KR100266401B1 - 반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법 - Google Patents

반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100266401B1
KR100266401B1 KR1019960020544A KR19960020544A KR100266401B1 KR 100266401 B1 KR100266401 B1 KR 100266401B1 KR 1019960020544 A KR1019960020544 A KR 1019960020544A KR 19960020544 A KR19960020544 A KR 19960020544A KR 100266401 B1 KR100266401 B1 KR 100266401B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cassette
wafer
storage box
loader
accommodating
Prior art date
Application number
KR1019960020544A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970003770A (ko
Inventor
카즈히로 시메노
코우지 토메쑤카
시게오 오흐바
Original Assignee
엔도 마코토
고쿠사이 일렉트릭 콤파니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엔도 마코토, 고쿠사이 일렉트릭 콤파니 리미티드 filed Critical 엔도 마코토
Publication of KR970003770A publication Critical patent/KR970003770A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100266401B1 publication Critical patent/KR100266401B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769Storage means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/136Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/137Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/139Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting

Abstract

종형 반응로와, 이 종형 반응로에 장입된 여러개의 웨이퍼를 여러단을 유지하는 보오드와, 이 보오드에 대응하는 위치에 설치된 적어도 하나의 웨이퍼 카세트를 수납하는 수납고와, 이 수납고와 상기 보오드 사이에서 웨이퍼의 이동 적재를 행하는 웨이퍼 이동 적재기와 외부와 웨이퍼 카세트를 수용하는 카세트 수용 유니트와, 카세트 수용 유니트와 상기 수납고 사이에서 웨이퍼 카세트를 반송하는 카세트 이동 적재기와 이 카세트 이동 적재기의 웨이퍼 카세트 운반 가능한 범위내에 설치되어 웨이퍼 카세트를 상향 자세에서 수용 가능한 카세트 재치부를 구비한 반도체제조 장치에서 카세트 재치부에 상향자세로 웨이퍼 카세트를 수용하여 웨이퍼 카세트에 대한 웨이퍼의 위치 오차를 수정할 수 있다.

