을 제조한다.
4 - 클로로 - 3 - 플루오로 - 2 - 메틸벤조산, 융점 174.5 내지 175℃ ;
2 - 클로로 - 6 - 플루오로톨루엔으로부터 4 - 클로로 - 2 - 플루오로 - 3 - 메틸벤조산을 제조, NMR (CDCl3) : 2.1 (s, 3H), 7.0 (dd, 1H), 7.5 (t, 1H) ;
3, 4 - 디클로로 - 2 - 에틸벤조산, 융점 120 내지 123℃ ;
3, 4 - 디플루오로- 2 - 메틸벤조산, 융점 152.5 내지 153.5℃.
참고예 15
n - 부틸리튬 (헥산내 2.5 M, 176 ml) 을 건조 에테르내의 1 - 브로모 - 4 - 클로로 - 3 - 플루오로벤젠 (83.38 g) 의 교반된 용액에 가한다. -78℃ 에서 2.5 시간 더 교반을 계속하고, 혼합물을 과량의 고체 이산화탄소 펠렛에 붓고 실온에 도달시킨 후 물을 가한다. 혼합물을 에테르로 세척하고, 산성화하여 에틸 아세테이트로 추출하여 황산 마그네슘으로 건조한다. 증발 시킨 후 잔류물을 석유 에테르로 연화하여 백색 고체로서, 융점 192 내지 192.5℃ 의 4 - 클로로 - 3 - 플루오로벤조산을 수득한다.
참고예 16
브롬 (48 ml) 을 수산화나트륨 (120 g) 의 교반된 수용액에 가한다. 60℃ 에서 (2, 4 - 디클로로 - 3 - 메틸) 아세토페논 (33.9 g) 을 가하고 동일온도에서 3시간동안 교반을 계속한다. 혼합물을 냉각시키고 에틸 아세테이트로 세척하고 진한 염산으로 수용액층을 산성화시키고 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 황산 마그네슘으로 건조, 증발시켜 크림색 고체로서 2, 4 - 디클로로 - 3 - 메틸벤조산 (32.9 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 2.55 (s, 3H), 7.6 (dd, 2H)
참고예 17
알루미늄 클로라이드 (144 g) 를 디클로로메탄내의 2, 6 - 디클로로톨루엔 (43 g) 및 아세틸 클로라이드 (86 g)의 교반된 혼합물에 가한 후 환류 조건하에서26 시간동안 혼합물을 가열한다. 실온에서 3 일동안 방치한 후 얼음/염산에 혼합물을 붓고 희석된 염산, 물, 수산화나트륨 용액 및 물의 차례로 유기층을 세척한다. 황산 마그네슘상에서 건조시킨 용액을 증발시켜 석유 에테르로부터 잔류물을 재결정하여 (2, 4 - 디클로로 - 3 - 메틸) 아세토페논 (33.8 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 2.5 (s, 3H), 2.6 (s, 3H), 7.35 (dd, 2H)
참고예 18
진한 황산내의 아질산나트륨 (13 g) 용액을, 15℃이하로 온도를 유지하면서 아세트산내의 에틸 3 - 아미노 - 4 - 클로로 - 2 - 메틸벤조에이트 (22.4 g) 용액에 0.5 시간 동안 가한다. 5℃ 에서 1 시간 더 교반한 후 생성된 디아조늄 혼합물을 브롬화 수소산 (45 %, 103 ml) 및 물내의 브롬화 구리 (I) (31 g) 의 용액에 0.75 시간 동안 가한다. 물을 가하고 에틸 아세테이트로 추출하기 전에 2 시간 더 40℃ 까지 가열을 계속한다. 추출물을 수산화나트륨 용액으로 세척하고, 황산 마그네슘으로 건조, 증발시키고 갈색 오일로서 에틸 3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - 메틸벤조에이트 (22.2 g) 를 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.3 (t, 3H), 2.65 (s, 3H), 4.3 (q, 2H), 7.45 (m, 2H).
유사한 방법으로 에틸 3 - 브로모 - 2 - 메틸벤조에이트를 제조한다.
NMR (CDCl3) : 1.6 (t, 3H), 2.6 (s, 3H), 4.4 (q, 2H), 7.1 (dd, 1H), 7.65 (d, 1H), 7.7 (d, 1H).
참고예 19
에탄올내의 에틸 3 - 아미노 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조에이트 (50 g) 의 용액을 에탄올내의 라니 니켈 (300 g) 의 교반된 현탁액에 가한다. 실온에서 하룻밤 교반한 후, 라니 니켈을 추가로 가하고 2 시간 동안 혼합물을 교반한다. 물을 가하고, 혼합물을 여과한 후 디클로로메탄으로 잔류물을 세척한다. 여액을 증발시키고, 에틸 아세테이트로 재추출하며, 황산 마그네슘으로 건조, 증발시키고 갈색 오일로서 에틸 3 - 아미노 - 4 -클로로 - 2 - 메틸벤조에이트 (29.7 g) 을 수득한다.
NMR (CDCl3) : 1.25 (t, 3H), 2.25 (s, 3H), 4.3 (q, 2H), 7.05 (m, 2H).
해당되는 벤조산을 혼합물의 환류 온도에서 티오닐 클로라이드와 반응시켜 -XR3기가 카르복시기에 오르토위치가 아닌 산 염화물을 제조한다.
해당되는 벤조산과 해당되는 알콜을 반응시키고 진한 황산과 같은 강산 존재하에 환류 조건하에서 가열하여 에틸 벤조에이트를 제조한다.
