KR100275649B1 - 섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치 - Google Patents

섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100275649B1
KR100275649B1 KR1019980017552A KR19980017552A KR100275649B1 KR 100275649 B1 KR100275649 B1 KR 100275649B1 KR 1019980017552 A KR1019980017552 A KR 1019980017552A KR 19980017552 A KR19980017552 A KR 19980017552A KR 100275649 B1 KR100275649 B1 KR 100275649B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light emitting
shadow mask
substrate
thin film
layer
Prior art date
Application number
KR1019980017552A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19980087101A (ko
Inventor
이시이 이꾸꼬
오오쯔끼 시게요시
Original Assignee
가네꼬 히사시
닛본 덴기 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가네꼬 히사시, 닛본 덴기 가부시끼가이샤 filed Critical 가네꼬 히사시
Publication of KR19980087101A publication Critical patent/KR19980087101A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100275649B1 publication Critical patent/KR100275649B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

칼라 박막 전자 발광 표시 장치를 제조하는 방법은 투명 지지 기판 상에 ITO로 구성된 아노드를 형성하는 단계, 그 위에 정공 수송층을 형성하는 단계, 진공 증착 장치내의 기판 홀더 상에 기판을 장착하는 단계, 개구부의 측면 표면이 기판과 제1, 제2 및 제3 저항 가열 보트 사이의 테이퍼를 갖는 섀도우 마스크를 위치시키는 단계, 제1 가열 보트를 이용하여 녹색 전자 발광 재료를 증발시키고 기판 상에 녹색 발광층을 형성하는 단계, 제2 가열 보트를 이용하여 청색 전자 발광 재료를 증발시키고 기판 상에 청색 발광층을 형성하는 단계, 제3 가열 보트를 이용하여 적색 전자 발광 재료를 증발시키고 기판 상에 적색 발광층을 형성하는 단계, 및 그 이후에 발광층 상에 캐소드를 형성하는 단계를 포함한다.

Description

섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시 장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치
본 발명은 기상 성장법을 이용하여 박막 전자 발광 패턴을 형성하기 위한 섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시 장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치에 관한 것으로, 특히 미세 피치에 대한 상이한 형광색을 갖는 박막 발광 패턴을 형성하기 위해 사용되는 섀도우 마스크, 상기 섀도우 마스크를 사용하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치를 제조하는 방법 및 칼라 박막 전자 발광 표시 장치에 관한 것이다.
도 7에 도시된 것처럼 칼라 박막 전자 발광 표시 장치의 한 구조로서, 상이한 발광 색상(예를 들면, 녹색 발광층(5), 청색 발광층(6) 및 적색 발광층(7))을 갖는 픽셀이 2차원 매트릭스내의 투명 지지 기판(1) 상에 위치하고, 그들 중 하나에서, 상이한 유기 발광 물질이 각각의 칼라 픽셀에 사용되고 각각의 칼라는 칼라 필터 등을 사용하지 않고 자율적으로 방출되는 칼라 표시를 실현하는 장치가 있다. 그러한 구조를 갖는 유기 전자 발광 표시 장치에서 유기 전자 발광층을 형성하기 위해, 발광 색상에 대응하는 상이한 영역에 대한 각각의 상이한 유기 전자 발광막을 형성하는 것이 필요하다. 그러므로, 일반적으로 발광 색상(예를 들면, 녹색, 청색 및 적색)에 대한 섀도우 마스크가 준비되고, 각각의 칼라의 전자 발광막 형성이 수행되고 섀도우 마스크를 교환한다. 그러나, 이 방법에서, 3개의 섀도우 마스크를 준비할 필요가 있고, 추가로 마스크의 수만큼 교환 작업을 수행할 필요가 있다. 이러한 복잡성을 막기 위해, JP-A-227276-1996에 개재된 것처럼, 마스크 수가 1이고 섀도우가 발광층을 형성하는 각 단계에서 연속적으로 이동하는 막 형성 방법이 있다. 이 방법에서, 도 8에 도시된 것처럼 개구부(opening section: 9a)가 사선 방향으로 정렬된 섀도우 마스크(9)를 사용하여 적색 발광층, 녹색 발광층 및 청색 발광층이 도면의 화살표를 따라 기판(1) 상에 이러한 섀도우 마스크를 연속적으로 이동시킴에 의해 개별적으로 증착된다.
도 9a 내지 도 9d는 이 방법에 따른 유기 전자 발광 표시 패널을 제조 하는 단계들을 순서대로 도시하는 횡단면도이다. 먼저, 아노드(2)가 투명 지지 기판(1) 상에 형성된 후에, 정공 수송층(4)이 픽셀 형성 영역의 전체 표면 상에 형성된다. 그리고, 섀도우 마스크(9)의 개구부(9a)가 아노드(2)에 위치한 이후에, 약 10-100nm 두께의 막을 형성하기 위해 녹색 발광층(5)과 같은 제1 유기 전자 발광 매체에 증착(evaporation)과 같은 방법이 적용된다(도 9a). 섀도우 마스크(9)의 개구부(9a)의 부분은 섀도우 마스크(9)의 주 표면에 대해 직각이며, 각각의 개구부(9a)는 도 9에 도시된 각각의 발광 색상 소자 중 하나에 대응하는 크기를 갖는다.
