JPS63289865A - 電荷転送素子 - Google Patents

電荷転送素子

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JPS63289865A
JPS63289865A JP62124608A JP12460887A JPS63289865A JP S63289865 A JPS63289865 A JP S63289865A JP 62124608 A JP62124608 A JP 62124608A JP 12460887 A JP12460887 A JP 12460887A JP S63289865 A JPS63289865 A JP S63289865A
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diffusion region
transistor
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    • GPHYSICS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は固体撮像装置や電荷転送形の遅延線、くし形
フィルタ、トランスバーサルフィルタなどに用いられる
電荷転送素子に係り、特に信号電荷量を電圧値に変換す
る出力回路を改良した電荷転送素子に関する。
(従来の技術) 近年、テレビ、ビデオディスクプレーヤ(VDP)、ビ
デオテープレコーダ(VTR)などのビデオ機器には、
広帯域特性及び遅延特性に優れているなどの理由により
、電荷転送素子く以下、CTDと称する)が使用されて
いる。
このCTDにおける出力回路の信号出力方式の1つとし
てフローティング拡散方式がある。第6図はこのフロー
ティング拡散方式を使用した従来のCTDの出力回路付
近の構成を示す図である。
図中、61ないし64は電荷転送部に設けられた転送電
極であり、これらの電極は2個が1組となり、2相の転
送パルスφ1.φ2に基づいて信号電荷が順次転送され
る。これらの転送電極61〜64下を転送されてきた信
号電荷は出力ゲート電極65を介してフローティング拡
散領域66に与えられる。このフローティング拡散領域
66にはエンハンスメント型(以下、E型と称する)の
MOSトランジスタ67と電流源68とで構成されたソ
ースホロワ形式の出力回路69が接続されており、この
出力回路69でフローティング拡散領域66の信号電荷
量が電圧値■Oに変換され、電圧信号として取り出され
る。
出力回路69で電圧信号が取り出された後は、フローテ
ィング拡散領域66に隣接して設けられたリセットゲー
ト電極70が開かれ、不要電荷がドレイン領域71に排
出される。
ところで、携帯用VTRなどでは回路系の電源電圧が例
えば5■程度に低電圧化されてきているため、CTDに
対しても低電圧化の要求が強くなっている。他方、CT
Dの出力回路は線形性の良好な状態で動作することが要
求される。
いま、ドレイン領域71に印加されるリセット電圧をV
GG、出力回路69の電源電圧をVDD、フローティン
グ拡散領域66に信号電荷が転送されたときのフローテ
ィング拡散領域に転送された電荷の直流バイアス成分を
ΔVFD、交流信号成分をΔV、駆動用MOSトランジ
スタ67の一値電圧をVTHとすると、出力回路69が
線形性を維持するにはトランジスタ67が飽和領域で動
作することが必要であり、そのためには、 VGG−ΔVFD−ΔV−VTH<VDD・・・ 1 のような関係が常に満足されなければならない。
ここで、低電圧動作が可能なフローティング拡散方式の
CTDを実現しようとする場合、フローティング拡散領
域66やドレイン領域71などからなる出力部で収容可
能な電荷量が減少し、CTDのダイナミックレンジが減
少する。この対策とじてドレイン領域71に印加するリ
セット電圧VGGとして昇圧された高い電圧を使用する
ことが行われている゛。
ところが、電圧VGGとして昇圧電圧を用いると、VD
Dに対してVGGが高くなるために上記1式を満足する
ことが困難になり、トランジスタ67が非飽和領域で動
作することになる。この結果、従来では出力の線形性が
維持できなくなるという欠点がある。
(発明が解決しようとする問題点) このように従来の電荷転送素子では、出力ダイナミック
レンジを損わずに電Mffi圧の低電圧化を図ろうとす
ると、出力の線形性が損われるという問題がある。
そこでこの発明は、出力のダイナミックレンジ及び線形
