KR100770264B1 - 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광소자의제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명에 따른 레이저 조사 장치는, 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스; 상기 레이저 소오스의 하부에 위치하며, 상기 레이저 빔을 패터닝하는 마스크; 및 상기 마스크 하부에 위치하고, 상기 마스크를 통과한 레이저 빔의 배율을 결정하는 투영렌즈를 포함하고, 상기 마스크를 투과한 레이저 빔은 적어도 두 영역 이상이 도우즈가 다른 것을 특징으로 한다. 이로써, 상기 레이저 조사 장치를 이용한 유기전계발광소자의 유기막층 형성시, 전사효율을 극대화하며 전사층 패턴의 품질을 향상시킬 수 있다.
레이저 열전사법, 레이저 조사 장치, 마스크, 광투과부, 도우즈
Description
도 1a는 종래기술에 따른 유기전계발광소자의 유기막층 형성공정을 설명하기 위한 단면도.
도 1b는 종래기술에 따라 형성된 전사층 패턴의 품질을 보여주는 사진.
도 1c는 종래기술에 따라 형성된 유기막층의 발광 그래프.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 조사 장치를 설명하기 위한 개략도.
도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 조사 장치용 마스크를 설명하기 위한 평면도.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 조사 장치를 이용한 유기전계발광소자의 제조 방법을 설명하기 위한 공정별 단면도.
본 발명은 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 레이저 열전사법에 의한 유기막층 형성시 전사효율 을 극대화하며, 전사층 패턴의 품질을 향상시킬 수 있는 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법에 관한 것이다.
평판표시장치 중 유기전계발광소자는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 자체 발광이므로 시야각에 문제가 없어서, 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 향후 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.
상기 유기전계발광소자는 유기발광층을 포함하는 유기막층의 패터닝 기술이 중요하다. 최근 상기 유기막층 패터닝 기술 중에 패턴 균일도가 우수하며, 대면적화에 유리한 레이저 열전사법이 대두되고 있다.
일반적으로 레이저 열전사법은 적어도 레이저 및 도너 기판을 필요로 하며, 상기 도너 기판은 기재층, 광-열 변환층 및 전사층을 구비한다.
상기 레이저 열전사법에 있어서는 상기 전사층을 억셉터 기판에 대향하도록 하여 상기 도너 기판을 상기 억셉터 기판의 전체면 상에 라미네이션한 후, 상기 기재층 상에 레이저 빔을 조사한다. 상기 기재층 상에 조사된 빔은 상기 광-열 변환층에 흡수되어 열에너지로 변환되고, 상기 열에너지에 의해 상기 전사층은 상기 기판 상으로 전사된다. 그 결과, 상기 기판 상에 전사층 패턴이 형성 된다.
도 1a는 종래기술에 따른 레이저 조사 장치를 사용한 유기전계발광소자의 유기막층 형성공정을 설명하기 위한 단면도이며, 도 1b는 종래기술에 따라 형성된 유기막층의 전사층 패턴의 품질을 보여주는 사진이며, 도 1c는 종래기술에 따라 형성 된 유기막층의 발광 그래프이다.
도 1a를 참조하면, 먼저 기판(10)을 제공한다. 상기 기판(10)은 유리 또는 플라스틱으로 이루어진 기판(11) 상에 제 1 전극(12) 및 상기 제 1 전극의 일부를 노출시키는 개구부를 포함하는 화소정의막(13)이 형성되어 있다. 다음으로, 상기 기판(10) 상에 전사층(21), 광-열 변환층(22) 및 기재층(23)이 형성된 도너 기판(20)을 라미네이션(lamination)한다.
이어서, 레이저 소오스, 마스크 및 투영 렌즈(projection lens)를 포함하는 레이저 조사 장치(30)를 이용해서 상기 도너 기판(20)의 소정 부분에 레이저 빔을 조사한다.
