JPWO2006025083A1 - 半導体装置、半導体装置の試験方法およびデータ書き込み方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (35)
- 試験モード時、外部から入力された信号をラッチするラッチ回路と、
前記ラッチ回路にラッチされた信号に応じて、メモリセルへの書き込み時に用いる書き込み電圧を規定する信号を生成する生成回路と
を含む半導体装置。 - 前記生成回路は、前記書き込み電圧の初期電圧を規定する信号を生成する回路を含む請求項1記載の半導体装置。
- 前記生成回路は、前記書き込み電圧のパルス幅を規定する信号を生成する回路を含む請求項1記載の半導体装置。
- 前記生成回路は、前記書き込み電圧がステップ状に増加する書き込み電圧である場合、前記書き込み電圧のステップ幅を規定する信号を生成する回路を含む請求項1記載の半導体装置。
- 前記生成回路は、前記書き込み電圧がステップ状に増加する書き込み電圧である場合、前記書き込み電圧のステップ幅を規定する信号を生成する回路を含み、
前記半導体装置は更に、前記回路が生成する書き込み電圧のステップ幅を規定する信号によって所定の容量を選択するスイッチを制御する電圧制御回路を含む請求項1記載の半導体装置。 - 前記ラッチ回路は、所定のアドレス端子に接続され、
前記外部から入力された信号は、前記アドレス端子を介して入力されたアドレス信号である請求項1記載の半導体装置。 - 前記半導体装置は更に、試験モード時、所定のベリファイ期間に前記メモリセルから読み出したセルデータからベリファイデータを出力するセンスアンプ回路と、
前記センスアンプ回路からのベリファイデータを外部に出力する出力回路とを含む請求項1記載の半導体装置。 - 前記半導体装置は更に、前記ラッチ回路にラッチされた信号を用いて、複数のリファレンスセルの中から所定のベリファイ動作時に用いるリファレンスセルを選択するリファレンス回路を含む請求項1記載の半導体装置。
- 前記ラッチ回路は、前記書き込み電圧を規定する信号の種類に応じて、前記外部から入力された信号をラッチするよう構成されている請求項1記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は更に、前記ラッチ回路にラッチされた信号を記憶する不揮発性のメモリを含む請求項1記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は更に、前記ラッチ回路にラッチされた信号を記憶する不揮発性のメモリと、
前記不揮発性のメモリに記憶された信号に基づいて、前記書き込み電圧を規定する信号を生成する制御回路とを含む請求項1記載の半導体装置。 - 前記メモリセルは、複数の異なるしきい値を持つメモリセルである請求項1記載の半導体装置。
- 前記書き込み電圧は、複数の異なるしきい値を持つメモリセルの各レベル毎にステップ状に増加する書き込み電圧である請求項1記載の半導体装置。
- 試験モード時、外部から入力された信号をラッチするステップと、
前記ラッチされた信号を用いてメモリセルへの書き込み時に用いる書き込み電圧を規定する信号を生成する生成ステップと
を含む半導体装置の試験方法。 - 前記生成ステップは、前記書き込み電圧の初期電圧を規定する信号を生成するステップを含む請求項14記載の半導体装置の試験方法。
- 前記生成ステップは、前記書き込み電圧のパルス幅を規定する信号を生成するステップを含む請求項14記載の半導体装置の試験方法。
- 前記生成ステップは、前記書き込み電圧のステップ幅を規定する信号を生成するステップを含む請求項14記載の半導体装置の試験方法。
- 複数の異なるしきい値を持つメモリセルに複数のレベルのデータを書き込む書き込み回路と、
ステップ状に増加する書き込み電圧を規定する信号を前記各レベル毎に生成する生成回路と
を含む半導体装置。 - 前記生成回路は、前記書き込み電圧のステップ幅を規定する信号を前記各レベル毎に生成する回路を含む請求項18記載の半導体装置。
- 前記生成回路は、前記書き込み電圧のパルス幅を規定する信号を前記各レベル毎に生成する回路を含む請求項18記載の半導体装置。
- 前記生成回路は、前記複数のレベルのうちの最後のレベルを書き込み対象とするとき、他のレベルで用いた書き込み電圧よりもパルス幅の長い書き込み電圧を規定する信号を生成する回路を含む請求項18記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は更に、前記書き込み電圧が所定の電圧に達したことを検出する検出回路を含み、
前記生成回路は、前記複数のレベルのうちの最後のレベルを書き込み対象とするとき、前記検出回路で前記書き込み電圧が所定の電圧に達したことを検出後、他のレベルで用いた書き込み電圧よりもパルス幅の長い書き込み電圧を規定する信号を生成する回路を含む請求項18記載の半導体装置。 - 前記生成回路は、前記複数のレベルのうちの第1レベルを書き込み対象としているとき、所定のタイミングにおける書き込み電圧をラッチするラッチ回路と、
