JPH09115996A - カセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置 - Google Patents
カセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置Info
- Publication number
- JPH09115996A JPH09115996A JP26985195A JP26985195A JPH09115996A JP H09115996 A JPH09115996 A JP H09115996A JP 26985195 A JP26985195 A JP 26985195A JP 26985195 A JP26985195 A JP 26985195A JP H09115996 A JPH09115996 A JP H09115996A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cassette
- carrying
- substrates
- vertical direction
- Prior art date
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス基板に搬送中の振動が直接伝わるのを
防ぐとともに、天井から吹き出した清浄な空気が基板表
面に当たるようにすることができるカセットの搬送およ
び保管方法を提供する。 【解決手段】 ダウンフロー方式のクリーンルーム内で
基板にＴＦＴアレイを形成させる製造工程において、前
記基板を複数枚収納したカセット１を搬送および保管す
るとき、前記基板４を垂直方向に対して１０°から３０
°の範囲内で傾ける。
防ぐとともに、天井から吹き出した清浄な空気が基板表
面に当たるようにすることができるカセットの搬送およ
び保管方法を提供する。 【解決手段】 ダウンフロー方式のクリーンルーム内で
基板にＴＦＴアレイを形成させる製造工程において、前
記基板を複数枚収納したカセット１を搬送および保管す
るとき、前記基板４を垂直方向に対して１０°から３０
°の範囲内で傾ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカセットの搬送およ
び保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置に関する。
さらに詳しくは、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイを
形成させる基板を複数枚収納したカセットの運搬（搬
送）および保管方法並びに該方法に用いる搬送装置に関
する。
び保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置に関する。
さらに詳しくは、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイを
形成させる基板を複数枚収納したカセットの運搬（搬
送）および保管方法並びに該方法に用いる搬送装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、図４に示すように、複数枚の
基板、たとえばガラス基板５０を収納したカセット５１
は、移動台５２の上にガラス基板５０を垂直にして載置
するばあいと、図５に示すように、ガラス基板５０を水
平にして載置するばあいがある。そしてこれらの移動台
５２は、ガラス基板５０にＴＦＴアレイを形成させるた
めに、クリーンルーム内でエッチング工程や洗浄工程な
どの各処理工程間へカセットを搬送するのに用いられ
る。また基板は、処理待ち、評価待ち、またはプロセス
装置の故障時の待機などのために、カセット内に保管さ
れることもある。
基板、たとえばガラス基板５０を収納したカセット５１
は、移動台５２の上にガラス基板５０を垂直にして載置
するばあいと、図５に示すように、ガラス基板５０を水
平にして載置するばあいがある。そしてこれらの移動台
５２は、ガラス基板５０にＴＦＴアレイを形成させるた
めに、クリーンルーム内でエッチング工程や洗浄工程な
どの各処理工程間へカセットを搬送するのに用いられ
る。また基板は、処理待ち、評価待ち、またはプロセス
装置の故障時の待機などのために、カセット内に保管さ
れることもある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
基板を垂直に収納した状態で搬送したばあい、搬送時の
振動によりガラス基板が揺れ、カセットの基板収納溝と
ガラス基板とのあいだでコスレが発生し、異物が発生す
るとともに、ガラス基板に傷が付きやすい問題がある。
一方、ガラス基板を水平にした状態で搬送または保管し
たばあい、天井から吹き出した清浄な空気は、カセット
の上板または上部に収納してあるガラス基板で遮れ、下
方に流れにくくなる。またガラス基板を水平にしている
ため、ガラス基板の表面に異物が乗りやすくなる。その
結果、ガラス基板の表面をクリーンな状態に保つことが
難かしい。またガラス基板を水平にして置くと自重で基
板にたわみが発生し、基板上に形成してあるＴＦＴの形
成膜に歪みが発生する問題がある。
