JP3478364B2 - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置及び
該半導体製造装置に於けるウェーハカセット内のウェー
ハ位置ずれ修正方法及びウェーハカセット搬送方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】シリコンウェーハに薄膜を生成し、或は
不純物の拡散等をして半導体素子を製造するものとして
半導体製造装置がある。図９〜図１０に於いて従来の半
導体製造装置について説明する。
【０００３】筐体１内部の前面側には外部搬送装置との
間でウェーハカセット１１の授受を行うカセット授受ユ
ニット２が設けられ、該カセット授受ユニット２の後側
にカセット移載機３が設けられ、該カセット移載機３を
挾んでカセット収納庫４が設けられ、該カセット収納庫
４の上方にバッファ収納庫５が設けられ、該バッファ収
納庫５の後側にクリーンユニット６が設けられている。
前記筐体１の後部上方には縦型の反応炉７が設けられ、
該反応炉７の下方にはボート８を該反応炉７に挿脱する
ボートエレベータ９が設けられている。又、該ボートエ
レベータ９と前記カセット収納庫４との間にウェーハ移
載機１０が設けられている。尚、２５はクリーンユニッ
トを示す。
【０００４】前記カセット移載機３は昇降可能、水平移
動可能な駆動部２４に支持され、又前記カセット移載機
３はカセットローダ１３を有し、該カセットローダ１３
は水平軸心１５を中心に略９０°回転する様になってお
り、更にカセットローダ１３は進退可能なカセット移載
プレート１６と該カセット移載プレート１６に対して直
角に設けられたカセット受け１７を具備している。
【０００５】前記カセット収納庫４、バッファ収納庫５
はそれぞれ複数段、複数列（図では３段３列）のカセッ
ト棚を有し、又棚数は少なくとも１バッチ分の処理に必
要なウェーハカセットの数以上となっている。
【０００６】前記ウェーハ移載機１０は昇降可能、且回
転可能な回転ステージ１８にウェーハチャック１９が進
退可能に設けられ、該ウェーハチャック１９は上下に配
列された複数のチャックプレート２０を具備している。
【０００７】前記ボートエレベータ９は昇降可能なボー
ト受台２１を有し、該ボート受台２１にボート８が載置
される。
【０００８】前記反応炉７は筒状のヒータ２２内部に反
応管２３が設けられており、該反応管２３内部が反応室
となり、該反応室は前記ボート８が完全に装入されるこ
とで密閉される。
【０００９】ウェーハ１２が装填されたウェーハカセッ
ト１１は外部搬送装置から前記カセット授受ユニット２
に上向き姿勢で搬入され、搬入されたウェーハカセット
１１は前記カセット移載機３が保持し、更に９０°回転
して水平姿勢として前記カセット授受ユニット２から前
記カセット収納庫４に移載する。
【００１０】前記ウェーハ移載機１０は前記カセット収
納庫４と前記ボート８間でのウェーハ１２の移載を行
う。
【００１１】前記回転ステージ１８の昇降、回転により
ウェーハチャック１９を移載すべき対象のウェーハカセ
ット１１に対峙させ、更にウェーハチャック１９の進退
により前記チャックプレート２０にウェーハ１２を吸着
する。吸着されたウェーハ１２は前記回転ステージ１８
の昇降、回転、更にウェーハチャック１９の進退により
前記ボート８に順次装填される。尚、前記ボート８の上
部、下部の所要範囲にはダミーウェーハが、又所要間隔
でモニタウェーハが装填される。
【００１２】前記ボート８にウェーハが完全に装填され
ると前記ボートエレベータ９がボート８を反応炉７内に
装入してウェーハの処理を行う。
【００１３】処理の完了したウェーハは上記ウェーハの
移載の逆の手順でウェーハカセットに装填され、更にウ
ェーハカセットは上記ウェーハカセット搬送の逆の手順
で搬出される。尚、上記ダミーウェーハについては、繰
返し使用されるもので半導体製造装置の稼働中は搬入、
搬出は行われない。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の半導体
