JPWO2006070857A1 - 剥離層を有する成形用金型又は電鋳用母型及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2004年12月28日に出願された日本国特許出願第2004−381941号及び2005年4月19日に出願された日本国特許出願第2005−121597号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
Rn−Si−X4−n …… [1]
(式[1]中、Rは置換基を有していてもよいC1〜20の炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜20のハロゲン化炭化水素基、連結基を含むC1〜20の炭化水素基、又は連結基を含むC1〜20のハロゲン化炭化水素基を表し、Xは水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルコキシ基又はアシルオキシ基を表し、nは1〜3の整数を表す。)で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機溶媒溶液に、金型又は母型を接触させることにより、金型表面又は母型表面に有機薄膜からなる離型層が形成されていることを特徴とする成形用金型又は電鋳用母型に関する。
Rn−Si−X4−n …… [1]
(式[1]中、Rは置換基を有していてもよいC1〜20の炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜20のハロゲン化炭化水素基、連結基を含むC1〜20の炭化水素基、又は連結基を含むC1〜20のハロゲン化炭化水素基を表し、Xは水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルコキシ基又はアシルオキシ基を表し、nは1〜3の整数を表す。)で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機溶媒溶液に、金型又は母型を接触させ、金型表面又は母型表面に有機薄膜からなる離型層を形成することを特徴とする成形用金型又は電鋳用母型の製造方法や、(18)成形用金型が樹脂の成形用金型であることを特徴とする上記(17)記載の成形用金型又は電鋳用母型の製造方法や、(19)式[1]で示されるシラン系界面活性剤が、n−オクタデシルトリメトキシシランであることを特徴とする上記(17)又は(18)記載の成形用金型又は電鋳用母型の製造方法や、(20)シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒が、金属酸化物;金属水酸化物;金属アルコキシド類;キレート化又は配位化された金属化合物;金属アルコキシド類部分加水分解生成物;金属アルコキシド類を該金属アルコキシド類の2倍当量以上の水で処理して得られた加水分解生成物;有機酸;シラノール縮合触媒、及び酸触媒から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(17)〜(19)のいずれか記載の成形用金型又は電鋳用母型の製造方法に関する。
(i)有機溶媒中、金属アルコキシド類に対し0.5〜1.0倍モル未満の水を添加する方法、
(ii)有機溶媒中、加水分解が開始する温度以下、好ましくは0℃以下、より好ましくは−20〜−100℃の範囲で、金属アルコキシド類に対し1.0〜2.0倍モル未満の水を添加する方法、
(iii)有機溶媒中、水の添加速度を制御する方法や、水に水溶性溶媒を添加して水濃度を低下させた水溶液を使用する方法等により、加水分解速度を制御しながら、金属アルコキシド類に対し0.5〜2.0倍モル未満の水を室温で添加する方法、等を例示することができる。
混合溶媒として用いる場合には、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒と、メタノール、エタノール、イソプロパノ−ル、t−ブタノール等の低級アルコール溶媒系の組み合わせが好ましい。この場合の低級アルコール系溶媒としては、イソプロパノ−ル、t−ブタノール等の2級以上のアルコール系溶媒がより好ましい。混合溶媒の混合比は特に制限されないが、炭化水素系溶媒と低級アルコール系溶媒を、体積比で、99/1〜50/50の範囲で用いるのが好ましい。
有機薄膜製造用溶液の調製用のシラン系界面活性剤として、M−1:n−オクタデシルトリメトキシシラン(ODS)(Gelest社製)を用いた。
4つ口フラスコに、チタンテトライソプロポキシド(商品名:A−1、日本曹達社製:純度99%、酸化チタン換算濃度28.2重量%)12.4gをトルエン45.0gに溶解し、窒素ガス置換した後に、変性アルコール/ドライアイスバス中で−40℃に冷却した。別に、イオン交換水1.26g(H2O/Ti=1.6モル比)をイソプロパノール11.3gに混合後、−40℃に冷却した状態で、上記4つ口フラスコ中へ攪拌しながら滴下した。滴下中は、フラスコ内の液温を−40℃に維持した。滴下終了後、冷却しながら30分間攪拌後、その後室温に昇温して、無色透明な部分加水分解溶液(T−1)を得た。溶液の固形分濃度は、酸化チタン換算で5重量%であった。
水分含量450ppmのトルエンに、最終濃度0.5重量%に相当するシラン系界面活性剤M−1を加え室温で30分間攪拌した。次に、シラン系界面活性剤M−1の1/10倍モル(TiO2換算)相当の離型層形成用の触媒溶液(C−1)を滴下し、滴下終了後、室温で3時間攪拌した。この溶液中の水分含量を500ppmになるように水を加え離型層形成用溶液(SA−1)を得た。
超音波洗浄及びオゾン洗浄したニッケル金型を、上記の溶液(SA−1)中に、所定時間浸漬後引き上げ、トルエンで10秒間超音波洗浄した後に、60℃で10分間乾燥し、M−1の有機薄膜(SAM−1)の有機薄膜の形成を行った。
(1)表面観察
溶液(SA−1)中にニッケル金型を5分間浸漬して成膜したサンプル、及び未成膜サンプルを、SPA400(Seiko Instruments社製)を用いて、AFM手法により観察したところ、一層の単分子膜になっていることが確かめられた。
