JPWO2009101986A1 - 含フッ素多官能ケイ素化合物および含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、滑水性向上の観点で、CH3(CF2)nCH2CH2Si(OR)等の化合物を利用した例が知られている(特許文献2参照)。しかし、これらの化合物についてもCH3(CF2)nCH=CH2で表される含フッ素オレフィン化合物とトリクロロシランとの反応が必要であり、含フッ素オレフィンの製造適性、入手性にも問題があった。
2. 前記一般式(I)において、Qがペルフルオロアルキル基、Rf1およびRf2がそれぞれ独立にフッ素原子またはペルフルオロアルキル基、kが1を示すことを特徴とする上記1記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
3. 前記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物が下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする上記1記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
4. 前記一般式(II)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物が下記一般式(III)で表される化合物であることを特徴とする上記3記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
5. 前記一般式(III)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物が下記一般式(IV)で表される化合物であることを特徴とする上記4記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
6. 前記Lが下記一般式(V)または(VI)で表される2価の有機基であることを特徴とする上記3〜5のいずれか1項に記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
7. 下記一般式(i)で表される(n+m)価の含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
8. 下記一般式(ii)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(II)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
9. 下記一般式(iii)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(III)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
10. 下記一般式(iv)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(IV)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
11. 前記Lが下記一般式(V)または(VI)で表される2価の有機基であることを特徴とする上記8〜10のいずれか1項に記載の含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
12. 基材上に、上記1〜6のいずれかに記載の含フッ素多官能ケイ素化合物を含む組成物から形成される膜を有することを特徴とする処理基材。
R1およびR2は複数存在する場合には各々同一でも異なっていてもよい。
R2は好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基またはフェニル基であり、より好ましくは、メチル基またはエチル基である。
一般式(I)において、Qは少なくとも1つのフッ素原子を有する(n+m)価の有機基を示す。
Rf1およびRf2はそれぞれ独立にフッ素原子、水素原子、または少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基を示す。少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基は、置換基を有していても無置換でもよく、直鎖、分岐鎖、環状のいずれであってもよく、また、鎖中にエーテル性酸素原子を有していてもよく、好ましい炭素数としては1〜10である。Rf1およびRf2は、好ましくはフッ素原子、またはペルフルオロアルキル基(例えば、ペルフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル、ペルフルオロイソプロピル)であり、より好ましくはフッ素原子である。
kは0または1を示し、好ましくはkは1を示す。nは2以上の整数を示し、mは0以上の整数を示し、好ましくは、(n+m)は2以上10以下の整数かつmは5以下の整数を示し、より好ましくは(n+m)は3以上6以下の整数かつmは3以下の整数を示す。
また、前記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物は、好ましくは下記一般式(II)で表される化合物である。
R1、R2、Rf11、Rf12、Rf13、およびLは複数存在する場合には各々同一でも異なっていてもよい。
Rf12およびRf13で示されるペルフルオロアルキル基は、好ましくは炭素数1〜30のペルフルオロアルキル基であり、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、また、鎖中にエーテル結合を有していてもよい。さらに好ましい炭素数としては1〜20であり、より好ましくは1〜10である。
Rf12およびRf13で示されるペルフルオロアルコキシ基は、好ましくは炭素数1〜30のペルフルオロアルコキシ基であり、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、また、鎖中にエーテル結合を有していてもよい。さらに好ましい炭素数としては1〜20であり、より好ましくは1〜10である。