製造装置では、カセット収納庫４、バッファ収納庫５は
全てウェーハカセット１１を水平姿勢で収納する構造と
なっている。
【００１５】又、前記した様に、前記ダミーウェーハは
半導体製造装置内で何度も繰返し使用されるものであ
り、前記ボート８とカセット収納庫４のウェーハカセッ
ト間で繰返し移載が行われる。この為、ウェーハ１２の
移載動作中の搬送誤差、動作中の振動等でウェーハカセ
ット１１に対してダミーウェーハの位置がずれ、更に累
積してずれ量が許容量を越えることがある。
【００１６】ウェーハのずれ量が許容量を越えると、ウ
ェーハの移載不能、ウェーハの破損、ボートの転倒等の
事故を引起こすことがあり、装置が停止することとな
り、稼働率の低下の原因となっていた。更に又、半導体
製造装置内での清浄度はウェーハの処理品質に大きな影
響を有しており、清浄度の一層の改善が望まれている。
【００１７】本発明は斯かる実情に鑑み、ダミーウェー
ハを繰返し移載してもウェーハカセットに対してずれが
発生しない様にし、更に所要時期にダミーウェーハのウ
ェーハカセットに対するずれを修正し、ウェーハ、ダミ
ーウェーハの移載不能、ウェーハの破損、ボートの転倒
等の事故を防止し、装置の稼働率の向上を図るものであ
り、更にカセット収納庫、バッファ収納庫の収納容量を
大きくしようとするものである。更に又、半導体製造装
置内でのクリーンエアの流れを一様流れとし、滞留部分
が生ずるのを防止し、半導体製造装置内での清浄度の改
善を図るものである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明は縦型反応炉と、
該縦型反応炉に装入されウェーハを保持するウェーハ保
持具と、少なくとも１つのウェーハカセットを収納する
収納庫と、該収納庫と前記ウェーハ保持具間でウェーハ
の移載を水平姿勢で行うウェーハ移載機と、外部とウェ
ーハカセットの授受を行うカセット授受ユニットと、該
カセット授受ユニットと前記収納庫間でウェーハカセッ
トの搬送を行うカセット移載機とを有する半導体製造装
置に於いて、前記収納庫に収納されているウェーハカセ
ットの内少なくとも前記ウェーハ移載機の移載対象とさ
れるウェーハカセットは水平姿勢で前記収納庫に収納さ
れ、前記ウェーハ移載機の移載対象としたウェーハカセ
ットの載置部分と前記カセット授受ユニット以外の場所
に、ウェーハカセットを上向き姿勢で載置可能なカセッ
ト載置部を設けた半導体製造装置に係り、又前記カセッ
ト載置部は、前記カセット授受ユニットの上方に設けら
れた半導体製造装置に係り、又前記カセット載置部は、
前記カセット移載機のウェーハカセット搬送可能な範囲
内に設けられた半導体製造装置に係り、又クリーンエア
流れを形成するクリーンユニットを更に具備し、ウェー
ハカセットはウェーハがクリーンエア流れと平行となる
様保持されている半導体製造装置に係り、又カセット移
載機がウェーハカセットの姿勢を変更可能なカセットロ
ーダを具備する半導体製造装置に係り、又カセット移載
機がウェーハカセットを傾斜させた状態で移載可能なカ
セットローダを具備する半導体製造装置に係り、又前記
収納庫の一部がウェーハカセットを上向き姿勢で載置可
能なカセット載置部である半導体製造装置に係り、又収
納庫がカセット収納庫、該カセット収納庫の上方に設け
られたバッファ収納庫から成り、該カセット収納庫、バ
ッファ収納庫の少なくとも一方の少なくとも一部がウェ
ーハカセットを上向き姿勢で載置可能なカセット載置部
である半導体製造装置に係り、又前記収納庫がカセット
収納庫、該カセット収納庫の上方に設けられたバッファ
収納庫から成り、該バッファ収納庫に対向して設けら
れ、該バッファ収納庫を通過するクリーンエア流れを形
成するクリーンユニットと、前記クリーンエア流れの下
流に位置し前記カセット授受ユニットの上方に設けられ
たカセット載置部とを有する半導体製造装置に係り、又
縦型反応炉と、該縦型反 応炉に装入されウェーハを保持
するウェーハ保持具と、水平姿勢のウェーハカセットを
少なくとも１つ収納する収納庫と、該収納庫と前記ウェ
ーハ保持具間でウェーハの移載を水平姿勢で行うウェー
