JP3273694B2 - 処理装置及び処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、処理装置及び処理方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体装置の製造工程において
は、被処理体である半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤ
などの各種の処理を施す工程があり、この処理工程にお
けるスループットの向上、無塵化及び省スペース化等を
図る観点から、種々の処理装置が提案されている（特公
平４−２７１２１号公報、特開平４−１３３４２２号公
報、特開平４−１４８７１７号公報等参照）。

【０００３】例えば、特開平４−１４８７１７号公報に
記載されている処理装置は、箱状の処理室内に縦型の熱
処理炉を収容し、処理室の前部に複数枚の半導体ウエハ
を垂直に収容したキャリアを搬入搬出するための搬出入
口を設けている。この場合、キャリア内に垂直に収容さ
れている半導体ウエハを前記縦型の熱処理炉内に搬入搬
出する被処理体保持具であるウエハボートに水平状態で
移載する必要があることから、前記搬出入口の近傍には
キャリアを載置する載置台を有し、この載置台を介して
キャリアの姿勢を半導体ウエハが垂直から水平になるよ
うに変換する姿勢変換機構が設けられている。

【０００４】この姿勢変換機構は、載置台の下方に形成
した空きスペースに載置台を回動させてキャリアの姿勢
を変換するように構成されている。そして、この姿勢変
換機構により姿勢変換されたキャリアを搬送機構により
上方の収容部に処理に必要な個数だけ収容してから、こ
の収容部から熱処理炉側に順次搬送し、そのキャリア内
の半導体ウエハを移載機構により取り出して前記ウエハ
ボートに順次移載するようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな処理装置においては、載置台を下方に回動させてキ
ャリアを姿勢変換するようになっているため、載置台の
下方に載置台が回動できる十分な空きスペースを確保す
る必要があると共に、搬送機構側にも載置台の回動に伴
って所定の回動軌跡で張り出しながら移動するキャリア
との干渉を避けるための十分なスペースを確保する必要
がある。従って、省スペース化ひいては装置の小型化を
図る上である程度の限界があり、また、キャリアの移動
及び搬送距離が長い分だけ処理時間が多くかかり、スル
ープットすなわち処理効率の向上を図る上でもある程度
の限界があった。

【０００６】そこで、本発明の目的は、装置の小型化及
び処理効率の向上が図れる処理装置及び処理方法を提供
することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１記載の処理装置は、複数枚の被処理体が垂直
に収容されたキャリアの搬出入口を有し、前記被処理体
を熱処理する縦型の熱処理炉を収容した処理室と、この
処理室内の前記搬出入口近傍に設けられ、前記キャリア
を被処理体が垂直から水平になるように姿勢変換する姿
勢変換機構と、この姿勢変換機構の上方に設けられ、姿
勢変換された複数個のキャリアを収容する収容部と、こ
の収容部と前記姿勢変換機構及び前記熱処理炉側との間
でキャリアを搬送する搬送機構と、前記熱処理炉側に搬
送されたキャリアと熱処理炉に搬入搬出される被処理体
保持具との間で被処理体を移載する移載機構とを備え、
前記姿勢変換機構は前記キャリアを載置する載置台と、
この載置台に載置されたキャリアの側面領域内に設定さ
れた回転中心を支点として載置台を回動可能に支持する
支持部と、前記載置台を前記搬出入口側に垂直に立上が
るように前記回転中心を支点として回動させる駆動部
と、前記載置台に設けられ、姿勢変換された前記キャリ
アの下部を受ける受部とを有し 、 この受部が載置台の前
後方向に移動可能に設けられていることを特徴とする。