(2)成膜の確認
溶液(SA−1)中にニッケル基板を、それぞれ5分間、3時間、6時間、16時間浸漬して成膜した場合の接触角を測定した。結果を図1に示す。その結果、成膜時間5分〜16時間で撥水性は殆ど同じであることが確かめられた。
溶液(SA−4)中にニッケル金型を、それぞれ5分間、6時間浸漬して成膜したサンプル、及びポジティブコントロールとして同様に溶液(SA−1)中に5分間浸漬して成膜したシリコン基板を用い、100〜400℃で10分間加熱し、放冷後に接触角を測定した。結果を図2に示す。その結果、200℃までの加熱では水の接触角は100度以上であり、200℃まで加熱可能であることが確かめられた。
溶液(SA−4)中にニッケル金型を5分間浸漬して成膜したサンプル、及びポジティブコントロールとして同様に溶液(SA−1)中に5分間浸漬して成膜したシリコン基板、並びに比較例として、n−オクタデシルトリメトキシシラン(ODS)(Gelest社製)雰囲気中で150℃で12時間暴露した気相蒸着シリコン基板を供試した。耐摩耗性の測定は、Rubbing Tester(太平理化工業社製)を用い、荷重1.5kg、走査範囲5cm、コットン接地面2cm×1cmの条件下で、それぞれラビング100回往復,500回往復、1000回往復を行った後、トルエンで20秒間超音波洗浄をした後に接触角を測定した。なお、ニッケル基板サンプルについては超音波洗浄を実施していないものもサンプルとした。結果を図3に示す。その結果、超音波洗浄サンプルは、ラビング500回往復後も接触角100度以上を維持しうることがわかった。
ニッケル基板として、その表面にμmオーダー以下の微細パターンが施されている金型を用い、この金型を溶液(SA−1)中に5分間浸漬して有機薄膜からなる離型層を形成した。この離型層を有するニッケル製金型表面の微細パターンをアクリル樹脂に転写し、UV照射により樹脂を硬化させた後、ニッケル製金型から剥離して、液晶表示パネル用アクリル導光板を作製した。その結果、ニッケル製金型からアクリル導光板の剥離が既存の剥離剤を使用した場合に比べて、極めて優れていることがわかった。
チタンテトライソプロポキシド(A−1:純度99%、酸化チタン換算濃度28.2重量%、日本曹達(株)製)12.4gを4つ口フラスコ中で、トルエン45.0gに溶解し、窒素ガス置換した後に、エタノール/液体窒素バス中で−80℃に冷却した。別に、イオン交換水1.26g(H2O/Ti=1.6(モル比))をイソプロパノール11.3gに混合後、−80〜−70℃に冷却した状態で、上記4つ口フラスコ中へ攪拌しながら滴下した。滴下中は、フラスコ内の液温を−80〜−70℃に維持した。滴下終了後、30分間冷却しながら攪拌後、室温まで攪拌しながら昇温して、無色透明な酸化チタン換算濃度5重量%の部分加水分解溶液(C−2)を得た。
窒素ガス置換した4つ口フラスコ中で、チタンテトライソプロポキシド(A−1:純度99%、酸化チタン換算濃度28.2重量%、日本曹達(株)製)530gをトルエン1960gに溶解し、エタノール/ドライアイスバスで−15℃に冷却した。別に、イオン交換水30.4g(H2O/Ti=0.9(モル比))をイソプロパノール274gに混合し、上記4つ口フラスコ中へ攪拌しながら90分間で滴下した。滴下中は、フラスコ内の液温を−15〜−10℃に維持した。滴下終了後、−10℃で30分間、室温まで昇温後1時間攪拌を続け、無色透明の液体を得た。この溶液をエタノール/ドライアイスバスで−80℃に冷却し、イオン交換水20.3g(H2O/Ti=0.6(モル比))とイソプロパノール183gの混合溶液を90分間で滴下しながら攪拌した。滴下終了後、3時間かけて室温に戻し、この溶液を90〜100℃で2時間還流し、酸化チタン換算濃度で5重量%の無色透明な部分加水分解溶液(C−3)を得た。この溶液は、平均粒径が5.6nmでシャープな単分散性のゾルであった。
チタンテトライソプロポキシド(A−1:純度99%、酸化チタン換算濃度28.2重量%、日本曹達(株)製)17.79g(62.6mmol)と脱水トルエン65.31gを液温18℃、窒素ガス雰囲気下に、フラスコ中で混合攪拌し溶解した。そこへ水1.69g(93.9mmol、H2O/Ti=1.5(モル比))、脱水イソプロパノール30.42g、脱水トルエン30.42gの混合物(水の濃度は、イソプロパノールとトルエンの混合溶媒に対する水の飽和溶解度の22%に相当する)を液温18〜20℃で撹拌しながら2時間で滴下したところ、淡い黄色透明の溶液が得られた。さらに液温18℃で1.5時間攪拌すると少し黄色が強くなり、その後、2.5時間還流すると無色の透明液となった。溶液の酸化物濃度は3.4重量%であった。この溶液にトルエンを加え、酸化物濃度1.0重量%になるように希釈し、触媒(C−4)を得た。
有機薄膜製造用溶液の調製用のシラン系界面活性剤として、M−1:n−オクタデシルトリメトキシシラン(ODS)(Gelest社製)を用いた。
脱水トルエンにイオン交換水を加え、強く攪拌して、第1表に示す含水トルエンを調製した。この含水トルエンにシラン系界面活性剤M−1を最終濃度が0.5重量%になるように加え、室温で30分間攪拌した。次に、この溶液に触媒C−1〜C−3を、第1表に示す所定量滴下し、滴下終了後、室温で3時間攪拌して、溶液(SA−2〜SA−4)を得た。
超音波洗浄およびオゾン洗浄したニッケル基板を、上記の溶液(SA−2〜SA−4)中に、5分間浸漬後引き上げ、トルエンで10秒間超音波洗浄した後に、60℃で10分間乾燥し、M−1の有機薄膜(SAM−2〜SAM−4)の形成を行った。
また、ニッケル基板を石英ガラス基板に代えて、同様に溶液(SA−2)を用いてM−1の有機薄膜(SAM−5)の形成を行った。
この有機薄膜(SAM−5)の接触角を測定した結果、水の接触角は108.1度、テトラデカンの接触角は37.2度であった。
M−1の有機薄膜(SAM−2〜SAM−4、SAM−5)は、いずれも実施例1で形成された剥離膜同様に、優れた剥離性能・耐摩耗性を有していた。
Claims (12)
