KR102557891B1 - 마스크의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 상면과 하면을 갖는 마스크 부재의 상면 상에 복수개의 제1 관통홀을 갖는 제1 보호층을 형성하는 단계, 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀을 통해 마스크 부재의 상면에 레이저빔을 조사하여, 마스크 부재에 복수개의 홈을 형성하는 단계 및 에칭액을 이용하여 복수개의 홈의 저면을 식각하여 마스크 부재를 관통하는 복수개의 관통구를 형성하는 단계를 포함하는 마스크의 제조 방법을 제공한다.

Description

마스크의 제조 방법{Method for manufacturing mask}
본 발명의 실시예들은 마스크의 제조 방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 고정세 패턴을 갖는 마스크를 형성할 수 있는 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.
유기발광 디스플레이 장치는 디스플레이 영역에 유기발광 소자를 구비하는 디스플레이 장치로서, 유기발광 소자는 상호 대향된 화소전극 및 대향전극과, 화소전극과 대향전극 사이에 개재되며 발광층을 포함하는 중간층을 구비한다.
이러한 유기발광 디스플레이 장치를 제조할 시 중간층의 적어도 일부를 형성하는 방법으로 다양한 방법을 이용할 수 있는데, 예컨대 파인메탈마스크(FMM; fine metal mask)를 이용한 증착법을 이용할 수 있다.
그러나 종래의 마스크의 제조 방법의 경우, 고정세 패턴을 미세하게 패터닝하는 데 한계가 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 고정세 패턴을 갖는 마스크를 형성할 수 있는 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 상면과 하면을 갖는 마스크 부재의 상면 상에 복수개의 제1 관통홀을 갖는 제1 보호층을 형성하는 단계, 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀을 통해 마스크 부재의 상면에 레이저빔을 조사하여, 마스크 부재에 복수개의 홈을 형성하는 단계 및 에칭액을 이용하여 복수개의 홈의 저면을 식각하여 마스크 부재를 관통하는 복수개의 관통구를 형성하는 단계를 포함하는 마스크의 제조 방법이 제공된다.
상기 복수개의 관통구를 형성하는 단계는, 복수개의 홈의 내면이 확장되도록 마스크 부재를 식각하는 단계일 수 있다.
상기 복수개의 관통구를 형성하는 단계는, 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀을 통해 마스크 부재의 복수개의 홈에 에칭액을 공급하는 단계일 수 있다.
복수개의 관통구의 마스크 부재 상면에서의 형상은 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀의 형상에 대응할 수 있다.
복수개의 관통구의 마스크 부재의 하면 방향의 단면적은 마스크 부재의 상면 방향의 단면적보다 좁을 수 있다.
복수개의 관통구의 내면은 테이퍼 형상을 가질 수 있다.
마스크 부재의 하면 상에 제2 보호층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
제2 보호층은 복수개의 제2 관통홀을 가질 수 있다.
상기 복수개의 관통구를 형성하는 단계는, 제2 보호층의 복수개의 제2 관통홀을 통해 마스크 부재의 하면에 에칭액을 공급하는 단계일 수 있다.
복수개의 관통구의 하면에서의 형상은 제2 보호층의 제2 관통홀의 형상에 대응할 수 있다.
복수개의 관통구의 마스크 부재의 하면 방향의 단면적은 마스크 부재의 상면 방향의 단면적보다 넓을 수 있다.
제1 보호층과 제2 보호층은 동일 물질을 포함할 수 있다.
마스크 부재의 상면으로부터 제1 보호층을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
마스크 부재의 하면으로부터 제2 보호층을 제거하는 단계를 더 포함하고, 상기 제2 보호층을 제거하는 단계는, 마스크 부재로부터 제1 보호층과 제2 보호층을 동시에 제거하는 단계일 수 있다.
상술한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 마스크 부재의 변형을 최소화하면서 고정세 패턴을 갖는 마스크를 형성할 수 있는 마스크의 제조 방법을 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 제조 공정들을 개략적으로 도시한 단면도들이다.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크의 제조 공정들을 개략적으로 도시한 단면도들이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 이용하여 제조된 디스플레이 장치를 도시한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고, 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 명세서에서 사용되는 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 명세서에서 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분"위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
이하, 본 발명에 따른 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명함에 있어 실질적으로 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.