상기 도너 기판(20) 상에 레이저 빔이 조사되면, 상기 도너 기판(20)에 붙어 있던 전사층(21)이 레이저 빔의 작용으로 도너 기판(20)으로부터 떨어져 나와 기판(10)으로 전사된다. 여기서, 전사 특성은 기판(10)과 전사층(21)과의 제 1 접착력(W12)과 전사층(21)의 점착력(W22), 그리고 전사층(21)과 기판(10)과의 제 2 접착력(W23)에 의해서 정해지며, 전사 특성을 향상시키기 위해서는 전사층의 점착력(W22)이 각 기판과 전사층 사이의 제 1 및 제 2 접착력(W12, W23)보다 작아야 한다.
상기 전사층(21) 중 상기 레이저 빔이 조사된 부분의 전사층(21)은 상기 도너 기판(20)으로부터 떨어져 기판(10)으로 전사되고, 레이저 빔이 조사되지 않은 부분의 전사층은 상기 도너 기판(20)에 남게 되어 기판(10) 상에 전사층 패턴을 형성할 수 있으며, 상기 전사층 패턴은 유기전계발광소자의 유기막층을 구성한다.
상기와 같은 종래의 레이저 조사 장치(30)는 레이저 소오스에서 발생된 빛이 상기 마스크를 통과하면 상기 마스크의 형상에 따라 투과된 빛이 상기 투영 렌즈에 도달되고 상기 투영 렌즈에서는 배율이 결정되어, 상기 도너 기판 전 영역 상에는 단위면적당 균일한 도우즈의 레이저 빔이 조사되게 된다.
그러나 상기 레이저 빔이 조사된 부분의 전사층과 상기 레이저 빔이 조사되지 않은 부분의 전사층 간의 결합을 끊기 위해서는 상기 기판 상에 도너 기판을 전사시키기 위한 에너지보다 큰 에너지가 필요하다.
따라서 상기 도너 기판(20)의 전 영역 상에 상기 도너 기판(20)이 상기 기판에 전사되는데 필요한 도우즈의 레이저 빔으로 균일하게 조사하는 경우, 도면부호 A에 도시한 바와 같이, 상기 레이저 빔이 조사된 부분과 조사되지 않은 부분의 전사층(21) 간의 결합이 제대로 끊어지지 않는다. 따라서, 도 1b에 도시한 바와 같이, 균일한 전사층 패턴을 얻을 수 없게 된다.
또한, 도면부호 B에 도시한 바와 같이, 상기 기판의 단차에 의해 상기 개구부의 에지 부분에 도너 기판이 밀착되지 않아 에지 오픈 불량을 발생시킨다. 상기와 같은 유기막층의 에지 오픈 불량은, 도 1c의 도면부호 C에 도시한 바와 같이, 원하지 않는 발광을 발생시켜 색좌표 및 발광효율을 저하시키는 문제가 있다.
그러나, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 상기 전사되는 도너 기판(20) 전 영역 상에 상기 도너 기판(20)을 전사시키기 위해 필요한 도우즈보다 높은 도우즈의 레이저 빔을 조사하게 되면, 이는 전사층(21)에 과도한 열을 가하게 되어 제조되는 유기전계발광소자의 휘도, 발광효율 및 수명에 영향을 주는 문제점이 있 다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 레이저 열전사법에 의한 유기막층 형성시 전사효율을 극대화하며, 전사층 패턴의 품질을 향상시킬 수 있는 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법을 제공한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스; 상기 레이저 소오스의 하부에 위치하며, 상기 레이저 빔을 패터닝하는 마스크; 및 상기 마스크 하부에 위치하고, 상기 마스크를 통과한 레이저 빔의 배율을 결정하는 투영렌즈;를 포함하고, 상기 마스크를 투과한 레이저 빔은 적어도 두 영역 이상이 도우즈가 다른 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은, 화소 전극 및 상기 화소전극을 노출시키는 개구부를 포함하는 화소정의막을 구비하는 기판을 제공하고; 상기 기판 상에 기재층, 광-열 변환층 및 전사층을 포함하는 도너 기판을 라미네이션하고; 상기 도너 기판 상에, 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스, 상기 레이저 소오스 하부에 위치하는 마스크, 상기 마스크 하부에 위치하는 투영 렌즈를 포함하고 상기 마스크를 통과한 레이저 빔은 적어도 두 영역 이상이 도우즈가 다른 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치를 위치시키고; 상기 레이저 조사 장치를 이용해서 상기 도너 기판 상에 레이저 빔을 조사하여, 상기 전사층의 적어도 일부를 기판 상에 전사하여 상기 개구부 내에 유기막층을 형성하는 것;을 포함하는 유기전계발광소자의 제조방법을 제공하는 것을 또다른 목적으로 한다.