다음으로, 도 9b에 도시된 것처럼, 섀도우 마스크(9)가 도 9a에 도시된 위치로부터 1 발광 소자의 거리만큼 좌측으로 이동시킨 후에, 소정의 막 두께를 갖는 막은 청색 발광층(6)과 같은 제2 유기 전자 발광 매체로 형성된다. 다음으로, 도 9c에 도시된 것처럼, 섀도우 마스크(9)의 개구부(9a)는 발광 소자의 나머지 부분에 위치하고, 소정 막 두께를 갖는 막은 적색 발광층(7)과 같은 제3 유기 전자 발광 매체로 형성된다.
유기 전자 발광 발광층의 3 색상이 형성된 이후에, 캐소드(8)이 도 9d에 도시된 것처럼 그 위에 형성된다.
이러한 방법으로 제조된 칼라 유기 박막 전자 발광 표시 장치에서, 유기 전자 발광층을 통해 전류를 흐르도록 하기 위해 소망된 픽셀을 구성하는 아노드와 캐소드 사이에는 일반적으로 5 - 20V 전압이 인가되며, 표시를 수행하기 위해 임의의 패턴이 방사된다.
칼라 박막 전자 발광 표시 장치를 형성하는 상술한 종래 방법에서, 각각의 색상의 발광층이 형성되는 경우마다 발광 색상의 종류에 대한 섀도우 마스크가 마련되고 마스크의 교환이 수행되어야 하므로, 공정이 복잡해지는 문제가 있다. 또한, 발광층이 증착될 때마다 섀도우 마스크가 이동하는 방법에서, 증착 장치에 마스크를 이동시키기 위한 메카니즘을 제공해야 하므로, 장치는 복잡해진다. 더욱이, 섀도우 마스크가 교환되거나 이동될 때마다 위치 선정(positioning)이 수행되어야 하므로, 각 색상의 발광층 사이에 및 웨이퍼 사이에 위치 선정의 정확성을 유지하는 것이 어려우며, 양호한 정확성 및 고 신뢰성의 장치 제조가 어려워지는 문제가 있다.
또한, 전자 발광 표시 장치를 형성하는 종래의 방법에서, 섀도우 마스크의 교환 또는 이동 동안, 섀도우 마스크가 이전에 형성된 유기 전자 발광 박막과 접촉하고 이물질이 발생하며 유기 전자 발광 박막의 손상이 발생할 확률이 있으며, 전자 발광 박막의 손상 및 유기 전자 발광 패널로의 이물질이 부착으로 인해 전자 발광 표시 장치의 표시 품질을 저하시키게 되는 문제가 발생한다.
또한, 종래의 섀도우 마스크에서, 개구부의 패턴은 미세 패턴이 되도록 정제되었다. 그러나, 이러한 경우 섀도우 마스크의 플레이트 두께가 두껍다면, 이 두께로 인해 음영(shade)가 생기고, 박막의 미세한 패턴이 얻어질 수 없다.
따라서, 섀도우 마스크의 두께는 얇아져야 한다. 그러나, 두께가 얇으려면, 섀도우 마스크의 내구성이 떨어지고 그 처리가 어렵게 되며, 실제 사용되는 경우 섀도우 마스크가 끊어지는 문제가 있다.
그러므로, 본 발명의 제1 목적은 미세 피치를 갖는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치를 박막을 형성하기 위해 섀도우 마스크를 교환하거나 이동시키지 않고 간략한 공정으로 정확하게 제조하는 문제를 해결하는 것이며, 본 발명의 제2 목적은 섀도우 마스크를 박막으로 하지 않고 전자 발광 패턴의 미세화를 실현할 수 있도록 하는 것이다.
본 발명의 목적은 일정한 간격으로 복수의 개구부가 형성되는 섀도우 마스크에 의해 얻어지고, 상술한 개구부는 주 표면에 수직이 아닌 횡단면형을 가져서 상이한 기화원(evaporation source)로부터 기화물이 기판의 상이한 위치로 선별적으로 인도되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 목적은 또한 칼라 박막 전자 발광 표시 장치를 제조하는 방법에 의해 달성되며, 개구부의 횡단면형이 주 표면에 수직으로부터 사선으로 형성되는 섀도우 마스크가 복수의 기화원와 기판 사이에 위치되며 기판으로부터의 일정 간격을 유지하며, 전자 발광 박막이 기상 성장법을 사용하여 기판 상에 선별적으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
더욱이, 본 발명의 목적은 기판, 기판 상에 형성된 아노드 및 전자 발광층을 포함하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치에 의해 얻어진다. 전자 발광층은 기판 및 아노드 상에 형성된 정공 수송층과 정공 수송층 상에 형성된 발광층을 갖는다. 발광층은 복수의 개구부가 일정 간격으로 형성되는 섀도우 마스크를 통해 형성되며, 기화원으로부터 기화물을 따르는 방향에 일치하여 주 표면에 수직이 아닌 횡단형을 갖는 개구부는 떨어져 나간다.
도 1a 내지 도 1e는 본 발명의 실시 형태를 설명하는 섀도우 마스크의 횡단면도.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시 형태를 설명하는 섀도우 마스크의 평면도.
도 3은 본 발명의 실시 형태를 설명하는 진공 증착 장치의 횡단면도.
도 4는 본 발명의 제1 및 제2 실시예를 설명하는 칼라 유기 박막 전자 발광 표시 장치의 횡단면도.
도 5a 내지 도5c는 본 발명의 제1 실시예를 설명하는 증착 상황을 도시하는 횡단면도.
도 6은 본 발명의 제2 실시예를 설명하기 위한 진공 조건을 도시하는 횡단면도.
도 7은 칼라 유기 박막 전자 발광 표시 장치의 평면도.
도 8은 종래 제조 방법을 설명하는 평면도.
도 9a 내지 도 9d는 종래 제조 방법을 설명하는 공정 순서의 횡단면도.
