CN110629158B - 一种掩膜版 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种掩膜版。包括:边框及所述边框环绕的开口;遮挡部以及连接所述遮挡部与所述边框的至少一个连接部,所述遮挡部设置于所述开口内;沿垂直于所述掩膜版的方向,所述连接部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离所述待蒸镀基板第二部分,所述第二部分的垂直投影覆盖所述第一部分的垂直投影,所述第一部分平行于所述掩膜版的横截面积沿靠近所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。本发明实施例能够使得显示面板上对应于连接部的区域蒸镀上膜层结构,有利于简单高效地制备出显示区存在不同显示效果的显示面板。

Description

一种掩膜版
技术领域
本发明实施例涉及掩膜版技术,尤其涉及一种掩膜版。
背景技术
随着显示技术的进步以及生活水平的提高,显示面板所起到的作用也越来越大,种类也越来越多,显示面板的显示区存在不同的显示效果,如挖孔屏等成为新的方向。
然而,现有的挖孔屏较易损伤整体显示面板,从而造成显示面板的整体显示效果不佳。
发明内容
本发明提供一种掩膜版,以简单高效地制备出显示区存在不同显示效果的显示面板。
本发明实施例提供了一种掩膜版,包括:边框及所述边框环绕的开口;遮挡部以及连接所述遮挡部与所述边框的至少一个连接部,所述遮挡部设置于所述开口内;沿垂直于所述掩膜版的方向,所述连接部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离所述待蒸镀基板第二部分,所述第二部分的垂直投影覆盖所述第一部分的垂直投影,所述第一部分平行于所述掩膜版的横截面积沿靠近所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。能够使得显示面板上对应于连接部的区域蒸镀上膜层结构,且显示面板上对应于遮挡部的区域无法蒸镀上膜层结构,简单高效地制作出具有不同显示效果的显示面板。
可选地,沿垂直于所述掩膜版的方向,所述第二部分平行于所述掩膜版的横截面积沿远离所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。可保证显示面板上靠近对应于连接部区域的区域蒸镀上较多的膜层结构,避免显示面板各个部分的膜层厚度不均匀,进一步提高显示效果。
可选地,所述遮挡部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽,和/或,所述遮挡部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽。能够减轻遮挡部的重量,避免遮挡部过重而导致遮挡部下垂量过大,保证显示面板上对应于遮挡部的区域不会蒸镀上膜层结构。
可选地,所述遮挡部包括中间区和环绕所述中间区的边缘区,所述第一凹槽位于所述中间区。可保证遮挡部的边缘较厚,避免蒸镀时一部分蒸镀材料从斜向蒸镀至显示面板上对应于遮挡部的区域,提高显示面板的良率。
可选地,所述连接部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽,和/或,所述连接部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽。能够减轻连接部的重量,避免由于连接部重量过大而导致连接部下垂,进而导致遮挡部下垂过多的现象,进一步保证显示面板上对应于遮挡部的区域不会蒸镀上膜层结构。
可选地,所述连接部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽,所述第二凹槽内设置有多个凸起结构。在蒸镀时,凸起结构可避免掩膜版完全贴附于待蒸镀基板上,蒸镀材料可蒸镀到凸起结构之间的缝隙里,进而保证显示面板上对应于连接部的区域能够蒸镀上膜层结构。
可选地,沿垂直于所述掩膜版的方向,所述凸起结构的高度相同;和/或,所述多个凸起结构均匀分布。能够使得连接部重量分布更为均匀,保证连接部的延伸方向平行于待蒸镀基板,进而保证遮挡部不会发生倾斜,进一步保证显示面板上对应于遮挡部的区域不会蒸镀上膜层结构。
可选地,所述连接部呈直线状。
可选地,所述遮挡部通过多个所述连接部与所述边框连接,至少两个所述连接部的延伸方向不同。能够使遮挡部各部分的受力更为均匀,避免连接部发生形变而带动遮挡部发生倾斜。
可选地,沿垂直于所述连接部延伸方向的方向,所述连接部的最大宽度大于等于150微米,小于等于300微米。一方面能够为遮挡部提供足够的支撑力,另一方面能够避免连接部的横截面积过大。
