JPWO2023002555A5 - - Google Patents

Claims (23)

1. 不良箇所を有する基板の前記不良箇所に向けてレーザ光を照射し、前記不良箇所を前記基板から除去する不良箇所の除去方法であって、
   ガルバノスキャナー及びフォトマスクを有する走査型縮小投影光学系を用いて前記不良箇所に向けてレーザ光を照射することを特徴とする不良箇所の除去方法。
2. 前記フォトマスクは、円形状、楕円形状、正方形状又は長方形状の開口を有する請求項１記載の不良箇所の除去方法。
3. 前記フォトマスクは、開口がマトリックス状に配置された領域を有する請求項１又は２記載の不良箇所の除去方法。
4. 前記フォトマスクは、少なくとも二つの種類の開口群を有する請求項１～３いずれか一項記載の不良箇所の除去方法。
5. 前記少なくとも二つの種類の開口群は、各々の開口群を形成する開口のサイズ、開口の形状、開口の数、若しくは、開口の配置が異なる請求項４記載の不良箇所の除去方法。
6. 照射対象物が設けられた基板に向けてレーザ光を照射し、前記照射対象物を前記基板から、他の基板へ移動させる再転写方法であって、
   前記他の基板は、予め前記照射対象物が実装された領域と、実装予定領域に照射対象物が実装されていない不良領域を有し、
   ガルバノスキャナー及びフォトマスクを有する走査型縮小投影光学系を用いて前記基板に設けられた照射対象物に向けてレーザ光を照射し、前記他の基板の前記不良領域へ移動させることを特徴とする再転写方法。
7. 前記照射対象物が、微小素子又は膜である請求項６記載の再転写方法。
8. 前記照射対象物が前記微小素子であり、該微小素子がマイクロＬＥＤである請求項７記載の再転写方法。
9. 前記照射対象物が前記微小素子であり、該微小素子が前記基板上にマトリックス状に配置されている請求項７又は８記載の再転写方法。
10. 前記照射対象物が膜であり、該膜が、導電性を有する膜、粘着性を有する膜又は有機ＥＬ膜である請求項７記載の再転写方法。
11. 前記フォトマスクは、円形状、楕円形状、正方形状又は長方形状の開口を有する請求項６～１０いずれか１項記載の再転写方法。
12. 前記フォトマスクは、開口がマトリックス状に配置された領域を有する請求項６～１１いずれか１項記載の再転写方法。
13. 前記フォトマスクは、少なくとも二つの種類の開口群を有する請求項６～１２いずれか１項記載の再転写方法。
14. 前記少なくとも二つの種類の開口群は、各々の開口群を形成する開口のサイズ、開口の形状、開口の数、若しくは、開口の配置が異なる請求項１３記載の再転写方法。
15. 照射対象物が設けられた基板に向けてレーザ光を照射し、前記照射対象物を前記基板から、他の基板へ移動させるリフト方法であって、
    前記基板に設けられた前記照射対象物は、不良領域を有し、
    ガルバノスキャナー及びフォトマスクを有する走査型縮小投影光学系を用いて前記不良領域以外の照射対象物に向けてレーザ光を照射し、前記他の基板へ移動させることを特徴とするリフト方法。
16. 前記照射対象物が、微小素子又は膜である請求項１５記載のリフト方法。
17. 前記照射対象物が前記微小素子であり、該微小素子がマイクロＬＥＤである請求項１６記載のリフト方法。
18. 前記照射対象物が前記微小素子であり、該微小素子が前記基板上にマトリックス状に配置されている請求項１６又は１７記載のリフト方法。
19. 前記照射対象物が膜であり、該膜が、導電性を有する膜、粘着性を有する膜又は有機ＥＬ膜である請求項１６記載のリフト方法。
20. 前記フォトマスクは、円形状、楕円形状、正方形状又は長方形状の開口を有する請求項１５～１９いずれか１項記載のリフト方法。
21. 前記フォトマスクは、開口がマトリックス状に配置された領域を有する請求項１５～２０いずれか１項記載のリフト方法。
22. 前記フォトマスクは、少なくとも二つの種類の開口群を有する請求項１５～２１いずれか１項記載のリフト方法。
23. 前記少なくとも二つの種類の開口群は、各々の開口群を形成する開口のサイズ、開口の形状、開口の数、若しくは、開口の配置が異なる請求項２２記載のリフト方法。