性を損わずに電源電圧の低電圧化を図ることができる電
荷転送素子を提供することを目的としている。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明の電荷転送素子は、出力回路内の駆動用MOS
トランジスタの同値電圧を同一基板上に形成された同一
導電型のMOSトランジスタのうちで最大に設定するよ
うにしている。
(作用) この発明の電荷転送素子では、出力回路内の駆動用MO
Sトランジスタの一値電圧が十分に大きくなるように設
定されているため、リセット電圧を十分に高くしてもこ
のトランジスタを飽和領域で動作させことができる。
(実施例) 以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
第1図はこの発明に係る電荷転送素子(CTD)の出力
回路付近の構成を示す図である。11ないし14は電荷
転送部の転送電極である。これらの転送電極11ないし
14は例えば21の多結晶シリコン層で構成されており
、最終段の電極14に隣接して出力ゲート電極15が設
けられている。また、この出力ゲート電極15に隣接し
てフローティング拡散領゛域16が、このフローティン
グ拡散領域16に隣接してリセットゲート電極17が設
けられており、さらにリセットゲート電極17に隣接し
てドレイン領域18がそれぞれ設けられている。上記転
送電極11ないし14はそれぞれ2相の転送パルスφ1
、φ2のいずれか一方が供給されており、出力ゲート電
極15には出力パルスφOGが、リセットゲート電極1
7には高電圧と低電圧との間でレベルが変化するリセッ
トパルスφRがそれぞれ供給され、ドレイン領域18に
は昇圧されたリセット電圧VGGが供給されている。
上記フローティング拡散領域16には、ここに蓄積され
る信号電荷を検出するための出力回路20が接続されて
いる。この出力回路20では、^電圧側の電源電圧VD
Dと低電圧側の電源電圧vSSとの間に2個のMOSト
ランジスタ21.22のソース。
ドレイン間が直列に挿入されている。上記一方のトラン
ジスタ21のゲートは上記フローティング拡散領域16
に接続されており、他方のトランジスタ22のゲートと
電源電圧■SSとの間には定電圧源23が接続されてい
る。すなわち、上記トランジスタ21.22はトランジ
スタ21を駆動トランジスタ、トランジスタ22を定電
流源負荷とし、上記フローティング拡散領域16の蓄積
電荷量を信号電圧に変換するソースホロワ型の増幅器(
インピーダンス、レベル変換器)24を構成している。
このソースホロワ型の増幅器24の後段には、ゲートに
サンプルパルスφSHが供給されるMOSトランジスタ
25と容量26とからなるサンプルホールド回路27が
接続されており、増幅器24で変換された信号電圧はサ
ンプルパルスφSHに同期してこのサンプルホールド回
路27の容1126に保持される。さらに、このサンプ
ルホールド回路27の後段には、MOSトランジスタ2
8を負荷トランジスタ及びMOSトランジスタ29を駆
動トランジスタとするインバータ30が接続されており
、上記サンプルホールド回路27で保持されている電圧
がこのインバータ30によって反転増幅される。このイ
ンバータ30の後段には、2個のMOSトランジスタ3
1.32と定電圧源33とからなり、上記増幅器24と
同一構成のソースホロワ型の増幅器34が接続されてお
り、上記インバータ30で反転増幅された電圧がこの増
幅器34によって増幅された後、出力電圧VOUTとし
て取り出される。
ところで、上記回路は全て同一半導体基板上に構成され
ており、出力回路20内のMOSトランジスタ21.2
2.25.28.29.31.32は全てE型でがつN
チャネルのものであり、またトランジスタ21を除く残
りのトランジスタの一値電圧は全てVTHlに設定され
ており、トランジスタ21の一値電圧は上記VTH1よ
りも高いVT)−12に設定されている。ただし、MO
Sトランジスタのチャネル長し、チャネル幅Wのちがい
による結果として、一値電圧が変わることは当然起こる
。さらに、このVTH2の値は、 VGG−ΔVFD−ΔV−VTH2<VDD・・・ 2 を満足するように設定されている。
次に、上記構成でなるCTDの動作を第2図のポテンシ
ャル・プロファイルを示す図を用いて説明する。
電荷リセット・モードのとき、転送電極11.12に印
加される転送パルスφ1及び出力ゲート電極15に印加
される出力パルスφOGは共に低電圧、転送電極13.