＜도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명＞
1 : 투명 지지 기판
2 : 아노드
3 : 유기 전자 발광층
4 : 정공 수송층
5 : 녹색 발광층
6 : 청색 발광층
7 : 적색 발광층
8 : 캐소드
9 : 섀도우 마스크
9a : 개구부
10 : 진공 증착 장치
11, 12, 13 : 저항 가열 보트
14 : 기판 홀더
도 1a 내지 도 1e는 본 발명에서 사용되는 금속으로 제조된 섀도우 마스크의 횡단면도이고, 도 2a 및 도 2b는 이의 평면도이며, 도 1은 도 2의 선(A-A')을 따라 절단된 횡단면을 도시한다. 본 발명에서 사용된 섀도우 마스크(9)는 도 1a에 도시된 것처럼 금속으로 제조되며, 개구부(9a)는 포토레지스트를 사용하는 습식 에칭법에 의해 형성되며 주 표면에 대해 테이퍼 각(taper angle: θ)을 갖는다. 그 두께는 예를 들면 0.5mm이다. 여기서, 테이퍼 각(θ)은 섀도우 마스크의 기화원(증발원)의 측 상의 개구부의 주표면과의 각이며, 그러므로 (θ-π/2)는 섀도우 마스크의 주 표면에 수직인 방향으로부터의 경사도(obliqueness)이다. 이러한 테이퍼에 의해, 섀도우 마스크의 주 표면에 수직인 방향으로부터 평행되게 기울어진 기화원으로부터 기화물은 섀도우 마스크로부터 소정의 간격으로 위치되는 기판 상의 소망의 영역으로 충분히 인도될 수 있으며, 소정 크기의 박막은 양호한 정밀도로 형성될 수 있다.
도 1b에 도시된 섀도우 마스크는 도 1a에 도시된 섀도우 마스크가 뒤집혀서 위치하는 형태를 가지며, 도 1a의 섀도우 마스크와 동일한 방식으로 형성될 수 있고 동일한 이점을 기대할 수 있다.
도 1c에 도시된 섀도우 마스크는 그 개구부가 층마다 서로 상이한 크기를 갖는 복수의 얇은 금속 플레이트를 적층하고 이들을 서로 붙여서 섀도우 마스크(9)의 개구부(9a)에서 소망된 테이퍼 각을 가짐으로써 제조된다. 이러한 경우, 섀도우 마스크의 제조 동안 습식 에칭으로 개구부(9a)의 테이퍼 각(θ)을 엄격히 제어하지 않고, 도 1a와 동일한 기능이 얻어질 수 있다.
도 1d에 도시된 예는 도 1a에 도시된 섀도우 마스크와 도 1b에 도시된 섀도우 마스크를 붙임에 의해 제조된다. 이러한 경우, 섀도우 마스크(9)의 두께가 클 수가 있으므로, 섀도우 마스크의 내구성는 증가하며, 투명 지지 기판의 한 측 상의 테이퍼가 도자(導子)의 역할을 하므로, 기화물이 평행하게 떨어져 나가지 않더라도, 박막이 형성되는 영역의 위치 선정 정확도는 유지될 수 있다.
도 1e에 도시된 예는 테이퍼 각(θ)이 섀도우 마스크가 증착된 소스로부터 멀어지면서 서서히 커지도록 형성된다. 그러므로, 기화원으로부터 기화물은 평행으로 떨어져 나가지 않더라도, 박막이 형성되는 영역의 위치 선정 정확도는 유지될 수 있다.
또한 도 1e에 도시된 섀도우 마스크에서, 도 1b에 도시된 것처럼, 개구부에서의 테이퍼 각은 섀도우 마스크의 기판의 한 측 상의 표면에서 결정될 수 있다. 또한, 이러한 방식으로, 도 1e에 도시된 섀도우 마스크와 도 1e에 도시된 섀도우 마스크에 상하 대칭되도록 형성된 섀도우 마스크를 서로 붙임에 의해 도 1d에 도시된 것과 같은 두꺼운 마스크가 형성될 수 있다. 또한, 도 1d 또는 도 1e에 도시된 섀도우 마스크는 도 1c에 도시된 것처럼 그 개구부가 층마다 서로 상이한 크기를 갖는 복수의 얇은 금속 플레이트를 서로 붙임으로써 제조될 수 있다.
이러한 섀도우 마스크의 개구부(9a)는 도 2a에 도시된 것처럼 길이 방향을 따른 정렬과 횡방향을 따른 정렬이 서로 직교하거나 또는 도 2b에 도시된 것처럼 횡방향을 따른 정렬이 마스크의 측면과 평행하며 길이 방향을 따른 정렬과 마스크의 측면은 기울어져서 교차하도록 정렬된다.
도 3은 본 발명의 실시 형태를 설명하는 증착 장치의 횡단면도이며, 도면에서, 섀도우 마스크(9), 발광 소자(6, 7, 및 8)의 피치, 투명 지지 기판(1), 및 진공 증착 장치(10)내의 저항 가열 보트(resistance heat boat: 11, 12, 및 13) 사이의 위치 관계가 도시된다. 투명 지지 기판(1)과 섀도우 마스크(9) 사이의 거리는 d1이고, 섀도우 마스크(9)의 중심의 바로 아래에 위치한 저항 가열 보트(12)에서 섀도우 마스크(9) 까지의 거리는 d2이며, 인접 저항 가열 보트들 사이의 거리는 d3이다. 또한, 발광 소자의 피치는 p이다. 여기서, d1, d2, d3 및 p는 아래의 수학식을 만족하도록 설계된다.