Description

반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법
제1도는 본 발명 실시예를 나타내는 개략 측면도이다.
제2도는 본 발명의 상기 실시예를 나타내는 개략 배면도이다.
제3도는 본 발명 다른 실시예를 나타내는 개략 측면도이다.
제4a도, 제4b도는 본 발명 실시예의 웨이퍼 카세트 운반 작동도이다.
제5a도, 제5b도는 본 발명 실시예의 웨이퍼 카세트 운반 작동도이다.
제6a도, 제6b도는 본 발명 실시예의 웨이퍼 카세트 운반 작동도이다.
제7a도, 제7b도는 본 발명 실시예의 웨이퍼 카세트 운반 작동도이다.
제8도는 본 실시예의 웨이퍼 카세트의 운반 작동도이다.
제9도는 종래 예의 개략 측면도이다.
제10도는 제9도의 종래 예를 배면방향에서 본 사시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 하우징 3 : 이동 적재기
4 : 수납고 5 : 버퍼 수납고
7 : 반응로 8 : 웨이퍼 지지구
9 : 보오드 엘리베이터 11 : 웨이퍼 카세트
12 : 웨이퍼 13 : 카세트 로더
19 : 웨이퍼 쟈크 22 : 히터
23 : 반응관 30 : 카세트 재치부
본 발명은 실리콘 웨이퍼에 박막을 생성시키거나 불순물을 확산시켜 반도체 소자를 제조하는 반도체 제조장치와 이 반도체 제조장치에 있어서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송 방법에 관한 것이다.
종래의 반도체 제조장치에 대하여 제9도와 제10도에 따라 설명한다. 하우징(1) 내부의 앞부분에는 외부 반송장치와 웨이퍼 카세트(11)를 수용하는 카세트 수용 유니트(2)가 설치되어 있고,이 카세트 수용 유니트(2) 뒤쪽에 카세트 이동 적재기(3)가 있고, 이 카세트 이동 적재기(3)를 둘러싸고 카세트 수납고(4)가 형성되어 있으며 이 카세트 수납고(4)의 상방에 버퍼 수납고(5)가 있다. 또 버퍼수납고(5)의 후측에는 크린 유니트(6)가 형성되어 있다.
상기 하우징(1)의 후부 상방에는 종형의 반응로(7)가 있고, 이 반응로(7)의 하방에는 웨이퍼 지지구(8)를 반응로(7)에 넣었다가 꺼낼 수 있게 보오드 엘리베이터(9)가 설치되어 있다. 또 보오드 엘리베이터(9)와 카세트 수납고(4)와의 사이에 웨이퍼 이동적재기(10)가 설치되어 있다.
상기 카세트 이동 적재기(3)는 승강 가능하고, 수평 이동이 가능한 구동부에 의해 지지되고, 상기 카세트 이동 적재기(3)에는 카세트 로더(13)가 있으며, 이 카세트 로더(13)는 수평축심(15)을 중심으로 하여 약 90° 회전할 수 있게 되어 있다. 또 카세트 로더(13)는 전후로 진퇴 가능한 카세트 이동적재 프레이트(16)와 이 카세트 이동적재 프레이트(16)에 대해서 직각으로 설치된 카세트 받이(17)를 구비하고 있다. 상기 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)는 각각 여러단과 여러 열(도면에서는 3단 3열이 도시되고 있음)의 카세트 하우징을 가지며 또 하우징의 수는 적어도 1배치분의 처리에 필요로 되는 웨이퍼 카세트의 수보다 많게 구성된다.
상기 웨이퍼 이동 적재기(10)는 승강 가능하고, 회전 가능한 회전 스테이지(18)에서 웨이퍼 쟈크(19)가 진퇴 가능하도록 구성되고, 웨이퍼 쟈크(19)는 상하로 배열된 여러개의 쟈크 프레이트(20)를 구비하고 있다. 상기 보오드 엘리베이터(9)는 승강 가능한 보오드 받침대(21)를 가지고 있어 이 보오드 받침대(21)에 웨이퍼 지지구(8)가 설치되어 있다.
상기 반응로(7)는 통 모양의 히터(22) 내부에 반응관(23)이 설치되어 있고, 이 반응관(23)의 내부가 반응실을 이루고 있으며, 이 반응실에는 웨이퍼 지지구(8)가 들어가 있으며 밀폐되어 있다. 웨이퍼(12)가 장진된 웨이퍼 카세트(11)는 외부 반송장치로 부터 카세트 수용 유니트(2) 쪽으로 상향 자세로 반입되고, 반입된 웨이퍼 카세트(11)는 상기 카세트 이동 적재기(3)가 지지하고, 이를 90° 회전시켜 수평자세에서 상기 카세트 수용 유니트(2)로 부터 카세트 수납고(4)로 이동적재 된다.
상기 웨이퍼 이동 적재기(10)는 카세트 수납고(4)와 웨이퍼 지지구(8)사이에서 웨이퍼(12)의 이동 적재가 행하여진다. 상기 회전 스테이지(18)의 승강, 회전에 의해 웨이퍼 쟈크(19)를 이동 적재 하고자 하는 대상의 웨이퍼 카세트(11)와 대치시켜 웨이퍼 쟈크(19)의 진퇴에 의해 쟈크 프레이트(20)에 웨이퍼(12)를 흡착시킨다. 흡착된 웨이퍼(12)는 상기 회전 스테이지(18)의 승강, 회전과 웨이퍼 쟈크(19)의 진퇴에 의해 상기 웨이퍼 지지구(8)에 순차적으로 장진된다. 또 상기 웨이퍼 지지구(8)의 상부, 하부의 소요범위에는 다미 웨이퍼가, 또 소요간격을 두고 모니터 웨이퍼가 장진된다.
