KR100201746B1 - 세정 조성물 - Google Patents

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노기 사다오
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Abstract

본 발명은 용융지수가 0.01 내지 0.5인 폴레올레핀 수지 50 내지 95중량%, 아크릴계 공중합체 0.1 내지 15중량%, 유기 설폰산의 중성염 2 내지 30중량% 및 염기성 탄산 마그네슘, 수산화 마그네슘, 탄산칼륨, 탄산 아연 또는 이들중 둘 이상의 혼합물 0.1 내지 10중량%를 포함함을 특징으로 하는, 수지 성형기기용 세정 조성물을 제공한다.
본 발명의 조성물은 슈퍼-엔지니어링 플라스틱의 성형 온도인 약 400℃에서 이 플라스틱의 종류 변화시에 성형기기를 세정하기 위해 적합하다.

Description

세정 조성물
본 발명은 열가소성 수지의 가공/성형 기기에 사용하기 위한 세정 조성물에 관한 것이다.
플라스틱의 가공/성형 분야에 있어서, 많은 종류의 플라스틱을 각 종류마다 소량으로 제조하려는 경향이 있기 때문에, 종종 플라스틱 제조를 한 종류로부터 다른 종류로 변환시켜야 한다. 따라서, 품질관리의 관점에서, 플라스틱 종류의 변화시 성형 기기의 내부를 세정하는 것이 중요하다.
플라스틱의 가공/성형 단계에 있어서, 플라스틱 제조 변화시 선사용 수지의 영향을 제거시키기 위해 몇몇의 조치를 취한다. 실제로, 선사용 수지가 착색된 수지인 경우, 예를 들면, 청색 또는 검은색과 같은 짙은 색상을 갖는 선사용 품종을 백색과 같은 밝은 색상을 갖는 또다른 품종으로 변화시키는 경우, 세정 수지를 사용한 성형 기기 내부의 세정, 가공/성형 기기의 분해 및 세정과 같은 다루기 힘든 조작의 수행 및 제조의 중단이 필요하다. 예를 들면, 압출 입상화 단계에 있어서 착색된 생성물을 변화시키는 경우, 압출기를 중단시킨 후 압출기로부터 스크류를 떼어내고, 실린더 내부 및 스크류를 브러싱등과 같은 방법으로 세정한 후 스크류를 다시 압출기에 끼워넣는다. 선사용 종류의 수지를, 스크류를 떼어내지 않고 치환 수지로 대체시키는 방법에 있어서, 다량의 수지가 세정을 위해 필요하며 압출기내의 복잡한 구조의 부품상에 존재하는 오물은 제거될 수 없다. 따라서, 후속의 수지가 바람직하지 못하게 착색되는 문제가 수반된다. 이러한 문제점을 해결하기 위해서, 세정 화합물을 사용한다. 세정 화합물은 압출기내에 남아 있는 물질을 용이하게 제거하기 위해, 또한 이로 인해 소량의 치환 수지를 사용함으로써 품종 변화를 완결시키기 위해 사용한다. 세정 화합물은 스테아르산과 같은 윤활제를 함유하는 세정 화합물 및 경성을 갖는 아크릴계 수지를 함유하는 세정 화합물로 분류할 수 있다. 그러나, 전자의 화합물은 세정 효과면에서 열등하다. 후자의 화합물은 강한 냄새를 방출하고, 이것은 또한 반-용융 상태로 사용되기 때문에 하중이 증가되며, 따라서 다이(die), 절단판(breaker plate), 와이어 네트(wire net)등을 분해한 후에야 세정 화합물을 사용할 수 있는데 이러한 사실은 복잡한 조작문제가 해결되지 못한 채로 남아 있게 됨을 의미한다.
예를 들면, 일본국 특허 공개 공보 제62-195045호에는 열가소성 수지, 나트륨 알킬벤젠설포네이트 및 발수성 화합물을 포함하는 조성물이 기술되어 있으며, 일본국 특허 공개 공보 제63-66245호에는 열가소성 수지, 설폰산 중성 염 및 입자 직경이 0.05 내지 10㎛인 무기 화합물 분말을 포함하는 세정 조성물이 기술되어 있다. 또한, 상기 기술이 조합된 방법이 미합중국 특허 제4,838,945호에 기술되어 있다. 또한 미합중국 특허 제4,838,948호에는 폴리에틸렌, 탄산칼슘 및 설폰산 염 활성화제를 사용함으로써 수지 가공 장치를 세정하는 방법이 기술되어 있다.