【０００８】前記載置台が、キャリアを平行に２個載置
可能な横長平板状に形成されており、前記載置台の両側
部の前記支持部が枠体の両側壁部に回動可能に支持され
ていることが好ましい（請求項２）。前記載置台には、
前記キャリア内に収容された円形で周縁部に切欠部を有
する複数枚の被処理体をキャリアの底部開口部から支持
して回転を与える一対の回転ローラと、該回転ローラの
両側に配設され、被処理体の切欠部が回転ローラ上に位
置した時に被処理体の周縁部に接触することにより切欠
部と回転ローラとの間に隙間を生じさせて被処理体の回
転を停止させる被処理体ガイドとを有し、被処理体の切
欠部を所定方向に整列させる整列機構が昇降可能に設け
られていることが好ましい（請求項３）。 前記回転ロー
ラ間には、櫛歯状で、その櫛歯の対向壁部に設けた投光
素子と受光素子により前記キャリア内の被処理体の有無
を検知する検知器が設けられていることが好ましい（請
求項４）。 前記載置台には、キャリアの後端部に当接し
て前記受部との間でキャリアをクランプするクランプ部
材が設けられていることが好ましい（請求項５）。

【０００９】請求項６記載の処理方法は、複数枚の被処
理体が垂直に収容されたキャリアを、縦型の熱処理炉を
収容した処理室の搬出入口から熱処理炉側に搬送処理す
るに際して、前記処理室内の搬出入口近傍で前記キャリ
アを載置台に載置し受部とクランプ部材との間でクラン
プする工程と、載置台と共にキャリアをその側面領域内
の回転中心回りに回動させて前記被処理体を垂直から水
平にする姿勢変換工程と、キャリアのクランプを解除す
る工程と、姿勢変換されたキャリアを前記搬出入口の上
方領域に設けられた収容部に搬送する搬送工程とを備え
たことを特徴とする。

【００１０】請求項７記載の処理方法は、複数枚の被処
理体が垂直に収容されたキャリアを、縦型の熱処理炉を
収容した処理室の搬出入口から熱処理炉側に搬送処理す
るに際して、前記処理室内の搬出入口近傍で前記キャリ
アを載置台に載置し受部とクランプ部材との間でクラン
プする工程と、載置台と共にキャリアをその側面領域内
の回転中心回りに回動させて前記被処理体を垂直から水
平にする姿勢変換工程と、前記キャリアのクランプを解
除する工程と、姿勢変換されたキャリアを前記熱処理炉
側に搬送する搬送工程とを備えたことを特徴とする。

【００１１】

【００１２】

【作用】請求項１記載の処理装置によれば、姿勢変換機
構によりキャリアをその側面領域内の回転中心回りに回
動されて、被処理体が垂直から水平になるように姿勢変
換されるため、キャリアを張り出し量の少ない最少半径
及び最少移動量の回転軌跡で迅速に姿勢変換することが
でき、装置の小型化及び処理効率の向上が図れる。特
に、前記載置台には姿勢変換された前記キャリアの下部
を受ける受部が載置台の前後方向に移動可能に設けられ
ているため、受部の後退移動によりキャリアの前端部を
位置決めすることができると共に、姿勢変換されたキャ
リアの下部を受部により支持することができる。

【００１３】請求項６または７記載の処理方法によれ
ば、キャリアを張り出し量の少ない最少半径及び最少移
動量の回転軌跡で迅速に姿勢変換して迅速に搬送するこ
とができるため、処理時間の短縮化及び処理効率の向上
が図れる。

【００１４】

【００１５】

【００１６】

【００１７】

【実施例】以下に、本発明の一実施例を添付図面に基づ
いて詳述する。

【００１８】処理装置の側断面図構成を示す図１におい
て、１は処理装置のハウジングを形成する例えば鉄板等
により箱状に形成された処理室であり、この処理室１内
の奥部上方には下部に炉口を有する円筒状の反応管、そ
の周囲を覆うように配置されたヒータ及び断熱材等から
なる縦型の熱処理炉２が設置されている。

【００１９】この熱処理炉２の下方の空間部（ローディ
ングエリア）には図２にも示すように炉口を開閉する蓋
体３が昇降機構４により昇降可能に設けられ、この蓋体
３上には被処理体である半導体ウエハＷを水平状態で上
下方向に所定の間隔を存して多数枚例えば１５０枚程度
保持する被処理体保持具である例えば石英製のウエハボ
ート５が保温筒６を介して載置されている。半導体ウエ
ハＷを保持したウエハボート５は、蓋体３の昇降に伴っ
て保温筒６と共に前記熱処理炉２内に搬入搬出（ロー
ド、アンロード）されるように構成されている。