본 발명의 특징에 따르면, 제초적 유효량의 1 이상의 일반식 (I) 의 4 - 벤조일 이속사졸 유도체를 사용함을 특징으로 하는 일정지역의 잡초 (즉, 원하지 않는 식물) 의 성장 억제 방법을 제공한다. 이러한 목적으로, 4 - 벤조일이속사졸 유도체는, 예를 들면 하기한 바와 같이, 일반적으로 제초적 조성물의 형태 (즉, 제초 조성물에 사용되기에 적당한 혼화 가능한 희석제 또는 담체 및/또는 계면활성제와 배합)로 사용한다. 일반식 (I)의 화합물은 발현 전 및/또는 발현후 사용에 의해 쌍자엽 (즉, 활엽) 및 단자엽 (예 : 풀) 잡초에 대하여 제초활성을 나타낸다. "발현전 사용" 이란 잡초의 종자 또는 묘종이 존재하는 토양의 표면 위로 잡초가 나타나기 전에 사용함을 의미한다. "발현후 사용"이란 토양의 표면 위에 나타난 잡초의 노출 부분에 사용함을 의미한다. 예를 들면, 일반식 (I)의 화합물은 하기 식물의 성장을 억제하는데 사용할 수 있다 :
활엽 잡초, 예를 들면 아부틸론 테오프라스티 (Abutilon theophrasti), 아마란투스 레트로플렉수스 (Amaranthus retroflexus), 비덴스 필로사 (Bidens pilosa), 케노포듐 알붐 (Chenopodium album), 갈륨 아파린 (Galium aparine), 이포모에아 종 (예 : 이포모에아 푸르푸레아 (Ipomoea purpurea)), 세스바니아 엑살타타 (Sesbania exaltata), 시나피스 아르웬시스(Sinapis arvensis), 솔라눔 니그룸(Solanum nigrum) 및 크산튬 스트루마륨 (Xantium strumarium),
풀 잡초, 예를 들면 알로페쿠루스 미오수로이데스 (Alopecurus myosuroides), 아웨나 화투아(Avena fatua), 디기타리아 산구이날리스(Digitaria sanguinalis) 에키노클로아 크루스-갈리 (Echinochloa crus-galli), 소르굼 비콜로르(Sorghum bicolor) 엘레우신 인디카 (Eleusine indica) 및 세타리아 종 (예 : 세타리아 화베리이 (Setaria faberii) 또는 세타리아 위리디스 (Setaria viridis)), 및
사초, 예를들면 키페루스 에스쿨렌투스 (Cyperus esculentus)
사용되는 일반식 (I)의 화합물의 양은 잡초의 종류, 사용되는 조성물, 사용시기, 기후 및 토양 조건, 및 (농작물 재배 지역에서 잡초의 성장을 억제하는데 사용하는 경우) 농작물의 종류에 따라 다르다. 농작물 재배 지역에서 사용하는 경우,사용 비율은 농작물에 실질적으로 영구한 손상을 입히지 않으면서 잡초의 성장을 충분히 억제해야 한다. 일반적으로, 이러한 점을 고려하여, 헥타아르당 활성 물질을 0.01 내지 5kg 의 비율로 사용하면 우수한 결과를 수득한다. 그러나, 잡초 억제에 있어서의 특정한 문제에 따라, 더 적거나 높은 비율로 사용할 수도 있는 것으로 이해한다.
일반식 (I) 의 화합물은 선택적으로 잡초의 성장을 억제하는데 사용할 수 있으며, 예를 들면 곡류 (예 : 밀, 보리, 귀리, 옥수수 및 벼), 대두, 야생소두, 완두, 자주개자리, 목화, 땅콩, 아마, 양파, 당근, 양배추, 평지, 해바라기, 사탕무우 및 영구하거나 또는 파종한 목초지와 같은 농작물을 재배하는데 사용되고 있거나 사용될 잡초가 만연한 지역에, 농작물을 파종하기 전 또는 후에 또는 농작물이 나타나기 전 또는 후에, 직접 또는 간접적인 분무법과 같은 직접 또는 간접적인 방법으로 상기한 바와 같은 종류의 잡초가 발현하기 전 또는 후에 사용함으로써 성장을 억제하는데 사용할 수 있다. 상기한 바와 같은 농작물의 재배에 사용되거나 사용될 잡초가 만연한 지역에서의 잡초의 선택적 억제를 위해 헥타아르당 활성 물질을 0.01 내지 4.0kg, 바람직하게는 0.01 내지 2.0kg 의 비율로 사용하는 것이 특히 적당하다.
일반식 (I)의 화합물은 과수원, 및 산림, 숲 및 공원과 같은 기타의 나무 재배 지역 및 사탕수수, 야자유 및 고무 농장과 같은 농장에서, 특히 상기한 바와 같은 잡초가 발현하기 전 또는 후에 사용함으로써 잡초의 성장을 억제하는데 사용할 수도 있다. 이러한 목적으로 헥타아르당 0.25내지 5.0kg, 바람직하게는 0.5 내지4.0kg 의 사용 비율로 나무를 심거나 조림 전 또는 후에 잡초가 나타날 것으로 예상되는 토양에 또는 잡초에 직접 또는 간접적인 방법 (예를 들면, 직접 또는 간접적인 분무법)으로 화합물을 사용할 수 있다.
일반식 (I)의 화합물은 농장물의 지배 지역은 아니지만 잡초를 억제시키길 원하는 지역에서, 특히 상기한 바와 같은 잡초의 성장을 억제하는데 사용할 수도 있다.
농작물 재배 지역이 아닌 예로는 비행장, 공업 지역, 철도, 도로변, 강변, 관개로 및 기타의 수로, 관목지대 및 휴경지 또는 비경작지, 특히 화재의 위험을 감소시키기 위해 잡초의 성장을 억제하기 원하는 곳 등이 있다. 전체적인 제초 효과를 목적으로 사용되는 경우, 활성 화합물은 일반적으로 상기한 바와 같은 농작물 재배 지역에서 사용되는 것보다 더 높은 비율로 사용한다. 정확한 사용량은 처리되는 식물의 중류와 목적하는 효과에 따라 다르다.