基板を垂直に収納した状態で搬送したばあい、搬送時の
振動によりガラス基板が揺れ、カセットの基板収納溝と
ガラス基板とのあいだでコスレが発生し、異物が発生す
るとともに、ガラス基板に傷が付きやすい問題がある。
一方、ガラス基板を水平にした状態で搬送または保管し
たばあい、天井から吹き出した清浄な空気は、カセット
の上板または上部に収納してあるガラス基板で遮れ、下
方に流れにくくなる。またガラス基板を水平にしている
ため、ガラス基板の表面に異物が乗りやすくなる。その
結果、ガラス基板の表面をクリーンな状態に保つことが
難かしい。またガラス基板を水平にして置くと自重で基
板にたわみが発生し、基板上に形成してあるＴＦＴの形
成膜に歪みが発生する問題がある。
【０００４】本発明は、叙上の事情に鑑み、ガラス基板
に搬送中の振動が直接伝わるのを防ぐとともに、天井か
ら吹き出した清浄な空気が基板表面に当たるようにする
ことができるカセットの搬送および保管方法ならびに該
方法に用いる搬送装置を提供することを目的とする。
に搬送中の振動が直接伝わるのを防ぐとともに、天井か
ら吹き出した清浄な空気が基板表面に当たるようにする
ことができるカセットの搬送および保管方法ならびに該
方法に用いる搬送装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のカセットの搬送
および保管方法は、ダウンフロー方式のクリーンルーム
内で基板にＴＦＴアレイを形成させる製造工程におい
て、前記基板を複数枚収納したカセットを搬送および保
管するとき、前記基板を垂直方向に対して１０°から３
０°の範囲内で傾けることを特徴としている。
および保管方法は、ダウンフロー方式のクリーンルーム
内で基板にＴＦＴアレイを形成させる製造工程におい
て、前記基板を複数枚収納したカセットを搬送および保
管するとき、前記基板を垂直方向に対して１０°から３
０°の範囲内で傾けることを特徴としている。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
のカセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用い
る搬送装置を説明する。
のカセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用い
る搬送装置を説明する。
【０００７】図１は本発明のカセットの搬送および保管
方法にかかわる搬送装置を示す斜視図、図２は図１にお
ける搬送装置の他の実施例を示す部分説明図、図３は図
１における搬送装置のさらに他の実施例を示す説明図で
ある。
方法にかかわる搬送装置を示す斜視図、図２は図１にお
ける搬送装置の他の実施例を示す部分説明図、図３は図
１における搬送装置のさらに他の実施例を示す説明図で
ある。
【０００８】図１に示すように、カセット１は、搬送装
置２によりＴＦＴアレイを形成するための製造工程の各
プロセス装置へ搬送される。カセット１は、その両側板
に形成した収納溝３に基板４が複数枚収納されており、
搬送装置２の傾斜凹部が形成された搬送台２ａ上で、基
板４が垂直方向（重心方向）に対して傾けられている。
この傾きは、搬送方向Ａのカセット１の軸心回りに１０
°から３０°にされている。傾きを１０°未満にする
と、搬送時の基板揺れが大きくなり、カセットとのコス
レが出て異物発生が増えるという不都合がある。一方、
傾きが３０°をこえると、天井から出ている清浄な空気
の通りが悪くなり、また搬送時の振動を基板がもろに受
けるし、それに加え基板のたわみも出てくるという不都
合がある。これにより、収納溝３に収納される基板４
は、搬送中の振動によるガタ付きが少なくなるため、基
板４のコスレが防止でき、異物などの発生が抑えられ
る。また天井から吹き出されるダウンフロー方式のクリ
ーンルーム内で清浄空気が垂直方向から各基板４の表面
に吹きつけられるとともに、基板が搬送方向に平行に傾
斜して並んでいるため、搬送中の向い風が基板４の表面
に沿って流れることから、基板４の表面の清浄が維持さ
れる。さらに基板４が傾けられているため、基板４の撓
みを少なくできる。前記搬送装置２としては、手動式運
搬台車または自動式運搬車であって、前記搬送台２ａを
支持する支柱５の途中にクッション用バネ６が取り付け
られている。これより、さらに搬送時の振動が基板４に
伝わらなくなる。
置２によりＴＦＴアレイを形成するための製造工程の各
プロセス装置へ搬送される。カセット１は、その両側板
に形成した収納溝３に基板４が複数枚収納されており、
搬送装置２の傾斜凹部が形成された搬送台２ａ上で、基
板４が垂直方向（重心方向）に対して傾けられている。
この傾きは、搬送方向Ａのカセット１の軸心回りに１０
°から３０°にされている。傾きを１０°未満にする
と、搬送時の基板揺れが大きくなり、カセットとのコス
レが出て異物発生が増えるという不都合がある。一方、
傾きが３０°をこえると、天井から出ている清浄な空気
の通りが悪くなり、また搬送時の振動を基板がもろに受
けるし、それに加え基板のたわみも出てくるという不都
合がある。これにより、収納溝３に収納される基板４
は、搬送中の振動によるガタ付きが少なくなるため、基
板４のコスレが防止でき、異物などの発生が抑えられ