상기 웨이퍼 지지구(8)에 웨이퍼가 완전 장진되면, 상기 보오드 엘리베이터(9)는 웨이퍼 지지구(8)를 반응로(7)내에 들어가 웨이퍼를 처리하게 된다. 처리가 완료된 웨이퍼는 상기 웨이퍼의 이동적재시의 역 순서에 따라 웨이퍼 카세트에 장진되고 또 웨이퍼 카세트는 상기 웨이퍼 카세트 반송시의 역 순서에 따라 반출된다. 또한 상기 다미 웨이퍼에 대해서는 반복 사용할 수 있는 것으로, 반도체 제조장치가 가동중일때는 반입, 반출은 할 수 없다.
상기한 바와 같은 종래의 반도체 제조장치에서는 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)는 모두 웨이퍼 카세트(11)를 수평 자세로 수납하는 구조로 되어있다. 또, 상술한 바와 같이 다미 웨이퍼는 반도체 제조장치 내에서 몇번이라도 반복 사용되어지므로 상기 웨이퍼 지지구(8)와 카세트 수납고(4)의 웨이퍼 카세트 사이에서 반복적으로 이동 적제가 이루어진다. 이 때문에 웨이퍼(12)의 이동적게 동작중 반송 오차, 동작중의 진동등으로 웨이퍼 카세트(11)에 대해 다미 웨이퍼의 위치가 흐트리지고 이것이 누적되어 오차가 허용량을 넘는 경우가 발생할 수 있다. 웨이퍼의 오차가 허용량을 초과하면 웨이퍼의 이동적재가 불가능하고 웨이퍼의 파손이나 보오드의 전도등 사고를 일으키게 되므로 장치가 정지하게 되고, 가동율이 떨어지는 원인이 된다. 또한 반도체 제조장치내의 청정도는 웨이퍼의 처리 품질에 큰 영향을 주게 되므로 청정도의 개선이 무엇보다도 요망되어진다.
본 발명은 다미 웨이퍼를 반복 이동 적게 하더라도 웨이퍼 카세트에 대해서 오차가 발생하지 않도록 하고, 또 소요로 되는 시기에 다미 웨이퍼의 웨이퍼 카세트에 대한 오차를 수정하고, 웨이퍼, 다미웨이퍼의 이동적재가 이루어지지 않게 하며, 웨이퍼의 파손이나 보오드의 전도등 사고를 방지하여 장치의 가동율을 향상시킴을 목적으로 한다. 또한 카세트 수납고, 버퍼 수납고의 수납용량을 크게함을 목적으로 한다. 더욱이 반도체 제조장치 내에서 크린 에어의 흐름을 항상 일률적으로 흐르게 하여 체류 부분이 발생하는 것을 방지하고, 반도체 제조장치 내에서 청정도를 개선시킴을 목적으로 한다.
본 발명은 아래와 같은 구성으로 이루어지고, 웨이퍼 카세트를 상향자세로 수용할 수 있는 카세트 재치부를 구비하며 또 하우징 내부의 전면으로부터 카세트 수용 유니트, 카세트 이동적재기, 수납고가 배치된 반도체 제조장치로서 웨이퍼 카세트를 상향 자세로 수용 가능한 카세트 재치부를 카세트수용 유니트 상방에 설치함으로서 종형 반응로와 이 종형반응로에 장입된 여러개의 웨이퍼를 다단으로 지지하는 보오드와, 이 보오드와 대응하는 위치에 설치한 적어도 한 개의 웨이퍼 카세트를 수납하는 수납고와, 이 수납고와 상기 보오드 사이에 웨이퍼의 이동적재를 하는 웨이퍼 이동 적재기와, 외부와 웨이퍼 카세트의 수용을 하기 위한 카세트 수용 유니트와, 카세트 수용 유니트와 상기 수납고 사이에서 웨이퍼 카세트의 반송을 행하는 카세트 이동 적제기와, 이 카세트 이동 적재기의 웨이퍼 카세트를 반송 가능한 범위 내에 설치하여 웨이퍼 카세트를 상향 자세로 수용 가능한 카세트 재치부를 구비하며, 또 카세트 이동 적재기가 웨이퍼 카세트의 자세를 변경시킬 수 있는 카세트 로더를 구비하고, 또 카세트 이동 적재기가 웨이퍼 카세트를 경사진 상태로 이동 적재할수 있는 카세트 로더를 구비하고, 또 상기 수납고의 일부가 웨이퍼 카세트를 상향 자세로 수용 가능한 카세트 재치부를 가지며, 또 수납고가 카세트 수납고, 이 카세트 수납고의 상방에 설치된 버퍼 수납고로 이루어지고, 이 카세트 수납고, 버퍼 수납고의 적어도 일방의 적어도 일부가 웨이퍼 카세트를 상향 자세로 수용 가능한 카세트 재치부를 가지며, 또 상기 수납고가 카세트 수납고, 이 카세트 수납고의 상방에 설치된 버퍼 수납고로 이루어지고, 이 버퍼 수납고에 대향 설치되고, 이 버퍼 수납고를 통과하는 크린에어의 흐름을 형성하는 크린 유니트와 상기 크린 에어의 흐름 하류에 위치하고 카세트 수용 유니트의 상방에 설치된 카세트 재치부를 가지며, 또, 웨이퍼 카세트를 수납하는 수납고와, 외부와 웨이퍼 카세트를 수용하는 카세트 수용 유니트와, 이 카세트 수용 유니트와 상기 수납고 사이에서 웨이퍼 카세트의 반송을 행하는 카세트 이동 적재기를 최소한 구비하고, 상기 카세트 이동 적재기가 웨이퍼 카세트의 자세를 변경시킬 수 있는 카세트 로더를 가지며, 이 카세트 이동적재기에 의해 웨이퍼 카세트를 상향 자세로 지지하여 웨이퍼 카세트에 대한 웨이퍼의 위치 흐트러짐을 수정하는 것과, 또 수납고의 웨이퍼 카세트를 카세트 이동 적재기에 의해 들어내고, 웨이퍼 카세트를 일단 상향 자세로 바로 잡은 뒤 웨이퍼 카세트를 수납고로 뒤돌려 주도록 하고, 또 웨이퍼 카세트를 수납하는 수납고와 외부와 웨이퍼 카세트를 수용하는 카세트 수용 유니트를, 이 카세트 수용 유니트와 상기 수납고 사이에서 웨이퍼 카세트의 반송을 행하는 이동적재기와를 최소한 구비하는 반도체 제조장치에 있어서, 상기 카세트 이동적재기에 의한 웨이퍼 카세트 이송시 웨이퍼 카세트를 경사지도록 하는 것 등의 구성을 갖는다. 후술하는 본 발명의 실시예의 상세한 설명에서 상기한 본 발명의 목적을 도면과 관련지어 설명한다.