활성 물질을 헥타아르당 1.0 내지 20.0kg, 바람직하게는 5.0 내지 10.0kg 의 사용 비율로, 직접 또는 간접적인 방법 (예 : 직접 또는 간접적인 분무법)으로 잡초가 발현하기 전 또는 후에, 바람직하게는 발현하기 전에 사용하는 것이 이러한 목적에 특히 적당하다.
잡초의 성장을 억제하기 위해 발현하기 전에 사용하는 경우, 일반식 (I) 의 화합물을 잡초가 나타날 것으로 예상되는 토양에 혼입할 수 있다. 잡초가 발현한 후에 즉, 발현한 잡초의 노출 부분 또는 공중에 사용함으로써 잡초의 성장을 억제하기 위해 사용하는 경우, 일반식 (I)의 화합물은 일반적으로 토양과 접촉한 후 토양중의 후-발아된 잡초에 대하여 발현전의 억제를 행하는 것으로 이해한다.
특히 지속적인 잡초 억제를 원하는 경우, 필요하다면 일반식 (I)의 화합물의 사용을 반복할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 1 이상의 혼화 가능한 농업적 허용가능한 희석제 또는 담체 및/또는 계면활성제 [즉, 일반식 (I)의 화합물과 혼화가능하며 제초 조성물에 사용되기에 적당하며 일반적으로 본 분야에서 허용되는 형태의 희석제 또는 담체 및/또는 계면활성제]와 배합된, 바람직하게는 균일하게 분산된 일반식 (I)의 4 - 벤조일이속사졸 유도체를 하나 이상 함유하는 제초용으로 적당한 조성물을 제공한다. "균일하게 분산된"이란 일반식 (I)의 화합물이 다른 성분에 용해된 조성물을 포함하는데 사용한다. "제초 조성물"이라는 용어는 바로 제초제로서 사용될 수 있는 조성물 뿐만 아니라 사용전에 희석되어야 하는 농축액도 포함하는 넓은 의미로 사용된다. 조성물은 1 이상의 일반식 (I)의 화합물을 0.05 내지 90 중량 % 함유하는 것이 바람직하다.
제초 조성물은 희석제 또는 담체와 계면활성제 (예 : 습윤, 분산 또는 유화제)를 모두 함유할 수 있다. 본 발명의 제초 조성물에 존재할 수 있는 계면활성제는 이온계 또는 비이온계일 수 있으며, 예를 들면 술포리시놀레이트, 4 차 암모늄 유도체, 에틸렌 옥사이드와 노닐 - 또는 옥틸 - 페놀과 같은 알킬 및 폴리아릴페놀과의 축합물 기재의 생성물 또는 에틸렌 옥사이드와의 축합에 의한 유리 히드록시기의 에테르화에 의해 가용되는 무수 소르비톨의 카르복실산 에스테르, 디노닐 - 및 디옥틸 - 소듐 술포노숙시네이트와 같은 황산 에스테르 및 술폰산의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염 및 소듐 및 칼슘 리그노술포네이트 및 소듐 및 칼슘 알킬벤젠 술포네이트와 같은 고분자량 술폰산 유도체의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염이 있다.
적당하게는, 본 발명에 따른 제초 조성물은 10 중량 % 이하, 예를 들면 0.05 내지 10 중량 % 의 계면활성제를 함유할 수 있으나, 원한다면 본 발명에 따른 제초 조성물은 더 높은 비율의 계면활성제를 함유할 수 있으며, 예를 들면 유화성 현탁 농축액 중에서 15 중량 % 이하, 및 수용성 농축액 중에서 25 중량 % 이하를 함유할 수 있다.
적당한 고형 희석제 또는 담체의 예로는 규산알루미늄, 탈크, 소성 마그네시아, 규조토, 인산 3 칼슘, 분말의 코르크, 흡수제 카본 블랙, 및 카올린 및 벤토나이트와 같은 점토가 있다. 이들 고형 조성물 (분진, 과립 또는 습윤성 분말 형태일 수 있다)은 바람직하게는 일반식 (I)의 화합물을 고형의 희석제와 분쇄하거나 또는 휘발성 용매중의 일반식 (I)의 화합물의 용액에 고형의 담체 또는 희석제를 함침시키고, 용매를 증발시키고, 필요하다면 생성물을 분쇄하여 분말을 수득하도록 제조하는 것이 바람직하다. 과립의 조성물은 과립 형태의 고형의 희석제 또는 담체에 (원한다면 휘발성일 수도 있는 적당한 용매에 용해시킨) 일반식 (I)의 화합물을 흡수시키고, 원한다면 용매를 증발시키거나, 또는 상기한 바와 같이 수득한 분말 형태의 조성물을 과립화함으로써 제조할 수 있다. 고형의 제초 조성물, 특히 습윤성 분말 및 과립은, 고형인 경우 희석제 또는 담체로서도 사용할 수 있는 습윤제 또는 분산제 (예를 들면 상기한 바와 같은 형태)를 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 액체 조성물은 계면 활성제를 함유할 수도 있는 수성, 유기 또는 수성 - 유기 용액, 현탁액 및 유화액 형태일 수 있다. 액체 조성물에 혼입시키는 적당한 액체 희석제로는 물, 글리콜, 테트라히드로푸르푸릴 알콜, 아세토페논, 시클로헥사논, 이소포론, 톨루엔, 크실렌, 미네랄, 동물 및 식물성유, 및 석유의 가벼운 방향족 및 나트탈렌계 분획 (및 이들 희석제의 혼합물) 이 있다. 액체 조성물 중에 존재할 수 있는 계면활성제는 예를 들면 상기한 바와 같은 형태의 이온계 또는 비이온계일 수 있으며, 액체인 경우 희석제 또는 담체로서 사용할 수 있다.