이하, 본 명세서에 도시한 도면들을 참고하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 레이저 조사 장치의 개략도로서, 이를 설명하면 다음과 같다.
도 2를 참조하면, 레이저 열전사법에 사용되는 레이저 조사 장치(300)는 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스(light source; 310), 상기 레이저 소오스의 하부에 위치하며, 상기 레이저 빔을 패터닝하는 마스크(320) 및 상기 마스크의 하부에 위치하며, 상기 마스크를 통과하여 패터닝된 레이저 빔의 배율을 결정하는 투영 렌즈(projection lens;330)를 포함할 수 있다.
상기 레이저 소오스(310)는 레이저 빔을 발생시키는 장치이다. 상기 레이저 소오스(310)로부터 발생된 빔은 상기 빔 모양 변형장치(미도시)를 통과한다. 상기 빔 모양 변형장치는 상기 레이저 소오스(310)에서 발생된 가우시안 프로파일을 갖는 빔을 균질화된 플랫-탑 프로파일을 갖는 빔으로 변형시킬 수 있다. 상기 레이저 소오스(310)로부터 레이저 빔이 생성되면, 상기 레이저 빔은 상기 마스크(320)를 통과한다. 상기 마스크(320)에 대하여는 이하에서 자세히 설명한다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명에 따른 레이저 조사 장치용 마스크의 형상을 나타낸 평면도로서, 이를 설명하면 다음과 같다.
도 3a를 참조하면, 상기 마스크는 레이저 빔을 차단하기 위한 광차단부(A)와 레이저 빔을 통과시키는 광투과부(B)를 포함한다.
상기 광투과부(A)는 제 1 영역(41) 및 상기 제 1 영역의 양단에 위치한 제 2 영역(42) 및 상기 제 2 영역(42)과 접하는 제 3 영역(43)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 영역(42)은 레이저 열전사법에 의한 유기막층 형성시 유기막층과 화소정의막이 이루는 에지 부분에 대응되는 영역이 될 수 있으며, 상기 제 3 영역(43)은 유기막층의 가장자리 부분에 대응되는 영역일 수 있다.
상기 제 2 영역(42)의 폭은 상기 제 1 영역(41)의 폭(a)의 1.05 내지 1.1배이며, 상기 제 3 영역(43)의 폭은 상기 제 1 영역(41)의 폭(a)의 1.1 내지 1.5배 인 것이 바람직하다. 상기 제 2 영역(42)의 폭이 상기 제 1 영역의 폭(a)의 1.05배보다 작으면, 상기 마스크를 이용한 유기막층 형성시 에지 오픈 불량이 발생할 수 있으며, 상기 제 2 영역(42)의 폭이 제 1 영역의 폭의 1.1배보다 크면 상기 유기막층의 열적 손상을 가져올 수 있다. 또한, 상기 제 3 영역(43)의 폭이 제 1 영역의 폭(a)의 1.1배보다 작으면 상기 마스크를 이용한 유기막층 형성시 전사층 패턴이 잘 끊어지지 않아, 전사층 패턴의 품질이 저하되며, 상기 제 3 영역(43)의 폭이 제 1 영역의 폭의 1.5배보다 크면, 너무 많은 에너지를 조사하게 되므로 공정상의 비용손실이 발생할 수 있다.