이하 도면을 참조하여 본 발명의 1 실시예를 설명한다.
제 1 도와 제 9 도에 도시된 것과 동일한 것은 동일 부호를 부치고 그 설명을 생략 한다. 상기 버퍼 수납고(5)와 마주 보는 위치, 상기 크린 유니트(25)의 상방에 예비 카세트 재치부(30)을 적어도 다미 웨이퍼가 장진된 웨이퍼 카세트의 수가 되도록 소요 단과 소요 열을 형성한다. 이 예비 카세트 재치부(30)는 웨이퍼 카세트(11)를 상향 자세로 실을수 있는 구조로 되어 있다. 또 예비 카세트 재치부(30)는 다미 웨이퍼용의 웨이퍼 카세트의 수 이상 설치한 것으로, 반도체 제조장치 내에서 웨이퍼 카세트 수용량을 증대 시킬 수 있다. 상기 카세트 수납고(4)의 웨이퍼 이동 적재기(10)가 접근하는 카세트 재치부에 대해서는 웨이퍼 카세트가 수평자세로 수납된다.
따라서, 웨이퍼 이동 적재기(10)가 접근하는 카세트 재치부의 열에 대해서는 웨이퍼 카세트에 대한 오차를 수정할 목적으로 웨이퍼 카세트를 상향 자세로 수납할 수도 있다.
상기 카세트 이동 적재기(3)는 웨이퍼 카세트의 자세를 변경시키지 않고 이동 적재를 할 수 있게 되어 있다. 특히 도시되어 있지는 않으나 연직축심을 중심으로 하여 수평면에서 180° 회전할 수 있는 기구도 함께 구비하고 있다. 또 상향자세로 수납된 웨이퍼 카세트는 상기 카세트 이동적재기(3)에 의한 웨이퍼 카세트의 변이 과정에서 수평 자세로 수정된다.
상기 하우징(1)의 측면에 크린 유니트(31)가 설치되고, 하우징(1) 외부로 부터 흡인시킨 외기를 쟁화시킨 후, 수평방향의 크린 에어 흐름을 형성한다.
제4도~제8도에서 상기 카세트 이동 적재기(3)의 카세트 수용 유니트(2)로부터 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)로 이동 적재하는 동작에 대하여 설명한다. 또, 카세트 수납고(4)와 버퍼 수납고(5)에 이동 적재하는 동작은 같기 때문에 이하에서는 카세트 수납고(4)에 이동 적재하는 동작에 대해서 설명한다.
상기 카세트 수용 유니트(2)에 웨이퍼 카세트(11)가 재치된 상태에서는 웨이퍼 카세트(11)는 상향하게 된다. 상기 카세트 로더(13)를 수평축심(15)을 중심으로 하여 90° 회전 시키고, 상기 카세트 받이(17)을 카세트 수용 유니트(2)의 하방으로 진입 시킨다(제4a도, 제4b도). 카세트 받이(17)를 카세트 로더(13)쪽으로 전진시키고(제5a도), 이어서 카세트 로더(13)를 상승시킨다.
상기 카세트 로더(13)의 상승으로 카세트 받이(17)가 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 수용 유니트(2) 보다 상방에서 적재되고(제5b도), 특히 카세트 로더(13)에 대해서 카세트 받이(17)를 후퇴시켜 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 이동 적재 프레이트(16)에 밀착시킨다(제6a도). 다음에 카세트 로더(13)를 90°이하의 각도로 회전시켜 웨이퍼 카세트(11)를 수평면에 대해 45°이하의 각도(장치내 스페이스 제한 때문에 바람직 하기는 5°이하)로 경사지게 한 상태에서 카세트 이동적재 프레이트(16)로 지지한다(제6도(b)). 여기서 웨이퍼 카세트(11)를 경사진 상태로 하는것은 웨이퍼 카세트(11)에 대해서 웨이퍼(12)가 미끄러지거나 탈락하지 않게 하기 위함이다.
상기 카세트 로더(13)를 상승시키고, 수평 방향으로 이동시켜 웨이퍼 카세트(11)를 이동 적재 하도록 카세트 재치부에 대치 시킨다(제7a도). 카세트 로더(13)를 다시 회전시켜 상기 카세트 이동적재 프레이트(16)를 수평으로 한다. 이 카세트 이동적재 프레이트(16)를 전진시켜 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 재치부위에 이동시키고(제7b도), 또 카세트 로더(13)를 하강시켜 최후에 카세트 이동적재 프레이트(16)를 후퇴시켜 웨이퍼 카세트(11)의 이동적재를 종료 시킨다(제8도). 상기 작업을 반복하여 카세트 수용 유니트(2)로부터 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에 웨이퍼 카세트(11)의 이동 적재를 행하게 한다. 또 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5) 사이의 웨이퍼 카세트(11) 이동적재에 대하여는 웨이퍼 카세트(11)의 자세가 변경하지 아니하므로 상기 로더(13)의 90°회전 작동은 생략된다. 또 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5) 사이의 이동적재는 웨이퍼의 미끄럼 방지를 위하여 웨이퍼 카세트(11)가 경사되도록 한다.