분말, 분산성 과립 및 농축액 형태의 액체 조성물은, 특히, 희석제 또는 담체가 오일인 농축액의 경우에, 물, 또는 미네랄 또는 식물성유와 같은 기타의 적당한 희석제로 희석하여 바로 사용가능한 조성물을 수득할 수 있다.
원한다면, 일반식 (I)의 화합물의 액체 조성물은 유화제 또는 활성 물질과 혼화가능한 유화제를 함유하는 용매중에 용해된 활성물질을 함유하는 자기 유화성 농축액의 형태로 사용할 수 있으며, 이러한 농축액에 간단히 물을 첨가함으로써 바로 사용가능한 조성물을 제조한다.
희석제 또는 담체가 오일인 농축액은 정전기 분무법을 사용하여 추가의 희석없이 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 제초 조성물은 원한다면, 접착제, 보호 콜로이드, 증점제, 침투제, 안정화제, 격리제, 케이크형성 방지제, 착색제 및 부식 방지체와 같은 통상적인 보조제를 함유할 수 있다. 이들 보조제는 담체 또는 희석제로서 사용할 수도 있다.
특별한 언급이 없다면, 하기의 % 는 중량 단위이다. 본 발명에 따른 바람직한 제초 조성물은 하기와 같다 :
10 내지 70 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 2 내지 10 % 의 계면활성제, 0.1 내지 5 % 의 증점제 및 15 내지 87.9 % 의 물을 함유하는 수성 현탁 농축액 ;
10 내지 90 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 2 내지 10 % 의 계면활성제, 및 8 내지 88 % 의 고형 희석제 또는 담체를 함유하는 습윤성 분말 ;
10 내지 90 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 2 내지 40 % 의 탄산나트륨 및 0 내지 88 % 의 고형 희석제를 함유하는 수용성 또는 수분산성 분말 ;
5 내지 50 %, 예를 들면 10 내지 30 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 5 내지 25 % 의 계면활성제 및 25 내지 90 %, 예를들면 45 내지 85 % 의 디메틸포름아미드와 같은 물과 혼화되는 용매, 또는 물과 혼화되는 용매와 물과의 혼합물을 함유하는 수용성 농축액 ;
10 내지 70 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 5 내지 15 % 의 계면활성제, 0.1 내지 5 % 의 증점제 및 10 내지 84.9 % 의 유기 용매를 함유하는 유화성 현탁 농축액 ;
1 내지 90 %, 예를 들면 2 내지 10 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 0.5 내지 7 %, 예를 들면 0.5 내지 2 % 의 계면활성제 및 3 내지 98.5 %, 예를 들면 88 내지 97.5 % 의 과립의 담체를 함유하는 과립 ; 및
0.05 내지 90 %, 바람직하게는 1 내지 60 % 의 1 이상의 일반식 (I)의 화합물, 0.01 내지 10 %, 바람직하게는 1 내지 10 % 의 계면활성제 및 9.99 내지 99.94 %, 바람직하게는 39 내지 98.99 % 의 유기 용매를 함유하는 유화성 농축액.
본 발명에 따른 제초 조성물을 1 이상의 살충 활성 화합물과, 원한다면 1 이상의 혼화가능한 살충적으로 허용 가능한 희석제 또는 담체, 계면활성제 및 상기한 바와 같은 통상적인 보조제와 배합된 바람직하게는 이들에 균일하게 분산된 일반식 (I)의 화합물을 함유할 수도 있다.
본 발명의 제초 조성물에 포함되거나 결합시켜 사용될 수 있는 다른 살충 활성 조성물의 예는, 예를 들면 알아크로르 [2 - 클로로 - 2, 6' - 디에틸 - N - (메톡시 - 메틸) - 아세트아닐리드], 아트라진 [2 - 클로로 - 4 - 에틸아미노 - 6 - 이소프로필아미노 - 1, 3, 5 - 트리아진], 브로모옥시닐 [3, 5 - 디브로모 - 4 - 히드록시벤조니트릴], 클로로톨루론 [N' - (3 - 클로로 - 4 - 메틸페닐) - N, N - 디메틸우레아], 시아나진 [2 - 클로로 - 4 - (1 - 시아노 - 1 - 메틸에틸아미노) - 6 - 에틸아미노 - 1, 3, 5 - 트리아진], 2, 4 - D [2, 4 - 디클로로페녹시 - 아세트산], 디캄바 [3, 6 - 디클로로 - 2 - 메톡시벤조산], 디펜조쿠아트 [1, 2 - 디메틸 - 3, 5 - 디페닐 - 피라졸리움 염], 플람프로메틸 [메틸 N - 2 - (N - 벤조일 - 3 - 클로로 - 4 - 플루오로아닐리노) - 프로피오네이트], 플루오메투론 [N' - (3 - 트리플루오로 - 메틸페닐) - N, N - 디메틸우레아], 이소프로투론 [N' - (4 - 이소프로필페닐) - N, N - 디메틸우레아], 예를 들면 페르메트린 및 시페르메트린의 합성 피레트로이드와 같은 살충제, 및 예를 들면 메틸 N - (1 - 부틸 - 카르바모일 -벤즈이미다졸 - 2 - 일) 카르바마트와 같은 카르바마트, 및 예를 들면 1 - (4 - 클로로 - 페녹시) - 3, 3 - 디메틸 - 1 - (1, 2, 4 - 트리아졸 - 1 -일) - 부탄 - 2 - 온의 트리아졸과 같은 살균제와 같이, 억제되는 잡초 종의 범위를 증가시키는 제초제를 포함한다.