또한, 상기 제 2 영역(42) 및 상기 제 3 영역(43)은 좌우의 폭이 대칭일 수 있다. 이와는 달리, 도 3b 및 도 3c를 참조하면, 상기 광투과부의 제 2 영역(42',42") 및 제 3 영역(43',43")은 좌우의 폭이 비대칭일 수 있다.
도 3d를 참조하면, 상기 마스크는 상기 레이저 빔을 차단하기 위한 제 1 광차단부(C)와 제 2 광차단부(D) 및 상기 레이저 빔을 통과시키는 광투과부(E)를 포함할 수도 있다.
상기 광투과부(E)는 상기 제 1 광차단부(C)와 상기 제 2 광차단부(D) 사이에 위치하며, 제 1 영역(51) 및 상기 제 1 영역(51)의 양단에 위치한 제 2 영역(52) 및 제 2 영역(52)과 접하는 제 3 영역(53)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 영역(52)은 레이저 열전사법에 의한 유기막층 형성시 유기막층과 화소정의막의 에지 부분에 대응되는 영역이 될 수 있으며, 상기 제 3 영역(53)은 유기막층의 가장자리 부분에 대응되는 영역일 수 있다.
여기서, 상기 제 2 영역(52)의 폭은 상기 제 1 영역(51)의 폭(b)의 1.05 내지 1.1배이며, 상기 제 3 영역(53)의 폭은 상기 제 1 영역(51)의 폭(b)의 1.1 내지 1.5배인 것이 바람직하다.
상기 제 2 영역(52)의 폭이 제 1 영역의 폭의 1.05배보다 작으면, 상기 마스크를 이용한 유기막층 형성시 에지 오픈 불량이 발생할 수 있으며, 상기 제 2 영역(52)의 폭이 제 1 영역의 폭의 1.1배보다 크면 상기 유기막층의 열적 손상을 가져올 수 있다. 또한, 상기 제 3 영역(53)의 폭이 상기 제 1 영역의 폭의 1.1배보다 작으면 상기 마스크를 이용한 유기막층 형성시 전사층 패턴이 잘 끊어지지 않아, 전사층 패턴의 품질이 저하되며, 상기 제 3 영역(53)의 폭이 상기 제 1 영역의 폭의 1.5배보다 크면, 너무 많은 에너지를 조사하게 되므로 공정상의 비용손실이 발생할 수 있다.
상기 제 2 영역(52) 및 제 3 영역(53)의 좌우의 폭이 대칭일 수 있으며, 상기 제 2 영역(42, 42',42",52) 및 제 3 영역(43, 43',43", 53)의 폭은 레이저 조사 장치의 스캔 방향과 일치하는 방향으로 연장된 것을 특징으로 한다.
상기 광투과부(B,E)의 전체 길이는 공정마진을 고려하여 형성하고자 하는 유기막층의 길이와 대응되도록 설정한다. 또한, 상기 광투과부의 제 2 영역(42, 42',42",52)은 상기 유기막층과 화소정의막이 이루는 에지 영역과 대응되도록 길이를 설정하며, 상기 광투과부의 제 3 영역(43, 43',43", 53)은 상기 유기막층의 끝부분과 일치하도록 길이를 설정한다.
도 3e를 참조하면, 상기 마스크는 레이저 빔을 차단하기 위한 광차단부(F)와 레이저 빔을 통과시키는 광투과부(G)를 포함할 수 있다.