상기 예비 카세트 재치부(30)에 놓여진 다미 웨이퍼용 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 수납고(4)에 반송하는 작동은 상술한 카세트 수용 유니트(2)의 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에 반송하는 작동과 같다.
상기 카세트 로더(13)를 수평 축심(15)을 중심으로 하여 90°회전시키고, 카세트 반이(17)를 예비 카세트 재치부(30)의 하방에 진입시킨다(제4a도), 제4b도). 또 카세트 받이(17)를 카세트 로더(13)에 대해 전진 시키고 (제5a도) 계속하여 카세트 로더(13)를 상승시킨다.
상기 카세트 로더(13)의 상승으로 카세트 받이(17)가 웨이퍼 카세트(11')를 예비 카세트 재치부(30) 보다 위에 싣고(제5b도), 카세트 로더(13)에 대해서 카세트 받이(17)를 후퇴시켜 웨이퍼 카세트(11')를 카세트 이동 적재 프레이트(16)에 밀착시킨다(제6a도). 다음에 카세트 로더(13)를 90°이하의 각도로 회전시키고, 웨이퍼 카세트(11')를 경사지게 한 상태에서 카세트 이동 적재 프레이트(16)로 지지한다(제6b도). 여기서 웨이퍼 카세트(11')를 경사지게 한 상태로 한 것은 웨이퍼 카세트(11')에 대해서 웨이퍼(12)가 미끄러지거나 탈락하지 않도록 하기 위함이다.
카세트 로더(13)를 상승, 수평방향으로 이동시켜, 웨이퍼 카세트(11')를 이동 적재 할 수 있게 카세트 재치부와 대치시킨다(제7a도). 카세트 로더(13)를 다시 회전시키고 상기 카세트 이동 적재 프레이트(16)를 수평으로 하여 카세트 이동 적재 프레이트(16)를 전진시키고 웨이퍼 카세트(11')를 카세트 수납고(4)의 카세트 재치부 위에 이동시킨다(제7b도). 또 카세트 로더(13)를 강하시켜 최후로 카세트 이동적재 프레이트(16)를 후퇴시켜 웨이퍼 카세트(11')의 이동적재를 종료시킨다(제8도).
상기 반응로(7)에서 웨이퍼의 처리가 끝나면, 웨이퍼 이동 적재기(10)에 의해 웨이퍼 지지구(8)로부터 카세트 수납고(4)의 웨이퍼 카세트에 제품용 웨이퍼, 모니타 웨이퍼, 다미 웨이퍼로 구분되어 이동 적재 된다. 웨이퍼, 모니타 웨이퍼가 장진된 웨이퍼 카세트(11)는 카세트 이동 적재기(3)에 의해 카세트 수납고(4)로부터 카세트 수용 유니트(2)에 반송되어 도시되지 않은 외부 반송장치에 의해 반도체 제조장치 밖으로 반송된다.
또 상기 다미 웨이퍼가 장진된 웨이퍼 카세트(11')는 카세트 로더(13)에 의해 상술한 제4도~제8도의 역 작동에 의해 수평자세로 부터 상향 자세로 바뀌어 상기 예비 카세트 재치부(30)으로 이동 적재된다. 웨이퍼 처리 후 웨이퍼 카세트(11')가 상향 자세로 예비 카세트 재치부(30)에 수납되게 되므로 웨이퍼 카세트에 대해 웨이퍼의 위치가 수정되고 따라서 다미 웨이퍼는 반복 사용 하더라도 웨이퍼 카세트에 대해 위치 변경이 발생하지 않는다. 더욱이 웨이퍼 카세트(11')를 예비 카세트 재치부(30)에 수납시키므로 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에는 여유가 생겨 반도체 제조장치의 웨이퍼 카세트 수납용량이 증대된다. 또 예비 카세트 재치부(30)를 설치하는 장소는 버퍼 수납고(5)에 대치되는 장소가 아니더라도 카세트 이동 적재기(10)의 반송이 가능한 범위이면 좋다. 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)의 일부가 웨이퍼 카세트(11)을 상향 자세로 적재할 수 있는 구조이면 좋다. 또 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에 웨이퍼 카세트(11)를 상향 자세로 이동적재 하려면 이동 적재기(10)를 수평면 상에서 180° 회전시키고 상기 동작을 행하므로써 이동 적재가 가능하다.
다음에 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)내에 수납된 웨이퍼 카세트(11)에 있어서 웨이퍼의 미끄러짐 수정에 대하여 설명한다.
