JP3018216B2 - リ−ドフレ−ムの製造方法 - Google Patents
リ−ドフレ−ムの製造方法Info
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
とエッチングを併用して製造する方法に関する。
れ、これに対応してリードフレ−ムはそのリードが微細
で小ピッチの多ピンとすることを要請される。
のが製造されるようになり、多ピンリ−ドフレーム製造
として、プレスによる打抜きとエッチングを併用する方
法が提案されている。例えば特公平3ー6663号公報
にはインナ−リード部とパッド部はエッチングで形成
し、アウターリード部はプレスで形成するリードフレー
ムの製造方法が示されている。これではリ−ドが幅、ピ
ッチともより微細なインナーリード部はエッチングで微
細に食刻でき、リ−ドの幅、ピッチとも微細さが幾分緩
和されるアウターリード部はプレスで形成することで高
速且つ高安定打抜き作用の利点が得られ、形状精度のす
ぐれたリードフレームが比較的安価に製造できる効果が
ある。
プレスとエッチングの併用で製造する場合は、前述のよ
うにプレスでリードパターンの1部例えばアウターリー
ドを穿設し、残りのインナーリード等のリードパターン
をエッチングで形成するが、エッチングの際に先に形成
したアウターリード及び素材金属板の両端面部等を食刻
しないようにする必要がある。これは出来あがるリード
フレームのパターンを所定の形状精度にするうえで、更
に素材金属板からのリードフレームの製造歩留りを高め
るための課題である。
細なリードパタ−ンを有するリードフレームを形状精度
よく、また歩留り高く製造することを目的とする。
でリードパタ−ンの一部を形成し、残余のリードパター
ンをエッチングで形成するリードフレームの製造方法に
おいて、プレスでリードパターンの一部を穿設し、該一
部のリードパターンが穿設された金属板にフォトレジス
トを電着により付着させ、または必要に応じて金属板に
ドライレジストフイルムを貼着するとともに金属板端面
部にフォトレジストを電着で付着させ、前記プレスで形
成しなかった残余のリードパターンをフォトレジストま
たは必要に応じて貼着したドライレジストフイルムに焼
付け現像し、エッチングし残余のリードパターンを形成
することを特徴とするリードフレ−ムの製造方法にあ
る。
した素材金属板に、エッチングで残余のリードパターン
を形成するに際しフォトレジストを電着で付着させるの
で、板端面さらに先に形成されたリードパターンの加工
端面まで均一に且つ薄くフォトレジスト膜が付着し、そ
の後のリードパターンの焼付け及び現像での解像度が高
まり、エッチングで形成するリ−ドが例えば160ピン
超の微細であっも精度よく製造できる。また、素材金属
板は両端面部に前記フォトレジスト膜がきっちり付着し
ているので、エッチングで当該端面が食刻されず、素材
金属板をリードフレームの採寸幅に等しくまたは可級的
に近似でき歩留りが高くなる。
前に、ドライレジストフイルムを貼着する場合は、電着
処理時間が短縮され生産性が高まる。
を参照し詳細に説明する。図面において、1はリードフ
レームの素材金属板で例えば銅、銅合金、鉄−Ni合金
等である。2は前記素材金属板1をプレスにて形成した
アウターリードである。3はエッチング加工領域で、イ
ンナーリード、パッド、サポ−トバ−の残り等所望の残
余のリードパターンが形成される。4はガイドホ−ルで
ある。
ウターリード2に限らず、該アウターリード2に近い側
のインナーリードの一部まで形成してもよい。
ドパターンの一部が形成された素材金属板1にフォトレ
ジストを電着させるものである。該電着装置5はこの実
施例では、フォトレジスト水溶液の貯留部を有するとと
もに通行竪穴6を設けた電着浴槽7と、前記電着浴槽7
を収容し該浴槽7のオ−バ−フロ−水溶液を排出し循環
系に流す受浴槽8と、フォトレジスト水溶液を前記電着
浴槽7に供給する水溶液供給装置9と、濾過器を内蔵し
たタンク10とポンプ11が設けられ、フォトレジスト
水溶液を電着浴槽7に流通管(図示しない)を経由して
水溶液供給装置9から循環供給するようになっている。
また、素材金属板1への通電陽極12と、電着浴槽7内
のフォトレジスト水溶液に通電する陰極13が設けられ
ている。14は直流電源装置である。
方には素材金属板1を洗浄する前処理装置(図示しな
い)、後方には洗浄・乾燥装置(図示しない)が設けら
れている。
に際しては、通電陽極12を前記素材金属板に当接させ
るとともに、陰極13を電着浴槽7に当接させて通電す
ると該電着浴槽7のフォトレジスト構成剤例えばアクリ
ル系、ポリオレフィン系、カゼイン系等の構成剤は電気
分解してイオン化し、陽極に接続された素材金属板1へ
泳動し析出付着してフォトレジスト膜が形成される。該
電着でのフォトレジスト膜は素材金属板1の露出地金箇