예를 들면 도 1a에 도시된 섀도우 마스크(9)는 진공 증착 장치(10) 내에 장착되며, 기판 홀더(14) 상에 투명 지지 기판(1)이 장착된다. 투명 지지 기판(1) 상에는, 각각의 발광 소자에 대응하여 ITO 막과 같은 투명 도전막으로 이루어진 아노드(2) 및 정공 수송층(4)이 형성된다. 먼저, 저항 가열 보트(12)를 이용함에 의해, 녹색 유기 발광 재료가 가열되고 증착되며, 녹색 발광층(5)이 섀도우 마스크(9)를 통해 기판 상에 형성된다. 연속적으로, 저항 가열 보트(11)에 의해, 청색 유기 발광 재료가 가열되고 증착되며, 청색 발광층(6)이 섀도우 마스크(9)를 통해 기판 상에 형성된다. 다음으로, 저항 가열 보트(13)을 이용하여, 적색 유기 발광 재료가 가열되고 증착되며, 적색 발광층(7)이 섀도우 마스크(9)를 통해 기판 상에 형성된다. 이로써, 정공 수송층(4) 및 발광층(5, 6, 및 7)으로된 유기 전자 발광층(3)이 형성된다.
상술한 순서의 발광 재료의 증착은 적절히 변화될 수 있다. 또한, 본 발명에서, 발광 재료는 유기 재료에 제한되지 않으며 무기 재료일 수도 있다. 또한, 발광 재료를 증착함에 의해, 다른 통상적으로 사용되는 가열 수단이 저항 가열 대신에 사용될 수 있다. 또한, 발광층은 증착 방법 대신에 스패터링(spattering)법을 이용하여 형성될 수 있다.
다음으로, 본 발명의 실시예가 도면을 참조로 상세히 설명될 것이다.
도 4는 본 발명에 의해 제조된 칼라 유기 박막 전자 발광 표시 장치의 횡단면도이다(그러나, 개략화를 위해 한 픽셀에 대한 장치가 도시되고, 다른 픽셀들에 대한 장치는 생략됨). 도면에서 도시된 것처럼, 아노드(2)는 스퍼터링법을 이용하여 두께가 100nm인 ITO 막을 형성하고 이에 대한 패턴을 형성함에 의해 1.1mm 두께를 갖는 비-알카라인 글래스 보드로 구성된 투명 지지 기판(1) 상에 형성된다. 낮은 수분 흡수율을 갖는 비-알카라인 글래스 보드가 기판 재료로서 바람직하다. 그러나, 기판을 완전히 건조시키는 공정에 주목한다면, 예를 들면 저가의 저-알카라인 글래스 보드 또는 소다-라임 글래스 보드가 사용될 수도 있다. ITO 막이 아노드(2)의 역할을 하고 유기 전자 발광층(3)에서 발생된 광을 전송함에 의해 표시를 수행하므로, ITO 막이 낮은 저항을 가지고 높은 광투과율(light transmission factor)를 갖는 것이 바람직하다. ITO의 패턴은 라인 피치 0.2mm, 라인 폭 0.16mm, 길이 27mm, 및 개수 384 이다.
다음으로, 투명 지지 기판(1)은 아노드(2)가 아래로 향하는 도 3에 도시된 진공 증착 장치(10)내에서 기판 홀더(14) 상에 장착되며, N, N'-디페닐(diphenyl)-N, N'-비스(α-나프틸)-1, 1'-비페닐(biphenyl)-4, 4'-디아민(아래부터, α-NPD)가 저항 가열 보트에 넣고, 진공 펌프에 의해 진공 증착 장치(10)내를 약 1 × 10-4Pa 미만으로 배기시킨다. 그후, 정공 수송층을 증발시키는 범위를 사각형으로 뚫은 금속 섀도우 마스크를 투명 지지 기판(1)의 아노드(2)측에 기판에 대하여 고정할 수 있도록 설치하고, 진공 증착 장치(10)내에 이 기판 및 섀도우 마스크(9)의 아래에 배치되어 있는 α-NPD가 장전된 저항 가열 보드에 전류를 흘려서 가열한다. α-NPD층은 약 50㎛ 두께의 막으로 증착되어 정공 수송층(4)를 형성한다.
다음으로, 유기 발광 재료가 투명 지지 기판(1)로부터 1.1mm 간격으로 이격되고 평행한 금속 섀도우 마스크(9)로 증착되며, 섀도우 마스크는 개구부 테이퍼 각(θ)이 110°이고 투명 지지 기판(1)의 개구부 폭이 0.2mm인 개구부를 갖는다.
증착막이 형성되는 위치의 정확성을 얻기 위해서, 느슨해지지 않도록 섀도우 마스크(9)를 고정하는 것이 중요하며, 이에 대한 방법으로는, 실크-스크린과 같은 장력을 이용하여 섀도우 마스크를 고정하는 방법이 있다. 이때, 투명 지지 기판과의 섀도우 마스크(9)의 접속으로 인해 사전에 형성된 정공 수송층(4)을 손상시키지 않기 위해 및 증착 재료가 확산되는 것을 방지하도록, 투명 지지 기판(1)과 섀도우 마스크(9) 사이에 일정 간격을 유지하도록 스페이서(spacer)가 위치된다.