다미 웨이퍼를 수납한 웨이퍼 카세트 등, 예비 카세트 재치부(30)에 실려있지 않은 경우의 웨이퍼 카세트에 대한 웨이퍼의 미끄러짐 수정은 상기 카세트 이동 적재기(3)에 의해 행하여 진다. 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에 대하여 카세트 이동 적재기(3)를 동작 하도록 하고, 수납된 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 이동 적재 프레이트(16)에 올려놓아 취출하고, 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 받이(17)에 밀착시킨 다음 카세트 로더(13)를 90° 회전시켜 웨이퍼 카세트(11)를 위로 향하게 한다. 웨이퍼 카세트를 상향 되도록 하는 공정을 추가하므로써 웨이퍼 카세트(11)에 대한 웨이퍼의 미끄럼이 수정된다. 그러한 뒤 카세트 로더(13)를 90° 역회전 시키고, 카세트 이동적재 프레이트(16)를 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에 대해 전진시키고 웨이퍼 카세트(11)를 카세트 수납고(4), 버퍼 수납고(5)에 돌려 보낸다(제6a도~제7b도 참조).
전술한 바와 같이 하우징(1)내의 청정도는 웨이퍼 처리에 큰 영향을 주므로 청정도의 향상은 하우징(1) 내의 크린에어의 일정 형태의 흐름을 형성하고, 하우징(1)내에 미립자의 체류를 방지한다.
본 실시예에서는 상기 카세트 수납고(4), 상기 웨이퍼 지지구(8)를 수납하는 처리공간(33)과 카세트 수용 유니트(2), 카세트 이동 적재기(3), 버퍼 수납고(5)를 수납하는 이동적재공간(34)과를 구획하여 상기 처리공간(33), 이동적재공간(34)내에 각각 크린 에어의 일정 형태 흐름을 형성시킴과 동시에 상기 처리공간(33), 이동적재공간(34)과를 구획하므로 처리공간(33)에 직접 외기의 유입을 방지하고, 처리공간(33)내의 청정도를 일층 향상 시킬 수 있다.
제1도, 제2도에 있어서 크린 에어 흐름에 대하여 설명한다.
상기 크린 유니트(31)에 의해 하우징(1)의 측방으로부터 흡인된 공기는 처리공간(33)을 수평 방향으로 횡단하는 크린 에어 흐름(32)을 이루고, 도시되지는 않았으나 닥트에 의해 배기된다. 또 크린 유니트(6)는 크린 에어를 버퍼 수납고(5)에 대해 수평 방향으로 송출 시키고, 이 버퍼 수납고(5)를 통과한 크린 에어 흐름(35)은 하우징(1)의 전면측에서 아래 방향으로 향하게 된다.
상기 크린 유니트(25)에 의해 흡입되고 또 카세트 수용 유니트(2)의 하방으로 흐르게 된다. 상기 크린 에어의 흐름(32)은 웨이퍼 지지구(8)에 지지되어 있는 웨이퍼에 대해서 평행을 이루고, 또 크린에서 흐름(35)은 버퍼 수납고(5)에 수납된 웨이퍼, 예비 카세트 재치부(30)에 수납된 웨이퍼에 대해서 각각 평행을 이룬다. 따라서 웨이퍼에 의해 크린 에어의 흐름이 방해를 받지 않게 되고 크린 에어의 체류가 발생하지 않으므로 청정도가 유지된다.
상술한 바와 같이 장치내를 흐르는 크린 에어의 흐름을 방해하지 않는 것이 청정도 유지를 위해 필요하므로 따라서 제1도에 도시된 실시예에서는 웨이퍼 카세트(11)의 배치 상태가 카세트 수납고(4)에서는 적어도 웨이퍼 이동 적재기(10)가 접근하는 카세트(11)가 웨이퍼 수평 상태에 있게 하여 카세트 수납고(4)의 타의 카세트 내의 웨이퍼가 크린 에어의 흐름(32)과 평행을 이루면 좋다. 접근 대상이 아닌 웨이퍼 카세트는 수직 자세의 상태로 배치시킨다. 또, 예비 카세트 재치부(30)에 있어서, 웨이퍼 카세트(11')내의 웨이퍼는 크린 에어의 흐름(35)과 평형을 이루면 좋다. 따라서 웨이퍼 카세트(11')와 같은 웨이퍼가 수직 상태로 배치되게 된다.
제3도는 크린 유니트(36)를 버퍼 수납고(5), 예비 카세트 재치부(30)의 바로 위에 배설시킨 것으로서, 크린 유니트(36)에 의해 형성된 크린 에어의 흐름은 수직 흐름이 되고, 버퍼 수납고(5)에 수납된 카세트의 웨이퍼, 예비 카세트 재치부(30)에 얹혀 있는 웨이퍼 카세트(11')의 웨이퍼와 평행을 이루며 웨이퍼의 주위에 크린 에어가 흐르게 된다.
상술한 바와 같이 장치내를 흐르는 크린 에어의 흐름을 방해하지 않는 것이 청정도 유지상 필요로 되므로 제3도에 도시된 실시예에 있어서 웨이퍼 카세트의 배치 상태는 카세트 수납고(4), 예비 카세트 재치부(30)에 대해서도 제1도와 같은 상태로 카세트가 배치되나, 버퍼 수납고(5)에 대해서는 크린 에어의 흐름과 웨어퍼 면이 평행을 이루기만 하면 좋다. 따라서 웨이퍼 카세트(11)는 수직 자세로 수납되고 웨이퍼 면은 수직을 이룬다.
이상 상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 반복 사용되는 다미 웨이퍼의 웨이퍼 카세트에 대한 미끄럼 수정이 가능하므로 미끄러지는 정도가 누적하지 않고, 웨이퍼의 위치 오차에 기인하는 웨이퍼의 파손이나 보오드의 전도등을 방지할 수 있고 또 장치의 정지도 방지할 수 있어 가동율의 향상을 도모할 수 있으며 특히 웨이퍼 카세트의 수납 공간을 증대 시킬 수 있고, 반도체 제조장치 내의 공간 이용율을 증대 시킬 수 있다. 또 반도체 제조장치 내의 크린 에어의 일정형태 흐름을 형성하므로 청정도를 향상 시킬 수 있어서 처리 품질을 향상 시킨다.

