JP2021151666A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024079885A JP7815324B2 (ja) | 2019-12-26 | 2024-05-16 | 走査型縮小投影光学系、レーザ加工装置、リフト装置、レーザ加工方法及びリフト方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019235371 | 2019-12-26 | ||
| JP2019235371 | 2019-12-26 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024079885A Division JP7815324B2 (ja) | 2019-12-26 | 2024-05-16 | 走査型縮小投影光学系、レーザ加工装置、リフト装置、レーザ加工方法及びリフト方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021151666A JP2021151666A (ja) | 2021-09-30 |
| JP2021151666A5 true JP2021151666A5 (https=) | 2023-09-06 |
| JP7491778B2 JP7491778B2 (ja) | 2024-05-28 |
Family
ID=77887021
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020144610A Active JP7491778B2 (ja) | 2019-12-26 | 2020-08-28 | 走査型縮小投影光学系及びこれを用いたレーザ加工装置 |
| JP2024079885A Active JP7815324B2 (ja) | 2019-12-26 | 2024-05-16 | 走査型縮小投影光学系、レーザ加工装置、リフト装置、レーザ加工方法及びリフト方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024079885A Active JP7815324B2 (ja) | 2019-12-26 | 2024-05-16 | 走査型縮小投影光学系、レーザ加工装置、リフト装置、レーザ加工方法及びリフト方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP7491778B2 (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022181397A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社アマダ | レーザ加工機およびレーザ加工方法 |
| EP4375002A4 (en) * | 2021-07-20 | 2025-07-09 | Shinetsu Chemical Co | SCANNING-TYPE REDUCTION PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND LASER MACHINING APPARATUS USING SAME |
| WO2024218915A1 (ja) * | 2023-04-19 | 2024-10-24 | 信越エンジニアリング株式会社 | レーザ照射装置、レーザ加工装置、露光装置、レーザ加工方法、露光処理方法、マスクの設置方法、レーザ加工装置の設置方法、露光装置の設置方法、マスク及びレーザ照射システム |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7744770B2 (en) * | 2004-06-23 | 2010-06-29 | Sony Corporation | Device transfer method |
| EP2364809A1 (en) | 2010-02-26 | 2011-09-14 | Excico France | Method and apparatus for irradiating a semiconductor material surface by laser energy |
| JP2014067671A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elパネル製造装置および有機elパネル製造方法 |
| JP2015534903A (ja) | 2012-11-02 | 2015-12-07 | エム−ソルヴ・リミテッド | 誘電体基板内に微細スケール構造を形成するための方法及び装置 |
-
2020
- 2020-08-28 JP JP2020144610A patent/JP7491778B2/ja active Active
-
2024
- 2024-05-16 JP JP2024079885A patent/JP7815324B2/ja active Active
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