다음으로, 도 3에 도시된 진공 증착 장치(10)에서, 디스티레닐 추출물(distyrenyl derivative) 또는 코우말린 추출물(coumalin derivative)이 저항 가열 보트(11)으로 주입하고, 트리스(8-퀴노리노레이트(quinolinolates)) 알루미늄 복합체(아래부터, Alq3)가 저항 가열 보트(12)로 주입되며, 마그네슘 프탈로시아닌(phthalocyanine)이 저항 가열 보트(13)로 주입되며, 진공 증착 장치(10)내의 공기는 진공 펌프에 의해 약 1 × 10-4Pa 이하로 배기된다. 이때, 수학식(1) 및 (2)에 따라, 섀도우 마스크(9)와 섀도우 마스크(9)의 주 표면의 중심 바로 아래에 위치된 저항 가열 보트(12) 사이의 거리(d2)는 353mm로 설정되며, 증착되는 소스인 저항 가열 보트들 사이의 거리(d3)는 62mm로 설정된다. 저항 가열 보트(11 및 13)은 저항 가열 보트(11 및 13)을 섀도우 마스크(9)의 개구부의 단부를 접속하는 라인이 개구부(9a)의 테이퍼 각(θ)에 대응한다.
그후, 기판과 섀도우 마스크(9) 아래에 위치하는 진공 증착 장치(10)내의 Alq3의 저항 가열 보트(12)를 통해 전류가 흐르고, 저항 가열 보트는 가열된다. Alq3 는 상술한 정공 수송층(4)의 표면 상에 막 두께 50㎛로 증착되며, Alq3 층은 도 5a에 도시된 것과 같은 녹색 발광층(5)로서 형성된다. 다음으로, 디스티레닐 추출물 또는 코우말린 추출물은 50nm의 막 두께로 증착되며, 청색 발광층(6)은 도5b에 도시된 것처럼 형성되며, 또한, 마그네슘 프탈로시아닌은 막 두께 50nm로 증착되며 적색 발광층(7)은 도 5c에 도시된 것처럼 형성된다. 증착율은 2-10Å/sec가 양호하다.
이러한 상이한 발광 재료는 저항 가열 보트(11, 12, 및 13)의 위치에 일치하여 섀도우 마스크(9)의 개구부를 통해 투명 지지 기판(1) 상의 소정의 위치에 부착된다.
이러한 다른 발광 재료들은 저항 가열 보트(11, 12 및 13)의 위치에 따라 섀도우 마스크(9)의 개구부를 통해 투명 지지 기판(1) 상의 소망의 위치에 부착된다.
그 후, 예를 들어 마그네슘 및 실버가 증착되어 캐소드(8)을 형성하고, 도 4에 도시된 컬러 박막 전자 발광 표시 장치가 얻어질 수 있다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예를 설명하는 증착 조건의 주요 부분을 도시하는 횡단면도이다. 이 실시예에서는, 도 1(e)에 도시된 섀도우 마스크가 사용된다. 또한, 본 실시예에서 제조된 전자 발광 표시 장치의 횡단면도가 도 4에 도시되어 있다. 전체적으로 광범위한 영역 상에 발광 재료를 동일한 각도로 증발시키기 위해서는 소스와 기판 사이에 충분히 원거리가 유지될 수 있도록 대형의 증착 장비를 사용할 필요가 있지만, 본 실시예에서는 도 6에 도시된 바와 같은 증착 각도의 범위에 대응하는 테이퍼 각도를 갖는 섀도우 마스크(9)를 사용함으로써 대형의 증착 장치를 사용하는 것을 피할 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, ITO로 구성되는 애노드(2)가 투명 지지 기판(1) 상에 형성되고, 도 6에 도시된 바와 같이 제1 실시예의 경우와 동일한 방법을 사용하여 정공 수송층(4)가 그 상부에 형성된 후, 녹색 발광층(5), 청색 발광층(6) 및 적색 발광층(7)이 섀도우 마스크(9) 상에 부착되어 유기 전자 발광층(3)을 형성한다.
스테인레스 섀도우 마스크는 발광층(5-7)이 형성되어 있는 진공 증착 장치내에 이미 배치되어 있으며, 유기 전자 발광층(3)이 형성되어 있는 기판이 섀도우 마스크 상에 설치된다. 이러한 섀도우 마스크는 0.4 mm의 보드 두께를 갖는 SUS430으로 형성되며, 섀도우 마스크에서 마스크 패턴은 패턴 및 클리어 전극(애노드)가 교차하도록 형성된다. 즉, 폭이 0.5 mm이고 길이가 80 mm인 32개의 스트라이트형 개구 패턴이 0.6 mm 피치에서 서로 평행하게 형성된다.
마그네슘은 증착 물질이 섀도우 마스크를 통해 기판 상에 증착될 수 있는 위치에 고정된 하나의 저항 가열 보트내에 주입되고, 실버는 다른 저항 가열 보트내에 주입되며, 마그네슘 및 실버는 마그네슘과 실버의 비율이 10:1이 되는 증착율로 도시에 증착된다. 이러한 방식에서는, 유기 전자 발광층(3)이 형성되어 있는 진공 저장기로부터 기판을 꺼내지 않고도 마그네슘 및 실버의 혼합 금속으로 이루어진 32개의 캐소드(8)이 유기 전자 발광층(3) 상에 형성된다.
이러한 방식으로 제조된 전자 발광 표시 장치가 펄스 전압을 인가하고 캐소드의 스캔 시간에 따라 선택된 애노드를 통해 정전류 회로로부터 펄스 전류를 흐르게 하여 캐소드를 시분할적으로 스캐닝함으로써 구동될 때, 소망의 표시 패턴이 턴온될 수 있다.