一般式(II)において、R1、R2、a、bについての好ましいものは前記一般式(I)におけるR1、R2、a、bと同じである。
R1、R2、Rf14、およびLは複数存在する場合には各々同一でも異なっていてもよい。
一般式(III)において、R1、R2、a、bについての好ましいものは、前記一般式(I)におけるR1、R2、a、bと同じである。
一般式(III)で示される化合物は好ましくは、下記一般式(IV)で示される化合物である。
一般式(IV)において、R1、R2、a、bについての好ましいものは、前記一般式(I)におけるR1、R2、a、bと同じである。
Ar1で示される2価のアリール基は、好ましくは炭素数6〜30の置換または無置換のアリール基である。さらに好ましい炭素数としては6〜20であり、より好ましくは6〜10である。置換基としては前記R2における置換基と同様のものが挙げられる。
含フッ素アルコールと一般式(VII)で示されるイソシアネートとの反応は、触媒を用いて行ってもよく、あるいは触媒を用いずに行ってもよい。一般的には、この反応は触媒なしでも製造に適した条件で進行するため、好ましくは触媒を用いずに反応を行う。触媒を用いる場合、好ましい触媒の例としては、アンモニウム塩(例えば水酸化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、1−エチルピリジニウム塩化物、1,3−ジメチルイミダゾリウム=テトラフルオロホウ酸塩など)、ホスホニウム塩(例えばトリフェニルホスホニウム塩化物など)、スルホニウム塩(例えばトリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロフォスファートなど)、遷移金属触媒(例えば塩化鉄−アセチルアセトン錯体など)が挙げられる。
溶媒の量は一般式(i)、(ii)、(iii)または(iv)で示される化合物に対して質量比で0.1倍〜100倍用いるのが好ましく、より好ましくは1倍〜50倍、さらに好ましくは2倍〜20倍である。
反応温度は、好ましくは0℃〜100℃であり、より好ましくは10℃〜50℃である。
反応時間は、用いる基質、塩基、溶媒の種類、量および反応温度等により左右されるため一概には決められないが、好ましくは10分〜12時間であり、より好ましくは30分〜6時間である。
後処理および精製方法としては、通常の分液操作の後、濃縮を行い、残留物を蒸留、カラムあるいは再結晶により精製を行ってもよいが、炭酸カリウムや炭酸セシウム等の固体塩基を用い、反応後濾過によりこれらの固体塩基を除去し、濃縮操作のみで目的物としてもよい。また、濾液を目的物の溶液として用いることもできる。
以下に2価の有機基Lの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
一般式(ii)、一般式(iii)または一般式(iv)で示される化合物は、下記一般式(II’)、一般式(III’)または一般式(IV’)で示されるペルフルオロジエンと一般式(VIII)で示されるジオールとの付加反応において、一般式(II’)、一般式(III’)または式(IV’)で示されるペルフルオロジエンに対して一般式(VIII)で示されるジオールを過剰量(好ましくはモル比で1.05倍〜2倍、より好ましくは1.1倍〜1.5倍)用いることにより合成することができる。下記一般式(II’)、(III’)における各記号は前記一般式(ii)、(iii)における記号と同義である。また一般式(VIII)においてLは2価の有機基を示し、前記一般式(II)におけるLと同義である。
ペルフルオロジエン化合物は、例えば特開2001−240576号公報、特開2006−131613号公報、特開2007−131615号公報の方法により製造できる。
本発明においては、一部の含フッ素多官能ケイ素化合物の製造中間体として含フッ素ジエンを使用しているが、これらは前記非特許文献1及び特許文献2におけるジエン及びオレフィンとは化学的に異なる構造を有しているために製造方法が異なり、また公知の方法(例えば特開2001−240576号公報、特開2006−131613号公報、特開2007−131615号公報に記載の方法)により、様々な構造のジエン及びオレフィンを比較的容易に製造することができることから、原料の入手性の問題を解決できた。
基材上に本発明の含フッ素多官能ケイ素化合物を含む組成物を用いて形成した膜を有する処理基材は、撥水性、耐傷性、低屈折率性などの観点で優れる。該組成物において、含フッ素多官能ケイ素化合物の含有量は全固形分に対して5〜98質量%であることが好ましい。該組成物には溶媒、触媒、配位子化合物などを含むことができる。溶媒としては、本発明の含フッ素多官能ケイ素化合物を溶解又は分散させうる溶媒なら特に制限なく使用できるが、水、メタノール、エタノール、メチルエチルケトン、トリフルオロエタノールなどが好ましい。触媒としては、本発明の含フッ素多官能ケイ素化合物を加水分解し重縮合させうる化合物であれば特に限定されないが、鉱酸(例えば塩酸や硫酸など)、カルボン酸(例えば酢酸や安息香酸など)、スルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸など)、アミン(例えばアンモニア、エチルアミン、ピリジンなど)、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムなど)、ルイス酸化合物(例えばオルトチタン酸エチル、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、塩化鉄など)などが好ましい。配位子化合物としては、例えばアセチルアセトン、アセト酢酸メチルなどが好ましい。また、膜面状を向上させるために界面活性剤を使用してもよい。界面活性剤としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えばノニオン界面活性剤(例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類など)、アニオン界面活性剤(例えばアルカンスルホン酸塩類など)、カチオン界面活性剤(例えば第四級アンモニウム塩類など)、両性界面活性剤(例えばカルボキシベタイン類など)、フッ素系界面活性剤(例えばパーフルオロアルキルカルボン酸塩など)などが挙げられるが、本発明の含フッ素多官能ケイ素化合物との相溶性が高いことから好ましくはフッ素系界面活性剤が使用される。膜の形成方法としては基材上に組成物を塗布して乾燥する方法などが挙げられる。塗布方法としては特に限定がなく、例えばスプレーコーティング法、ディップコーティング法、フローコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、フィルムアプリケーター法、スクリーン印刷法、バーコーター法、刷毛塗り、スポンジ塗り等の方法が適用できる。乾燥方法としては加熱乾燥などがあり、50℃〜200℃で2分間〜60分間乾燥することが好ましい。該膜の厚さは0.01μm〜1,000μmであることが好ましい。