그러나, 이러한 기술은 성형 온도가 약 300℃이하인 소위 일반용의 플라스틱에 적합하다. 최근 몇년동안, 엔지니어링 플라스틱(engineering pla stic) 및 슈퍼 엔지니어링 플라스틱(superengineering plastic)이 생산되어져 왔는데, 이들 대부분의 경우에 성형 온도가 300℃이상이며, 극단적인 경우에는 400℃를 초과한다. 이러한 온도 범위는 일반용의 플라스틱의 온도범위와는 현저하게 다르다.
이처럼 높은 온도에서는, 통상의 세정 화합물은 용융시에 점탄성을 유지할 수 없으며, 따라서 점성이 저하된다. 이러한 이유로 인해서, 통상의 세정 화합물은 고온에서 사용 불가능하다.
전술한 바와 같이, 지금까지 슈퍼-엔지니어링 플라스틱을 성형시키는 단계에 있어서, 이의 색상 변화 및 물질 변화를 위한 세정 조성물이 제안된 바 없다. 따라서, 슈퍼-엔지니어링 플라스틱 성형시, 약 300℃(이 온도는 성형온도 400℃로부터 점차적으로 강하시킨 온도이다)에서 폴리카보네이트 수지(유리 섬유 함유)를 사용함으로써 플라스틱을 제거한다. 따라서, 수지의 일부가 손실되며 성형기기의 스크류가 유리 섬유에 의해 손상되는 경향이 있다. 또한, 후속 성형 단계에서 슈퍼-엔지니어링 플라스틱의 온도를 성형 온도로 다시 상승시켜야 하며, 이는 온도를 상승 및 하강시키는 복잡한 조작 및 오랜시간을 필요로 한다. 게다가, 세정 효과 또한 열등하다.
따라서 용융시에 400℃와 같은 고온, 즉, 엠플라(Empla) 또는 슈퍼-엠플라의 성형 온도에서 조차도 점탄성을 충분히 유지시키고 세정 효과를 나타낼 수 있는 세정 조성물이 요구된다.
본 발명의 목적은 슈퍼-엔지니어링 플라스틱(이의 성형 온도는 400 ℃이다)의 색상 변화 및 물질 변화 단계에서 고온에서 현저한 세정 효과를 나타낼 수 있는 성형기기용 세정 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 특정의 폴리올레핀 수지, 에틸렌-에틸아크릴레이트 공중합체, 나트륨 도데실벤젠설포네이트 및 염기성 탄산 마그네슘을 포함하는 조성물이 고온에서 탁월한 세정 효과를 나타낼 수 있음을 밝혀내고, 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 세정조성물은 용융 지수가 0.01 내지 0.5인 폴리올레핀 수지 50 내지 95중량%, 에틸렌-아크릴계 공중합체 0.1 내지 15중량%, 유기 설폰산의 중성염 2 내지 30중량% 및 염기성 탄산 마그네슘, 수산화마그네슘, 탄산 칼륨, 탄산 아연 또는 이들중 2개 이상의 혼합물 0.1 내지 10중량 %를 포함함을 특징으로 한다.
본 발명의 세정 조성물에 사용될 수 있는, 용융 지수(JIS K-6760)가 0.01 내지 0.5인 폴리올레판 수지는 바람직하게는, 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌으로 이루어진 그룹으로 부터 선택된 하나의 화합물 또는 이로부터 선택된 2개 이상의 화합물의 혼합물이다. 사용되는 폴리올레핀 수지의 양은 조성물을 기준으로 하여 50 내지 95중량%이다. 폴리올레핀 수지의 양이 50중량%미만인 경우, 세정 조성물이 점도가 너무 낮아서 세정 효과를 발휘할 수 없다. 또한, 폴리올레핀 수지의 양이 95중량%를 초과하는 경우, 기타 성분의 양이 감소함으로써 세정 조성물의 세정 효과가 바람직하지 못하게 저하된다.