Claims (12)

  1. (2차정정) 하우징(1) 외부로부터 투입된 웨이퍼카세트(1)를 상하방향으로 수용하기 위한 카세트 수용유니트(2)와, 상기 웨이퍼카세트(11)를 받아 수평방향으로 위치변환하기 위한 카세트로더(13) 및 카세트이동적재기(3)와, 상기 카세트이동적재기(3)로부터 공급된 다수개의 웨이퍼카세트(11)를 임시 수용하기 위한 카세트수납고(4) 및 버퍼수납고(5)와, 상기 카세트수납고(4)로부터 제품용웨이퍼, 모니타웨이퍼, 다미웨이퍼들중에서 선택하여 수평방향으로 옮기기 위한 웨이퍼이동적재기 (10)와, 상기 웨이퍼이동적재기(10)로부터 공급되어진 웨이퍼(12)들을 순차적으로 적층하기 위한 웨이퍼지지구(8)와, 상기 웨이퍼지지구(8)에 적층공급된 웨이퍼(12)들을 일정시간동안 가열하기 위한 종형반응로(7)와, 상기 카세트수납고(4), 버퍼수납고(5)등에 수납되어진 웨이퍼(12)들에 대해 크린에어를 공급해줌으로 청정상태를 유지할 수 있도록 하기 위한 크린유니트(6)로 구성되어지는 반도체 제조장치에 있어서, 카세트수납고(4)에 수평방향으로 수납된 웨이퍼카세트들중에서 다미웨이퍼카세트(11')만을 상하방향으로 분리 수납하기 위해 하우징(1) 내부 빈 공간에 예비카세트재치부(30)를 별도로 구비하고 있으며, 사용 후 카세트수납고(4)에 있던 다미웨이퍼들은 예비카세트재치부(30)를 거치는 동안 상하자세로 정열되어짐에 따라 반복 사용되더라도 웨이퍼의 미끄러짐이 발생하지 않도록 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  2. 제 1항에 있어서, 다미웨이퍼카세트(11')를 상향자세로 받혀주기 위한 예비카세트재치부(30)가 카세트 수용유니트(2)의 상부에 설치되어진 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 예비카세트재치부(30)는 카세트 이동적재기(3)가 웨이퍼카세트를 운반할 수 있는 범위 내에 설치되어진 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  4. 제 1항에 있어서, 웨이퍼 카세트는 그 내부에 수납된 웨이퍼들이 크린 유니트(6)로 부터의 에어흐름과 평행을 이루도록 지지되어진 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  5. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 카세트이동적재기(3)가 웨이퍼 카세트(11)(11')의 자세를 변경시킬 수 있는 카세트로더(13)를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  6. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 카세트이동적재기(3)가 웨이퍼 카세트(11)(11')를 경사진 상태에서 이동가능한 카세트로더(13)를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  7. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 웨이퍼카세트(11)(11')를 수납하는 수납고 (4)(5)의 일부가 다미웨이퍼카세트(11')를 상향자세로 수용하기 위한 예비카세트재치부로 사용되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  8. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 수납고는 카세트 수납고(4)와 이 카세트수납고(4)의 상방에 설치된 버퍼수납고(5)로 이루어지고, 이 카세트수납고(4), 버퍼수납고(5)중에서 적어도 어느 한쪽의 일부가 다미웨이퍼카세트(11')를 상향자세로 수용할 수 있는 예비카세트재치부로 사용되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  9. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 수납고는 카세트수납고(4)와 이 카세트수납고(4) 상방에 설치된 버퍼수납고(5)로 이루어지고 예비카세트재치부(30)는 상기 버퍼수납고(5)와 대향 설치되어지며, 상기 크린유니트(6)로 부터의 에어흐름은 버퍼수납고(5)로부터 예비카세트재치부(30)를 경유하도록 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  10. 하우징(1) 외부로부터 투입된 웨이퍼카세트(11)를 상하방향으로 수용하기 위한 카세트 수용유니트(2)와, 상기 웨이퍼카세트(11)를 받아 수평방향으로 위치변환하기 위한 카세트로더(13) 및 카세트이동적재기(3)와, 상기 카세트이동적재기(3)로부터 공급된 다수개의 웨이퍼카세트(11)를 임시 수납하기 위한 카세트수납고(4) 및 버퍼수납고(5)와, 상기 카세트수납고(4)로부터 제품용웨이퍼, 모니타웨이퍼, 다미웨이퍼들중에서 선택하여 수평방향으로 옮기기 위한 웨이퍼이동적재기(10)와, 상기 웨이퍼이동적재(10)로부터 공급되어진 웨이퍼(12)들을 순차적으로 적층하기 위한 웨이퍼지지구(8)와, 상기 웨이퍼지지구(8)에 적층공급된 웨이퍼(12)들을 일정시간동안 가열하기 위한 종형반응로(7)와, 상기 카세트수납고(4), 버퍼수납고(5)등에 수납되어진 웨이퍼(12)들에 대해 크린에어를 공급해줌으로서 청정상태를 유지할 수 있도록 하기 위한 크린유니트(6)로 구성되는 반도체 제조장치에서의 웨이퍼위치 수정방법에 있어서, 상기 카세트수납고(4) 안에 수납되어져있던 다미웨이퍼카세트 (11')를 카세트 이동적재기(3)에 의해 외부로 끄집어낸다음, 카세트로더(13)를 선회시켜 다미웨이퍼카세트(11')안에 수용된 다미웨이퍼가 상하자세로 정렬되도록 함으로서 다미웨이퍼의 미끄러짐이 수정되도록 한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트내의 웨이퍼 위치 수정방법.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 카세트 이동적재기(3)에 의하여 카세트수납고(4) 밖으로 꺼내어진 다미웨이퍼카세트(11')들은 일단 상향자세로 정렬된 다음에 카세트수납고(4)로 복귀되어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트내의 웨이퍼 위치 수정방법.
  12. 하우징(1) 외부로부터 투입된 웨이퍼카세트(11)를 상하방향으로 수용하기 위한 카세트 수용유니트(2)와, 상기 웨이퍼카세트(11)를 받아 수평방향으로 위치변환하기 위한 카세트로더(13) 및 카세트이동적재기(3)와, 상기 카세트이동적재기(3)로부터 공급된 다수개의 웨이퍼카세트(11)를 임시 수납하기 위한 카세트수납고(4) 및 버퍼수납고(5)와, 상기 카세트수납고(4)로부터 제품용웨이퍼, 모니타웨이퍼, 다미웨이퍼들중에서 선택하여 수평방향으로 옮기기 위한 웨이퍼이동적재기(10)와, 상기 웨이퍼이동적재기(10)로부터 공급되어진 웨이퍼(12)들을 순차적으로 적층하기 위한 웨이퍼지지구(8)와, 상기 웨이퍼지지구(8)에 적층공급된 웨이퍼(12)들을 일정 시간동안 가열하기 위한 종형반응로(7)와, 상기 카세트수납고(4), 버퍼수납고(5)등에 수납되어진 웨이퍼(12)들에 대해 크린에어를 공급해줌으로서 청정상태를 유지할 수 있도록 하기 위한 크린유니트(6)로 구성되는 반도체 제조장치에서의 웨이퍼카세트 이송방법에 있어서, 상기 웨이퍼카세트를 카세트로더(13) 및 카세트이동적재기(3)를 사용하여 카세트수납고(4)로 운반할 때에 카세트로더(13)를 90° 이하의 각도로 회전시켜 웨이퍼카세트가 수평면에 대해 45° 이하의 각도가 되도록 한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트의 이동방법.
KR1019960020544A 1995-06-15 1996-06-10 반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법 KR100266401B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7-172742 1995-06-15
JP17274295 1995-06-15
JP95/172742 1995-06-15
JP8-132864 1996-04-30
JP13286496A JP3478364B2 (ja) 1995-06-15 1996-04-30 半導体製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970003770A KR970003770A (ko) 1997-01-28
KR100266401B1 true KR100266401B1 (ko) 2000-09-15