ハ移載機と、外部とウェーハカセットの授受を行うカセ
ット授受ユニットと、該カセット授受ユニットと前記収
納庫間でウェーハカセットの搬送を行うカセット移載機
とを有する半導体製造装置に於いて、前記カセット移載
機がウェーハカセットの姿勢を変更可能なカセットロー
ダを有し、該カセット移載機によりウェーハカセットを
上向き姿勢に保持することでウェーハカセットに対する
ウェーハのずれを修正するウェーハカセット内のウェー
ハ位置ずれ修正方法に係り、又収納庫のウェーハカセッ
トをカセット移載機により取出し、ウェーハカセットを
一旦上向き姿勢にした後、ウェーハカセットを収納庫に
戻すウェーハカセット内のウェーハ位置ずれ修正方法に
係り、又縦型反応炉と、該縦型反応炉に装入されウェー
ハを保持するウェーハ保持具と、少なくとも１つのウェ
ーハカセットを収納する収納庫と、該収納庫と前記ウェ
ーハ保持具間でウェーハの移載を水平姿勢で行うウェー
ハ移載機と、外部とウェーハカセットの授受を行うカセ
ット授受ユニットと、該カセット授受ユニットと前記収
納庫間でウェーハカセットの搬送を行うカセット移載機
とを有する半導体製造装置に於いて、前記カセット移載
機によるウェーハカセット移送時にウェーハカセットを
傾斜させるウェーハカセット搬送方法に係るものであ
る。
【００１９】ウェーハカセットを上向き姿勢で載置可能
なカセット棚に上向き姿勢でウェーハカセットを載置さ
せることで、ウェーハカセットに対するウェーハの位置
ずれが修正される。或は、処理過程の１工程として、ダ
ミーウェーハが装填されるウェーハカセットを前記カセ
ットローダ１３により保持し、更にウェーハカセットを
上向き姿勢にする工程を組込むことで、ウェーハカセッ
トに対するダミーウェーハの位置ずれが修正される。従
って、ダミーウェーハの様に繰返し使用されるウェーハ
が装填されるウェーハカセットに対してウェーハのずれ
が累積することを防止し、ウェーハカセット移送時にウ
ェーハカセットを傾斜させることで移送過程でのウェー
ハカセットに対するウェーハのずれが発生するのを防止
し、ウェーハの破損等ウェーハのずれに起因する事故の
発生を防止する。更に、半導体製造装置内での一様クリ
ーンエアの流れを形成し、半導体製造装置内での清浄度
を向上させ、処理品質を向上させる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
一実施の形態を説明する。
【００２１】図１中、図９中で示したものと同一のもの
には同符号を付し、その説明を省略する。
【００２２】前記バッファ収納庫５に対峙した位置、前
記クリーンユニット２５の上方に予備カセット棚３０を
少なくともダミーウェーハが装填されたウェーハカセッ
トの数となる様、所要段所要列設ける。該予備カセット
棚３０はウェーハカセット１１を上向き姿勢で載置する
構造となっている。尚、予備カセット棚３０をダミーウ
ェーハ用のウェーハカセットの数以上設けることで、半
導体製造装置内でのウェーハカセット収納容量を増大さ
せることができる。
【００２３】前記カセット収納庫４の少なくとも前記ウ
ェーハ移載機１０がアクセスするカセット棚の列につい
てはウェーハカセットが水平姿勢で収納される。従っ
て、ウェーハ移載機１０がアクセスする以外のカセット
棚の列については、ウェーハのウェーハカセットに対す
るずれ修正の目的でウェーハカセットを上向き姿勢で収
納することも可能である。前記カセット移載機３はウェ
ーハカセットの姿勢を変更することなく移載が行える様
になっており、特に図示していないが鉛直軸心を中心に
水平面内で１８０°回転する機構も併せて具備してい
る。尚、上向き姿勢で収納したウェーハカセットは前記
カセット移載機３によるウェーハカセットの移変え過程
で水平姿勢に修正する。
【００２４】前記筐体１の側面にクリーンユニット３１
を設け、筐体１外部から吸引した外気を浄化した後、水
平方向のクリーンエア流れを形成する。
【００２５】図４〜図８に於いて上記カセット移載機３
のカセット授受ユニット２からカセット収納庫４、バッ
