JPH06228775A - 金属板の加工方法 - Google Patents

金属板の加工方法

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JPH06228775A
JPH06228775A JP5013233A JP1323393A JPH06228775A JP H06228775 A JPH06228775 A JP H06228775A JP 5013233 A JP5013233 A JP 5013233A JP 1323393 A JP1323393 A JP 1323393A JP H06228775 A JPH06228775 A JP H06228775A
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JP
Japan
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opening
metal
metal plate
etching
etching resist
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JP5013233A
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Tatsuhiro Okano
達広 岡野
Hiroko Otaki
浩子 大瀧
Satoshi Tanaka
聡 田中
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Toppan Printing Co Ltd
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 多ピン化、狭ピッチ化、並びに、高精細化さ
れたリードフレーム等への適用が可能な金属板の加工方
法を提供すること。 【構成】 金属板1の両面にエッチングレジスト2を一
様にコーティングした後、この金属板1の上面側へレー
ザ光を照射してその照射部位に開口3を形成した。次
に、金属凝固物4の付着部位へエッチング液をスプレー
により吹付けて金属凝固物4のみを溶解除去した後、エ
ッチングレジスト2も除去してその下方側周縁部に金属
凝固物4の付着がない開口3を形成した。この加工方法
によればレーザ光を照射して開口3を形成しているため
従来法に係る機械的打抜き加工やエッチングによる加工
法に比べて微細パターンの開口が可能となり、かつ、エ
ッチングレジスト2の作用とエッチング処理により開口
周縁部位にバリのない高精度の開口を形成することが可
能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属板に開口を形成し
てリードフレーム等を製造する金属板の加工方法に係
り、特に、金属板に微細パターンの開口を高い精度で形
成できる金属板の加工方法の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のリードフレームとしては、例え
ば、図3に示すような構造のものが知られている。そし
て、このリードフレームaの中央の部分bに図4に示す
チップcを搭載すると共に、チップc上のボンディング
パッドdとリードフレームaのインナーリードeとをワ
イヤボンディングして半導体装置の一部として利用され
るものである。
【0003】ところで、上記リードフレーム等の微細パ
ターンの金属加工では、一般に金型を用いたプレスによ
る機械的な打抜き加工、あるいは、図5(A)〜(C)
に示すようにエッチングレジストrとエッチング液を用
いたエッチングによる加工法等が利用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、昨今IC、L
SI等の集積回路が急速に多機能化、高密度化する中
で、従来の半導体装置においては必要とするリードフレ
ームのピン数が急速に増加し、更に高精細化してリード
ピッチが狭まってくることに伴い、上記エッチングやプ
レスによる金属板の加工ではリードフレーム等の微細パ
ターンの金属加工が困難な状態になってきている。
【0005】また、上記エッチングによる加工法では、
図5(C)に示すようにリードフレームにおけるインナ
ーリードの断面形状がサイドエッチングの影響により先
鋭化してしまうため、微細化されたインナーリードでは
ワイヤボンディング時の押圧によりその一部が倒れ、ワ
イヤボンディング不良が発生する等の悪影響が生じてい
る。
【0006】このような技術的背景の下、近年、上記リ
ードフレーム等の微細パターンをレーザ加工により形成
する方法が提案されている。
【0007】しかし、レーザ加工後の金属板の開口周縁
部には金属凝固物(レーザ照射により溶融した金属の一
部が凝固したもの…ドロスと称する)が多量に付着して
しまうため、多ピン化、狭ピッチ化、並びに、高精細化