본 발명에 사용될 수 있는 에틸렌-아크릴계 공중합체는 예를 들면, 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-에틸 아크릴레이트 공중합체 및 에틸렌-메틸 아크릴레이트 공중합체를 포함한다. 이들은 에틸렌과 메틸 메타크릴레이트, 에틸렌과 에틸 아크릴레이트, 또는 에틸렌과 메틸 아크릴레이트로 부터 고압 라디칼 중합에 의해 합성될 수 있다. 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체로서, 스미토모 케미칼 캄파니, 리미티드(Sumitomo Chem ical Co., Ltd) 제품인 상표명 아크리프트(Acryft)를 시판품으로서 구입할 수 있고, 에틸렌-에틸 아크릴레이트 공중합체로서, 닛뽄 유니카 캄파니, 리미티드(Nippon Unicar Co., Ltd.) 제품인 상표명 NUC 공중합체를 시판품으로서 구입할 수 있다. 사용되는 에틸렌-아크릴계 공중합체의 양은 조성물을 기준으로 하여 0.1 내지 15중량%이다. 에틸렌-아크릴계 공중합체의 양이 0.1중량%미만인 경우, 성형기기내에 부착된 오물인 선사용된 수지를 제거하기가 어렵고, 상기 공중합체의 양이 15중량%를 초과하는 경우, 성형된 제품의 표면에 바람직하지 않게 돌기가 형성된다.
본 발명의 세정 조성물에 사용될 수 있는 설폰산의 중성 염은 탄소수 10 내지 18의 알킬벤젠설폰산의 나트륨염, 칼슘염 또는 마그네슘염 또는 탄소수 10 내지 18의 알킬메틸타우르산의 나트륨염이다. 이들은 단독으로 또는 혼합물 형태로 사용될 수 있다.
설폰산의 중성 염의 양은 조성물을 기준으로 하여 2 내지 30중량%이다.
설폰산의 중성 염의 양이 2중량%미만인 경우, 세정력이 작고, 30중량%를 초과하는 경우, 제조된 세정 조성물의 용융시의 유동능이 너무 커서, 성형기기내에 부착된 선사용 수지를 제거하기 어렵고 세정능이 바람직하지 않게 저하된다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 염기성 탄산마그네슘, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 탄산아연 또는 이들중 2개 이상의 혼합물은 조성물을 기준으로 하여 0.1 내지 10중량%의 양으로 사용된다. 상기 물질의 양이 0.1중량%미만인 경우, 제조된 세정 조성물의 세정 효과가 열등하고, 10중량%를 초과하는 경우, 세정 조성물로 성형기기를 세정한 후에 수지를 성형하면 성형된 제품이 세정 조성물의 영향하에서 바람직하지 않게 혼탁해진다.
본 발명의 세정조성물에 몇몇 첨가제를 가할 수 있으며, 첨가제의 예를 들면, 금속성 비누, 예를 들면, 염기성 마그네슘 스테아레이트, 마그네슘 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트, 또는 아연 스테아레이트; 열 안정화제, 예를 들면, 비스페놀 A 또는 디부틸틴 말레에이트; 및 계면활성제, 예를 들면, 알킬 에테르 나트륨 설페이트, α-올레핀 나트륨 설포네이트 및 에탄올아민 알킬벤젠설포네이트가 포함된다.
또한, 본 발명의 세정 조성물은, 경우에 따라, 발수성 화합물, 예를 들면, 폴리에틸렌 왁스 또는 폴리프로필렌 왁스와 같은 왁스, 실리콘 또는 고급 지방산의 왁스 또는 금속염(예: 칼슘 스테아레이트 또는 마그네슘 스테아레이트)을 함유할 수 있다.
본 발명의 세정 조성물이 사용되는 경우, 성형 온도가 약 400℃로서 매우 높은 슈퍼-엔지니어링 플라스틱의 색상 변화 및 물질 변화는, 세정 조성물을 소량 사용함으로써 동일한 성형 온도에서 현저히 우수한 세정 효과로 성취될 수 있다.
예를 들면, 본 발명의 세정 조성물을 사용하여 폴리에테르이미드 수지의 색상 변화를 수행할 경우, 세정 및 제거에 필요한 시간은 폴리카보네이트 수지(유리 섬유 함유)가 사용되는 경우에 소모되는 시간의 약 1/8로 단축될 수 있다.
[실시예]
이제, 본 발명의 세정 조성물은 하기 실시예를 참조로 하여 기술되어 있으나, 이로써 본 발명을 제한하려함은 아니다.
[실시예 1]
20ℓ 헨쉘 혼합기(Henschel mixer)(상표명)에 용융 유동지수(JIS K67 60)가 0.06인 고밀도 폴리에틸렌 7.5㎏, 에틸렌-에틸 아크릴레이트 공중합체(닛뽄 유니카 캄파니, 리미티드(Nippon Unicar Co., Ltd.)가 NUC 공중합체 DPDJ-6182라는 상표명하에 시판) 1.0㎏, 나트륨 도데실 벤젠설포네이트 0.70㎏, 염기성 탄산마그네슘 0.70㎏, 마그네슘 스테아레이트 0.05㎏ 및 폴리에틸렌 왁스(수평균 분자량=1500) 0.05㎏을 도입시킨 후, 이를 500rpm의 회전 속도로 3분동안 교반하여 혼합시킨다.