【００２０】一方、前記処理室１の前部には半導体ウエ
ハＷを垂直に複数枚例えば２５枚程度収容するプラスチ
ック容器であるキャリア７を搬入搬出するために図示し
ない透明材質製のスライドドアを備えた搬出入口８が形
成され、処理室１内の搬出入口８近傍にはキャリア７を
キャリア７内の半導体ウエハＷが垂直から水平になるよ
うに姿勢変換する姿勢変換機構９が設けられている。こ
の姿勢変換機構９は、図３ないし図４に示すようにキャ
リア７を載置する載置台１０と、この載置台１０をキャ
リア７の側面領域内に設定された回転中心Ｘを支点とし
て回動可能に支持する支持部としてのスイングアーム１
１と、載置台１０を水平状態から前記搬出入口８側に垂
直状態に立上がるように前記回転中心Ｘを支点として回
動させる駆動部としてのエアシリンダ１２とを備えてい
る。

【００２１】実施例の載置台１０は、キャリア７を平行
に２個載置できる横長平板状に例えばステンレススチー
ルにより形成されており、載置台１０の両側部にスイン
グアーム１１が固定されている。載置台１０は上部が開
放された箱状の枠体１３の上部に配置され、スイングア
ーム１１が枠体１３の両側壁部１３ａに回転中心Ｘとな
る支軸１４と軸受１５を介して回動可能に支持されてい
る。また、前記枠体１３の一方の側壁部１３ａには支軸
１４を中心とする円弧状のスリット１６が形成され、一
方のスイングアーム１１にはそのスリット１６を通って
枠体１３外に延出されたクランクピン１７が突設されて
いる。そして、このクランクピン１７にエアシリンダ１
２が連結され、このエアシリンダ１２の駆動により載置
台１０が水平状態から搬出入口８側に立上がった垂直状
態に支軸１４を支点として往復回動されるように構成さ
れている。

【００２２】前記キャリア７は、図７に示すように上部
が開放されており、両側壁対向部には複数枚の円形の半
導体ウエハＷを垂直状態で平行に且つ回転可能に収容す
るための溝１８が形成され、底部には半導体ウエハＷの
配列方向である前後方向に連続した開口部１９が形成さ
れている。前記半導体ウエハＷの周縁部には整列用の切
欠部であるオリエンテーションフラット（以下、オリフ
ラ部ともいう。）２０が形成されており、半導体ウエハ
Ｗはそのオリフラ部２０が所定方向（実施例では下方）
に向くように後述の整列機構３４によって整列されるよ
うになっている。

【００２３】前記載置台１０の上面にはキャリア７の底
部両側部を位置決めするための位置決め部材２１が取付
けられ、載置台１０の搬出入口８側とは反対側の前縁部
には図５ないし図６に示すようにキャリア７の前端部７
ａを位置決めすると共に姿勢変換されたキャリア７の下
部（前端部７ａ）を受けるための受部２２が設けられて
いる。この受部２２は後述の搬送機構５１によるキャリ
ア７の支持を許容するために姿勢変換されたキャリア７
の下部両側部を支持するようになっており、載置台１０
の後縁部に沿って連続した前部クランプバー２３上に設
けられている。この前部クランプバー２３は、載置台１
０の下面両側に配設した一対のガイド２４及びガイドロ
ッド２５を介して載置台１０の前縁部から前後方向に移
動可能に設けられ、載置台１０の下面中央部には前部ク
ランプバー２３を前後方向に駆動するエアシリンダ２６
が設けられている。

【００２４】載置台１０上の後縁部にはキャリア７の後
端部に当接して前記受部２２との間でキャリア７を前後
からクランプするクランプ部材２７が各キャリアに対し
て２個ずつ載置台１０の貫通穴２８から延出して配置さ
れている。これらクランプ部材１７は載置台の下面にブ
ラケット２９を介して回動可能に支持された後部クラン
プバー３０上に設けられ、載置台１０の下面中央部には
この後部クランプバー３０を前後方向に回動するエアシ
リンダ３１が設けられている。