る。また天井から吹き出されるダウンフロー方式のクリ
ーンルーム内で清浄空気が垂直方向から各基板４の表面
に吹きつけられるとともに、基板が搬送方向に平行に傾
斜して並んでいるため、搬送中の向い風が基板４の表面
に沿って流れることから、基板４の表面の清浄が維持さ
れる。さらに基板４が傾けられているため、基板４の撓
みを少なくできる。前記搬送装置２としては、手動式運
搬台車または自動式運搬車であって、前記搬送台２ａを
支持する支柱５の途中にクッション用バネ６が取り付け
られている。これより、さらに搬送時の振動が基板４に
伝わらなくなる。
【０００９】つぎに搬送装置の他の実施例を説明する。
図２に示すように、本実施例の搬送装置には、傾動機構
である回転ホーク１０が備え付けられている。この回転
ホーク１０は、回転部１１とカセット１の支持部１２と
から構成されており、カセット１を支持部１２に載せる
と、基板４が水平状態から垂直面に対して１０°から３
０°までの範囲内に傾けられる。また回転ホーク１０に
より、各プロセス装置に対するカセットの取り出しやカ
セットの搬入を行なうとき、カセット１を水平常態に戻
して行なうので、作業性もよくなる。
図２に示すように、本実施例の搬送装置には、傾動機構
である回転ホーク１０が備え付けられている。この回転
ホーク１０は、回転部１１とカセット１の支持部１２と
から構成されており、カセット１を支持部１２に載せる
と、基板４が水平状態から垂直面に対して１０°から３
０°までの範囲内に傾けられる。また回転ホーク１０に
より、各プロセス装置に対するカセットの取り出しやカ
セットの搬入を行なうとき、カセット１を水平常態に戻
して行なうので、作業性もよくなる。
【００１０】つぎに搬送装置のさらに他の実施例を説明
する。図３に示すように、本実施例の搬送装置２０は、
前記回転ホーク１０の回転方向を逆にした回転ホーク１
０ａをＸＹＺ軸の方向に動く搬送ロボット２１に取り付
けたものである。この搬送ロボット２１は、Ｘ軸方向と
Ｙ軸方向に動く移動テーブル２２、２３とＺ軸方向に動
く昇降機構２４とから構成されている。前記回転ホーク
１０ａにより傾けられたカセット１を搬送してきた搬送
ロボット２１は、カセット１を傾けたまま立体保管棚２
５へ保管することができる。この立体保管棚２５には、
基板４の傾きを保持する傾斜部（図示せず）と清浄空気
の導入窓２６が形成されている。なお立体保管棚２５に
代えて平面保管棚に保管してもよい。また前記回転ホー
ク１０、１０ａを支持する支持部材に前記クッション用
バネを取り付けることにより、さらに振動を吸収するこ
とができる。
する。図３に示すように、本実施例の搬送装置２０は、
前記回転ホーク１０の回転方向を逆にした回転ホーク１
０ａをＸＹＺ軸の方向に動く搬送ロボット２１に取り付
けたものである。この搬送ロボット２１は、Ｘ軸方向と
Ｙ軸方向に動く移動テーブル２２、２３とＺ軸方向に動
く昇降機構２４とから構成されている。前記回転ホーク
１０ａにより傾けられたカセット１を搬送してきた搬送
ロボット２１は、カセット１を傾けたまま立体保管棚２
５へ保管することができる。この立体保管棚２５には、
基板４の傾きを保持する傾斜部（図示せず）と清浄空気
の導入窓２６が形成されている。なお立体保管棚２５に
代えて平面保管棚に保管してもよい。また前記回転ホー
ク１０、１０ａを支持する支持部材に前記クッション用
バネを取り付けることにより、さらに振動を吸収するこ
とができる。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明では、基板
を収納しているカセットを垂直方向（垂直面）に対して
１０°から３０°傾けることによって、従来の垂直に基
板を立てたばあいに比べ、運搬時の振動による基板の揺
れを防ぎ、カセットとのコスレも防止できることで、コ
スレによる異物発生および基板への傷付けも少なくする
ことができる。
を収納しているカセットを垂直方向（垂直面）に対して
１０°から３０°傾けることによって、従来の垂直に基
板を立てたばあいに比べ、運搬時の振動による基板の揺
れを防ぎ、カセットとのコスレも防止できることで、コ
スレによる異物発生および基板への傷付けも少なくする
ことができる。
【００１２】また天井から吹き出している清浄な空気も
垂直のばあいとほぼ変わらずに基板の表面に当てること
ができるため、基板表面の清浄を維持することができ
る。
垂直のばあいとほぼ変わらずに基板の表面に当てること
ができるため、基板表面の清浄を維持することができ
る。
【００１３】さらに、従来用いられていた基板を水平に
しての搬送または保管に比べて、基板に生じる撓みにつ
いても少なくなり、ＴＦＴ形成膜に生じる歪みを軽減す
ることができ、断線や基板のワレを防止できる。
しての搬送または保管に比べて、基板に生じる撓みにつ
いても少なくなり、ＴＦＴ形成膜に生じる歪みを軽減す
ることができ、断線や基板のワレを防止できる。
【図１】本発明のカセットの搬送および保管方法にかか
わる搬送装置を示す斜視図である。
わる搬送装置を示す斜視図である。
【図２】図１における搬送装置の他の実施例を示す部分
説明図である。
説明図である。