ファ収納庫５への移載動作について説明する。尚、カセ
ット収納庫４とバッファ収納庫５への移載動作は同様で
あるので以下はカセット収納庫４への移載動作について
説明する。
【００２６】前記カセット授受ユニット２にウェーハカ
セット１１が載置された状態ではウェーハカセット１１
は上向きである。前記カセットローダ１３を前記水平軸
心１５を中心に９０°回転させ、前記カセット受け１７
を前記カセット授受ユニット２の下方に進入させる（図
４（Ａ），図４（Ｂ））。更に、カセット受け１７をカ
セットローダ１３に対して前進させ（図５（Ａ））、次
にカセットローダ１３を上昇させる。
【００２７】前記カセットローダ１３の上昇で前記カセ
ット受け１７がウェーハカセット１１をカセット授受ユ
ニット２より持ち上げ載置し（図５（Ｂ））、更にカセ
ットローダ１３に対してカセット受け１７を後退させ、
ウェーハカセット１１をカセット移載プレート１６に密
着させる（図６（Ａ））。次にカセットローダ１３を９
０°以下の角度で回転し、前記ウェーハカセット１１を
水平面に対し、４５°以下の角度（装置内スペースの制
限で好ましくは、５°以下）で傾斜させた状態で前記カ
セット移載プレート１６で保持する（図６（Ｂ））。こ
こで、ウェーハカセット１１を傾斜させた状態としたの
は、ウェーハカセット１１に対してウェーハ１２がずれ
たり、脱落したりしない様にする為である。
【００２８】前記カセットローダ１３を上昇、水平方向
に移動させ、ウェーハカセット１１を移載すべきカセッ
ト棚に対峙させる（図７（Ａ））。カセットローダ１３
を更に回転させ、前記カセット移載プレート１６を水平
とする。該カセット移載プレート１６を前進させ、ウェ
ーハカセット１１をカセット棚の上に移動させ（図７
（Ｂ））、更にカセットローダ１３を降下させ、最後に
カセット移載プレート１６を後退させてウェーハカセッ
ト１１の移載を終了する（図８）。
【００２９】上記作業を繰返して前記カセット授受ユニ
ット２から、前記カセット収納庫４、前記バッファ収納
庫５へのウェーハカセット１１の移載を行う。又、カセ
ット収納庫４、バッファ収納庫５間のウェーハカセット
１１の移載については、ウェーハカセット１１の姿勢に
変更はないので、前記したカセットローダ１３の９０°
回転作動が省略される。尚、カセット収納庫４、バッフ
ァ収納庫５間の移載に於いてもウェーハのずれ防止の為
ウェーハカセット１１は傾斜させて行う。
【００３０】前記予備カセット棚３０に載置されたダミ
ーウェーハ用ウェーハカセット１１′をカセット収納庫
４に搬送する作動は上述したカセット授受ユニット２の
ウェーハカセット１１をカセット収納庫４、バッファ収
納庫５に搬送する作動と同様である。
【００３１】前記カセットローダ１３を前記水平軸心１
５を中心に９０°回転させ、前記カセット受け１７を前
記予備カセット棚３０の下方に進入させる（図４
（Ａ），図４（Ｂ））。更に、カセット受け１７をカセ
ットローダ１３に対して前進させ（図５（Ａ））、次に
カセットローダ１３を上昇させる。
【００３２】前記カセットローダ１３の上昇で前記カセ
ット受け１７がウェーハカセット１１′を予備カセット
棚３０より持ち上げ載置し（図５（Ｂ））、更にカセッ
トローダ１３に対してカセット受け１７を後退させ、ウ
ェーハカセット１１′をカセット移載プレート１６に密
着させる（図６（Ａ））。次にカセットローダ１３を９
０°以下の角度で回転し、前記ウェーハカセット１１′
を傾斜させた状態で前記カセット移載プレート１６で保
持する（図６（Ｂ））。ここで、ウェーハカセット１
１′を傾斜させた状態としたのは、ウェーハカセット１
１′に対してウェーハ１２がずれたり、脱落したりしな
い様にする為である。
【００３３】前記カセットローダ１３を上昇、水平方向
に移動させ、ウェーハカセット１１′を移載すべきカセ
ット棚に対峙させる（図７（Ａ））。カセットローダ１
３を更に回転させ、前記カセット移載プレート１６を水
平とする。該カセット移載プレート１６を前進させ、ウ
ェーハカセット１１′をカセット収納庫４のカセット棚
の上に移動させ（図７（Ｂ））、更にカセットローダ１