도 1 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 제조 공정들을 개략적으로 도시한 단면도들이다.
먼저 도 1에 도시된 바와 같이, 마스크 부재(M)의 상면 상에 제1 보호층(120)을 형성한다. 제1 보호층(120)은 복수개의 제1 관통홀(120a)을 갖는다. 이로써 복수개의 제1 관통홀(120a)을 통해 마스크 부재(M)의 일부가 노출되는데, 이러한 마스크 부재(M)의 노출된 부분은 추후 마스크의 개구로 패터닝된다.
또한, 마스크 부재(M)의 하면 상에도 제2 보호층(130)을 형성할 수 있다. 추후 마스크 부재(M)를 식각하는 과정에서 마스크 부재(M)를 다량의 에칭액에 침지시키는 경우, 마스크 부재(M)의 하면을 상기 에칭액으로부터 보호하려면 마스크 부재(M)의 하면 상에도 제2 보호층(130)을 형성할 필요가 있다.
제1 보호층(120) 및 제2 보호층(130)은 에칭액을 차단하는 내에칭성을 갖는 물질로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제1 보호층(120) 및 제2 보호층(130)은 포토레지스트 물질을 포함할 수 있다. 또한, 제1 보호층(120) 및 제2 보호층(130)은 동일 물질로 형성될 수 있다.
마스크 부재(M)는 다양한 재질로 형성될 수 있는데, 예를 들면 마스크 부재(M)는 니켈, 니켈 합금, 니켈-코발트 합금 등을 포함할 수 있다. 일 실시예로, 마스크 부재(M)는 인바(Invar)를 포함할 수 있다.
이후 도 2에 도시된 바와 같이, 마스크 부재(M)의 상면에 레이저빔(L)을 조사하여, 마스크 부재(M)에 복수개의 홈(110a)을 형성한다. 레이저빔(L)은 제1 보호층(120)의 복수개의 제1 관통홀(120a)을 통해 마스크 부재(M) 상면의 노출된 부분에 조사된다.
레이저빔(L)을 이용하여 마스크 부재(M)에 복수개의 홈(110a)을 형성하는 경우, 복수개의 홈(110a)은 미세한 크기로 형성될 수 있다. 레이저빔(L)은 좁은 면적에 고온 및 고출력의 에너지를 집중적으로 전달하므로, 레이저빔(L)을 이용하면 마스크 부재(M)에 고정세 패턴을 용이하게 형성할 수 있다. 이로써 마스크에 형성될 개구의 크기 및 각 개구 사이의 거리를 줄일 수 있으므로, 디스플레이 장치의 화소 간 거리 또한 줄일 수 있다.
이와 같이 미세한 크기로 복수개의 홈(110a)을 형성하면, 복수개의 홈(110a)의 마스크 부재(M) 상면에서의 임의의 제1 직선거리(X1)는 이에 대응하는 복수 개의 제1 관통홀(120a)의 마스크 부재(M) 상면에서의 제2 직선거리(X2)보다 짧을 수 있다.
한편, 상술한 레이저 가공 시, 마스크 부재(M)의 전(全) 두께에 걸쳐 관통홀을 형성하는 것이 아니라, 마스크 부재(M) 두께의 일부에 대응하도록 복수개의 홈(110a)을 형성한다. 이때, 마스크 부재(M)에 있어서, 레이저빔(L)에 의해 가공된 부분을 제1 부분(M1)이라 하고, 레이저빔(L)에 의해 가공되지 않은 부분을 제2 부분(M2)이라 하면, 마스크 부재(M)에 형성된 복수개의 홈(110a)의 저면은 제1 부분(M1)과 제2 부분(M2)의 경계에 위치하게 된다. 이와 같이 마스크 부재(M)의 일부만을 가공함으로써, 마스크의 제조 과정 중 레이저빔(L)에 의해 마스크 부재(M)에 열변형이 발생하는 것을 방지하거나 최소화할 수 있다.
이후 도 3에 도시된 바와 같이, 에칭액(E)을 이용하여 마스크 부재(M)를 관통하는 복수개의 관통구(110b)를 형성한다. 이때, 에칭액(E)을 제1 보호층(120)의 복수개의 제1 관통홀(120a)을 통해 마스크 부재(M)의 복수개의 홈(110a)에 공급할 수 있다. 이로써 복수개의 홈(110a)의 저면이 식각되어 마스크 부재(M)를 관통하는 복수개의 관통구(110b)를 형성하게 된다.
