JP2006019436A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 荷電粒子線源と、荷電粒子線レンズと、荷電粒子線偏向器と、前記荷電粒子源から発生した荷電粒子ビームを複数本のビームに分割する分割手段とを有し、前記分割された複数本のビームを露光対象上に転写する荷電粒子線露光装置であって、前記複数本のビームのうち所定のビームが前記露光対象上に転写できない際に、代替ビームを用いて前記露光対象上に所定のパターンを転写することを特徴とする荷電粒子線露光装置。
2. 露光に用いられるビームはｍ行ｎ列のアレイ状であり、前記分割手段はｍ行ｎ+１列以上の開口アレイと、ｍ行ｎ+１列以上のアレイ状偏向器群を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
3. ｍ行ｎ+１列以上のアレイ状ビームのうちｘ行ｙ列のビームが露光対象上に転写できない際に、ｘ＋１行ｙ列のビームがｘ行y列のビームの本来転写すべきパターンを転写し、
   ｘ＋２行ｙ列のビームがｘ＋１行ｙ列のビームの本来転写すべきパターンを転写することを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子線露光装置。
4. ｍ行ｎ+１列以上のアレイ状ビームのうち転写できないビームを補完するように前記転写できないビームと同じ行のビーム群を少なくとも１列マイナス側にシフトする手段、前記転写できないビームと同じ行のビームを少なくとも１列プラス側にシフトする手段、前記転写できないビームと同じ列のビームを少なくとも１行プラス側にシフトする手段及び前記転写できないビームと同じ列のビームを少なくとも１行マイナス側にシフトする手段のうちの少なくとも１つの手段を有することを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子線露光装置。
5. 前記分割手段にて分割された複数本のビームを個別に偏向する手段及び前記複数本のビームを個別に収束する手段の少なくとも１つの手段を有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
6. ビームを露光対象上に照射して所定のパターンを露光する荷電粒子線露光装置であって、
   荷電粒子線源と、
   ｍ行ｎ列に配置された複数の開口とその外側に配置された少なくとも１つの開口を有し、前記荷電粒子線源からの荷電粒子線ビームを複数本のビームに分割するアパーチャアレイと、
   前記ｍ行ｎ列に配置された複数の開口からの複数本のビームのうち所定のビームが前記露光対象上に照射されない際に、前記所定のビームの代替ビームとして、前記その外側に配置された少なくとも１つの開口からのビームを用いるためのビーム偏向器と、を備えることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
7. 荷電粒子線源と、荷電粒子線レンズと、荷電粒子線偏向器と、前記荷電粒子源から発生した荷電粒子ビームを複数本のビームに分割する分割手段とを有し、前記分割された複数本のビームを露光対象上に転写する荷電粒子線露光装置を用いる荷電粒子線露光方法であって、前記複数本のビームのうち所定のビームが露光対象上に転写できない際に、代替ビームを用いて露光対象上に所定のパターンを転写する工程を含むことを特徴とする荷電粒子線露光方法。
8. 請求項１〜６のいずれか１つに記載の荷電粒子線露光装置を用いて露光対象を露光する工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。