前記ラッチ回路にラッチされた書き込み電圧に対応した初期の書き込み電圧に基づいて、前記第1レベルの次の第2レベルの書き込み電圧を規定する信号を生成する回路とを含む請求項18記載の半導体装置。 - 前記所定のタイミングは、前記第1レベルに対する所定のプログラムベリファイをパスしたタイミングである請求項23記載の半導体装置。
- 前記生成回路は、前記書き込み回路を制御する制御回路である請求項18から請求項24のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 異なる複数のレベルのデータを多値メモリセルに書き込む書き込み回路と、
前記書き込み回路を制御し、前記複数のレベルのうちの最後のレベルを書き込み対象とするとき、他のレベルで用いた書き込み電圧よりもパルス幅の長い書き込み電圧を用いて書き込み動作を実行する制御回路と
を含む半導体装置。 - 異なる複数のレベルのデータを多値メモリセルに書き込む書き込み回路と、
前記書き込み回路を制御し、前記複数のレベルのうちの最後のレベルを書き込み対象とするとき、書き込み電圧が所定の電圧に達するまでは、ベリファイ動作を行わず前記書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込み動作を実行する制御回路と
を含む半導体装置。 - 前記半導体装置は更に、前記書き込み電圧が所定の電圧に達したことを検出する検出回路を含み、
前記制御回路は、前記複数のレベルのうちの最後のレベルを書き込み対象とするとき、前記書き込み電圧が所定の電圧に達するまでは、前記書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込み動作を実行し、前記書き込み電圧が所定の電圧に達した後は、他のレベルで用いた書き込み電圧よりもパルス幅の長い書き込み電圧を用いて書き込み動作を実行する請求項26記載の半導体装置。 - 複数の異なるしきい値を持つメモリセルに複数のレベルのデータを書き込む書き込み回路と、
前記書き込み回路を制御し、前記複数のレベルのうちの第1レベルを書き込み対象として書き込み電圧をステップ状に増加させながら第1の書き込み動作を実行し、前記第1の書き込み動作を実行しながら所定のタイミングにおける書き込み電圧を記憶し、前記第1レベルの次の第2レベルを書き込み対象として前記記憶した書き込み電圧に対応した初期の書き込み電圧をステップ状に増加させながら第2の書き込み動作を行う制御回路と
を含む半導体装置。 - 前記半導体装置は、前記所定タイミングにおける書き込み電圧をラッチするラッチ回路を含む請求項29記載の半導体装置。
- 前記所定のタイミングは、前記第1レベルに対する所定のプログラムベリファイをパスしたタイミングである請求項29記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は、半導体記憶装置である請求項13記載の半導体装置。
- 多値メモリセルの複数のレベルのうちの第1レベルを書き込み対象として書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込みを行う第1ステップと、
前記第1ステップにおける所定のタイミングの書き込み電圧を記憶する第2ステップと、
前記第1レベルの次の第2レベルを書き込み対象として前記第2ステップで記憶した書き込み電圧に対応した初期の書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込みを行う第3ステップと
を含むデータ書き込み方法。 - 多値メモリセルの複数のレベルのうちの最後のレベル以外のレベルを書き込み対象として書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込みを行う第1ステップと、
前記複数のレベルのうち最後のレベルを書き込み対象として前記第1ステップで用いた書き込み電圧よりもパルス幅の長い書き込み電圧を用いて書き込みを行う第2ステップと、
を含むデータ書き込み方法。 - 多値メモリセルの複数のレベルのうちの最後のレベル以外のレベルを書き込み対象として書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込みを行う第1ステップと、
前記複数のレベルのうち最後のレベルを書き込み対象として、書き込み電圧が所定の電圧に達するまでは、ベリファイ動作を行わず前記書き込み電圧をステップ状に増加させながら書き込みを行う第2ステップと
を含むデータ書き込み方法。
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