３を降下させ、最後にカセット移載プレート１６を後退
させてウェーハカセット１１′の移載を終了する（図
８）。
【００３４】前記反応炉７でのウェーハの処理が完了す
ると、前記ウェーハ移載機１０によりボート８からカセ
ット収納庫４のウェーハカセットに製品用のウェーハ、
モニタウェーハ、ダミーウェーハと区別されて移載装填
される。
【００３５】ウェーハ、モニタウェーハが装填されたウ
ェーハカセット１１はカセット移載機３によりカセット
収納庫４からカセット授受ユニット２へ搬送され、更に
図示しない外部搬送装置により半導体製造装置外に搬送
される。又、前記ダミーウェーハが装填されたウェーハ
カセット１１′はカセットローダ１３により上述した図
４〜図８の逆の作動により水平姿勢から上向き姿勢に変
換されて前記予備カセット棚３０に移載される。
【００３６】ウェーハ処理後ウェーハカセット１１′が
上向き姿勢で予備カセット棚３０に収納されることで、
ウェーハカセットに対するウェーハの位置が修正され
る。従って、ダミーウェーハが繰返し使用されてもウェ
ーハカセットに対する位置ずれは生じない。
【００３７】更に、ウェーハカセット１１′を予備カセ
ット棚３０に収納することで、カセット収納庫４、バッ
ファ収納庫５に余裕が生じ、半導体製造装置のウェーハ
カセット収納容量が増大する。尚、予備カセット棚３０
を設ける場所は、バッファ収納庫５に対峙する場所でな
くともカセット移載機３の搬送可能な範囲であればよ
い。更に又、カセット収納庫４、バッファ収納庫５の一
部がウェーハカセット１１を上向き姿勢で載置可能な構
造としてもよい。尚、カセット収納庫４、バッファ収納
庫５にカセット１１を上向き姿勢で移載するには、カセ
ット移載機１３を水平面上で１８０°回転させ、上記動
作を行う事で、移載可能である。
【００３８】次に、カセット収納庫４、バッファ収納庫
５内に収納されたウェーハカセット１１に於けるウェー
ハのずれ修正について説明する。ダミーウェーハを収納
したウェーハカセット等、前記予備カセット棚３０に載
置しない場合のウェーハカセットに対するウェーハのず
れ修正は、前記カセット移載機３により行う。
【００３９】カセット収納庫４、バッファ収納庫５に対
して前記カセット移載機３を動作させ、収納されたウェ
ーハカセット１１をカセット移載プレート１６に載置し
て取出し、ウェーハカセット１１を前記カセット受け１
７に密着させた後、前記カセットローダ１３を９０°回
転させ、ウェーハカセット１１を上向きにする。ウェー
ハカセットを上向きにする工程を加入することでウェー
ハカセット１１に対するウェーハのずれが修正される。
【００４０】その後カセットローダ１３を９０°逆回転
し、カセット移載プレート１６をカセット収納庫４、バ
ッファ収納庫５に対して前進させ、ウェーハカセット１
１を前記カセット収納庫４、バッファ収納庫５に戻す
（図６（Ａ）〜図７（Ｂ）参照）。
【００４１】前述した様に筐体１内の清浄度はウェーハ
処理に大きく影響するが、清浄度の向上は、筐体１内に
クリーンエアの一様流れを形成し、筐体１内にパーティ
クルの滞留を防止することが挙げられる。
【００４２】本実施の形態では前記カセット収納庫４、
前記ボート８を収納する処理空間３３と前記カセット授
受ユニット２、前記カセット移載機３、前記バッファ収
納庫５を収納する移載空間３４とを区画して前記処理空
間３３、移載空間３４内にそれぞれクリーンエアの一様
流れを形成すると共に前記処理空間３３、移載空間３４
とに区画することで前記処理空間３３への直接の外気の
流入を防止し、処理空間３３内の清浄度を一層向上させ
ている。
【００４３】図１、図２に於いて、クリーンエア流れに
ついて説明する。前記クリーンユニット３１により筐体
１の側方から吸引された空気は前記処理空間３３を水平
方向に横断するクリーンエア流れ３２となり、図示しな
いダクトより排気される。又、前記クリーンユニット６
はクリーンエアをバッファ収納庫５に対して水平方向に
送出し、該バッファ収納庫５を通過したクリーンエア流
れ３５は筐体１の前面側で下方に向い、前記クリーンユ
