JPWO2023002555A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023002555A5
JPWO2023002555A5 JP2021572954A JP2021572954A JPWO2023002555A5 JP WO2023002555 A5 JPWO2023002555 A5 JP WO2023002555A5 JP 2021572954 A JP2021572954 A JP 2021572954A JP 2021572954 A JP2021572954 A JP 2021572954A JP WO2023002555 A5 JPWO2023002555 A5 JP WO2023002555A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
openings
photomask
film
irradiated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021572954A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023002555A1 (https=
JP7111916B1 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2021/027082 external-priority patent/WO2023002555A1/ja
Priority to JP2022096305A priority Critical patent/JP7255000B2/ja
Priority to JP2022096264A priority patent/JP7819043B2/ja
Priority to JP2022096303A priority patent/JP7382453B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7111916B1 publication Critical patent/JP7111916B1/ja
Publication of JPWO2023002555A1 publication Critical patent/JPWO2023002555A1/ja
Publication of JPWO2023002555A5 publication Critical patent/JPWO2023002555A5/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2021572954A 2021-07-20 2021-07-20 再転写方法及びリフト方法 Active JP7111916B1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022096305A JP7255000B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 不良箇所の除去方法、リフト方法、フォトマスク及びリフトシステム
JP2022096264A JP7819043B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 リフト方法、再転写方法及びディスプレイの製造方法
JP2022096303A JP7382453B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 不良箇所の除去方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2021/027082 WO2023002555A1 (ja) 2021-07-20 2021-07-20 走査型縮小投影光学系及びこれを用いたレーザ加工装置

Related Child Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022096264A Division JP7819043B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 リフト方法、再転写方法及びディスプレイの製造方法
JP2022096305A Division JP7255000B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 不良箇所の除去方法、リフト方法、フォトマスク及びリフトシステム
JP2022096303A Division JP7382453B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 不良箇所の除去方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP7111916B1 JP7111916B1 (ja) 2022-08-02
JPWO2023002555A1 JPWO2023002555A1 (https=) 2023-01-26
JPWO2023002555A5 true JPWO2023002555A5 (https=) 2023-06-27