14に印加される転送パルスφ2及びリセットゲート重
積17に印加されるリセットパルスφRは共に高電圧に
なる。このため、第2図(a)に示されるように、電荷
転送部を転送されてきた信号電荷QSは転送電極14下
に蓄積され、これと同時にフローティング拡散領域16
はリセット電圧VGGにリセットされる。
電荷検出モードのときは、転送パルスφ1と出力パルス
φOGが共に高電圧、転送パルスφ2とリセットパルス
φRが共に低電圧になる。このため、第2図(b)に示
されるように、転送電極14下に蓄積されていた信号電
荷QSは出力ゲート電極15下を経由してフローティン
グ拡散領域16に転送される。この信号電荷QSにより
、フローティング拡散領域16には電位変化が生じ、こ
れが出力回路20で検出されて電圧信号■○UTとして
取り出される。
ここで、信号電荷QSが蓄積された状態におけるフロー
ティング拡散領域16の電圧をVFDとすると、出力回
路20内の初段のソースホロワ型増幅器24が線形領域
で動作するためにはトランジスタ21が常に飽和領域で
動作していることが必要であり、このときの条件は、 VFD−VTH2<VDD       ・・・ 3で
ある。一方、信号電荷QSによるフローティング拡散領
域16の電圧変化をΔVFD+ΔVとすると、 VFD−VGG−ΔVFD−ΔV   ・・・ 4とな
る。従って、上記3式と4式をまとめると次式が得られ
る。
VTH2>VGG−ΔVFD−4V−VDD・・・ 5 上記5式で示される一値電圧VTH2は前記2式を満足
している。従って、上記実施例のCTDでは、リセット
電圧VGGを高くしても増幅器24の線形性を保つこと
ができる。また、電圧VGGを高(することができるた
め、出力のダイナミックレンジも広くすることができる
なお、ドレイン領域18に印加される昇圧されたリセッ
ト電圧VGGが同一基板上に構成された昇圧回路で発生
される場合、このVGGの値はプロセス変動に応じて変
化する。従って、このような場合には、このVGGの値
の変化を考慮してトランジスタ21の一値電圧を決定す
る必要がある。
また、トランジスタ21の一値電圧VTH2を他のVT
HIよりも高く設定するには、このトランジスタ専用の
リソグラフィ一工程を追加すればよい。
第3図は電源電圧VDDを5Vに設定したときの、従来
回路と上記実施例回路の場合のソースホロワ型増幅器の
入出力特性を示した曲線図である。
図中の曲線aが上記実施例のものであり、曲線すが従来
回路のものである。上記実施例の場合、低電圧動作を可
能にするめにリセット電圧VGGは昇圧されており、こ
の結果、フローティング拡散領域の電圧VFDが例えば
10()程度になつているとき、曲線すで示される従来
回路の入出力特性ではこの入力バイアスから全くはずれ
ており、−線形な動作は不可能である。これに対して、
曲線aで示される上記実施例回路の入出力特性では入力
バイアスがこの特性に一致しており、ソースホロワ型増
幅器で十分な線形性を得ることができる。
第4図はこの発明の他の実施例によるCTDの出力回路
付近の構成を示す図である。上記第1図の実施例では、
ドレイン領域18には電源電圧VDDよりも高い昇圧さ
れたリセット電圧VGGを印加する場合について説明し
たが、この実施例のCTDでは電源電圧VDそのものが
印加されるような構成のCTDにこ乃発明を実施したも
のである。すなわち、この実施例のCTDのように、フ
ローティング拡散領域16とリセットゲート電極17ど
の間に転送パルスφ2が供給される2個の転送電極35
.36が設けられている場合でも、もちろんCTDを構
成するD型のMOSトランジスタの同値電圧によっては
ドレイン領域18に昇圧された電圧を印加する必要があ
1滅も有得る。
このような電極構造を持っCTDでは、70−ティング
拡散領域16の電圧VFDがVDDよりもかなり大きく