ニット２５により吸引され、更にカセット授受ユニット
２の下方に流れる。
【００４４】前記クリーンエア流れ３２はボート８に保
持されたウェーハに対して平行であり、又クリーンエア
流れ３５はバッファ収納庫５に収納されたウェーハ、予
備カセット棚３０に収納されたウェーハに対してそれぞ
れ平行である。従って、ウェーハによりクリーンエアの
流れが妨げられず、クリーンエアの滞留が生じないので
清浄度が保持される。
【００４５】上述した様に、装置内を流れるクリーンエ
ア流れを妨げない事が、清浄度保持の為要求されるの
で、従って図１に示される実施の形態に於いてのウェー
ハカセット１１の配置状態は、カセット収納庫４に於い
ては、少なくともウェーハ移載機１０がアクセスするカ
セット１１は、ウェーハ水平状態で置かれ、カセット収
納庫４の他のカセット内のウェーハはクリーンエア流れ
３２と平行であれば良く、アクセスの対象となっていな
いウェーハカセットは垂直姿勢の状態で配置される。
又、予備カセット棚３０に於いては、カセット１１′内
のウェーハはクリーンエア流れ３５と平行であれば良
く、従ってカセット１１′の様なウェーハが垂直状態で
配置される事になる。
【００４６】図３はクリーンユニット３６をバッファ収
納庫５、予備カセット棚３０の真上に配設したものであ
り、クリーンユニット３６により形成されるクリーンエ
ア流れは垂直流れとなり、バッファ収納庫５に収納され
たカセットのウェーハ、予備カセット棚３０に載置され
たウェーハカセット１１′のウェーハと平行になり、ウ
ェーハの周囲でクリーンエアの澱みがなくなる。
【００４７】上述したと同様、装置内を流れるクリーン
エア流れを妨げない事が、清浄度保持の為要求され、従
って図３に示される実施の形態に於いてのウェーハカセ
ットの配置状態は、カセット収納庫４、予備カセット棚
３０に関しては、図１と同様の状態でカセットは配置さ
れるが、バッファ収納庫５については、クリーンエア流
れとウェーハ面が平行であれば良く、従ってウェーハカ
セット１１は垂直姿勢で収納され、ウェーハ面は垂直と
なる。
【００４８】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、繰返し
使用されるダミーウェーハのウェーハカセットに対する
ずれを修正することができるので、ずれが累積すること
がなく、ウェーハの位置ずれに起因するウェーハ破損、
ボート転倒を防止でき、更に装置の停止を防止でき、稼
働率の向上を図ることができ、更にウェーハカセットの
収納スペースを増大させることができ、半導体製造装置
内の空間利用率を増大させることができ、更に又半導体
製造装置内にクリーンエアの一様流れが形成され、清浄
度が向上し、処理品質が向上する等の優れた効果を発揮
する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す概略側面図である。
【図２】同前実施の形態を示す概略背面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態を示す概略側面図であ
る。
【図４】（Ａ）（Ｂ）は本実施の形態に於けるウェーハ
カセットの搬送作動図である。
【図５】（Ａ）（Ｂ）は本実施の形態に於けるウェーハ
カセットの搬送作動図である。
【図６】（Ａ）（Ｂ）は本実施の形態に於けるウェーハ
カセットの搬送作動図である。
【図７】（Ａ）（Ｂ）は本実施の形態に於けるウェーハ
カセットの搬送作動図である。
【図８】本実施の形態に於けるウェーハカセットの搬送
作動図である。
【図９】従来例の概略側面図である。
【図１０】同前従来例の背面方向からの斜視図である。
【符号の説明】