상기와 같은 식각 공정을 거치면, 레이저빔(L)에 의해 가공되지 않은 제2 부분(M2) 중 복수개의 홈(110a)의 저면에서부터 마스크 부재(M)의 하면까지 식각이 이루어져, 마스크 부재(M)의 상면에서 하면까지 연장되는 관통구가 형성된다. 또한, 복수개의 홈(110a)의 주변부 중 에칭액(E)에 노출된 부분이 식각되어, 복수개의 홈(110a)의 내면이 확장된다. 이로써, 마스크 부재(M)에 기(旣)형성된 복수개의 홈(110a)은 결국 복수개의 관통구(110b)로 변형된다.
에칭액(E)이 제1 보호층(120)의 제1 관통홀(120a)을 통해 공급됨에 따라, 복수개의 관통구(110b)의 마스크 부재(M) 상면에서의 형상은 제1 보호층(120)의 복수개의 제1 관통홀(120a)의 형상에 대응할 수 있다. 이때, 제1 보호층(120)의 복수개의 제1 관통홀(120a)의 형상은 다양할 수 있다. 예를 들어, 제1 관통홀(120a)은 사각형, 마름모, 원, 타원 등의 형상을 가질 수 있다. 또한, 에칭액(E)이 마스크 부재(M)의 상면에서 하면으로 이동함에 따라, 복수개의 관통구(110b)의 마스크 부재(M)의 하면 방향의 단면적은 마스크 부재(M)의 상면 방향의 단면적보다 좁을 수 있다. 특히 복수개의 관통구(110b)의 형상이 원형인 경우, 복수개의 관통구(110b)의 내면은 테이퍼 형상을 가질 수 있다.
이후 도 4에 도시된 바와 같이, 마스크 부재(M)의 상면 및 하면으로부터 각각 제1 보호층(120) 및 제2 보호층(130)을 제거하여, 최종적으로 복수개의 관통구(110b)를 갖는 마스크(Ma)를 형성한다. 이때, 제1 보호층(120) 및 제2 보호층(130)은 동시에 제거될 수 있다. 복수개의 관통구(110b)는 마스크(Ma)를 이용하여 증착 공정 등을 진행할 때 증착물질을 통과시킬 수 있는 개구에 해당한다. 복수개의 관통구(110b)의 폭(X)은 마스크(Ma)의 상면에서 하면으로 갈수록 감소할 수 있다.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크의 제조 공정들을 개략적으로 도시한 단면도들이다. 이하, 전술한 실시예들과 중복되는 내용은 일부 생략하거나 간략히 설명한다.
먼저 도 5에 도시된 바와 같이, 마스크 부재(M)의 상면 상에 제1 보호층(220)을 형성한다. 제1 보호층(220)은 복수개의 제1 관통홀(220a)을 갖는다. 복수개의 제1 관통홀(220a)을 통해 마스크 부재(M)의 노출된 부분은 추후 마스크의 개구로 패터닝된다.
마스크 부재(M)의 하면 상에는 제2 보호층(230)을 형성한다. 제2 보호층(230)은 제1 보호층(220)과 동일 또는 유사하게 복수개의 제2 관통홀(230a)을 갖는다. 이때, 제2 보호층(230)은 단순히 마스크 부재(M)를 에칭액 등으로부터 보호하는 역할만 하는 것이 아니라, 제1 보호층(220)과 마찬가지로 마스크 부재(M)를 패터닝하는 데 이용될 수 있다.
이후 마스크 부재(M)의 상면에 레이저빔(L)을 조사하여, 마스크 부재(M)에 복수개의 홈(210a)을 형성한다. 레이저빔(L)은 제1 보호층(220)의 복수개의 제1 관통홀(220a)을 통해 마스크 부재(M) 상면의 노출된 부분에 조사된다.
레이저빔(L)을 이용하여 마스크 부재(M)에 복수개의 홈(210a)을 형성하는 경우, 복수개의 홈(210a)은 미세한 크기로 형성될 수 있다. 이와 같이 미세한 크기로 복수개의 홈(210a)을 형성하면, 복수개의 홈(210a)의 마스크 부재(M) 상면에서의 임의의 제1 직선거리(X1)는 이에 대응하는 복수 개의 제1 관통홀(220a)의 마스크 부재(M) 상면에서의 제2 직선거리(X2)보다 짧을 수 있다.