상술된 바와 같이, 본 발명에서는 테이퍼가 형성되는 개구부를 갖는 섀도우 마스크를 사용하면 증착 위치로부터 부착되는 물질을 그것의 테이퍼 각도에 따라 증착함으로써 컬러 전자 방출 박막이 형성되기 때문에, 섀도우 마스크를 교환하거나 이동시키지 않고도 미세 피치를 갖는 컬러 박막 전자 방출 표시 장치가 제조될 수 있다. 그러므로, 본 발명에 따르면, 처리가 간략하면서 본 장치를 복잡화하지 않고도 전자 발광 표시 장치를 제조할 수 있다.
또한, 증착 물질이 제공되는 방향에 따라 섀도우 마스크의 개구부에 테이퍼가 형성되기 때문에, 섀도우 마스크의 내구성을 유지할 수 있으면서 미세 피치를 갖는 부착될 고도의 정밀한 막이 얻어질 수 있다.
명세서, 청구 범위, 도면 및 요약서를 포함하는 1997년 5월 15일자로 출원된 일본 특허 공보 제9-125188호 전체가 본 명세서에 참조되었다.

Claims (13)

  1. 복수의 개구부가 일정 간격으로 형성된 섀도우 마스크에 있어서, 상기 개구부는 기화원(evaporation source)로부터의 기화물이 떨어져 나가는 방향과 일치하여 주 표면에 수직이 아닌 횡단면형을 갖는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 개구부를 갖는 얇은 플레이트들을 서로 함께 붙이고, 상기 개구부의 크기가 단계적으로 상이한 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 주 표면과 상기 개구부의 측면 사이의 테이퍼 각(taper angle)이 상기 기화원으로부터의 거리가 커짐에 따라 점차 커지는 것을 특징으로 하는 섀도우 마스크.
  4. 개구부의 횡단면형이 주 표면에 대해 수직으로부터 기울어지도록 형성된 섀도우 마스크를 복수의 기화원과 기판 사이에, 상기 기판으로부터 일정 간격을 유지시키면서 배치하는 단계, 및
    기상 성장법으로 상기 기판 상에 전자 발광 박막을 선택적으로 형성하는 단계
    를 포함하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상이한 발광 색을 나타내는 복수의 유기 발광 재료는 상이한 시간 간격으로 상이한 위치로부터 증발되며, 각각의 색상의 상기 유기 발광 재료는 상기 기판 상의 상이한 위치에 각각 부착되는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치 제조 방법.
  6. 제4항에 있어서, 유기 발광 재료층 아래에 형성된 정공 수송층(hole transporting layer), 상기 유기 발광 재료층 및 상기 유기 발광 재료층 상의 캐소드는 하나의 진공 증착 장치내에 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치 제조 방법.
  7. 제4항에 있어서, 상기 기판 상에 전자 발광 박막을 선택적으로 형성하는 단계는
    상기 기판 상에 아노드 및 정공 수송층을 형성하는 단계,
    제1 유기 발광 재료를 증발시켜 상기 섀도우 마스크를 통해 상기 기판 상에 제1 발광층을 형성하는 단계,
    제2 유기 발광 재료를 증발시켜 상기 섀도우 마스크를 통해 상기 기판 상에 제2 발광층을 형성하는 단계, 및
    제3 유기 발광 재료를 증발시켜 상기 섀도우 마스크를 통해 상기 기판 상에 제3 발광층을 형성하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제1, 제2 및 제3 유기 발광 재료는 각각 녹색, 청색 및 적색을 가지며, 상기 제1, 제2 및 제3 발광층의 색상은 각각 상기 제1, 제2 및 제3 유기 발광 재료의 상기 색상에 대응하는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치 제조 방법.
  9. 기판,
    상기 기판 상에 형성된 아노드,
    상기 기판 및 상기 아노드 상에 형성된 정공 수송층, 및 상기 정공 수송층 상에 형성된 발광층을 포함하는 전자 발광층, 및
    상기 정공 수송층과 상기 발광층 상에 형성된 캐소드
    를 포함하되,
    상기 발광층은 복수의 개구부가 일정 간격으로 형성된 섀도우 마스크를 통해 형성되며, 상기 개구부는 기화원으로부터의 기화물이 떨어져 나가는 방향과 일치하여 주 표면에 수직이 아닌 횡단면형을 갖는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 섀도우 마스크는 상기 개구부를 갖는 얇은 플레이트들을 서로 함께 붙이고 상기 개구부의 크기가 단계적으로 상이하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 주 표면과 상기 개구부의 측면 사이의 테이퍼 각이 상기 기화원으로부터의 거리가 커짐에 따라 점차 커지는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치.
  12. 제9항에 있어서, 상기 발광층은 녹색, 청색 및 적색 발광층으로 구성된 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치.
  13. 제9항에 있어서, 상기 정공 수송층, 상기 발광층 및 캐소드는 하나의 진공 증착 장치내에서 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 박막 전자 발광 표시 장치.