該膜の表面は撥水性に優れることが好ましく、水滴接触角が85°〜180°であることが好ましい。また、該膜の表面は滑水性に優れることが好ましく、転落角が0.1°〜25°であることが好ましい。
以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
(i−9)(1.2g,1.5mmol)のメチルエチルケトン(10ml)溶液に室温にて炭酸カリウム(1.0g,7.25mmol)を添加し、さらに(VII−2)(1.5g,6.1mmol)を滴下した。反応液を室温に3時間撹拌後、不溶物をセライト濾過により除去し、濾液を減圧にて濃縮することにより含フッ素多官能ケイ素化合物A(2.6g)を得た。この化合物AのNMR測定及び質量分析を行ったところ、下記構造の化合物が得られていることを確認した。
19F NMR[CO(CD3)2] δ −66.34(8F),−86.37(8F),−124.23(t,J=13.8,8F)
MARDI−MS Found:m/z=1811.51(M+Na)、Calcd.:m/z=1811.50(M+Na)
(i−9)(1.2g,1.5mmol)のメチルエチルケトン(10ml)溶液に室温にて炭酸カリウム(1.0g,7.25mmol)を添加し、さらに(VII−2)(1.1g,4.5mmol)を滴下した。反応液を室温に3時間撹拌後、不溶物をセライト濾過により除去し、濾液を減圧にて濃縮することにより含フッ素多官能ケイ素化合物B(2.2g)を得た。この化合物BのNMRを測定したところ、主生成物B−1の他にB−2,B−3等を含む混合物であることを確認した。NMR測定の結果から計算したこれらのモル比は、B−1:B−2:B−3=55:20:25だった。
(i−53)(1.0g,1.78mmol)のメチルエチルケトン(10ml)溶液に室温にて炭酸カリウム(0.74g,5.36mmol)を添加し、さらに(VII−2)(0.88g,3.56mmol)を滴下した。反応液を室温に3時間撹拌後、不溶物をセライト濾過により除去し、濾液を減圧にて濃縮することにより含フッ素多官能ケイ素化合物C(1.82g)を得た。この化合物CのNMRを測定したところ、下記構造の化合物が得られていることを確認した。
19F NMR[CO(CD3)2] δ −120.4(t,J=13.8,4F),−122.3(bs,12F),−124.0(bs,4F)
MARDI−MS Found:m/z=1079.22(M+Na)、Calcd.:m/z=1079.24(M+Na)
ペルフルオロジエン1(1.0g,2.54mmol)、含フッ素ジオール2(1.64g,2.92mmol)および炭酸カリウム(1.0g,7.25mmol)をメチルエチルケトン(15ml)中、室温にて48時間撹拌した。上澄み液を少量濃縮してNMRを測定したところ、(i−25)[L=(L−9)]の構造を有すること、およびxの平均値は7.8であることを確認した。
ペルフルオロジエン3(1.0g,2.50mmol)、含フッ素ジオール2(1.62g,2.87mmol)および炭酸カリウム(1.0g,7.25mmol)をメチルエチルケトン(15ml)中、室温にて48時間撹拌した。上澄み液を少量濃縮してNMRを測定したところ、(i−49)[L=(L−9)]の構造を有すること、およびxの平均値は9.0であることを確認した。
ペルフルオロジエン3(0.800g,2.0mmol)、含フッ素ジオール4(0.907g,2.2mmol)および炭酸カリウム(0.69g,5.0mmol)をメチルエチルケトン(10ml)中、室温にて50時間撹拌した。上澄み液を少量濃縮してNMRを測定したところ、(i−49)[L=(L−7)]の構造を有すること、およびxの平均値は8.1であることを確認した。
ペルフルオロジエン3(0.800g,2.0mmol)、含フッ素ジオール5(0.577g,2.2mmol)および炭酸カリウム(0.69g,5.0mmol)をメチルエチルケトン(10ml)中、室温にて50時間撹拌した。上澄み液を少量濃縮してNMRを測定したところ、(i−49)[L=(L−4)]の構造を有すること、およびxの平均値は7.6であることを確認した。
化合物(VII−2)の代わりに(VII−3)1.4g(6.4mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に反応を行い、下記化合物H(1.8g)を得た。
19F NMR[CO(CD3)2] δ −66.34(8F),−86.37(8F),−124.23(t,J=13.8,8F)
MARDI−MS Found:m/z=1691.45(M+Na)、Calcd.:m/z=1691.46(M+Na)
オルトチタン酸エチル(0.05g)およびアセチルアセトン(0.044g)のエタノール(30ml)溶液を室温にて10分間撹拌した後、水(0.01ml)を加え、さらに室温にて1時間撹拌し、触媒液を調製した。
この溶液に含フッ素多官能ケイ素化合物A(0.5g)のメチルエチルケトン(25ml)溶液および水(0.75ml)を加え、室温にて4時間撹拌し、一晩静置することにより溶液Aを作成した。また、化合物Aの代わりに化合物B〜G、I、Jを用いた以外は同様の方法で溶液B〜G、I、Jを作成した。
溶液A 150μlを5cm×5cmのガラス板にスピンコート(回転数:2000rpm、回転時間:20s)し、150℃で30分間加熱し、処理基材Aを作成した。基板上に形成された膜厚は約0.1μmだった。また、溶液Aの代わりにB〜G、I、Jを用いた以外は同様の方法にて処理基材B〜G、I、Jを作成した。