本发明采用的掩膜版包括边框以及边框环绕的开口;遮挡部以及连接遮挡部与边框的至少一个连接部,遮挡部设置于开口内;沿垂直于掩膜版的方向,连接部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离待蒸镀基板的第二部分,第二部分的垂直投影覆盖第一部分的垂直投影,第一部分平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小。在利用掩膜版蒸镀显示面板的膜层时,利用连接部有效实现了对离岸设计的遮挡部的稳固支撑,且可使得显示面板上对应于连接部的位置可通过斜向蒸镀形成相应的膜层结构,从而避免显示面板上与连接部对应的位置处未蒸镀上材料,影响显示面板显示效果的问题,有利于简单高效地制备出显示区存在不同显示效果的显示面板。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图;
图2为图1沿A1A2方向的剖面图;
图3为本发明实施例提供的一种蒸镀过程示意图;
图4为图1沿A1A2方向的又一种剖面图;
图5为本发明实施例提供的又一种蒸镀过程示意图;
图6为图1沿A1A2方向的又一种剖面图;
图7为图1沿A3A4方向的一种剖面图;
图8为图1沿A1A2方向的又一种剖面图;
图9为图1沿A1A2方向的又一种剖面图;
图10为本发明实施例提供的连接部沿垂直于连接部延伸方向的方向的一种视图;
图11为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图;
图12为为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图;
图13为为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
正如背景技术中提到的现有的挖孔屏存在显示面板整体易损坏的问题,发明人经过仔细研究发现,产生此技术问题的原因在于:现有的挖孔屏在制作时,均是先利用掩膜版制作一整层的膜层结构,然后,再在该膜层结构上通过激光打孔形成孔状结构,然而,激光打孔技术难点较大,且较易损伤显示面板的膜层结构。
基于上述技术问题,本发明提出如下解决方案:
图1为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图,图2为图1沿A1A2方向的剖面图,参考图1和图2,掩膜版包括边框101和边框101环绕的开口102;遮挡部103以及连接遮挡部103与边框101的至少一个连接部104,遮挡部103设置于开口102内;沿垂直于掩膜版的方向,连接部104包括靠近待蒸镀基板的第一部分1041和远离待蒸镀基板的第二部件1042,第二部分1042的垂直投影覆盖第一部分1041的垂直投影,第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小。
具体地,结合图1和图2,掩膜版可用来制作显示面板,一张掩膜版上可包括多个开口102,每个开口102均对应一个显示面板,开口102内的遮挡部103用于在蒸镀显示面板的膜层(如阴极层或封装层)时,避免相应的材料蒸镀到显示面板无需形成该材料相应膜层的区域,例如区别于其它显示区域的特定区域(如挖孔区域),避免了先制作一整层完整的膜层,再进行激光打孔导致的膜层损坏,进而影响显示面板的显示质量的问题。
另外,第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小可理解为第一部分1041剖面的宽度逐渐减小,图2示例性地示出了连接部104的左右侧呈对称结构,在其他实施方式中,也可只设置连接部104为非对称结构。图3为本发明实施例提供的一种蒸镀过程示意图,结合图2和图3,在利用掩膜版蒸镀显示面板的膜层时,待蒸镀基板201设置于掩膜版的上方,待蒸镀基板201上包括被连接部104遮挡的遮挡区2011和未遮挡区2012,例如利用本发明实施例提供的掩模版进行显示面板中阴极层的蒸镀,仅挖孔区,即待蒸镀基板上对应遮挡部103的区域需利用遮挡部103以避免该区域形成阴极材料,其余区域均需形成阴极材料,即遮挡区2011和未遮挡区2012上均需要蒸镀上相应的膜层结构,蒸镀时由下至上蒸镀材料至待蒸镀基板201上,由于第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小,除可使未遮挡区2012通过垂直方向蒸镀上膜层结构外,还可使得遮挡区2011通过斜向蒸镀上膜层结构,从而避免显示面板上与连接部104对应的位置处未蒸镀上材料,影响显示面板显示效果的问题。
需要说明的是,上述连接部104的第一部分1041和第二部分1042沿垂直于掩模版的方向之间的界限本发明实施例没有具体的限定,确保第一部分1041平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小即可。