상기 광투과부(G)는 제 1 영역(61) 및 상기 제 1 영역(61)의 양단에 위치하는 제 2 영역(62)을 포함하며, 상기 제 2 영역(62)은 사다리꼴 형태인 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제 2 영역(62)은 윗변의 폭이 제 1 영역의 폭(c)과 동일하고, 밑변의 폭(d)이 상기 제 1 영역의 폭(c)의 1.1 내지 1.5배인 것을 특징으로 한다. 상기 제 2 영역의 밑변의 폭(d)이 상기 제 1 영역의 폭(c)의 1.1배보다 작으면, 상기 마스크를 사용한 유기막층 형성시 에지 오픈 불량이 발생할 우려가 있으며, 상기 제 2 영역의 밑변의 폭(d)이 상기 제 1 영역의 폭(c)의 1.5배보다 크면, 너무 많은 에너지를 조사하게 되어 공정상의 비용손실이 발생할 수 있다.
상기 제 2 영역(62)은 좌우의 폭이 대칭일 수 있으며, 이와는 달리, 도 3f 및 도 3g에 도시한 바와 같이, 상기 제 2 영역(62',62")은 좌우의 폭이 비대칭일 수도 있다.
여기서, 상기 제 2 영역(62, 62',62")의 폭은 레이저 조사 장치의 스캔 방향과 일치하는 방향으로 연장된 것을 특징으로 한다.
상기 광투과부(G)의 전체 길이는 투영 렌즈의 배율 및 공정마진을 고려하여 형성하고자 하는 유기막층의 길이와 대응되도록 설정한다. 또한, 상기 광투과부(G)의 제 2 영역(62, 62',62")은 상기 유기막층의 에지 영역부터 가장자리에 대응되도록 길이를 설정한다.
상기 마스크는 소정의 형상의 패턴 또는 일정한 주기로 반복되는 상기와 같은 형상을 갖는 패턴들을 가질 수 있으며, 이로써 상기 레이저빔은 상기 마스크의 형태대로 투과된다.
상술한 바와 같은 마스크는 적어도 두 영역 이상의 크기가 다른 광투과부를 구비함으로써, 유기막층의 에지부 및 가장자리와 대응되는 부분에 조사되는 레이저 빔의 도우즈를 조절할 수 있다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 레이저 조사 장치용 마스크를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법을 설명하기 위한 단면도로서, 이를 설명하면 다음과 같다.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 기판(100)을 제공한다. 상기 기판은 적어도 하나 이상의 트랜지스터(미도시)를 포함할 수 있으며, 최상부에는 제 1 전극(120) 및 상기 제 1 전극의 일부를 노출시키는 개구부가 형성된 화소정의막(130)이 위치한다. 상기 기판(100)은 척(400)에 의해 고정되며, 상기 척은 이동수단을 구비할 수 있다.
상기 기판(100) 상에 도너 기판(200)을 라미네이션한다. 상기 도너 기판은 기재층(210), 광-열 변환층(220) 및 전사층(230)을 포함하며, 상기 전사층(230)은 유기막층을 형성하기 위한 물질로 이루어질 수 있다.
상기 기판(100)에 라미네이션된 도너 기판(200) 상에 레이저 조사 장치(300)를 위치시킨다. 상기 레이저 조사 장치(300)는 레이저 소오스(310), 마스크(320) 및 투영렌즈(330)를 포함할 수 있으며, 상기 레이저 소오스(310)에서 발생된 레이저 빔은 상기 마스크(320)를 통과한다.
상기 마스크(320)는 레이저빔을 차단하기 위한 광차단부(321)와 레이저빔을 통과시키는 광투과부(322)를 포함한다. 여기서, 상기 마스크(320)는 도 3a 내지 도 3g에 도시한 바와 같이, 적어도 두 영역 이상이 다른 크기를 갖는 광투과부(322)를 구비할 수 있다.
상기와 같은 마스크(320)를 통과하여 패터닝된 이미지를 갖는 레이저 빔은 상기 투영 렌즈(330)를 통과한다. 상기 투영 렌즈(330)는 상기 레이저 빔의 배율을 결정하는 역할을 하며, 본 실시예에서는 상기 투영 렌즈(330)가 등배율일 경우에 대하여 한정하여 설명한다.