한편, 상술한 레이저 가공 시, 마스크 부재(M)의 전(全) 두께에 걸쳐 관통홀을 형성하는 것이 아니라, 마스크 부재(M) 두께의 일부에 대응하도록 복수개의 홈(210a)을 형성한다. 이때, 마스크 부재(M)에 있어서, 레이저빔(L)에 의해 가공된 부분을 제1 부분(M1)이라 하고, 레이저빔(L)에 의해 가공되지 않은 부분을 제2 부분(M2)이라 하면, 마스크 부재(M)에 형성된 복수개의 홈(210a)의 저면은 제1 부분(M1)과 제2 부분(M2)의 경계에 위치하게 된다.
이후 도 6에 도시된 바와 같이, 에칭액(E)을 이용하여 마스크 부재(M)를 관통하는 복수개의 관통구(210b)를 형성한다. 이때, 에칭액(E)을 제2 보호층(230)의 복수개의 제2 관통홀(230a)을 통해 마스크 부재(M)의 하면에 공급할 수 있다. 이로써 마스크 부재(M)의 하면으로부터 이동하는 에칭액(E)에 의해 복수개의 홈(210a)의 저면이 식각되어 마스크 부재(M)를 관통하는 복수개의 관통구(210b)를 형성하게 된다.
상기와 같은 식각 공정을 거치면, 레이저빔(L)에 의해 가공되지 않은 제2 부분(M2) 중 마스크 부재(M)의 하면으로부터 복수개의 홈(210a)의 저면까지 식각이 이루어져, 마스크 부재(M)의 상면에서 하면까지 연장되는 관통구가 형성된다. 이로써, 마스크 부재(M)에 기(旣)형성된 복수개의 홈(210a)은 결국 복수개의 관통구(210b)로 변형된다. 이때, 복수개의 홈(210a)의 내면은 에칭액(E)에 노출되어 다소 확장될 수 있으나, 전술한 실시예에서와 달리 레이저빔(L)에 의해 형성된 형태를 적어도 일부 유지할 수 있다.
에칭액(E)이 제2 보호층(230)의 제2 관통홀(230a)을 통해 공급됨에 따라, 복수개의 관통구(210b)의 마스크 부재(M) 하면에서의 형상은 제2 보호층(230)의 복수개의 제2 관통홀(230a)의 형상에 대응할 수 있다. 이때, 제2 보호층(230)의 복수개의 제2 관통홀(230a)의 형상은 다양할 수 있다. 예를 들어, 제2 관통홀(230a)은 사각형, 마름모, 원, 타원 등의 형상을 가질 수 있다. 또한, 에칭액(E)이 마스크 부재(M)의 하면에서 상면으로 이동함에 따라, 적어도 마스크 부재(M)의 제2 부분(M2)에 있어서, 복수개의 관통구(210b)의 마스크 부재(M)의 하면 방향의 단면적은 마스크 부재(M)의 상면 방향의 단면적보다 넓을 수 있다. 특히 복수개의 관통구(210b)의 형상이 원형인 경우, 복수개의 관통구(210b)의 내면은 테이퍼 형상을 가질 수 있다.
이후 도 7에 도시된 바와 같이, 마스크 부재(M)의 상면 및 하면으로부터 각각 제1 보호층(220) 및 제2 보호층(230)을 제거하여, 최종적으로 복수개의 관통구(210b)를 갖는 마스크(Mb)를 형성한다. 이때, 제1 보호층(220) 및 제2 보호층(230)은 동시에 제거될 수 있다. 복수개의 관통구(210b)는 마스크(Mb)를 이용하여 증착 공정 등을 진행할 때 증착물질을 통과시킬 수 있는 개구에 해당한다. 복수개의 관통구(210b)의 폭(X')은 적어도 마스크(Mb)의 하면부에서 상면에서 하면으로 갈수록 증가할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 이용하여 제조된 디스플레이 장치를 도시한 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스크는 디스플레이 장치를 제조하는 과정 중에 다양하게 이용될 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의상 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크가 유기발광 디스플레이 장치의 유기발광층을 증착하는 용도로 사용되는 경우를 중심으로 설명한다.