本实施例的技术方案,采用的掩膜版包括边框以及边框环绕的开口;遮挡部以及连接遮挡部与边框的至少一个连接部,遮挡部设置于开口内;沿垂直于掩膜版的方向,连接部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离待蒸镀基板的第二部分,第二部分的垂直投影覆盖第一部分的垂直投影,第一部分平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向逐渐减小。在利用掩膜版蒸镀显示面板的膜层时,利用连接部有效实现了对离岸设计的遮挡部的稳固支撑,且可使得显示面板上对应于连接部的位置可通过斜向蒸镀形成相应的膜层结构,从而避免显示面板上与连接部对应的位置处未蒸镀上材料,影响显示面板显示效果的问题,有利于简单高效地制备出显示区存在不同显示效果的显示面板。
可选地,图4为图1沿A1A2方向的又一种剖面图,参考图4,沿垂直于掩膜版的方向,第二部分1042平行于掩膜版的横截面积沿远离待蒸镀基板的方向逐渐减小。
具体地,图5为本发明实施例提供的又一种蒸镀过程示意图,结合图4和图5,遮挡区2011和未遮挡区2012上均需要蒸镀上膜层结构,蒸镀时由下至上蒸镀材料至待蒸镀基板201上,未遮挡区2012上远离遮挡区2011的区域既能够通过垂直方向蒸镀上膜层结构,还能够通过斜向蒸镀上一部分膜层结构,而靠近遮挡区2011的区域由于受到连接部104的遮挡,只能通过垂直方向蒸镀上膜层结构,也即相对而言,未遮挡区2012靠近遮挡区2011区域的膜层厚度可能会小于远离遮挡区2011区域的膜层厚度,进而造成显示面板膜层厚度不均,影响显示效果。通过设置沿垂直于掩膜版的方向,第二部分1042平行于掩膜版的横截面积沿远离待蒸镀基板的方向逐渐减小,第二部分1042对蒸镀材料从连接部104对应的区域斜向蒸镀到未遮挡区2012靠近遮挡区2011的区域的遮挡较少,可使得未遮挡区2012靠近遮挡区2011的区域通过斜向的方式蒸镀上一定的膜层结构,减小与远离遮挡区2011的区域膜层结构厚度的差异,从而提高显示面板上膜层厚度的均一性,进而提高显示的均一性,进一步提高显示效果。
需要说明的是,图2和图4所示的剖面图只是一种示例,在其他实施方式中,也可为其它形状,优选的,第一部分平行于掩膜版的横截面积沿靠近待蒸镀基板的方向可呈非线性减小,第二部分平行于掩膜版的横截面积沿远离待蒸镀基板的方向可呈非线性减小,示例性地,图6为图1沿A1A2方向的又一种剖面图,如图6所示,第一部分1041和第二部分1042的侧边均可为弧形结构,从而降低连接部的制作难度,节约制作成本。
可选地,图7为图1沿A3A4方向的一种剖面图,结合图1和图7,遮挡部103靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽,和/或,遮挡部103远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽,图7示例性地设置仅遮挡部103靠近待蒸镀基板的表面设置有一个第一凹槽1031,即遮挡部103的上表面设置有一个第一凹槽1031,本发明实施例对遮挡部103的某一个表面上设置第一凹槽1031的数量以及遮挡部103设置有第一凹槽1031的表面的数量不作具体限定。
具体地,遮挡部103对应于显示面板上需要挖孔的区域,该部分区域不需要蒸镀形成对应的膜层结构(如阴极层和薄膜封装层),若遮挡部103重量太重,遮挡部103自身的重力导致其容易形变,使得显示面板上对应于遮挡部103的部分区域可能蒸镀上膜层结构,影响显示面板上对应遮挡部103区域的膜层结构,降低显示面板的良率。另外,遮挡部103重量过大容易导致支撑遮挡部103的连接部104发生形变,影响显示面板上对应连接部104区域的蒸镀效果。本发明实施例通过设置遮挡部103靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽,和/或,遮挡部103远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽,降低了遮挡部103的重量,降低了遮挡部103以及连接部104发生形变的概率,优化了显示面板上对应遮挡部103和连接部104区域的蒸镀效果,进而优化了显示面板的显示效果。
可选地,继续参考图7,遮挡部103包括中间区1032和环绕中间区1032的边缘区1033,第一凹槽1031位于中间区1032。具体地,遮挡部103的形状可为圆形,边缘区1033可为圆环状,若边缘区1033的厚度过薄,在蒸镀时将会有过多的蒸镀材料通过斜向的方式到达显示面板上对应于遮挡部的位置,使得无需形成相应膜层的显示面板上对应遮挡部设置的区域形成相应的膜层材料,降低了显示面板的良率。本发明实施例将第一凹槽1031设置于中间区1032内,使得边缘区1033的厚度高于中间区1032的厚度,边缘区1033的厚度不会太薄,降低了蒸镀时蒸镀材料通过斜向的方式蒸镀到显示面板上对应于遮挡部的区域的概率,进一步提高显示面板的良率。