상기 투영 렌즈(330)를 투과한 레이저 빔은 상기 도너 기판(200)에 도달하게 된다. 상기 레이저 빔이 조사된 영역의 도너 기판(200)에서는 상기 광-열 변환층(220)이 상기 레이저 빔을 흡수하여 열을 발생시키고, 상기 전사층(230)은 상기 열에 의해 상기 광-열 변환층(220)과의 접착력에 변화가 생겨 상기 기판(100) 상으로 전사된다. 결과적으로 상기 기판(100) 상에는 패터닝된 전사층(230')이 형성된다.
도 4b를 참조하면, 상기 레이저 빔이 상기 도 3a 내지 도 3d에 도시한 바와 같이 제 1, 제 2 및 제 3 영역을 구비하는 마스크를 투과하면, 상기 레이저 조사 장치는 중심부에서 양단으로 갈수록 계단식으로 도우즈가 커지는 프로파일(A)을 갖는 레이저 빔을 발생시킨다.
이와는 달리, 상기 레이저 빔이 도 3e 내지 도 3g에 도시한 바와 같이 제 1 및 제 2 영역을 구비하는 마스크를 투과하면, 상기 레이저 조사 장치는 중심부를 제외한 양단이 점점 도우즈가 커지는 프로파일(B)을 갖는 레이저 빔을 발생시킨다.
여기서, 상기 Ⅰ, Ⅱ 및 Ⅲ 영역은 상기 도 3a 내지 도 3g에 도시한 마스크를 투과한 레이저 빔이 조사되는 기판 영역으로서, 상기 Ⅰ 영역은 개구부에 의해 화소 전극이 노출된 영역이며, 상기 Ⅱ 영역은 화소 전극의 에지부 및 화소정의막 개구부의 측면에 해당하는 부분이 될 수 있으며, 상기 Ⅲ 영역은 개구부의 가장자리와 대응될 수 있다. 따라서, 상기와 같은 프로파일을 갖는 레이저 빔을 Y 방향으로 스캔하게 되면, 상기 Ⅰ 영역보다 상기 Ⅱ 및 Ⅲ 영역에 단위면적당 더 많은 도우즈의 레이저 빔이 조사된다.
이로써, 상기 Ⅱ 영역에 라미네이션된 도너 기판에 충분한 도우즈의 레이저 빔을 가할 수 있게 되어, 상기 도너 기판과 상기 화소전극의 에지 부분을 밀착시킴으로써 들뜸없이 전사층 패턴을 형성할 수 있게 된다. 또한, 상기 Ⅲ 영역에 라미네이션된 도너 기판에 충분한 도우즈의 레이저 빔을 가할 수 있게 되어, 상기 전사층을 상기 도너 기판에서 잘 떨어지게 하여 깨끗한 전사층 패턴을 형성할 수 있다.
상기 레이저 조사 장치(300)가 상기 기판(100)의 가장자리에 다다르면, 상기 척(400)은 이동수단에 의해 한 스텝 이동하고, 상술한 라미네이션 및 레이저 조사를 반복함으로써, 기판 전체에 전사층 패턴을 형성할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 적어도 두 영역 이상의 크기가 다른 광투과부를 갖는 마스크를 갖는 레이저 조사 장치를 제공함으로써, 레이저 열전사법에 의한 유기막층 형성시 영역별로 다른 도우즈의 레이저 빔을 조사하여, 유기막층의 열손상을 최소화할 수 있어 유기막층의 발광효율을 극대화할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 상기 레이저 조사 장치에 의하여 유기막층의 에지 부분에 대응되는 도너 기판에 충분한 도우즈의 레이저 빔을 조사할 수 있게 되어, 에지 부분의 들뜸이 없는 전사층 패턴을 형성함으로써, 유기막층의 에지 오픈 불량을 방지할 수 있다. 아울러, 본 발명에 따른 레이저 조사 장치에 의하여 유기막층의 가장자리 부분에 대응되는 도너 기판에 충분한 도우즈의 레이저 빔을 조사할 수 있어, 가장자리의 패턴이 깨끗한 유기막층을 형성할 수 있게 된다.