Family

ID=26467328

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960020544A KR100266401B1 (ko) 1995-06-15 1996-06-10 반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6318944B1 (ko)
JP (1) JP3478364B2 (ko)
KR (1) KR100266401B1 (ko)
TW (1) TW360898B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101728935B1 (ko) 2013-03-21 2017-04-20 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 자기 어닐링 장치

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1008143C2 (nl) * 1998-01-27 1999-07-28 Asm Int Stelsel voor het behandelen van wafers.
KR100646906B1 (ko) * 1998-09-22 2006-11-17 동경 엘렉트론 주식회사 기판처리장치 및 기판처리방법
JP3664897B2 (ja) * 1998-11-18 2005-06-29 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置
JP4519348B2 (ja) * 2001-03-29 2010-08-04 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置および熱処理方法
US6817823B2 (en) * 2001-09-11 2004-11-16 Marian Corporation Method, device and system for semiconductor wafer transfer
CN1608308A (zh) * 2001-11-13 2005-04-20 Fsi国际公司 微型电子基片的自动化加工用的减少占地的工具
FR2844258B1 (fr) * 2002-09-06 2005-06-03 Recif Sa Systeme de transport et stockage de conteneurs de plaques de semi-conducteur, et mecanisme de transfert
US20040080852A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-29 Seagate Technology Llc Disc caddy feeder system with caddy gripper for data storage devices
US6852644B2 (en) * 2002-11-25 2005-02-08 The Boc Group, Inc. Atmospheric robot handling equipment
US7165303B2 (en) * 2002-12-16 2007-01-23 Seagate Technology Llc Disc cassette delidder and feeder system for data storage devices
JP4358690B2 (ja) * 2004-06-30 2009-11-04 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置及びその運用方法
JP4266197B2 (ja) 2004-10-19 2009-05-20 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置
US7553516B2 (en) * 2005-12-16 2009-06-30 Asm International N.V. System and method of reducing particle contamination of semiconductor substrates
KR100793137B1 (ko) * 2006-09-06 2008-01-10 (주)젬텍 엘시디 마더글라스 이송라인의 버퍼스테이션
JP4807579B2 (ja) * 2006-09-13 2011-11-02 株式会社ダイフク 基板収納設備及び基板処理設備
JP4756372B2 (ja) * 2006-09-13 2011-08-24 株式会社ダイフク 基板処理方法
JP4335908B2 (ja) * 2006-12-22 2009-09-30 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法
US20100129940A1 (en) * 2008-11-24 2010-05-27 Texas Instruments Incorporated Vibration monitoring of electronic substrate handling systems
JP5562759B2 (ja) * 2009-11-04 2014-07-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
CN112830205B (zh) * 2020-12-30 2022-04-26 壹米智汇工程技术研究院(北京)有限公司 油封码放设备及其工作方法
CN113548492A (zh) * 2021-06-30 2021-10-26 无锡奥特维科技股份有限公司 一种硅片收片方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR900010707A (ko) * 1988-12-20 1990-07-09 삼성전자 주식회사 비데오 테이프의 콘트롤신호 누락시 제어회로

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5064337A (en) * 1988-07-19 1991-11-12 Tokyo Electron Limited Handling apparatus for transferring carriers and a method of transferring carriers
JPH05294410A (ja) * 1992-04-21 1993-11-09 Daifuku Co Ltd 荷保管設備
TW245823B (ko) * 1992-10-05 1995-04-21 Tokyo Electron Co Ltd
JP3258748B2 (ja) * 1993-02-08 2002-02-18 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
KR100221983B1 (ko) * 1993-04-13 1999-09-15 히가시 데쓰로 처리장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR900010707A (ko) * 1988-12-20 1990-07-09 삼성전자 주식회사 비데오 테이프의 콘트롤신호 누락시 제어회로

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101728935B1 (ko) 2013-03-21 2017-04-20 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 자기 어닐링 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR970003770A (ko) 1997-01-28
JPH0964150A (ja) 1997-03-07
US6318944B1 (en) 2001-11-20
TW360898B (en) 1999-06-11
JP3478364B2 (ja) 2003-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100266401B1 (ko) 반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법
KR100233310B1 (ko) 열처리장치
KR0153250B1 (ko) 종형 열처리 장치
US6755603B2 (en) Apparatus for and method of transporting substrates to be processed
KR20090091702A (ko) 솔라 웨이퍼와 같은 일 측면이 도핑될 웨이퍼의 스택 형성 방법 및 웨이퍼 배치의 프로세스 보트 탑재를 위한 핸들링 시스템
KR20020019414A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치를 이용한 반도체디바이스 제조 방법
KR0148383B1 (ko) 캐리어 스토커
JP5639963B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録した記録媒体
JP3570827B2 (ja) 処理装置
US4872799A (en) Boat transfer and queuing furnace elevator and method
JPH1111663A (ja) 基板搬送装置
JPH09172052A (ja) ウェーハ移載装置及びウェーハ移載方法
JP4192568B2 (ja) 搬送システム
JP3769425B2 (ja) 電子部品の製造装置および電子部品の製造方法
KR102189275B1 (ko) 이송 로봇 및 이를 포함하는 이송 장치
JPH04106952A (ja) 半導体製造装置
JP2007134734A (ja) 液晶基板の搬送装置
JPH1167866A (ja) 半導体製造装置
JP3323168B2 (ja) 半導体製造装置
JP3592375B2 (ja) 半導体基板搬送装置及び搬送方法並びに半導体装置の製造方法
KR100220817B1 (ko) 화학기상증착장치
KR200163637Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 운반용 트랜스퍼 스테이지
JPH05178413A (ja) ストッカ
JP3273694B2 (ja) 処理装置及び処理方法
JP2506379B2 (ja) 搬送方法及び搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130531

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140603

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150515

Year of fee payment: 16

EXPY Expiration of term