可选地,图8为图1沿A1A2方向的又一种剖面图,参考图8,连接部104靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽,和/或,连接部104远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽。图8示例性地设置仅连接部104靠近待蒸镀基板的表面设置有一个第二凹槽1043,即连接部104的上表面设置有一个第二凹槽1043,本发明实施例对连接部104的某一个表面上设置第二凹槽1043的数量以及连接部104设置有第二凹槽1043的表面的数量不作具体限定。
具体地,若连接部104重量太重,连接部104自身的重力导致其容易形变,影响显示面板上对应连接部104区域的膜层结构,降低显示面板的良率。另外,连接部104起到对遮挡部103固定支撑的作用,连接部104形变使得连接部104对遮挡部103的支撑能力下降,且连接部104的形变可能导致遮挡部103位置的变化,影响显示面板上对应遮挡部103区域的蒸镀效果。本发明实施例通过设置连接部104靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽,和/或,连接部104远离待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽,降低了连接部104的重量,降低了连接部104发生形变的概率,优化了显示面板上对应遮挡部103和连接部104区域的蒸镀效果,进而优化了显示面板的显示效果。
可选地,图9为图1沿A1A2方向的又一种剖面图,参考图9,连接部104靠近待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽1043,第二凹槽1043内设置有多个凸起结构1044。
具体地,在蒸镀显示面板时,需要在待蒸镀基板远离掩膜版的一侧设置磁性材料,以吸附掩膜版避免掩膜版下垂,然而,磁性材料可能会将掩膜版吸附到待蒸镀基板上,从而使得连接部104与待蒸镀基板之间不存在间隙,在蒸镀时无法将蒸镀材料蒸镀到显示面板上对应于连接部104的位置,从而造成膜层厚度不均匀,影响显示效果。通过设置多个凸起结构1044,当连接部104因为受到吸引而贴附在待蒸镀基板的表面上时,凸起结构1044可支撑连接部104,避免连接部104完全贴附在待蒸镀基板的表面,多个凸起结构1044的缝隙对应的显示面板的区域内可蒸镀上膜层结构,避免显示面板对应于连接部的区域无法蒸镀上膜层结构而导致显示不均的现象,提升显示效果。
需要说明的是,如图9所示,多个凸起结构1044可沿垂直于连接部延伸方向的方向排列,也可如图10所示,图10为本发明实施例提供的连接部沿垂直于连接部延伸方向的方向的一种视图,多个凸起结构1044可沿连接部103的延伸方向排列,或者也可以设置多个凸起结构1044既沿垂直于连接部延伸方向的方向排列,又沿连接部103的延伸方向排列。示例性地,多个凸起结构1044可以点阵式排列,即每个凸起结构1044均为孤立的岛状结构,例如图10中可以设置凸起结构1044为梯形台状结构,即可以设置凸起结构1044的上表面和下表面的形状均为圆形,凸起结构1044靠近待蒸镀基板的一面可与待蒸镀基板平行,当支撑部104贴附在待蒸镀基板的表面上时,凸起结构1044可支撑支撑部104,避免支撑部104完全贴附在待蒸镀基板的表面。另外,图10仅示例性地设置凸起结构1044的截面为正梯形,也可以设置凸起结构1044的截面为矩形或者倒梯形,本发明实施例对凸起结构1044的截面的形状不作具体限定,确保凸起结构1044面向待蒸镀基板的一侧具有支撑平台即可。
可选地,继续参考图9和图10,可以设置沿垂直于掩膜版的方向,凸起结构1044的高度相同;和/或,多个凸起结构1044均匀分布。
具体地,多个凸起结构1044的高度相同,可使得当掩膜版贴附于待蒸镀基板上时,各个凸起结构1044支撑住掩膜版,且支撑的高度相同,保证连接部104的延伸方向平行于待蒸镀基板,进而保证遮挡部103也平行于待蒸镀基板,避免遮挡部103发生倾斜而使得显示面板上对应于遮挡部103的区域蒸镀上膜层结构。同时,可设置多个凸起结构1044均匀分布,凸起结构1044均匀地布置于第二凹槽内,可使得连接部104重量分布更为均匀,避免连接部104某一部分重量过大而导致该部分下垂量过大,进而导致遮挡部103倾斜的现象,进一步避免显示面板上对应于遮挡部103的区域蒸镀上膜层结构。
可选地,如图1所示,可以设置连接部104呈直线状。具体地,将连接部104设置为直线结构,在利用直线状的连接部104为遮挡部103提供支撑力的同时,使得掩膜版的结构较为简单,有利于降低掩膜版的制作过程难度。另外,设置连接部104为直线状,利用最短结构的连接部实现了遮挡部103与掩膜版边框101的连接,有利于减小连接部104的重量,也有利于减小连接部104的面积,进而减小了显示面板上对应连接部104设置区域的面积,有利于确保显示面板上对应于连接部104的区域能够蒸镀上膜层结构。