なるため、上記実施例と同様に出力回路20の初段のソ
ースホロワ型増幅器24の駆動用MOSトランジスタ2
1の同値電圧VTH2を他のMOSトランジスタのVT
Hlよりも高く設定し、このトランジスタ21が飽和領
域で動作するようにしている。
第5図はこの発明のさらに他の実施例にょるCTDの出
力回路付近の構成を示す図である。上記各実施例はこの
発明をいずれもNチャネルの単−MOS構成によるCT
Dに実施したものであるが、この実施例では0MOS構
成のものに実施したものである。この実施例では前記N
チャネルのMOSトランジスタのみを用いた出力回路2
oの代わりに0MOS構成の出力回路4oが使用される
この出力回路40では、高電圧側の電源電圧VDDと低
電圧側の電源電圧■ssとの間に2個のNチャネルMO
Sトランジスタ41.42のソース、ドレイン間が直列
に挿入されている。上記一方のトランジスタ41のゲー
トは上記フローティング拡散領bX16に接続されてお
り、他方のトランジスタ42のゲートと電源電圧■SS
との間には定電圧源43が接続されている。すなわち、
上記トランジスタ41.42及び定電圧源43は70−
ティング拡散領域16の蓄積電荷量を信号電圧に変換す
るソースホロワ型の増幅器44を構成している。このソ
ースホロワ型の増幅器44の後段には、ゲートに定電圧
源45が接続され定電流源として作用するPチャネルM
OSトランジスタ46とゲートに上記増幅器44の出力
電圧が供給されるPチャネルMOSトランジスタ47と
からなるPチャネル型のソースホロワ型増幅器48が設
けられている。さらに、この増幅器48の後段にはソー
ス、ドレイン間が並列接続されたPチャネルMOSトラ
ンジスタ49及びNチャネルMOSトランジスタ50と
、容量51とからなるサンプルホールド回路52が接続
されており、増幅器48の出力電圧がサンプルパルスφ
SH及びこの反転パルスに同期してこのサンプルホール
ド回路52の容ff151に保持される。このサンプル
ホールド回路52の後段には、PチャネルMOSトラン
ジスタ53を駆動トランジスタ及びNチャネルMOSト
ランジスタ54を負荷トランジスタとするCMOSイン
バータ55が接続されており、上記サンプルホールド回
路52で保持されている電圧がこのインバータ55によ
って反転増幅された電圧が出力電圧VOUTとして取り
出される。
この実施例においても、出力回路4oの初段のソースホ
ロワ型増幅器44の駆動用MOSトランジスタ41の一
値電圧VTH2を他の同一導電型のMOSトランジスタ
のVTHlよりも高く設定し、このトランジスタ41が
飽和領域で動作するように構成している。これにより、
電源電圧を低電圧化しても出力ダイナミックレンジを損
わずに、出力の線形性を保持することが可能である。
を発明の効果] 以上説明したようにこの発明によれば、出力のダイナミ
ックレンジ及び線形性を損わずに電源電工の゛低電圧化
を図ることができる電荷転送素子を2供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る電荷転送素子の出力
回路付近の構成を示す図、第2図は上記構成でなるCT
Dのポテンシャル・プロファイルを示す図、第3図は従
来回路と上記実施例回路のソースホロワ型増幅器の入出
力特性を比較して示す曲線図、第4図はこの発明の他の
実施例によるCTDの出力回路付近の構成を示す図、第
5図はこの発明のさらに他の実施例によるCTDの出力
回路付近の構成を示す図、第6図は従来のCTDの出力
回路付近の構成を示す図である。 11〜14・・・転送電極、15・・・出力ゲート電極
、16・・・フローティング拡散領域、17・・・リセ
ットゲート電極、18・・・ドレイン領域、20.40
・・・出力回路、21゜41・・・駆動用のNチャネル
MOSトランジスタ、22゜42・・・定電流源負荷用
のNチャネルMOS)−ランジスタ、24.44・・・