【００２５】また、載置台１０上の後縁部にはキャリア
７内における全ての半導体ウエハＷのオリフラ部２０が
下方に向いているか否か、すなわち整列しているか否か
を検知する光学式の整列確認センサ３２が設けられてい
る。また、前記載置台１０にはキャリア７の底部開口部
１９と対応する開口部３３が形成され、載置台１０の下
部にはその開口部３３から上方へ延出して半導体ウエハ
Ｗの整列を行う整列機構３４及び半導体ウエハＷを検知
する光学式の検知器（以下、ウエハセンサともいう。）
３５が昇降可能に設けられている。

【００２６】これら整列機構３４及びウエハセンサ３５
としては、例えば特開平４−３０５５４号公報に記載さ
れているような公知のものが適用可能である。すなわ
ち、整列機構３４は、図５ないし図７に示すように支持
枠３６上に前記オリフラ部２０の幅間隔で回転可能に設
けられ、半導体ウエハＷを支持する複数の環状溝３７ａ
を有する左右一対の回転ローラ３７と、これら回転ロー
ラ３７をベルト３８を介して同一方向に回転駆動するモ
ータ３９と、回転ローラ３７の両側に配設されたウエハ
ガイド（被処理体ガイド）４０とを備えている。

【００２７】前記支持枠３６は載置台１０の下面に設け
た基枠４１に昇降ガイド４２を介して昇降可能に支持さ
れ、基枠４１にはその支持枠３６を昇降させるエアシリ
ンダ４３が設けられている。この整列機構３４は、エア
シリンダ４３により上昇して回転ローラ３７で半導体ウ
エハＷを支持し、この半導体ウエハＷを回転させ、その
オリフラ部２０が回転ローラ３７上に位置して半導体ウ
エハＷの周縁部がウエハガイド４０と接触することによ
り、オリフラ部２０と回転ローラ３７との間に隙間が生
じて半導体ウエハＷの回転が止まり、これにより半導体
ウエハＷを整列させるように構成されている。

【００２８】前記回転ローラ３７間に前記ウエハセンサ
３５が設けられている。このウエハセンサ３５は、図８
に示すように櫛歯状に形成されており、その櫛歯の対向
壁部に設けた投光素子４４と受光素子４５により半導体
ウエハＷの有無を検知するように構成されている。前記
載置台１０の下部には載置台１０の下面に設けられた整
列機構３４等を覆うために支軸１４を中心とする曲面状
に例えばステンレススチールにより形成されたカバー４
６が取付けられ、このカバー４６及び載置台１０には載
置台１０の上方から下方へ流れるクリーンエアの気流を
通過させるための多数の通気孔４７，４８が形成されて
いる。

【００２９】そして、姿勢変換機構９の上方領域には姿
勢変換されたキャリア７を複数個収容する棚状の収容部
４９が設けられと共に、熱処理炉２側には前記キャリア
７を半導体ウエハＷの移載のために載置する移載部５０
が設けられ、収容部４９と移載部５０との間にはキャリ
ア７の搬送を行う搬送機構５１が、移載部５０とローデ
ィグエリアのウエハボート５との間には半導体ウエハＷ
の移載を行う移載機構５２がそれぞれ設けられている。

【００３０】本実施例の収容部４９は前記載置台１０の
前縁部と平行に走行可能に設けられた搬送機構５１の走
行空間部を挟んで前後に設けられ、前方の収容部４９Ａ
には左右及び上下に計１２個のキャリア７を、後方の収
容部４９Ｂには左右及び上下に計４個のキャリア７をそ
れぞれ収容保管できるように構成されている。また、本
実施例の移載部５０は前方の収容部４９Ａの下方に配置
され、キャリア７を上下に２個載置できるように構成さ
れている。

【００３１】前記搬送機構５１は、支柱５３を有する走
行部５４と、その支柱５３に昇降可能に設けられた昇降
フレーム５５と、この昇降フレーム５５に水平方向に屈
伸可能に設けられてキャリア７の下部を支持する搬送ア
ーム５６とを備えている。この搬送機構５１は、載置台
１０と収容部４９との間、収容部４９と移載部５０との
間、及び載置台１０と移載部５０との間でキャリア７の
受取り受渡しができるように構成されている。