도 8에 도시된 디스플레이 장치는, 기판(100)과, 기판(100) 상에 형성된 제1 전극들(210R, 210G, 210B)과, 제1 전극들(210R, 210G, 210B) 각각의 중앙부를 포함한 적어도 일부를 노출시키도록 형성된 화소정의막(180)과, 노출된 제1 전극들(210R, 210G, 210B) 상에 형성된 중간층들(220R, 220G, 220B)과, 중간층들(220R, 220G, 220B) 및 화소정의막(180)을 덮도록 형성되는 제2 전극(230)을 포함한다.
제1 전극들(210R, 210G, 210B)은 (반)투명전극 또는 반사전극일 수 있다. 제1 전극들(210R, 210G, 210B)은 각 화소별로 배치된 박막트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결된다.
화소정의막(180)은 각 부화소들에 대응하는 개구, 즉 제1 전극들(210R, 210G, 210B) 각각의 중앙부 또는 제1 전극들(210R, 210G, 210B) 전체가 노출되도록 하는 개구를 가짐으로써 화소를 정의하는 역할을 할 수 있다.
화소정의막(180)의 제1 전극들(210R, 210G, 210B)이 노출된 개구 상에 유기발광층들(221R, 221G, 221B)을 포함하는 중간층들(220R, 220G, 220B)을 형성한다. 중간층들(220R, 220G, 220B)에 포함된 유기발광층들(221R, 221G, 221B)은 저분자 유기물 또는 고분자 유기물일 수 있으며, 중간층들(220R, 220G, 220B)은 유기 발광층(미도시) 이외에 홀 수송층(HTL; hole transport layer), 홀 주입층(HIL; hole injection layer), 전자 수송층(ETL; electron transport layer) 및 전자 주입층(EIL; electron injection layer) 등과 같은 기능층을 선택적으로 더 포함할 수 있다.
유기발광층은 각 부화소별로 다른 물질로 형성될 수 있는데, 예를 들면 도 1에 도시된 바와 같이, 적색부화소(R), 녹색부화소(G) 및 청색부화소(B)별로 적색발광층(221R), 녹색발광층(221G) 및 청색발광층(221B)이 형성될 수 있다. 이를 위해 적색발광층(221R), 녹색발광층(221G) 및 청색발광층(221B)을 형성할 시 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 이용할 수 있다. 이때, 상기 마스크는 제1 전극들(210R, 210G, 210B) 상에 배치되어 각 부화소별로 다른 물질의 발광층을 패터닝하게 되는데, 상기 마스크가 화소정의막(180)이나 중간층들(220R, 220G, 220B)의 기(旣)형성된 부분에 컨택하지 않도록 화소정의막(180) 상에는 스페이서 등이 형성될 수 있다.
이후 중간층들(220R, 220G, 220B) 및 화소정의막(180)을 덮으며 제2 전극 형성용 물질을 도포, 도팅 또는 증착한다. 이러한 제2 전극(225)은 디스플레이 영역 외측의 전극전원공급라인에 접촉하여 전극전원공급라인으로부터 전기적 신호를 전달받는다. 제2 전극(225)은 (반)투명전극 또는 반사전극으로 형성될 수 있다.