상기한 바와 같이 본 발명의 제초 조성물에 포함되거나 결합시켜 사용될 수 있으며, 원한다면 산일 수도 있는 살충 활성 조성물 및 그외의 생물학적 활성 물질은 알칼리 금속 및 아민염과 에스테르와 같은 통상적인 유도체의 형태로 사용할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 1 이상의 일반식 (I) 의 4 - 벤조일 이속사졸 유도체 또는, 바람직하게는 상기 언급된 바와 같은 제초 조성물, 및 바람직하게는 사용전에 희석되어야만 하는 제초적 농축액을 함유하고, 상기 일반식 (I) 의 유도체용 용기내의 1 이상의 일반식 (I) 의 4-벤조일이속사졸 유도체, 또는 상기 제초 조성물 및 상기 용기에 물리적으로 결합된 설명서(용기내에 함유된 상기 일반식 (I) 의 유도체 또는 제초 조성물을 잡초의 성장 억제에 사용하는 방법을 설명함)를 함유하는 제품을 제공한다.
용기는 일반적으로 상온에서 고체인 화학물질의 저장에 통상적으로 사용되는 형태를 사용하고 특히 농축액 형태의 제초 조성물의 경우 내부에 도료가 칠해진 금속캔 및 금속드럼, 플라스틱 캔 및 플라스틱 드럼, 병 또는 유리 및 플라스틱 물질이고 용기의 내용물이 과립상의 제초 조성물과 같인 고체인 경우 마분지, 플라스틱 물질 및 금속으로 된 상자 또는 자루이다. 일반적으로 용기는 1 에 이커 이상의 토지의 잡초를 억제하도록 처리하기에 충분한 양의 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 제초 조성물을 함유하는 충분한 용량이지만 통상적 취급법에 편리한 크기를 초과하지는 않아야 한다. 설명서는 예를 들면 용기 위에 직접 인쇄되거나 또는 그 위에 라벨 또는 태그를 부착하는 방식으로 용기에 물리적으로 결합된다. 일반적으로 설명서는 용기의 내용물을, 필요하다면 희석 후, 상기 언급된 바와 같은 방법 및 목적으로 헥타르당 0.01 kg 내지 20 kg 의 활성 물질의 사용율로 잡초 성장 억제에 사용되는 것을 표시한다.
하기 실시예는 본 발명에 따른 제초 조성물을 예시한다 :
실시예 1
하기의 성분으로부터 수용성 농축액이 형성된다.
활성 성분 (화합물 1) 20 % w/v
수산화칼륨 용액 33 % w/v 10 % v/v
테트라히드로푸르푸릴 알콜 (THFA) 10 % v/v
물 100 부피까지
THFA, 활성 성분 (화합물 1) 및 90 부피 % 의 물을 교반하고 안정한 pH 7 내지 8 이 될 때까지 수산화칼륨 용액을 서서히 가한 후 물로 부피를 맞춘다.
이속사졸 (화합물 1)을 다른 일반식 (I)의 화합물로 대체함으로써 상기한 바와 같이 유사한 수용성 농축액을 제조할 수 있다.
실시예 2
활성 성분 (화합물 1) 50 % w/w
소듐 도데실벤젠 술포네이트 3 % w/w
소듐 리그노술페이트 5 % w/w
소듐 포름알데히드 알킬나프탈렌 술포네이트 2 % w/w
미세 이산화규소 3 % w/w
고령토 37 % w/w
상기 성분을 함께 배합하고 에어 제트 밀에서 혼합물을 분쇄함으로써 습윤성 분말을 형성한다.
이속사졸 (화합물 1)을 다른 일반식 (I)의 화합물로 대체함으로써 상기한 바와 같이 유사한 습윤성 분말을 제조할 수 있다.
실시예 3
활성 성분 (화합물 1) 50 % w/w
소듐 도데실벤젠술포네이트 1 % w/w
미세 이산화규소 2 % w/w
중탄산나트륨 47 % w/w
상기한 성분을 혼합하고 햄머밀에서 상기한 혼합물을 분쇄함으로써, 수용성 분말을 형성한다.
이속사졸 (화합물 1)을 다른 일반식 (I)의 화합물로 대체함으로써 상기한 바와 같이 유사한 수용성 분말을 제조할 수 있다.
본 발명의 화합물을 하기의 방법에 따라 제초용으로 사용한다.
제초 조성물의 사용 방법 :
a)일반적인 방법
식물 처리에 사용되는 적당량의 화합물을 아세톤에 용해시켜 헥타아르당 시험 화합물 4000 g 이하의 사용 비율에 상응하는 용액을 수득한다. 이들 용액을 헥타아르당 290ℓ상당량의 분무액을 분무하는 표준 실험실용 제초제 분주기로 부터 사용한다.
b)잡초 억제:발현전
살균하지 않은 토양이 있는 70㎟, 75㎜ 깊이의 플라스틱 포트에 종자를 파종한다. 포트당 종자의 양은 하기와 같다 :
잡초의 종류 포트당 종자의 대략 수
1) 활엽 잡초
아부틸론 테오프라스티 (Abutilon theophrasti) 10
아마란투스 레트로플렉수스 (Amaranthus retroflexus) 20
갈륨 아파린 (Galium aparine) 10
이포모에아 푸르푸레아 (Ipomoea purpurea) 10
시나피스 아르웬시스 (Sinapis arvensis) 15
크산튬 스트루마륨 (Xanthium strumarium) 2
2) 풀 잡초
알로페쿠루스 미오수로이데스 (Alopecurus myosuroides) 15
아웨나 화투아 (Avena fatua) 10
에키노클로아 크루스 - 갈리 (Echinochloa crus - galli) 15
세타리아 위리디스 (Setaria virids) 20
3) 사초
키페루스 에스쿨렌투스 (Cyperus esculentus) 3
농작물
1) 활엽
목화 3
콩 3
2) 풀
옥수수 2
벼 6
밀 6
본 발명의 화합물을 (a)에 기재한 바와 같이, 종자를 함유하는 토양 표면에 사용한다. 각 농작물과 각 잡초의 1 개의 포트를 각 처리에 대하여 분무하지 않은 대조군 및 아세톤만을 분무한 대조군으로서 배정한다.