Family

ID=82693730

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021572954A Active JP7111916B1 (ja) 2021-07-20 2021-07-20 再転写方法及びリフト方法
JP2022096303A Active JP7382453B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 不良箇所の除去方法
JP2022096264A Active JP7819043B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 リフト方法、再転写方法及びディスプレイの製造方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022096303A Active JP7382453B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 不良箇所の除去方法
JP2022096264A Active JP7819043B2 (ja) 2021-07-20 2022-06-15 リフト方法、再転写方法及びディスプレイの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20240246172A1 (https=)
EP (1) EP4375002A4 (https=)
JP (3) JP7111916B1 (https=)
KR (1) KR20240031297A (https=)
CN (1) CN117677888A (https=)
WO (1) WO2023002555A1 (https=)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024040759A (ja) * 2022-09-13 2024-03-26 デクセリアルズ株式会社 個片フィルムの製造方法及び個片フィルム、並びに表示装置の製造方法及び表示装置
JPWO2024142328A1 (https=) 2022-12-27 2024-07-04
WO2024157426A1 (ja) * 2023-01-26 2024-08-02 信越エンジニアリング株式会社 移送方法
WO2024218918A1 (ja) * 2023-04-19 2024-10-24 信越エンジニアリング株式会社 レーザ照射装置、レーザ加工装置、レーザ加工方法、レーザ露光装置、レーザ露光方法、マスクの設置方法、レーザ加工装置の設置方法、レーザ露光装置の設置方法、マスク及びレーザ照射システム
JP2026043509A (ja) * 2024-08-28 2026-03-12 沖電気工業株式会社 レンズユニット、受光装置及び読取装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5279678A (en) * 1975-12-26 1977-07-04 Fujitsu Ltd Repairing method for semiconductor memory elements
JPH10166173A (ja) * 1996-12-09 1998-06-23 Canon Inc レーザ加工機
US6633376B1 (en) * 1998-08-10 2003-10-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for inspecting a printed circuit board
US7744770B2 (en) 2004-06-23 2010-06-29 Sony Corporation Device transfer method
JP2006309994A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Sony Corp 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法
JP2008110384A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 多孔質樹脂膜とその穿孔方法、その樹脂膜を用いた異方性導電シート、電気検査方法及び回路接続方法
JP4955425B2 (ja) * 2007-03-08 2012-06-20 オリンパス株式会社 レーザ加工装置
JP4450046B2 (ja) * 2007-10-05 2010-04-14 ソニー株式会社 電子部品基板の製造方法
JP5473880B2 (ja) * 2010-12-07 2014-04-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP2015534903A (ja) * 2012-11-02 2015-12-07 エム−ソルヴ・リミテッド 誘電体基板内に微細スケール構造を形成するための方法及び装置
JP2018515942A (ja) 2015-10-20 2018-06-14 ゴルテック インコーポレイテッド マイクロ発光ダイオードの搬送方法、製造方法、装置及び電子機器
JP6815788B2 (ja) * 2016-08-17 2021-01-20 株式会社フォーサイトテクノ 共焦点型ビームプロファイラー
JP2018060993A (ja) 2016-09-29 2018-04-12 東レエンジニアリング株式会社 転写方法、実装方法、転写装置、及び実装装置
KR20240130146A (ko) 2017-06-12 2024-08-28 쿨리케 & 소파 네덜란드 비.브이. 개별 부품들의 기판 상으로의 병렬적 조립
US11201077B2 (en) 2017-06-12 2021-12-14 Kulicke & Soffa Netherlands B.V. Parallel assembly of discrete components onto a substrate
JP7094162B2 (ja) 2017-06-28 2022-07-01 信越化学工業株式会社 リフト装置及び使用方法
CN112272966B (zh) * 2018-06-20 2024-02-02 信越化学工业株式会社 转移装置、使用方法和调整方法
TW202036838A (zh) * 2018-12-13 2020-10-01 美商蘋果公司 發光二極體(led)巨量轉移裝置及製造方法
JP7224437B2 (ja) * 2019-03-19 2023-02-17 タカノ株式会社 レーザー転写装置、及び、レーザー転写方法
US11508704B2 (en) * 2019-12-17 2022-11-22 Seoul Viosys Co., Ltd. Method of repairing light emitting device and display panel having repaired light emitting device
JP7491778B2 (ja) * 2019-12-26 2024-05-28 信越化学工業株式会社 走査型縮小投影光学系及びこれを用いたレーザ加工装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2023002555A5 (https=)
JP6932676B2 (ja) 転写方法およびこれを用いた画像表示装置の製造方法ならびに転写装置
JP6046388B2 (ja) レーザー熱転写装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法
JP2023015996A5 (ja) リフト方法、再転写方法及びディスプレイの製造方法
TWI802665B (zh) 雷射轉移裝置和雷射轉移方法
EP2267534A1 (en) Illumination system
US20160023305A1 (en) Optical mask plate and laser lift-off device
JP2019530201A (ja) マイクロデバイスのマスクレス並列ピックアンドプレース移載
JP2006019436A5 (https=)
JP6985031B2 (ja) Ledディスプレーパネルの製造方法
JP2009537324A (ja) 移動する基板上の薄膜をパターニングするための方法およびツール
US11756982B2 (en) Methods of parallel transfer of micro-devices using mask layer
US20170326682A1 (en) Method of manufacturing display apparatus
JP2022058237A5 (https=)
JP6694558B2 (ja) フレキシブル発光デバイスの製造方法および製造装置
CN108966693B (zh) 可挠性电子设备的制造方法
US20220005863A1 (en) Methods of parallel transfer of micro-devices using treatment
JP2021151666A5 (https=)
JP2013215804A (ja) レーザ加工装置
KR20090024216A (ko) 비-연속 피쳐의 패턴을 적용하기 위한 방법 및 장치
JP2021151666A (ja) 走査型縮小投影光学系及びこれを用いたレーザ加工装置
JP6761479B2 (ja) レーザ照射装置、薄膜トランジスタおよび薄膜トランジスタの製造方法
CN111180328B (zh) 用于制造掩模的基底蚀刻方法
JP2007122027A5 (https=)
JP2011062714A (ja) レーザー加工装置および太陽電池パネルの製造方法