물론 백플레인은 필요에 따라 그 외의 다양한 구성요소를 더 포함할 수 있다. 예컨대 도 1에 도시된 바와 같이 기판(100) 상에 박막트랜지스터(TFT)나 커패시터(Cap)가 형성될 수 있다. 그리고 불순물이 박막트랜지스터(TFT)의 반도체층으로 침투하는 것을 방지하기 위해 형성된 버퍼층(110), 박막트랜지스터(TFT)의 반도체층과 게이트전극을 절연시키기 위한 게이트절연막(115), 박막트랜지스터(TFT)의 소스전극/드레인전극과 게이트전극을 절연시키기 위한 층간절연막(150) 및 박막트랜지스터(TFT)를 덮으며 상면이 대략 평평한 평탄화막(170) 등이나 다른 구성요소들을 구비할 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 이용하여 증착공정을 수행하면, 화소정의막 사이의 거리, 즉 각 화소 사이의 거리가 미세할 것을 요구하는 경우에도, 각 화소별로 고정세의 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 미세한 개구를 갖도록 마스크를 형성하는 과정에서, 레이저빔의 사용을 최소화함으로써 마스크가 열에 의해 변형되거나 뒤틀리는 것을 방지할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
120, 220: 제1 보호층 120a, 220a: 제1 관통홀
130, 230: 제2 보호층 230a: 제2관통홀
110a, 210a: 홈 110b, 210b: 관통구
M: 마스크 부재 M1: 제1 부분
M2: 제2 부분 Ma, Mb: 마스크

Claims (14)

  1. 상면과 하면을 갖는 마스크 부재의 상면 상에 복수개의 제1 관통홀을 갖는 제1 보호층을 형성하는 단계;
    상기 마스크 부재의 하면 상에 제2 보호층을 형성하는 단계;
    상기 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀을 통해 상기 마스크 부재의 상면에 레이저빔을 조사하여, 상기 마스크 부재에 복수개의 홈을 형성하는 단계; 및
    에칭액을 이용하여 상기 복수개의 홈의 저면을 식각하여 마스크 부재를 관통하는 복수개의 관통구를 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 관통구를 형성하는 단계는 상기 복수개의 제1 관통홀을 통해 상기 마스크 부재의 복수개의 홈에 에칭액을 공급하고,
    상기 레이저빔 조사 및 상기 에칭액 공급에 의해 상기 관통구가 형성될 때까지 상기 제2 보호층은 상기 관통구의 하면을 덮는, 마스크의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수개의 관통구를 형성하는 단계는, 복수개의 홈의 내면이 확장되도록 마스크 부재를 식각하는 단계인, 마스크의 제조 방법.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    복수개의 관통구의 마스크 부재 상면에서의 형상은 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀의 형상에 대응하는, 마스크의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    복수개의 관통구의 마스크 부재의 하면 방향의 단면적은 마스크 부재의 상면 방향의 단면적보다 좁은, 마스크의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    복수개의 관통구의 내면은 테이퍼 형상을 갖는, 마스크의 제조 방법.
  7. 상면과 하면을 갖는 마스크 부재의 상면 상에 복수개의 제1 관통홀을 갖는 제1 보호층을 형성하는 단계;
    상기 마스크 부재의 하면 상에 복수개의 제2 관통홀을 갖는 제2 보호층을 형성하는 단계;
    상기 제1 보호층의 복수개의 제1 관통홀을 통해 상기 마스크 부재의 상면에 레이저빔을 조사하여 상기 마스크 부재에 복수개의 홈을 형성하는 단계; 및
    에칭액을 이용하여 상기 복수개의 홈의 저면을 식각하여 마스크 부재를 관통하는 복수개의 관통구를 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 관통구를 형성하는 단계는 상기 복수개의 제2 관통홀을 통해 마스크 부재의 하면에 에칭액을 공급하는 단계;를 포함하며,
    상기 레이저빔 조사 및 상기 에칭액 공급에 의해 복수개의 관통구가 형성된 이후의 제1 시점에서, 상기 복수개의 홈 중 어느 하나의 상기 마스크 부재의 상면에서의 제1 폭은 상기 제1 폭에 대응하는 상기 복수개의 제1 관통홀 중 어느 하나의 상기 마스크 부재의 상면에서의 제 2폭보다 좁은, 마스크의 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제 7 항에 있어서,
    복수개의 관통구의 하면에서의 형상은 제2 보호층의 제2 관통홀의 형상에 대응하는, 마스크의 제조 방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    복수개의 관통구의 마스크 부재의 하면 방향의 단면적은 마스크 부재의 상면 방향의 단면적보다 넓은, 마스크의 제조 방법.
  12. 제 7 항에 있어서,
    제1 보호층과 제2 보호층은 동일 물질을 포함하는, 마스크의 제조 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    마스크 부재의 상면으로부터 제1 보호층을 제거하는 단계를 더 포함하는, 마스크의 제조 방법.
  14. 제 7 항에 있어서,
    마스크 부재의 하면으로부터 제2 보호층을 제거하는 단계를 더 포함하고,
    상기 제2 보호층을 제거하는 단계는, 마스크 부재로부터 제1 보호층과 제2 보호층을 동시에 제거하는 단계인, 마스크의 제조 방법.
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