KR1019980017552A 1997-05-15 1998-05-15 섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치 KR100275649B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9125188A JPH10319870A (ja) 1997-05-15 1997-05-15 シャドウマスク及びこれを用いたカラー薄膜ｅｌ表示装置の製造方法
JP97-125188 1997-05-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980087101A KR19980087101A (ko) 1998-12-05
KR100275649B1 true KR100275649B1 (ko) 2000-12-15

Family

ID=14904099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980017552A KR100275649B1 (ko) 1997-05-15 1998-05-15 섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6255775B1 (ko)
JP (1) JPH10319870A (ko)
KR (1) KR100275649B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101218115B1 (ko) * 2005-07-26 2013-01-18 주성엔지니어링(주) 쉐도우 마스크 및 이를 이용한 박막 증착 방법

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4136185B2 (ja) * 1999-05-12 2008-08-20 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンス多色ディスプレイ及びその製造方法
JP2001185350A (ja) * 1999-12-24 2001-07-06 Sanyo Electric Co Ltd 被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法
KR100687491B1 (ko) * 1999-12-28 2007-02-27 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사형 액정 표시장치의 어레이 기판 제조방법
JP3687953B2 (ja) * 2000-02-22 2005-08-24 東北パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネセンス表示パネル及びその製造方法
TW495812B (en) 2000-03-06 2002-07-21 Semiconductor Energy Lab Thin film forming device, method of forming a thin film, and self-light-emitting device
JP2001284046A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
KR100710349B1 (ko) * 2000-10-06 2007-04-23 엘지전자 주식회사 새도우 마스크 및 이를 이용한 풀칼라 유기ｅｌ 제조방법
JP2002220656A (ja) 2000-11-22 2002-08-09 Sanyo Electric Co Ltd 蒸着用マスクおよびその製造方法
KR20020077448A (ko) * 2000-12-20 2002-10-11 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 전기발광 컬러 디스플레이 패널
US6791258B2 (en) 2001-06-21 2004-09-14 3M Innovative Properties Company Organic light emitting full color display panel
JP4707271B2 (ja) * 2001-06-29 2011-06-22 三洋電機株式会社 エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2003017255A (ja) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
JP2003017254A (ja) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
JP4614588B2 (ja) * 2001-06-29 2011-01-19 三洋電機株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
KR20030008719A (ko) * 2001-07-19 2003-01-29 오리온전기 주식회사 유기이엘(ｅｌ) 소자용 마스크 형성 방법
US6716656B2 (en) * 2001-09-04 2004-04-06 The Trustees Of Princeton University Self-aligned hybrid deposition
KR100437768B1 (ko) * 2001-09-13 2004-06-30 엘지전자 주식회사 박막증착장치
US6897164B2 (en) * 2002-02-14 2005-05-24 3M Innovative Properties Company Aperture masks for circuit fabrication
US6821348B2 (en) * 2002-02-14 2004-11-23 3M Innovative Properties Company In-line deposition processes for circuit fabrication
US20030151118A1 (en) * 2002-02-14 2003-08-14 3M Innovative Properties Company Aperture masks for circuit fabrication
US6667215B2 (en) * 2002-05-02 2003-12-23 3M Innovative Properties Method of making transistors
GB2396573B (en) * 2002-12-27 2005-03-02 Wing Wo Plastic Manufactory Lt Condiment grinder with associated grinding mechamism
KR100525819B1 (ko) * 2003-05-06 2005-11-03 엘지전자 주식회사 유기 이엘 디스플레이 패널 제조용 새도우 마스크
JP3915734B2 (ja) 2003-05-12 2007-05-16 ソニー株式会社 蒸着マスクおよびこれを用いた表示装置の製造方法、ならびに表示装置
JP4078551B2 (ja) * 2003-08-08 2008-04-23 ミネベア株式会社 カラーホイール、その製造方法、およびそれを備えた分光装置並びに画像表示装置
JP3794407B2 (ja) * 2003-11-17 2006-07-05 セイコーエプソン株式会社 マスク及びマスクの製造方法、表示装置の製造方法、有機ｅｌ表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置、及び電子機器
KR100692839B1 (ko) * 2004-02-04 2007-03-09 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광 소자용 마스크 및 그 제조방법
US7253533B2 (en) * 2004-05-06 2007-08-07 Au Optronics Corporation Divided shadow mask for fabricating organic light emitting diode displays
KR100659057B1 (ko) * 2004-07-15 2006-12-21 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 전계 발광표시장치
KR100656181B1 (ko) * 2004-08-09 2006-12-12 두산디앤디 주식회사 유기 el소자의 연속 증착 시스템
KR100751326B1 (ko) * 2005-02-28 2007-08-22 삼성에스디아이 주식회사 마스크, 그 제조방법 및 상기 마스크를 이용한 유기 발광디스플레이 장치의 제조방법
KR100656818B1 (ko) * 2005-04-06 2006-12-20 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광층 형성용 마스크
KR100773249B1 (ko) * 2005-04-18 2007-11-05 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광층 형성용 마스크
TWI342721B (en) * 2006-05-18 2011-05-21 Au Optronics Corp Shadow mask and evaporation device incorporating the same and method for manufacturing organic light emitting diode panel incoporating the same
KR100775846B1 (ko) * 2006-09-04 2007-11-13 엘지전자 주식회사 디스플레이 소자 제조용 마스크
KR100836471B1 (ko) * 2006-10-27 2008-06-09 삼성에스디아이 주식회사 마스크 및 이를 이용한 증착 장치
KR100830321B1 (ko) * 2006-11-22 2008-05-19 삼성에스디아이 주식회사 증착용 메탈 마스크 및 증착용 메탈 마스크를 이용한표시장치용 화소 증착 방법
KR100959110B1 (ko) * 2008-02-21 2010-05-25 삼성모바일디스플레이주식회사 증착용 마스크 패턴