ソースホロワ型の増幅器。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 1 図 第2図 VFD(V) 第3図 第4図 第5図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)半導体基板上に形成され、電荷転送部から信号電
    荷が転送されるフローティング拡散領域と、リセット電
    圧が印加され不要電荷を排出するドレイン領域と、上記
    フローティング拡散領域と上記ドレイン領域との間に設
    けられリセットパルスに応じて上記フローティング拡散
    領域の蓄積電荷を上記ドレイン領域に排出制御するリセ
    ット手段と、上記フローティング拡散領域にゲートが接
    続されたエンハンスメント型の駆動用MOSトランジス
    タ及びこのMOSトランジスタのソースに接続された電
    流源とからなり上記フローティング拡散領域の蓄積電荷
    量を電圧値に変換して出力するソースホロワ型の出力回
    路とを具備し、上記出力回路内の駆動用MOSトランジ
    スタの閾値電圧を同一基板上に形成された同一導電型の
    MOSトランジスタのうちで最大に設定したことを特徴
    とする電荷転送素子。(2)半導体基板上に形成され、
    電荷転送部から信号電荷が転送されるフローティング拡
    散領域と、リセット電圧が印加され不要電荷を排出する
    ドレイン領域と、上記フローティング拡散領域と上記ド
    レイン領域との間に設けられリセットパルスに応じて上
    記フローティング拡散領域の蓄積電荷を上記ドレイン領
    域に排出制御するリセット手段と、上記フローティング
    拡散領域にゲートが接続されたエンハンスメント型の駆
    動用MOSトランジスタ及びこのMOSトランジスタの
    ソースに接続されたエンハンスメント型の電流源負荷用
    MOSトランジスタとからなり上記フローティング拡散
    領域の蓄積電荷量を電圧値に変換して出力するソースホ
    ロワ型の出力回路とを具備し、上記出力回路内の駆動用
    MOSトランジスタの一値電圧を上記電流源負荷用MO
    Sトランジスタよりも大きく設定したことを特徴とする
    電荷転送素子。 (3)上記出力回路に供給される電源電圧をVDD、上
    記リセット電圧をVGG、上記フローティング拡散領域
    に転送される電荷の直流バイアス成分をΔVFD、交流
    信号成分をΔV、出力回路内の駆動用MOSトランジス
    タの閾値電圧をVTHとしたときに、VTH>VGG−
    ΔVFD−ΔV−VDDを満足するように上記駆動用ト
    ランジスタの閾値電圧が設定されている特許請求の範囲
    第1項に記載の電荷転送素子。 (4)前記ドレイン領域には前記出力回路に与えられる
    電源電圧よりも絶対値が大きなリセット電圧が供給され
    ている特許請求の範囲第1項に記載の電荷転送素子。 (5)上記出力回路に供給される電源電圧をVDD、上
    記リセット電圧をVGG、上記フローティング拡散領域
    に転送される電荷の直流バイアス成分をΔVFD、交流
    信号成分をΔV、出力回路内の駆動用MOSトランジス
    タの一値電圧をVTHとしたときに、VTH>VGG−
    ΔVFD−ΔV−VDDを満足するように上記駆動用ト
    ランジスタの閾値電圧が設定されている特許請求の範囲
    第2項に記載の電荷転送素子。 前記ドレイン領域には前記出力回路に与えられる電源電
    圧よりも絶対値が大きなリセット電圧が供給されている
    特許請求の範囲第2項に記載の電荷転送素子。
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