본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명이 그에 한정되는 것이 아니고, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화 될 수 있다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있을 것이다.
이와 같이, 본 발명은 레이저 열전사법에 의한 유기막층 형성시 유기막층의 열적 손상을 방지하여 발광효율을 극대화할 수 있으며, 전사효율 및 전사층 패턴의 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Claims (13)
- 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스;상기 레이저 소오스의 하부에 위치하며, 상기 레이저 빔을 패터닝하고 광차단부와 제 1 영역, 상기 제 1 영역의 양단에 위치하며 상기 제 1 영역보다 큰 폭을 가지는 제 2 영역 및 상기 제 2 영역과 접하며 상기 제 2 영역보다 큰 폭을 가지는 제 3 영역을 포함하는 광투과부를 포함하는 마스크;상기 마스크 하부에 위치하고, 상기 마스크를 통과한 레이저 빔의 배율을 결정하는 투영렌즈; 및상기 광차단부는 제 1 광차단부 및 제 2 광차단부를 포함하고, 상기 광투과부는 상기 제 1 및 제 2 광차단부 사이에 위치하고,상기 마스크를 투과한 레이저 빔은 세 영역이 도우즈가 다른 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 영역의 폭은 상기 제 1 영역의 폭의 1.05 내지 1.1배이며,상기 제 3 영역의 폭은 상기 제 1 영역의 폭의 1.1 내지 1.5배인 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 및 제 3 영역의 폭은 상기 레이저 조사 장치의 스캔 방향과 일치하는 방향으로 연장된 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 영역과 제 3 영역은 좌우의 폭이 대칭 또는 비대칭인 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
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- 화소 전극 및 상기 화소전극을 노출시키는 개구부를 포함하는 화소정의막을 구비하는 기판을 제공하고;상기 기판 상에 기재층, 광-열 변환층 및 전사층을 포함하는 도너 기판을 라미네이션하고;상기 도너 기판 상에, 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스, 상기 레이저 소오스 하부에 위치하며, 상기 레이저빔을 패터닝하고 광차단부와 제 1 영역, 상기 제 1 영역보다 큰폭을 가지는 제 2 영역 및 상기 제 2 영역과 접하며 상기 제 2 영역보다 큰 폭을 가지는 제 3 영역을 포함하는 광투과부를 포함하는 마스크, 상기 마스크 하부에 위치하는 투영 렌즈를 포함하고 상기 마스크를 통과한 레이저 빔은 세 영역 이상이 도우즈가 다른 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치를 위치시키며;상기 광차단부는 제 1 광차단부 및 제 2 광차단부를 포함하고, 상기 광투과부는 상기 제 1 및 제 2 광차단부 사이에 위치하고;상기 레이저 조사 장치를 이용해서 상기 도너 기판 상에 레이저 빔을 조사하여, 상기 전사층의 적어도 일부를 기판 상에 전사하여 상기 개구부 내에 유기막층을 형성하는 것;을 포함하는 유기전계발광소자의 제조방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 레이저 빔은 상기 개구부에 의해 화소전극이 노출된 영역에 조사되는 도우즈보다 상기 화소전극의 에지부 및 상기 개구부의 가장자리 영역에 조사되는 도우즈가 큰 프로파일을 갖는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법.
- 제 12 항에 있어서,상기 레이저 빔은 상기 화소전극의 에지 영역에 조사되는 도우즈보다 상기 개구부의 가장자리 영역에 조사되는 도우즈가 큰 프로파일을 갖는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법.
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