처리후, 포트를 온실중의 모세관 매트에 놓고 위에서 물을 준다. 분무 20 내지 24 일 후에 농작물의 손상을 육안으로 평가한다. 그 결과를 대조 포트 중의 식물과 비교하여, 농작물 또는 잡초의 성장 감소 또는 손상을 백분율로서 나타낸다.
c) 잡초 억제 : 발현후
아마란투스 (Amaranthus)를 묘종 단계에서 분무하기 1 주전에 포트에 이식하는 것을 제외하고는 75 ㎜ 깊이, 70㎟ 의 포트의 존 인즈 포팅 (John Innespotting) 배양토에 잡초 및 작물을 직접 파종한다. 식물을 처리하는데 사용되는 화합물을 분무할 준비가 될때까지 식물을 온실에서 재배한다. 포트 당 식물의 수는 하기와 같다 :
1) 활엽 잡초
잡초 종류 포트당 식물의 수 성장 단계
아부틸론 테오프라스티 3 1 내지 2 잎
아마란투스 레트로플렉수스 4 1 내지 2 잎
갈륨 아파린 3 제 1 윤생체
이포모에아 푸르푸레아 3 1 내지 2 잎
시나피스 아르웬시스 4 2 잎
크산륨 스트루마륨 1 2 내지 3 잎
2) 풀 잡초
잡초 종류 포트당 식물의 수 성장 단계
알로페쿠루스 미오수로이데스 8 내지 12 1 내지 2 잎
아웨나 화투아 12 내지 18 1 내지 2 잎
에키노클로아 크루스 - 갈리 4 2 내지 3 잎
세타리아 위리디스 15 내지 25 1 내지 2 잎
3) 사초
잡초 종류 포트당 식물의 수 성장 단계
카페루스 에스쿨렌투스 3 3 잎
1) 활엽
농작물 포트당 식물의 수 성장 단계
면화 2 1 잎
콩 2 2 잎
2) 풀
농작물 포트당 식물의 수 성장 단계
옥수수 2 2 내지 3 잎
쌀 4 2 내지 3 잎
밀 5 2 내지 3 잎
식물의 처리에 사용되는 화합물을 (a) 에 기재된 바와 같은 식물에 사용한다. 각 농작물과 각 잡초의 1 개의 포트를 각 처리에 대하여 분무하지 않은 대조군 및 아세톤만을 분무한 대조군으로서 배정한다.
처리후, 포트를 온실 중의 모세관 매트에 놓고 일단 24 시간 후 위에서 물을 준 후, 조절된 부관개에 의해 물을 준다. 분무 20 내지 24 일 후에 농작물의 손상 및 잡초 억제를 육안으로 평가한다. 그 결과를 대조 포트중의 식물과 비교하여 농작물 또는 잡초의 성장 감소 또는 손상을 백분률로서 나타낸다.
본 발명의 화합물은, 1 헥타르당 4 kg 또는 그 이하로 사용되어, 전술한 실험에서 사용된 잡초에 대한 작물의 내성과 함께 현저한 제초 활성 수준을 나타낸다.
1 헥타아르당 1000g 을 발현전 또는 후에 사용했을때, 화합물 1 내지 90 은1 종류 이상의 잡초의 성장을 80 % 이상 감소시켰다.

Claims (25)

  1. 하기 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염 :
    [식중 :
    R 은 수소원자 또는 -CO2R4기를 나타내며 ;
    R1은:
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    1 이상의 R5기 또는 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 3 내지 6 의 시클로알킬기를 나타내며 ;
    R2는 ;
    할로겐 원자 ; 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알케닐 또는 알키닐기 ;
    1 이상의 -OR5기로 치한된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -COR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5, -OSO2R7및 -(CR9R10)t-S(O)qR7중 선택된 기를 나타내며 ;
    R3은 -S(O)qR7을 나타내고 ;
    X 는 -(CR9R10)t- 를 나타내며 ;
    n 은 0 또는 1 내지 4 의 정수를 나타내며 ; n 이 1 보다 큰 경우 R2기는 같거나 다를 수 있으며 ;
    R4는 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R5는 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 3 내지 6 의 직쇄 또는 측쇄 알케닐 또는 알키닐기를 나타내며 ;
    R6, R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    같거나 다를 수 있는 1 내지 5개 의 R2기로 치환되거나 비치환된 페닐을 나타내며;
    R7은 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 3 내지 6 의 직쇄 또는 측쇄 알케닐 또는 알키닐기 ; 또는
    -(CR51R52)u- [할로겐, 니트로, 시아노, 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기, 및 -S(O)pR4에서 선택된 같거나 다를 수 있는 1 내지 5 개의 기로 치환되거나 비치환된 페닐] 을 나타내며 ;
    R8은 ;
    수소원자 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 10 이하의 직쇄 또는측쇄 알킬, 알케닐 또는 알키닐기를 나타내며 ;
    R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 ;
    수소원자 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    같거나 다를 수 있는 1 내지 5개 의 R2기로 치환되거나 비치환원 페닐을 나타내며 ;
    R51및 R52는 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
    수소원자 ; 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며,
    p 는 0, 1 또는 2 를 나타내고 ;
    q 는 0, 1 또는 2 를 나타내며 ;
    m 은 1, 2 또는 3 을 나타내며 ;
    t 는 1 내지 4 의 정수를 나타내며 ; t 가 1 보다 큰 경우 -CR9R10- 기는 같거나 다를 수 있으며 ;
    u 는 0 또는 1 을 나타낸다.]