【００３２】また、前記移載機構５２は、図１０に示す
ように昇降可能に設けられた昇降フレーム５７と、この
昇降フレーム５７上に水平回動可能に設けられた矩形の
回動フレーム５８と、この回動フレーム５８上にその長
手方向に沿って往復移動可能に設けられた移動体５９
と、この移動体５９の移動方向一端に設けられ、複数枚
例えば５枚程度の半導体ウエハＷを上下方向に適宜間隔
で支持する平板状の移載アーム６０とを備えている。こ
の移載機構５２は、処理前の半導体ウエハＷを移載部５
０のキャリア７内から順次取り出してウエハボート５に
移載し、また、処理後の半導体ウエハＷをウエハボート
５から順次取り出してキャリア７内に移載するように構
成されている。なお、前記移載機構５２における各移載
アーム６０の基部一側部には図１１に示すように移載ア
ーム６０上に支持された半導体ウエハＷの上下位置で対
峙する投光素子６１と受光素子６２からなるウエハセン
サ６３が設けられ、半導体ウエハＷの有無を検知できる
ようになっている。

【００３３】次に、実施例の作用及びキャリア７の搬送
処理方法について説明する。先ず、キャリア７を例えば
搬送ロボット等により処理装置の搬出入口８から姿勢変
換機構９の載置台１０上に２個ずつ載置する。そして、
この載置台１０上においてキャリア７内の半導体ウエハ
Ｗを整列機構３４により所定方向に整列させると共にウ
エハセンサ３５により半導体ウエハＷの有無及び枚数を
検知する。

【００３４】次いで、受部２２の後退移動によりキャリ
ア７を位置決めすると共にクランプ部材２７との間でキ
ャリア７をクランプし、エアシリンダ１２の駆動により
図９に示すように載置台１０と共にキャリア７をその側
面領域内の回転中心Ｘ位置の支軸１４を支点として９０
度回動させて半導体ウエハＷが垂直から水平になるよう
に姿勢変換する。この姿勢変換によりキャリア７が受部
２２に支持され、クランプ部材２７が後退してキャリア
７のクランプを解除する。このキャリア７を搬送機構５
１により収容部４９へ搬送し、以上の動作を繰り返して
所望個数のキャリア７を収容部４９に収容する。

【００３５】しかる後、順次収容部４９のキャリア７を
搬送機構５１により移載部５０に搬送し、移載機構５２
によりこのキャリア７内の半導体ウエハＷをローディン
グエリアに降ろされているウエハボート５に移載する。
この場合、空になったキャリア７は搬送機構５１により
順次収容部４９へ戻される。

【００３６】そして、所望枚数の半導体ウエハＷの移載
が終了すると、昇降機構４によりウエハボート５及び保
温筒６を熱処理炉２内に搬入すると共に炉口を蓋体３で
閉じ、所定時間、所定温度、所定雰囲気で所望の熱処理
を実施し、熱処理が終了すると、ウエハボート５を熱処
理炉２内からローディングエリアへ搬出する。なお、処
理後の半導体ウエハＷは冷却後、前記とは逆の手順で順
次ウエハボート５からキャリア７内に移載され、そのキ
ャリア７は収容部４９に搬送されて保管され、その後、
姿勢変換機構９の載置台１０を介して搬出入口８から処
理室１外へ搬出される。

【００３７】このようにキャリア７を処理室１内の搬出
入口８の近傍でキャリア７の側面領域内の回転中心Ｘ回
りに回動して姿勢変換するため、図９に示すようにキャ
リア７を張り出し量の少ない最少半径及び最少移動量の
回動軌跡で、しかも載置台１１０の上方のスペースを利
用して姿勢変換することができる。従って、キャリア７
の姿勢変換を迅速に行え、姿勢変換時のキャリア７と搬
送機構５１との干渉を避けるためのスペースＳを縮小で
きると共に、姿勢変換されたキャリア７を上方の収容部
４９に搬送する搬送距離及び搬送時間の短縮が図れ、装
置の小型化及び処理効率の向上が図れる。また、キャリ
ア７を載置した載置台１０が支持部であるスイングアー
ム１１によりキャリア７の側面領域内に設定した回転中
心Ｘ回りに回動可能に支持されて、搬出入口８側に垂直
に立上がるように駆動部であるエアシリンダ１２により
回動され、姿勢変換されたキャリア７の下部が受部２２
により支持されるため、キャリア７の姿勢変換を簡単な
構成で確実に行うことができる。