【図３】図１における搬送装置のさらに他の実施例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】従来のカセット搬送の一例を示す斜視図であ
る。
る。
【図５】従来のカセット搬送の他の一例を示す斜視図で
ある。
ある。
１ カセット ２、２０ 搬送装置 ３ 収納溝 ４ 基板 １０、１０ａ 回転ホーク
Claims (6)
- 【請求項１】 ダウンフロー方式のクリーンルーム内で
基板にＴＦＴアレイを形成させる製造工程において、前
記基板を複数枚収納したカセットを搬送および保管する
とき、前記基板を垂直方向に対して１０°から３０°の
範囲内で傾けることを特徴とするカセットの搬送および
保管方法。 - 【請求項２】 前記基板の傾きは、カセットの搬送方向
の軸心回りである請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記カセットを載置し、移動可能にされ
た搬送台を支持する支柱の途中にクッション用バネが取
り付けられてなる請求項１または２記載の方法に用いる
搬送装置。 - 【請求項４】 前記カセットを傾動する傾動機構が取り
付けられてなる請求項１または２記載の方法に用いる搬
送装置。 - 【請求項５】 前記傾動機構がＸＹＺ軸の方向に動く搬
送ロボットに取り付けられてなる請求項４記載の搬送装
置。 - 【請求項６】 前記傾動機構の支持部材にクッション用
バネが取り付けられてなる請求項４または５記載の搬送
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26985195A JPH09115996A (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | カセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26985195A JPH09115996A (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | カセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09115996A true JPH09115996A (ja) | 1997-05-02 |
Family
ID=17478086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26985195A Pending JPH09115996A (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | カセットの搬送および保管方法ならびに該方法に用いる搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09115996A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100516781B1 (ko) * | 1998-02-05 | 2005-12-01 | 삼성전자주식회사 | 클린룸에서사용되는운반장치 |
| JP2006213216A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Daifuku Co Ltd | 搬送車 |
| KR100640105B1 (ko) * | 2001-04-19 | 2006-10-30 | 무라타 기카이 가부시키가이샤 | 무인운반차, 무인운반차시스템 및 웨이퍼운반방법 |
| JP2015032763A (ja) * | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 株式会社Sumco | ウェーハ運搬台車及びウェーハ運搬方法 |
-
1995
- 1995-10-18 JP JP26985195A patent/JPH09115996A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100516781B1 (ko) * | 1998-02-05 | 2005-12-01 | 삼성전자주식회사 | 클린룸에서사용되는운반장치 |
| KR100640105B1 (ko) * | 2001-04-19 | 2006-10-30 | 무라타 기카이 가부시키가이샤 | 무인운반차, 무인운반차시스템 및 웨이퍼운반방법 |
| JP2006213216A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Daifuku Co Ltd | 搬送車 |
| JP4538729B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2010-09-08 | 株式会社ダイフク | 搬送車 |
| JP2015032763A (ja) * | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 株式会社Sumco | ウェーハ運搬台車及びウェーハ運搬方法 |
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