  2. 제 1 항에 있어서,
    R2는 ;
    할로겐 원자 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -COR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5및 -OSO2R7중에서 선택된 기를 나타내며 ;
    R5는 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ; 및
    R7은 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내는 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용가능한 그의 염.
  3. 제 1 항 또는 2 항에 있어서 ;
    R1은 :
    탄소수 1 내지 3 의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    시클로프로필 또는 1 - 메틸시클로프로필기를 나타내며 ;
    R2는 ;
    할로겐 원자 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는
    니트로, 시아노, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7, -OR5및 -OSO2R7중에서 선택된 기를 나타내며 ;
    R4는 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R5및 R6는 같거나 다를 수 있으며, 각각 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R7은 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R8은 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 알케닐 또는 알키닐기를 나타내며 ;
    R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
    수소원자 ; 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    n 은 0, 1 또는 2 을 나타내고 ; 및
    t 는 1 을 나타내는 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염.
  4. 제 1 항 또는 2 항에 있어서,
    R2는 :
    할로겐 원자 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ; 또는
    니트로, -CO2R5, -S(O)pR6, -O(CH2)mOR5, -NR61R62, -N(R8)SO2R7및 -OR5중에서 선택된 기를 나타내며 ;
    R4는 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R6, R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R7은 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R8은 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며;
    R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 ;
    수소원자 ; 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내는 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염.
  5. 제 1 항 또는 2 항에 있어서,
    R1은 메틸, 이소프로필 또는 시클로프로필을 나타내고 ;
    R2는 :
    할로겐 원자 ;
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    1 이상의 -OR5기로 치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기 ;
    또는
    -CO2R5, -S(O)pR6, -NR61R62및 -OR5중에서 선택된 기를 나타내며 ;
    R4는 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R5, R6, R61및 R62는 같거나 다를 수 있으며, 각각 1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R7은 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ;
    R9및 R10은 같거나 다를 수 있으며, 각각 :
    수소원자 또는
    1 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며 ; 및
    t 는 1 을 나타내는 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염.
  6. 제 1 항 또는 2 항에 있어서, n 은 1 내지 4의 정수이고, 일반식 (I) 의 화합물의 벤조일 고리가 2, 4 - 이치환 또는 2, 3, 4 - 삼치환된 4 - 벤조일이속사졸유도체 또는 농업적으로 허용가능한 그의 염.
  7. 제 1 항 또는 2 항에 있어서, n 은 1 내지 4의 정수이고, 일반식 (I) 의 화합물의 벤조일 고리가 2, 3 - 이치환된 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염.
  8. 제 1 항에 있어서,
    R은 수소 또는 -CO2Et 를 나타내며 ;
    R1은 시클로프로필을 나타내며 ;
    R2는 할로겐 원자 또는 -CF3, -S(O)pMe 및-OMe 중에서 선택된 기를 나타내며;
    X 는 -CHR9- 를 나타내고 ;
    R3는 -S(O)qR7을 나타내며 ;
    n은 0, 1 또는 2 를 나타내며 ;
    R7은 ;
    1 내지 3개 의 불소원자로 치환되거나 비치환된 탄소수 4 이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐기 ; 또는
    페닐을 나타내며 ;
    R9는 수소 또는 메틸을 나타내며 ; 및
    p 및 q 는 같거나 다를 수 있으며, 각각 0, 1 또는 2 를 나타내는 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염.
  9. 제 1 항에 있어서,
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 2 - 메틸술페닐 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (에틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술페닐메틸 - 4 - (트리플루오로메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (n - 프로필술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (이소프로필술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [2 - (에틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [4 -플루오로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2 -프로페닐) 술페닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3 - 플루오로 - 4 - 메톡시 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2, 2, 2 - 트리플루오로에틸) 술페닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (t - 부틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (페닐술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [2 - 클로로 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 플루오로 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [2 - 브로모 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메톡시 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술페닐 - 4 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (1 - 메틸술페닐) 에틸] 벤조일이속사졸 :
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (에틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸) ;
    4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 플루오로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 2 - 메톡시 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2, 4 - 디클로로 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [2 - 클로로 - 4 - 메틸술페닐 - 3 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [3 - 클로로 - 4 -메틸술페닐 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - {3, 4 - 디클로로 - 2 - [1 - (메틸술피닐) 에틸]벤조일} 이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (에틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (에틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술피닐메틸 - 4 - (트리플루오로메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술포닐메틸 - 4 - (트리플루오로메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [4 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (에틸술포닐메틸) 벤조일]이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (에틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (n - 프로필술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (n - 프로필술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
    4 - [브로모 - 2 - (이소프로필술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (이소프로필술포틸메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
    에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
    4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
    에틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
    에틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
    4 - [3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [3 - 브로모 - 4 - 클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 플루오로 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2, 2, 2 - 트리플루오로에틸) 술포닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2 - 프로페닐) 술포닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - {4 - 브로모 - 2 - [(2 - 프로페닐) 술피닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - {4 - 브로모 - 2 - [(1 - 프로페닐) 술피닐메틸] 벤조일} - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술페닐 - 2 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일)] - 5 -시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (t - 부틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸;
    4 - [4 - 브로모 - 2 - (페닐술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (에틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - (에틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3 - 플루오로 - 4 - 메톡시 - 2 - (메틸술포틸메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 메틸술피닐메틸 - 2 - (메톡시) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2, 4 - 디클로로 - 3 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [2 - 클로로 - 4 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [2 - 클로로 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 플루오로 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [2 - 브로모 - 4 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    4 - [2 - 브로모 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 -시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메톡시 - 4 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2 - 메틸술페닐 - 4 - (메틸술피닐메틸) 벤조일] 이속사졸;
    4 - [3 - 클로로 - 4 - 메틸술포닐 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [3, 4 - 디클로로 - 2 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    4 - [4 - 클로로 - 2 - 메톡시 - 3 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 ;
    5 - 시클로프로필 - 4 - [2, 4 - 디클로로 - 3 - (메틸술포닐메틸) 벤조일] 이속사졸 ;
    에틸 4 - [4 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ;
    에틸 4 - [3 - 브로모 - 2 - (메틸술페닐메틸) 벤조일] - 5 - 시클로프로필이속사졸 - 3 - 카르복실레이트 ; 또는
    4 - [4 - 클로로 - 3 - 에틸술페닐메틸 - 2 - (메틸술페닐) 벤조일] - 5 -시클로프로필이속사졸인 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염.