KR100994118B1 (ko) * 2009-01-13 2010-11-15 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 소자 및 그 제조 방법
KR20110014442A (ko) * 2009-08-05 2011-02-11 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
JP5328726B2 (ja) * 2009-08-25 2013-10-30 三星ディスプレイ株式會社 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
TWI395827B (zh) * 2009-11-27 2013-05-11 Au Optronics Corp 蒸鍍程序及蒸鍍設備
KR20120094112A (ko) * 2010-02-03 2012-08-23 샤프 가부시키가이샤 증착 마스크, 증착장치 및 증착 방법
KR101730498B1 (ko) 2010-10-22 2017-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
JP5883230B2 (ja) * 2011-03-14 2016-03-09 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置並びに蒸着方法
US9087951B2 (en) * 2012-09-28 2015-07-21 Jinlin Ye Method and apparatus for diffusion into semiconductor materials
KR102129869B1 (ko) 2012-11-06 2020-07-06 오티아이 루미오닉스 인크. 표면상에 전도성 코팅층을 침착시키는 방법
US9142777B2 (en) 2013-01-08 2015-09-22 OLEDWorks LLC Apparatus and method for making OLED lighting device
KR20150031819A (ko) * 2013-09-17 2015-03-25 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착방법 및 그를 이용한 유기전계발광 표시장치의 제조방법
KR102557891B1 (ko) * 2015-10-16 2023-07-21 삼성디스플레이 주식회사 마스크의 제조 방법
CN109790615A (zh) 2016-10-06 2019-05-21 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法、及有机el显示器的制造方法
KR102180070B1 (ko) 2017-10-31 2020-11-17 엘지디스플레이 주식회사 초미세 패턴 증착장치, 이를 이용한 초미세 패턴 증착방법 그리고 초미세 패턴 증착방법에 의해 제작된 전계발광표시장치
CN109411603A (zh) * 2018-10-17 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 显示面板、发光材料蒸镀方法以及装置
US10991547B2 (en) 2019-09-25 2021-04-27 Applied Materials, Inc. Method and device for a carrier proximity mask
US10957512B1 (en) * 2019-09-25 2021-03-23 Applied Materials, Inc. Method and device for a carrier proximity mask
CN110629158B (zh) * 2019-10-31 2021-01-05 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版
CN110931639A (zh) * 2019-11-26 2020-03-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 可提高像素分辨率的像素排列显示设备与蒸镀方法
CN113659097B (zh) * 2021-09-13 2024-02-02 武汉天马微电子有限公司 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USB789264I5 (ko) * 1969-01-06
JPS607028B2 (ja) * 1981-08-14 1985-02-21 日本真空技術株式会社 真空蒸着多層膜形成装置
JPS5956579A (ja) * 1982-09-24 1984-04-02 Fujitsu Ltd 複合メタルマスク
JPS6243097A (ja) * 1985-08-20 1987-02-25 富士通株式会社 Ｅｌパネルの製造方法
US5294869A (en) * 1991-12-30 1994-03-15 Eastman Kodak Company Organic electroluminescent multicolor image display device
JPH08165559A (ja) * 1994-12-12 1996-06-25 Toppan Printing Co Ltd 機能性フィルムの成膜装置及び成膜方法
US5703436A (en) * 1994-12-13 1997-12-30 The Trustees Of Princeton University Transparent contacts for organic devices
JP3539596B2 (ja) * 1995-10-06 2004-07-07 ソニー株式会社 光学的素子
JPH10298738A (ja) * 1997-04-21 1998-11-10 Mitsubishi Chem Corp シャドウマスク及び蒸着方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101218115B1 (ko) * 2005-07-26 2013-01-18 주성엔지니어링(주) 쉐도우 마스크 및 이를 이용한 박막 증착 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US6255775B1 (en) 2001-07-03
KR19980087101A (ko) 1998-12-05
JPH10319870A (ja) 1998-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100275649B1 (ko) 섀도우 마스크, 섀도우 마스크를 사용한 박막 전자 발광 표시장치의 제조 방법 및 박막 전자 발광 표시 장치
US6390874B2 (en) Organic electroluminescent display device and method of forming the same using a shadow mask
US6165543A (en) Method of making organic EL device and organic EL transfer base plate
US6417034B2 (en) Manufacturing method for organic EL device
JP4455937B2 (ja) 成膜源、真空成膜装置、有機ｅｌパネルの製造方法
EP1426461B1 (en) Mask for coating by vacuum evaporation
JP4971723B2 (ja) 有機発光表示装置の製造方法
JP4356899B2 (ja) 有機ｅｌ発光装置およびその製造方法
US6302756B1 (en) Organic electroluminecent display device suitable for a flat display and method of forming the same
JP2001052862A (ja) 有機ｅｌ素子の製造方法と装置
CN100379057C (zh) 用于有机发光二极管显示器制造的分离式遮蔽罩幕装置
EP0986112A2 (en) An efficient method for fabricating organic light emitting diodes
KR101255740B1 (ko) 발광 디바이스용 패턴화 방법
JP2006057173A (ja) 成膜源、真空成膜装置、有機ｅｌパネルの製造方法
JP2006309994A (ja) 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法
JP3539597B2 (ja) 有機光学的素子及びその製造方法
JP5013020B2 (ja) 転写用ドナー基板、デバイスの製造方法および有機ｅｌ素子
WO2019008705A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置および有機ｅｌ表示装置の製造方法
JP3175733B2 (ja) 有機ｅｌ素子の製造方法
CN108281574B (zh) 一种有机发光显示面板及其制备方法
JP2001023773A (ja) 有機ｅｌ素子の製造方法と装置
JP2003231961A (ja) マスク、電気光学装置及び有機ｅｌ装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造装置並びに電子機器
JP2007214000A (ja) 電気光学装置の製造方法
JP2001126865A (ja) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法
KR20070016716A (ko) 유기발광 다이오드 표시소자 제조 장치의 진공 챔버

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120906

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130830

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140901

Year of fee payment: 15

EXPY Expiration of term