所に均一にできるから、先にアウターリード2が穿設形
成された端面の隅々に至る全表面及びエッチング加工領
域3とも一様に設けられる。
域3上のフォトレジスト膜に、インナーリード15、パ
ッド16及びサポ−トバ−17から構成される残余のリ
ードパターンが焼付けられる。次いで現像して該リード
パターンのレジストマスクが作られ、エッチングを行い
リードフレームが製造される。
た素材金属板1に、前述のように電着で付着させたフォ
トレジスト膜は薄く一様に、また隅々まで覆っているの
で、残余のリードパターンの焼付けの解像度が高く微細
な形状でも精度よく、且つ既に形成されたアウターリー
ドにきっちり整合したレジストマスクが得られる。而し
てその後にエッチングすると微細な所望形状のリードフ
レームが製造される。
成した素材金属板1に、ドライレジストフイルムを貼着
した場合には、当該素材金属板1の両端面は前記ドライ
レジストフイルムが未貼着となることがある。この際は
エッチング工程で素材金属板1の両端面部は食刻作用を
受け、先に形成したアウターリード部の形状を害するの
で、素材金属板1板幅を余分に広めにし歩留り低下を来
しているが、本発明の他の実施例ではこの問題を解決す
るように次のようにする。
属板1にドライレジストフイルムを板面に貼着した後
に、フォトレジスト電着装置5に通し、当該素材金属板
1の両端面部の地金露出部にフォトレジスト構成剤を析
出付着させる。これにより素材金属板1は全面がフォト
レジストで覆われ、その後のエッチングで先に形成され
たアウターリード部が形状を崩されたり、板両端面部が
食刻されることがなく、製造されたリードフレームは形
状が優れ、また、その製造歩留りが高くなる。
パターンの一部を形成した素材金属板に電着にてフォト
レジストを全面に均一且つ薄く形成するから、その後、
残余のリードパターンの焼付けの解像度がすぐれ微細な
リードを有するリードフレームが得られる。また前記素
材金属板は全面にフォトレジストが形成され端面部がエ
ッチングの際に食刻されることがなく、当該素材金属板
からのリードフレーム製造歩留りが高くなる。
ードパターンを示す図。
装置を示す図。
るリードパターンを示す図。
を示す図。
Claims (1)
- 【請求項1】 プレスで金属板にリードパターンの
一部を形成し、残りのリードパターンをエッチングで形
成するリードフレームの製造方法において、 プレスでリードパターンの一部を穿設し、該一部リード
パターンが穿設された金属板にドライレジストフィルム
を貼着するとともに、該金属板端面にフォトレジストを
電着により付着させ、前記プレスで形成しなかった残余
のリードパターンを前記ドライレジストフィルムに焼付
け現像し、エッチングし前記残余のリードパターンを形
成することを特徴とするリードフレームの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11654293A JP3018216B2 (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | リ−ドフレ−ムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11654293A JP3018216B2 (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | リ−ドフレ−ムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06310639A JPH06310639A (ja) | 1994-11-04 |
JP3018216B2 true JP3018216B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=14689700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11654293A Expired - Fee Related JP3018216B2 (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | リ−ドフレ−ムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3018216B2 (ja) |
-
1993
- 1993-04-19 JP JP11654293A patent/JP3018216B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06310639A (ja) | 1994-11-04 |
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