  10. R 이 수소를 나타내는 경우, 하기 일반식 (II) 의 화합물과 히드록실아민 또는 그의 염을 반응시키는 것을 포함하는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체의 제조방법 :
    (상기식에서 L 은 이탈기이며 R1, R2, R3, n 및 X 는 제 1 항 또는 제 2 항에 정의된 바와 같다).
  11. R 이 수소를 나타내는 경우, 하기 일반식 (III) 의 화합물과 그리냐르 (Grignard) 시약 또는 유기리튬 시약으로부터 선택된 적절한 유기금속 시약을 반응시키는 것을 포함하는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체의 제조방법 :
    (상기식에서 R1은 제 1 항 또는 제 2 항에 정의된 바와 같으며 Y 는 카르복시기 또는 그의 반응성 유도체 또는 시아노기를 나타낸다).
  12. R 이 -CO2R4를 나타내고, R2가 제 1 항 또는 2 항에서 R2에 대하여 정의된 바와 같은 R21를 나타내는 (단, p 는 0 또는 2, q 는 0 또는 2 이다) 경우, 하기 일반식 (IV) 의 화합물과 일반식 R4O2CC(Z)=NOH (식중 R4는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 바와 같으며, Z 는 할로겐 원자이다)인 화합물을 반응시키는 것을 포함하는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체의 제조방법 :
    (상기식에서, R1, R3, X 및 n 은 제 1 항 또는 2 항에 정의된 바와 같으며, P 는 이탈기를 나타내고, q 는 0 또는 2 를 나타내며 R21은 상기 정의된 바와 같다).
  13. R 이 -CO2R4를 나타내고, q 는 0 또는 2 이며, R2는 상기 정의된 R21를 나타내는 경우, 하기 일반식 (V) 의 화합물과 일반식 R4O2CC(Z)=NOH (식중, R4는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 바와 같고 Z 는 할로겐 원자이다)인 화합물을 반응시키는 것을 포함하는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체의 제조방법 :
    (상기식에서, R1, R3, X 및 n 은 제 1 항 또는 2 항에 정의된 바와 같으며, q 는 0 또는 2 이며, R21은 상기 정의된 바와 같다).
  14. R이 -CO2R4를 나타내고, q 가 0 또는 2 이며 R2가 상기 정의된 R21를 나타내는 경우, 하기 일반식 (VI) 의 화합물의 염과 일반식 R4O2CC(Z)=NOH (식중, R4는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 바와 같으며 Z 는 할로겐 원자이다) 인 화합물을 반응시키는 것을 포함하는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체의 제조방법 :
    (상기식에서 R1, R3, X 및 n 은 제 1 항 또는 2 항에 정의된 바와 같으며, q 는 0 또는 2, R21은 상기 정의된 바와 같다).
  15. q 및/또는 p 가 1 또는 2 인 경우, q 및/또는 p 가 0 또는 1 인 일반식 (I) 에 상응하는 화합물의 황원자를 산화시키는 것을 포함하는 제 1 항 또는 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체의 제조방법.
  16. 농업적으로 허용 가능한 희석제 또는 담체 및/또는 계면활성제와 함께, 유효성분으로서 제 1 항 또는 제 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 - 벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염의 제초적 유효량을 함유함을 특징으로 하는 제초 조성물.
  17. 제 16 항에 있어서, 수성 현탁 농축물, 습윤성 분말, 수용성 또는 수분산성 분말, 수용성 농축액, 유화성 현탁 농축액, 과립 또는 유화성 농축물의 형태인 제초 조성물.
  18. 제 1 항 또는 제 2 항에 정의된 일반식 (I) 의 4 -벤조일이속사졸 유도체 또는 농업적으로 허용 가능한 그의 염의 제초적 유효량을 일정지역에 사용함을 특징으로 하는 일정 지역의 잡초 성장 억제 방법.
  19. 제 18 항에 있어서, 일정 지역이란 농작물의 성장을 위해 사용되거나 사용될 지역이며 화합물을 헥타르당 0.01 kg 내지 4.0 kg 의 사용비율로 사용하는 방법.
  20. 제 10 항에 있어서, 상기 수득된 일반식 (I) 의 화합물을 농업적으로 허용 가능한 그의 염으로 전환하는 것을 포함하는 방법.
  21. 제 11 항에 있어서, 상기 수득된 일반식 (I) 의 화합물을 농업적으로 허용 가능한 그의 염으로 전환하는 것을 포함하는 방법.
  22. 제 12 항에 있어서, 상기 수득된 일반식 (I) 의 화합물을 농업적으로 허용 가능한 그의 염으로 전환하는 것을 포함하는 방법.
  23. 제 13 항에 있어서, 상기 수득된 일반식 (I) 의 화합물을 농업적으로 허용 가능한 그의 염으로 전환하는 것을 포함하는 방법.
  24. 제 14 항에 있어서, 상기 수득된 일반식 (I) 의 화합물을 농업적으로 허용 가능한 그의 염으로 전환하는 것을 포함하는 방법.
  25. 제 15 항에 있어서, 상기 수득된 일반식 (I) 의 화합물을 농업적으로 허용 가능한 그의 염으로 전환하는 것을 포함하는 방법.
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