可选地,继续参考图1,遮挡部103通过多个连接部104与边框101连接,至少两个连接部104的延伸方向不同。图1示例性地设置遮挡部103通过两个连接部104与边框101连接,两个连接部104的延伸方向相互垂直,也可以设置遮挡部103通过更多的连接部104与边框101连接,设置每个连接部104的延伸方向均不相同。
具体地,利用多个连接部104将遮挡部103与边框101固定连接,可更好地支撑遮挡部103;同时,至少两个连接部104的延伸方向不同,使得连接部104沿各个方向为遮挡部103提供支撑力,有利于降低每个连接部104所受应力,降低连接部104形变进而导致遮挡部103倾斜的概率,有利于优化显示面板上对应遮挡部103和对应连接部104设置区域的蒸镀效果。
需要说明的是,图1中示出的连接部与遮挡部的位置关系仅是一种示例,也可如图11所示,图11为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图,一个遮挡部103可对应三个连接部104,三个连接部104的位置关系如图11所示,其中的两个连接部104的延伸方向相互垂直,另外一个连接部104的延伸方向介于相互垂直的两个连接部之间;或者,如图12所示,图12为为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图,一个遮挡部103可对应四个连接部104,四个连接部104的位置关系如图12,其中两个连接部104的延伸方向平行于第一方向,另外两个连接部104的延伸方向平行于第二方向,且第一方向与第二方向垂直;或者,如图13所述,图13为为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图,一个遮挡部103可对应三个连接部104,三个连接部104的位置关系如图13,其中两个连接部104的延伸方向一致,且位于同一直线上,另一连接部104的延伸方向与该直线垂直。
可选地,如图9所示,沿垂直于连接部延伸方向的方向,连接部104的最大宽度d大于等于150微米,小于等于300微米。
具体地,若连接部104的最大宽度过小,则无法为遮挡部103提供足够的支撑力,遮挡部104将会发生严重的下垂,使得大量的蒸镀材料蒸镀到显示面板上对应遮挡部的区域,从而严重降低显示面板的良率;而若连接部104的宽度过大,则连接部遮挡的区域也会过大,蒸镀材料无法通过斜向的方式蒸镀到显示面板上对应于连接部104的全部区域,进而使得显示面板各部分的膜层厚度不均匀,影响显示效果。通过设置连接部104的最大宽度大于等于150微米,小于等于300微米,既能够保证连接部104为遮挡部103提供足够的支撑力,保证显示面板上对应于遮挡部103的区域不会蒸镀上膜层结构,又能够保证显示面板上对应于连接部104的位置能够蒸镀上膜层结构,提高显示面板的显示均一性。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (8)

1.一种掩膜版,其特征在于,包括:
边框及所述边框环绕的开口;
遮挡部以及连接所述遮挡部与所述边框的至少一个连接部,所述遮挡部设置于所述开口内;
沿垂直于所述掩膜版的方向,所述连接部包括靠近待蒸镀基板的第一部分和远离所述待蒸镀基板第二部分,所述第二部分的垂直投影覆盖所述第一部分的垂直投影,所述第一部分平行于所述掩膜版的横截面积沿靠近所述待蒸镀基板的方向逐渐减小;
所述连接部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第二凹槽,所述第二凹槽内设置有多个凸起结构。
2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,沿垂直于所述掩膜版的方向,所述第二部分平行于所述掩膜版的横截面积沿远离所述待蒸镀基板的方向逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述遮挡部靠近所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽,和/或,所述遮挡部远离所述待蒸镀基板的表面设置有至少一个第一凹槽。
4.根据权利要求3所述的掩膜版,其特征在于,所述遮挡部包括中间区和环绕所述中间区的边缘区,所述第一凹槽位于所述中间区。
5.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,沿垂直于所述掩膜版的方向,所述凸起结构的高度相同;和/或,所述多个凸起结构均匀分布。