【００３８】そして、載置台１０にはキャリア７内の半
導体ウエハＷを所定方向に整列させる整列機構３４が設
けられているため、載置台１０を下方の空きスペースに
回動させてキャリアの姿勢変換を行うようし、空きスペ
ースの下方から昇降機構により整列機構を載置台上に昇
降させるようにした従来の処理装置と異なり、装置の小
型化が図れると共に、載置台１０の下方のスペースを例
えばコントローラの設置等に有効に利用することができ
る。更に、載置台１０にはキャリア７内の半導体ウエハ
Ｗを検知するウエハセンサ３５が設けられているため、
キャリア７内の半導体ウエハＷの有無及び枚数を検知す
ることができ、半導体ウエハＷの処理枚数等を容易に管
理することができる。

【００３９】なお、本発明は、前記実施例に限定される
ものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施
が可能である。例えば、整列機構３４としては、半導体
ウエハＷに形成されたオリフラ部２０ではなく、ノッチ
等の切欠部を整列させるものであってもよい。また、整
列機構３４及びウエハセンサ３５は必ずしも必要とされ
るものではなく、必要に応じて載置台１０に設ければよ
い。被処理体としては、半導体ウエハＷ以外に、例えば
ＬＣＤ基板等が適用可能である。

【００４０】前記実施例では一旦、姿勢変換機構９の載
置台１０から収容部４９にキャリア７を収容してから移
載部５０に搬送するようにしたが、半導体ウエハＷの移
載を平行して行うために前記収容部４９への搬送と平行
して適宜姿勢変換機構９の載置台１０から移載部５０に
直接キャリア７を搬送するようにしてもよい。

【００４１】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果が得られる。

【００４２】（１）請求項１記載の処理装置によれば、
姿勢変換機構によりキャリアをその側面領域内の回転中
心回りに回動されて、被処理体が垂直から水平になるよ
うに姿勢変換されるため、キャリアを張り出し量の少な
い最少半径及び最少移動量の回転軌跡で迅速に姿勢変換
することができ、装置の小型化及び処理効率の向上が図
れる。特に、前記載置台には姿勢変換された前記キャリ
アの下部を受ける受部が載置台の前後方向に移動可能に
設けられているため、受部の後退移動によりキャリアの
前端部を位置決めすることができると共に、姿勢変換さ
れたキャリアの下部を受部により支持することができ
る。

【００４３】（２）請求項６または７記載の処理方法に
よれば、キャリアを張り出し量の少ない最少半径及び最
少移動量の回転軌跡で迅速に姿勢変換して迅速に搬送す
ることができるため、処理時間の短縮化及び処理効率の
向上が図れる。

【００４４】

【００４５】

【００４６】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す処理装置の断面図であ
る。

【図２】同処理装置の処理室内の概略的構成を示す斜視
図である。

【図３】姿勢変換機構の側面図である。

【図４】同姿勢変換機構の正面図である。

【図５】同姿勢変換機構における載置台の平面図であ
る。

【図６】同載置台の側断面図である。

【図７】同載置台に設けられた整列機構及びウエハセン
サを示す断面図である。

【図８】ウエハセンサの部分的拡大側面図である。

【図９】姿勢変換された載置台の側面図である。

【図１０】移載機構の斜視図である。

【図１１】同移載機構に設けられたウエハセンサの構成
を示す側面図である。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） Ｘ 回転中心 １ 処理室 ２ 熱処理炉 ５ ウエハボート（被処理体保持具） ７ キャリア ８ 搬出入口 ９ 姿勢変換機構 １０ 載置台 １１ スイングアーム（支持部） １２ エアシリンダ（駆動部） ２２ 受部 ３４ 整列機構 ３５ ウエハセンサ（検知器） ４９ 収容部 ５１ 搬送機構 ５２ 移載機構