이어서, 혼합물을 용융시키고 니딩(Kneading)시킨 후, 200℃의 실린더 온도 및 210℃의 다이 온도에서 압출시킨 후 이를 수탱크에서 냉각시킨다. 이어서, 냉각시킨 혼합물을 펠릿화기(Pelletizer)로 절단하여 제정조성물을 수득한다.
이렇게 하여 수득한 세정 조성물에 대해 하기 세정 시험을 수행한다.
400℃이 실린더 온도, 410℃이 다이온도 및 100중량톤의 체부력(Cla mping force)을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리에테르이미드 수지(약자로 PEI)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정수지 600g을 사용하여 선사용 수지를 제거하여 사출 성형 기기를 세정한다. 제거/세정을 위해 필요한 시간은 10분이다.
[실시예 2]
실시예1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6758)가 0.3인 폴리프로필렌 7.70㎏, 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체(쓰미토모 케미칼 캄파니, 리미티드에 의해 WD-301이라는 상표명으로 시판) 0.80㎏, 나트륨 도데실벤젠설포네이트 0.70㎏, 수산화마그네슘 0.60㎏, 염기성 마그네슘 스테아레이트 0.10㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.10㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다. 이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
400℃의 실린더 온도, 410℃의 다이온도 및 150중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 액정 중합체(약자로 LCP)(흑색)(상표명: 닛세키 자이더(Nisseki Zaider RCZ10 G430)로 오염시키고, 상기-언급한 세정 조성물 1000g을 사용해서 선사용 수지를 제거하여 사출 성형 기기를 세정한다. 제거/세정을 위해 필요한 시간은 12분이다.
[실시예 3]
실시예1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6760)가 0.03인 고밀도 폴리에틸렌 7.50㎏, 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체(쓰미토모 케미칼 컴파니, 리미티드에 의해 아크리프트(Acrift) WD-201이라는 상표명으로 시판) 1.00㎏, 나트륨 도데실벤젠설포네이트 0.80㎏, 염기성 탄산마그네슘 0.50㎏, 마그네슘 스테아레이트 0.10㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.10㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다. 이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
410℃의 실린더 온도, 420℃의 다이온도 및 50중량톤의 체부력을 갖는 사출 성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리에테르 에테르 케톤 수지(약자로 PEEK)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정수지 400g을 사용해서 선사용 수지를 제거하여 사출 성형 기기를 세정한다. 제거/세정을 위해 필요한 시간은 10분이다.
[실시예 4]
실시예 1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6758)가 0.05인 폴리프로필렌 7.50㎏, 에틸렌-에틸 메타크릴레이트 공중합체(닛뽄 유니카 캄파니, 리미티드에 의해 NUC 공중합체, NUC-6220란 상표명으로 시판) 0.08㎏, 나트륨 도데실벤젠설포네이트 0.60㎏, 염기성 탄산마그네슘 1.00㎏, 염기성 마그네슘 스테아레이트 0.05㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.05㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다. 이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
350℃의 실린더 온도, 360℃의 다이온도 및 100중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리에트르 설폰 수지(약자로 PES)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정수지 500g을 사용해서 선사용 수지를 제거해서 사출 성형 기기를 세정한다. 제거/세정을 위해 필요한 시간은 9분이다.
[실시예 5]
실시예 1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6760)가 0.1인 저밀도 폴리에틸렌 8.50㎏, 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체(쓰미토모 케미칼 캄파니, 리미티드에 의해 아크리프트(Acrift) WD-302이라는 상표명으로 시판) 0.50㎏, 마그네슘 도데실벤젠설포네이트 0.30㎏, 수산화마그네슘 0.50㎏, 마그네슘 스테아레이트 0.10㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.10㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다. 이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
330℃의 실린더 온도, 350℃의 다이(die)온도 및 50중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기계의 내부를 선사용 수지인 폴리에테르 설폰 수지(약자로 PPS)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정수지 510g을 사용하여 선사용 수지를 제거해서 사출 성형 기기를 세정한다. 제거/세정을 위해 필요한 시간은 8분이다.