6.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述连接部呈直线状。
7.根据权利要求6所述的掩膜版,其特征在于,所述遮挡部通过多个所述连接部与所述边框连接,至少两个所述连接部的延伸方向不同。
8.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,沿垂直于所述连接部延伸方向的方向,所述连接部的最大宽度大于等于150微米,小于等于300微米。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110629158B (zh) * 2019-10-31 2021-01-05 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版
CN114318225A (zh) * 2021-12-21 2022-04-12 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板组件、显示装置的蒸镀方法及显示装置
CN114737152B (zh) * 2022-04-20 2024-01-02 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板、蒸镀方法以及显示面板
TWI816625B (zh) * 2023-01-30 2023-09-21 達運精密工業股份有限公司 金屬遮罩結構

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10319870A (ja) * 1997-05-15 1998-12-04 Nec Corp シャドウマスク及びこれを用いたカラー薄膜el表示装置の製造方法
JP2002038254A (ja) * 2000-07-24 2002-02-06 Toray Ind Inc 導電膜パターン化用マスク
KR100658267B1 (ko) * 2005-08-31 2006-12-14 삼성에스디아이 주식회사 플렉시블 디스플레이 제조용 필름 트레이
KR101030030B1 (ko) * 2009-12-11 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체
KR101897209B1 (ko) * 2012-08-03 2018-09-11 삼성디스플레이 주식회사 프레임 및 이를 포함하는 마스크 조립체
KR20180112191A (ko) * 2017-03-31 2018-10-12 엘지디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 그 증착장치
JP6299921B1 (ja) * 2017-10-13 2018-03-28 凸版印刷株式会社 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法
CN108277473B (zh) * 2018-01-22 2020-05-01 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜装置、显示面板及其制作方法、显示装置
CN108179379B (zh) * 2018-03-07 2020-05-26 昆山国显光电有限公司 掩膜板及掩膜板制备方法
CN108517489B (zh) * 2018-04-28 2023-05-12 京东方科技集团股份有限公司 用于oled显示面板蒸镀的掩膜板
CN108642440B (zh) * 2018-05-14 2019-09-17 昆山国显光电有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN208266253U (zh) * 2018-05-14 2018-12-21 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN109306450B (zh) * 2018-11-28 2020-04-28 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀用掩模板组
CN110018610A (zh) * 2019-04-25 2019-07-16 武汉天马微电子有限公司 掩模板、显示面板、显示面板的制作方法和显示装置
CN110629158B (zh) * 2019-10-31 2021-01-05 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版

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