(撥水性の評価)
処理基材A〜G、I、Jの水接触角を協和界面科学株式会社製 全自動接触角計(DM700)を用いて測定した。結果を表1に示す。
(滑水性の評価)
処理基材A〜G、I、Jに水50μlを滴下し、その転落角を協和界面科学株式会社製 全自動接触角計(DM700)を用いて測定した。結果を表1に示す。
(耐擦傷性の評価)
日本スチールウール社製スチールウール#0000を用いて、200g/cm2の荷重で10往復擦った後に傷の付き方(◎:傷無し、○:傷10本以下、△:傷10〜30本、×:傷30本以上)を目視で判定した。結果を表1に示す。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、2008年2月12日出願の日本特許出願(特願2008−30698)に基づくものであり、それらの内容はここに参照して組み込まれる。
<1>
下記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物。
<2>
前記一般式(I)において、Rf 1 およびRf 2 がそれぞれ独立にフッ素原子又は炭素数1〜10のペルフルオロアルキル基、kが1であることを特徴とする上記<1>記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
<3>
下記一般式(II)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物。
<4>
前記一般式(II)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物が下記一般式(III)で表される化合物であることを特徴とする上記<3>記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
<5>
前記一般式(III)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物が下記一般式(IV)で表される化合物であることを特徴とする上記<4>記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
<6>
前記Lが下記一般式(V)または(VI)で表される2価の有機基であることを特徴とする上記<3>〜<5>のいずれか1項に記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
<7>
下記一般式(i)で表される(n+m)価の含フッ素アルコールと一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
<8>
下記一般式(ii)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(II)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
<9>
下記一般式(iii)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(III)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
<10>
下記一般式(iv)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(IV)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
<11>
前記Lが下記一般式(V)または(VI)で表される2価の有機基であることを特徴とする上記<8>〜<10>のいずれか1項に記載の含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
<12>
基材上に、上記<1>〜<6>のいずれか1項に記載の含フッ素多官能ケイ素化合物を含む組成物から形成される膜を有することを特徴とする処理基材。
なお、本発明は、上記<1>〜<12>に関するものであるが、参考のため、その他の事項(例えば下記1〜12に記載の事項等)についても記載した。
Claims (12)
- 前記一般式(I)において、Qがペルフルオロアルキル基、Rf1およびRf2がそれぞれ独立にフッ素原子またはペルフルオロアルキル基、kが1を示すことを特徴とする請求項1記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
- 前記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物が下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする請求項1記載の含フッ素多官能ケイ素化合物。
- 下記一般式(i)で表される(n+m)価の含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(I)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
(式中、Qは少なくとも1つのフッ素原子を有する(n+m)価の有機基を示し、kは0または1を示し、Rf1およびRf2はそれぞれ独立にフッ素原子、水素原子、または少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基を示し、R1は水酸基、イソシアネート基、または加水分解される基を示し、R2は水素原子または炭化水素基を示し、nは2以上の整数を示し、mは0以上の整数を示し、aは1〜6の整数を示し、bは1〜3の整数を示す。) - 下記一般式(ii)で表される含フッ素アルコールと下記一般式(VII)で表されるイソシアネートを塩基性条件下反応させることを特徴とする下記一般式(II)で表される含フッ素多官能ケイ素化合物の製造方法。
- 基材上に、請求項1〜6のいずれかに記載の含フッ素多官能ケイ素化合物を含む組成物から形成される膜を有することを特徴とする処理基材。
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