されたリードフレーム等への適用は未だ困難な問題点を
有している。
【0008】本発明はこのような問題点に着目してなさ
れたもので、その課題とするところは、多ピン化、狭ピ
ッチ化、並びに、高精細化されたリードフレーム等への
適用が可能な金属板の加工方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち請求項1に係る
発明は、金属板に開口を形成する加工方法を前提とし、
上記金属板の両面にエッチングレジストを一様に形成
し、かつ、このエッチングレジストが設けられた金属板
の上面側へレーザ光を照射してその照射部位に開口を形
成した後、エッチングレジストにより金属板の両面を保
護しながら上記開口の下方側周縁部に付着した金属凝固
物を溶解除去することを特徴とするものである。
【0010】そして、請求項1に係る発明によれば、上
記エッチングレジストの作用により開口周縁部への金属
凝固物(ドロス)の付着を最小限に抑制でき、かつ、開
口を形成した後、このエッチングレジストにより金属板
の両面を保護しながら開口の下方側周縁部に付着した金
属凝固物を溶解除去しているため、微細パターンの開口
を高い精度で形成することが可能となる。
【0011】尚、レーザ光としては、YAGレーザ、C
2 レーザ等が適用できる。
【0012】次に、上記開口の下方側周縁部に付着した
金属凝固物を溶解除去する手段としては、この付着部位
へエッチング液をスプレー等により吹付けて金属凝固物
を溶解除去するエッチング法が利用できる。請求項2に
係る発明はこの手段を特定した発明に関するものであ
る。
【0013】すなわち請求項2に係る発明は請求項1に
係る金属板の加工方法を前提とし、金属凝固物をエッチ
ングにより溶解除去することを特徴とするものである。
【0014】尚、このエッチング法を適用した場合、上
記エッチングレジストで覆われない開口の内壁面がサイ
ドエッチングを受けることがある。
【0015】そこで、請求項3に係る発明においては上
記金属凝固物が付着して凸状となった部位を選択的に溶
解除去し、それ以外の部位は不動態化されて溶解され難
い化学研磨法を適用し、他方、請求項4に係る発明にお
いては上記凸状部のみを選択的に溶解除去する電解研磨
法を適用することにより開口内壁面のサイドエッチング
を抑制している。
【0016】すなわち請求項3〜4に係る発明は請求項
1に係る金属板の加工方法を前提とし、請求項3に係る
発明は金属凝固物を化学研磨により溶解除去することを
特徴とし、請求項4に係る発明は金属凝固物を電解研磨
により溶解除去することを特徴とするものである。
【0017】尚、請求項1〜4に係る金属板の加工方法
は上記リードフレームの製造に適用できる他、他の用途
にも当然のことながら適用することが可能である。
【0018】
【作用】請求項1〜4に係る発明によれば、金属板の両
面にエッチングレジストを一様に形成し、かつ、このエ
ッチングレジストが設けられた金属板の上面側へレーザ
光を照射してその照射部位に開口を形成しているため、
微細パターンの開口を形成できかつ上記エッチングレジ
ストの作用により開口周縁部への金属凝固物(ドロス)
の付着を最小限に抑制することが可能となる。
【0019】また、上記開口を形成した後、エッチング
レジストにより金属板の両面を保護しながら開口の下方
側周縁部に付着した金属凝固物を溶解除去しているた
め、開口周縁部にバリのない開口を高い精度で形成する
ことが可能となる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
【0021】[実施例1]図1(A)に示すようにレー
ザ加工金属板(Fe−42Ni合金)1の両面にエッチ
ングレジスト[東京応化工業(株)製 商品名PME
R]2を一様にコーティングした後、このエッチングレ
ジスト2が設けられた金属板1の上面側へYAGレーザ
加工機[日立建機(株)製 商品名LU300]を用い
てレーザ光を照射しその照射部位に図1(B)に示すよ
うな開口3を形成した。このとき、上記エッチングレジ
スト2の作用により開口3周縁部への金属凝固物(ドロ
ス)4の付着は低減されていた。
【0022】次に、金属凝固物4の付着部位へ50℃に
設定されたエッチング液(塩化第2鉄溶液、比重:47
゜Be’)をスプレーにより10〜30秒間吹付けて上
記金属凝固物4を溶解除去(図1C参照)した後、上記
エッチングレジスト2も除去して図1(D)に示すよう
にその下方側周縁部に金属凝固物4の付着がない開口3
を形成した。
【0023】そして、この実施例に係る加工方法によれ
ばレーザ光を照射して開口3を形成しているため、従来
法に係る機械的打抜き加工やエッチングによる加工法に
比べて微細パターンの開口が形成され、かつ、上記エッ
チングレジスト2の作用とエッチング処理により開口周
縁部位にバリのない高精度の開口を形成することが可能
となる。
【0024】従って、この方法によりリードフレームを