- 式[1]
Rn−Si−X4−n …… [1]
(式[1]中、Rは置換基を有していてもよいC1〜20の炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜20のハロゲン化炭化水素基、連結基を含むC1〜20の炭化水素基、又は連結基を含むC1〜20のハロゲン化炭化水素基を表し、Xは水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルコキシ基又はアシルオキシ基を表し、nは1〜3の整数を表す。)で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機溶媒溶液に、金型又は母型を接触させることにより、金型表面又は母型表面に有機薄膜からなる離型層が形成されていることを特徴とする成形用金型又は電鋳用母型。 - 成形用金型が樹脂の成形用金型であることを特徴とする請求項1に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 式[1]で示されるシラン系界面活性剤が、n−オクタデシルトリメトキシシランであることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒が、金属酸化物;金属水酸化物;金属アルコキシド類;キレート化又は配位化された金属化合物;金属アルコキシド類部分加水分解生成物;金属アルコキシド類を該金属アルコキシド類の2倍当量以上の水で処理して得られた加水分解生成物;有機酸;シラノール縮合触媒、及び酸触媒から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒が、(a)金属酸化物;金属水酸化物;金属アルコキシド類;キレート化又は配位化された金属化合物;金属アルコキシド類部分加水分解生成物;金属アルコキシド類を該金属アルコキシド類の2倍当量以上の水で処理して得られた加水分解生成物;有機酸;シラノール縮合触媒、及び酸触媒から選ばれる少なくとも1種と(b)前記シラン系界面活性剤を含有する組成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 金属アルコキシド類が、チタンアルコキシド類であることを特徴とする請求項4に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 金属アルコキシド類が、チタンアルコキシド類であることを特徴とする請求項5に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 有機溶媒溶液中の水分量を50ppmから有機溶媒への飽和水分含量の範囲にする又は保持することを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 金型又は母型が、ニッケル製の金型若しくは母型、ステンレス製の金型若しくは母型又はガラス製の金型若しくは母型であることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 樹脂が、アクリル樹脂であることを特徴とする請求項2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 有機溶媒溶液に金型又は母型を浸漬することにより、有機溶媒溶液に金型又は母型を接触させることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
- 金型表面又は母型表面にμmオーダー以下の微細パターンが施されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形用金型又は電鋳用母型。
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US8551560B2 (en) * | 2008-05-23 | 2013-10-08 | Intermolecular, Inc. | Methods for improving selectivity of electroless deposition processes |
JP2012056246A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Fujifilm Corp | 微細な凹凸パターンを表面に有するNi原盤、およびそれを用いたNi複盤の製造方法 |
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US8696864B2 (en) | 2012-01-26 | 2014-04-15 | Promerus, Llc | Room temperature debonding composition, method and stack |
CN104284763A (zh) * | 2012-03-08 | 2015-01-14 | 丹麦技术大学 | 铝模具的硅烷基涂层 |
JP6066484B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 金属部品の製造方法並びにそれに用いられる鋳型および離型膜 |
CN103302775B (zh) * | 2013-05-31 | 2015-10-07 | 苏州市景荣科技有限公司 | 一种pu鞋材复合型脱模剂 |
TW201615375A (zh) * | 2014-10-21 | 2016-05-01 | Nippon Soda Co | 有機薄膜製造方法 |
US11373881B2 (en) * | 2017-12-25 | 2022-06-28 | Toray Industries, Inc. | Release film |
CN107955954B (zh) * | 2018-01-16 | 2019-11-12 | 北京中钞钞券设计制版有限公司 | 一种在电铸镍生产中应用的高分子脱模剂及其制备、成膜和使用方法 |