[실시예 6]
실시예1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6760)가 0.3인 저밀도 폴리에틸렌 7.50㎏, 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체(쓰미토모 케미칼 캄파니, 리미티드에 의해 아크리프트(Acrift) WD-303이라는 상표면으로 시판) 1.00㎏, 마그네슘 도데실벤젠설포네이트 0.80㎏, 염기성 탄산마그네슘 0.50㎏, 염기성 마그네슘 스테아레이트 0.10㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.10㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다. 이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
350℃의 실린더 온도, 370℃의 다이온도 및 100중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리설폰 수지(약자로 PSF)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정수지 450g을 사용하여 선사용 수지를 제거해서 사출 성형 기기를 세정한다. 제거/세정을 위해 필요한 시간은 9분이다.
[비교 실시예 1]
실시예1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6760)가 0.6인 고밀도 폴리에틸렌 8.5㎏, 나트륨 도데실벤젠설포네이트 0.87㎏, 염기성 탄산마그네슘 0.50㎏, 마그네슘 스테아레이트 0.10㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.10㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다. 이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
410℃의 실린더 온도, 420℃의 다이온도 및 50중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리에테르 에테르 케톤 수지(약자로 PEEK)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정조성물 400g을 사용한다.
세정 조성물은 상기-언급한 조건의 높은 온도 때문에 용융 점탄성을 유지할 수 없어, 점도가 저하되고 성형 기기의 내부를 세정할 수 없게 된다.
[비교실시예 2]
410℃의 실린더 온도, 420℃의 다이온도 및 50중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리에테르 에테르 케톤 수지(약자로 PEEK)(흑색)로 오염시킨다. 그 후에, 온도를 약 300℃까지 낮추고, 온도를 더 낮추면서, 유리 섬유를 함유하는 충분히 건조된 폴리카보네이트 수지를 사용하여 선사용 수지를 제거하고 성형 기기를 세정한다. 상기-언급한 강하된 온도에서 선사용 수지를 제거하기 위해 필요한 폴리카보네이트 수지의 양은 10㎏이다. 또한, 이러한 조작을 위해 필요한 시간은 80분이다.
[비교실시예 3]
주성분으로 아크릴계 수지를 함유하는 시판용으로 구입가능한 세정제(스위스킹罐캄파니, 리미티드(Swiss Romatine Co., Ltd.)에서 상표명 로틸라이트(Rotilite)로 시판)에 대하여 비교 실시예1과 동일한 방법으로 세정시험을 수행한다. 결과에 따르면, 이 세정제가 상기 언급한 조건의 높은 온도 때문에 용융 점탄성을 유지할 수 없어, 점도가 저하되고 성형기기의 내부를 세정할 수 없게 된다.
[비교실시예 4]
실시예1과 동일한 과정에 따라서, 용융유동 지수(JIS K6760)가 0.03인 고밀도 폴리에틸렌 7.50㎏, 폴리메틸 메타크릴레이트 1.00㎏, 나트륨 도데실벤젠설포네이트 0.80㎏, 염기성 탄산마그네슘 0.50㎏, 마그네슘 스테아레이트 0.10㎏ 및 폴리에틸렌 왁스 0.10㎏으로부터 세정 조성물을 수득한다.
이 세정 조성물에 대하여, 하기와 같은 세정 시험을 수행한다.
400℃의 실린더 온도, 410℃의 다이온도 및 50중량톤의 체부력을 갖는 사출성형 기기의 내부를 선사용 수지인 폴리에테르이미드 수지(약자로 PEI)(흑색)로 오염시키고, 상기-언급한 세정조성물 500g을 사용한다. 결과에 따르면, 이 세정 조성물은 상기 언급한 조건의 높은 온도 때문에 용융 점탄성을 유지할 수 없어, 점도가 저하되고 성형기기의 내부를 세정할 수 없게 된다.
실시예1 내지 6 및 비교실시예1 내지 4에서 사용된 세정 조성물 및 이의 사용 결과를 표1에 나타낸다.
.

Claims (3)

  1. 용융지수가 0.01 내지 0.5인 폴레올레핀 수지 50 내지 95중량%, 에틸렌-아크릴계 공중합체 0.1 내지 15중량%, 유기설폰산의 중성염 2 내지 30중량% 및 염기성 탄산 마그네슘, 수산화 마그네슘, 탄산칼륨, 탄산 아연 또는 이들중 둘 이상의 혼합물 0.1 내지 10중량%를 포함함을 특징으로 하는, 수지 성형기기용 세정 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 폴레올레핀 수지가 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 중에서 선택된 하나의 화합물 또는 이러부터 선택된 둘 이상의 화합물의 혼합물인 세정 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 설폰산의 중성염이 탄소수 10 내지 18의 알킬 그룹을 지니는 알킬벤젠설폰산의 나트륨염, 칼슘염 또는 마그네슘염인 세정 조성물.
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