２ カセット授受ユニット ３ カセット移載機 ４ カセット収納庫 ５ バッファ収納庫 ７ 反応炉 ８ ボート ９ ボートエレベータ １０ ウェーハ移載機 １１ ウェーハカセット １１′ ウェーハカセット １３ カセットローダ １６ カセット移載プレート １７ カセット受け ２５ クリーンユニット ３０ 予備カセット棚 ３１ クリーンユニット ３６ クリーンユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大場 重男 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国 際電気株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−99351（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−37165（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−236854（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−66267（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−157752（ＪＰ，Ａ)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 縦型反応炉と、該縦型反応炉に装入され
    ウェーハを保持するウェーハ保持具と、少なくとも１つ
    のウェーハカセットを収納する収納庫と、該収納庫と前
    記ウェーハ保持具間でウェーハの移載を水平姿勢で行う
    ウェーハ移載機と、外部とウェーハカセットの授受を行
    うカセット授受ユニットと、該カセット授受ユニットと
    前記収納庫間でウェーハカセットの搬送を行うカセット
    移載機とを有する半導体製造装置に於いて、前記収納庫
    に収納されているウェーハカセットの内少なくとも前記
    ウェーハ移載機の移載対象とされるウェーハカセットは
    水平姿勢で前記収納庫に収納され、前記ウェーハ移載機
    の移載対象としたウェーハカセットの載置部分と前記カ
    セット授受ユニット以外の場所に、ウェーハカセットを
    上向き姿勢で載置可能なカセット載置部を設けたことを
    特徴とする半導体製造装置。
  2. 【請求項２】 前記カセット載置部は、前記カセット授
    受ユニットの上方に設けられた請求項１の半導体製造装
    置。
  3. 【請求項３】 前記カセット載置部は、前記カセット移
    載機のウェーハカセット搬送可能な範囲内に設けられた
    請求項１の半導体製造装置。
  4. 【請求項４】 クリーンエア流れを形成するクリーンユ
    ニットを更に具備し、ウェーハカセットはウェーハがク
    リーンエア流れと平行となる様保持されている請求項１
    の半導体製造装置。
  5. 【請求項５】 カセット移載機がウェーハカセットの姿
    勢を変更可能なカセットローダを具備する請求項１又は
    請求項３の半導体製造装置。
  6. 【請求項６】 カセット移載機がウェーハカセットを傾
    斜させた状態で移載可能なカセットローダを具備する請
    求項１又は請求項３の半導体製造装置。
  7. 【請求項７】 前記収納庫の一部がウェーハカセットを
    上向き姿勢で載置可能なカセット載置部である請求項１
    の半導体製造装置。
  8. 【請求項８】 収納庫がカセット収納庫、該カセット収
    納庫の上方に設けられたバッファ収納庫から成り、該カ
    セット収納庫、バッファ収納庫の少なくとも一方の少な
    くとも一部がウェーハカセットを上向き姿勢で載置可能
    なカセット載置部である請求項１の半導体製造装置。
  9. 【請求項９】 前記収納庫がカセット収納庫、該カセッ
    ト収納庫の上方に設けられたバッファ収納庫から成り、
    該バッファ収納庫に対向して設けられ、該バッファ収納
    庫を通過するクリーンエア流れを形成するクリーンユニ
    ットと、前記クリーンエア流れの下流に位置し前記カセ
    ット授受ユニットの上方に設けられたカセット載置部と
    を有する請求項１の半導体製造装置。
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