製造した場合、図2に示すようにインナーリード部5の
断面形状が略台形となって先鋭化しないため、ワイヤボ
ンディング性の改善が図れる利点を有している。
【0025】[実施例2]レーザ加工金属板1としてC
u系の材料を適用した点と、上記金属凝固物4を除去す
る手段として以下の20〜30℃に設定された研磨液を
用いた化学研磨法により5〜10分間研磨処理を施した
点を除き実施例1と略同様の工程を経て金属板1に開口
3を形成した。
【0026】(研磨液) シュウ酸(100g/l) 28ml 過酸化水素(30%) 4ml 蒸留水 80ml そして、この実施例に係る加工法においては金属凝固物
を除去する際の開口内壁面のサイドエッチングが起こり
難いため、開口周縁部位にバリがないより高精度の開口
を形成することができた。
【0027】[実施例3]レーザ加工金属板1としてF
e−42Ni合金系の材料を適用した点と、上記金属凝
固物4を除去する手段として以下の30℃以下に設定さ
れた研磨液を用いた電解研磨法により下記条件で研磨処
理を施した点を除き実施例1と略同様の工程を経て金属
板1に開口3を形成した。
【0028】(研磨液) 過塩素酸(d=1.6) 185ml 水 50ml 酢酸 766ml (研磨条件) 電流密度 : 4〜6A/dm2 電圧 : 30〜50V そして、この実施例に係る加工法においても実施例2と
同様に金属凝固物を除去する際の開口内壁面のサイドエ
ッチングが起こり難いため、開口周縁部位にバリがない
より高精度の開口を形成することができた。
【0029】
【発明の効果】請求項1〜4に係る発明によれば、レー
ザ加工により開口を形成しているため微細パターンの開
口を形成でき、かつ、エッチングレジストの作用により
開口周縁部への金属凝固物(ドロス)の付着を最小限に
抑制することが可能となる。
【0030】また、上記開口を形成した後、エッチング
レジストにより金属板の両面を保護しながら開口の下方
側周縁部に付着した金属凝固物を溶解除去しているため
開口周縁部にバリのない開口を高い精度で形成すること
が可能となる。
【0031】従って、例えばリードフレーム等の製造法
に適用した場合、従来法では困難となりつつある多ピン
化、狭ピッチ化、並びに、高精細化されたリードフレー
ム等の微細パターンの加工が可能となる効果を有してい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)〜(D)は実施例1に係る加工方法
の工程説明図。
【図2】実施例1に係る加工方法により製造されたリー
ドフレームのインナーリード部の断面図。
【図3】リードフレームの概略斜視図。
【図4】上記リードフレームが適用された半導体装置の
概略斜視図。
【図5】従来法に係るエッチングによる金属板の加工方
法の工程説明図。
【符号の説明】
1 金属板 2 エッチングレジスト 3 開口 4 金属凝固物
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C25F 3/00 A 8414−4K H01L 23/50 A 9272−4M

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属板に開口を形成する加工方法におい
    て、 上記金属板の両面にエッチングレジストを一様に形成
    し、かつ、このエッチングレジストが設けられた金属板
    の上面側へレーザ光を照射してその照射部位に開口を形
    成した後、エッチングレジストにより金属板の両面を保
    護しながら上記開口の下方側周縁部に付着した金属凝固
    物を溶解除去することを特徴とする金属板の加工方法。
  2. 【請求項2】上記金属凝固物をエッチングにより溶解除
    去することを特徴とする請求項1記載の金属板の加工方
    法。
  3. 【請求項3】上記金属凝固物を化学研磨により溶解除去
    することを特徴とする請求項1記載の金属板の加工方
    法。
  4. 【請求項4】上記金属凝固物を電解研磨により溶解除去
    することを特徴とする請求項1記載の金属板の加工方
    法。
JP5013233A 1993-01-29 1993-01-29 金属板の加工方法 Pending JPH06228775A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101273931B1 (ko) * 2011-01-21 2013-06-11 이영술 천공홀 코팅 금속판 및 그 제조방법
US20170107605A1 (en) * 2015-10-16 2017-04-20 Samsung Display Co., Ltd. Mask and method of manufacturing the mask

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