JP2023015996A5 - リフト方法、再転写方法及びディスプレイの製造方法 - Google Patents
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Claims (9)
- 膜が設けられた基板に向けてレーザ光を照射し、前記膜を前記基板から、他の基板へ移動させるリフト方法であって、
前記他の基板は、予め微小素子が実装された領域と、実装予定領域に微小素子が実装されていない不良領域を有し、
ガルバノスキャナー及びフォトマスクを有する走査型縮小投影光学系を用いて前記基板に設けられた膜に向けてレーザ光を照射し、前記他の基板の前記不良領域へ前記膜を移動させることを特徴とするリフト方法。 - 前記膜が、導電性を有する膜又は粘着性を有する膜である請求項１記載のリフト方法。
- 前記膜が、導電性ペースト膜である請求項１記載のリフト方法。
- 前記微小素子が、マイクロＬＥＤである請求項１～３いずれか一項記載のリフト方法。
- 前記微小素子が、前記他の基板上にマトリックス状に配置されている請求項１～３いずれか一項記載のリフト方法。
- 前記フォトマスクは、円形状、楕円形状、正方形状又は長方形状の開口を有する請求項１～５いずれか１項記載のリフト方法。
- 前記フォトマスクは、開口がマトリックス状に配置された領域を有する請求項１～６いずれか１項記載のリフト方法。
- 微小素子が設けられた基板に向けてレーザ光を照射し、前記微小素子を前記基板から、他の基板へ移動させる再転写方法であって、
前記他の基板は、請求項１～７いずれか一項記載のリフト方法により得られた基板であり、
ガルバノスキャナー及びフォトマスクを有する走査型縮小投影光学系を用いて前記基板に設けられた微小素子に向けてレーザ光を照射し、前記他の基板の前記不良領域に予め移動されている膜上へ微小素子を移動させることを特徴とする再転写方法。 - 請求項８記載の再転写方法により、不良箇所を修正することを特徴とするディスプレイの製造方法。
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