CN111304701B (zh) * | 2020-04-01 | 2021-02-26 | 集美大学 | 一种利用氧化石墨烯辅助超精密电铸脱模的制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63149116A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Dainippon Ink & Chem Inc | 注型成形品の製造方法 |
JPH04364906A (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 離型用樹脂組成物及びこれを用いた硬化性樹脂の成形方法 |
JPH05339775A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スタンパ製造方法 |
JPH08337654A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
JP2000129484A (ja) * | 1998-10-22 | 2000-05-09 | Kobe Steel Ltd | 電鋳用離型剤 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4534928A (en) * | 1983-12-19 | 1985-08-13 | Dow Corning Corporation | Molding process using room temperature curing silicone coatings to provide multiple release of articles |
NL8600809A (nl) * | 1986-03-28 | 1987-10-16 | Philips Nv | Methode om een matrijs te voorzien van een loslaag. |
JP2545642B2 (ja) | 1990-09-26 | 1996-10-23 | 松下電器産業株式会社 | ガラス |
DE69120788T2 (de) * | 1990-12-25 | 1996-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Nichtverunreinigender, absorbierter Film und Verfahren zu seiner Herstellung |
JP2506234B2 (ja) | 1990-12-25 | 1996-06-12 | 松下電器産業株式会社 | 透光性基体の製造方法 |
JP2633747B2 (ja) | 1991-06-14 | 1997-07-23 | 松下電器産業株式会社 | フッ素系化学吸着単分子累積膜及びその製造方法 |
EP0511548B1 (en) * | 1991-04-30 | 1997-07-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same |
JPH08120178A (ja) * | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Daikin Ind Ltd | 離型剤、該離型剤から得られる硬化皮膜および該離型剤を用いた成形方法 |
DE19541590A1 (de) * | 1995-11-08 | 1997-05-15 | Huels Chemische Werke Ag | Beschichtete Form für die Herstellung von Formteilen aus geschäumtem Latex |
US5772905A (en) * | 1995-11-15 | 1998-06-30 | Regents Of The University Of Minnesota | Nanoimprint lithography |
JP3224750B2 (ja) | 1995-11-28 | 2001-11-05 | 石原産業株式会社 | 微粒子二酸化チタンシリコ−ン分散体 |
JP3599998B2 (ja) | 1998-02-13 | 2004-12-08 | セントラル硝子株式会社 | 撥水液および撥水性被膜の製造方法 |
EP0947478B1 (en) * | 1998-02-13 | 2005-07-13 | Central Glass Company, Limited | Water-repellent solution and method of forming water-repellent film on substrate by using the solution |
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Patent Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPS63149116A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Dainippon Ink & Chem Inc | 注型成形品の製造方法 |
JPH04364906A (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 離型用樹脂組成物及びこれを用いた硬化性樹脂の成形方法 |
JPH05339775A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スタンパ製造方法 |
JPH08337654A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
JP2000129484A (ja) * | 1998-10-22 | 2000-05-09 | Kobe Steel Ltd | 電鋳用離型剤 |
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