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊池 寿 岩手県江刺市岩谷堂字松長根52番地 東 京エレクトロン東北株式会社 東北事業 所内 (56)参考文献 特開 平５−90388（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−267432（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−338732（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−343495（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−343499（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−177224（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−117812（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−221159（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/68

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の被処理体が垂直に収容されたキ
   ャリアの搬出入口を有し、前記被処理体を熱処理する縦
   型の熱処理炉を収容した処理室と、この処理室内の前記
   搬出入口近傍に設けられ、前記キャリアを被処理体が垂
   直から水平になるように姿勢変換する姿勢変換機構と、
   この姿勢変換機構の上方に設けられ、姿勢変換された複
   数個のキャリアを収容する収容部と、この収容部と前記
   姿勢変換機構及び前記熱処理炉側との間でキャリアを搬
   送する搬送機構と、前記熱処理炉側に搬送されたキャリ
   アと熱処理炉に搬入搬出される被処理体保持具との間で
   被処理体を移載する移載機構とを備え、 前記姿勢変換機
   構は前記キャリアを載置する載置台と、この載置台に載
   置されたキャリアの側面領域内に設定された回転中心を
   支点として載置台を回動可能に支持する支持部と、前記
   載置台を前記搬出入口側に垂直に立上がるように前記回
   転中心を支点として回動させる駆動部と、前記載置台に
   設けられ、姿勢変換された前記キャリアの下部を受ける
   受部とを有し 、 この受部が載置台の前後方向に移動可能
   に設けられていることを特徴とする処理装置。
2. 【請求項２】 前記載置台が、キャリアを平行に２個載
   置可能な横長平板状に形成されており、前記載置台の両
   側部の前記支持部が枠体の両側壁部に回動可能に支持さ
   れていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
3. 【請求項３】 前記載置台には、前記キャリア内に収容
   された円形で周縁部に切欠部を有する複数枚の被処理体
   をキャリアの底部開口部から支持して回転を与える一対
   の回転ローラと、該回転ローラの両側に配設され、被処
   理体の切欠部が回転ローラ上に位置した時に被処理体の
   周縁部に接触することにより切欠部と回転ローラとの間
   に隙間を生じさせて被処理体の回転を停止させる被処理
   体ガイドとを有し、被処理体の切欠部を所定方向に整列
   させる整列機構が昇降可能に設けられていることを特徴
   とする請求項１記載の処理装置。
4. 【請求項４】 前記回転ローラ間には、櫛歯状で、その
   櫛歯の対向壁部に設けた投光素子と受光素子により前記
   キャリア内の被処理体の有無を検知する検知器が設けら
   れていることを特徴とする請求項３記載の処理装置。
5. 【請求項５】 前記載置台には、キャリアの後端部に当
   接して前記受部との 間でキャリアをクランプするクラン
   プ部材が設けられていることを特徴とする請求項１記載
   の処理装置。
6. 【請求項６】 複数枚の被処理体が垂直に収容されたキ
   ャリアを、縦型の熱処理炉を収容した処理室の搬出入口
   から熱処理炉側に搬送処理するに際して、前記処理室内
   の搬出入口近傍で前記キャリアを載置台に載置し受部と
   クランプ部材との間でクランプする工程と、載置台と共
   にキャリアをその側面領域内の回転中心回りに回動させ
   て前記被処理体を垂直から水平にする姿勢変換工程と、
   キャリアのクランプを解除する工程と、姿勢変換された
   キャリアを前記搬出入口の上方領域に設けられた収容部
   に搬送する搬送工程とを備えたことを特徴とする処理方
   法。
7. 【請求項７】 複数枚の被処理体が垂直に収容されたキ
   ャリアを、縦型の熱処理炉を収容した処理室の搬出入口
   から熱処理炉側に搬送処理するに際して、前記処理室内
   の搬出入口近傍で前記キャリアを載置台に載置し受部と
   クランプ部材との間でクランプする工程と、載置台と共
   にキャリアをその側面領域内の回転中心回りに回動させ
   て前記被処理体を垂直から水平にする姿勢変換工程と、
   前記キャリアのクランプを解除する工程と、姿勢変換さ
   れたキャリアを前記熱処理炉側に搬送する搬送工程とを
   備えたことを特徴とする処理方法。