JPS5911680A - 電荷転送装置 - Google Patents
電荷転送装置Info
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- JPS5911680A JPS5911680A JP11975882A JP11975882A JPS5911680A JP S5911680 A JPS5911680 A JP S5911680A JP 11975882 A JP11975882 A JP 11975882A JP 11975882 A JP11975882 A JP 11975882A JP S5911680 A JPS5911680 A JP S5911680A
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- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 4
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76833—Buried channel CCD
- H01L29/76841—Two-Phase CCD
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Filters That Use Time-Delay Elements (AREA)
- Networks Using Active Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電荷転送装置(以下、 CCDと略称する)
に関する。
に関する。
C″CDは、アナログ量の遅延線として、信号処理の分
野で、多くの用途が見出されている。周知のように、C
CDの遅延原理は、電荷を転送しこの転送時間を利用し
たものである。また、CCDの出力信号は、一般に、電
荷ではなく、電圧もしくは電流として取り出される。以
゛下、信号電荷を出力信号電圧に変換する従来のCCD
を、図面を用いて説明する。
野で、多くの用途が見出されている。周知のように、C
CDの遅延原理は、電荷を転送しこの転送時間を利用し
たものである。また、CCDの出力信号は、一般に、電
荷ではなく、電圧もしくは電流として取り出される。以
゛下、信号電荷を出力信号電圧に変換する従来のCCD
を、図面を用いて説明する。
第1図は、従来のCCDを説明するためのCCf)の出
力部の一例を示す一部断面図である。同図において、1
はP型の半導体基板、2はN型の埋込チャネル、3はP
型イオン打込層、4は転送ゲート成極、5は蓄積ゲート
成極、6は出力用N型拡散層(以下、単に出力拡散層と
いう)であシ、かつリセッ) MOSFET (以下、
単にFETという)のソース電極、7け前記リセソ)
FETのドレイン電極、8は前記リセッ) FETのゲ
ート電極、9け絶縁物を示す。
力部の一例を示す一部断面図である。同図において、1
はP型の半導体基板、2はN型の埋込チャネル、3はP
型イオン打込層、4は転送ゲート成極、5は蓄積ゲート
成極、6は出力用N型拡散層(以下、単に出力拡散層と
いう)であシ、かつリセッ) MOSFET (以下、
単にFETという)のソース電極、7け前記リセソ)
FETのドレイン電極、8は前記リセッ) FETのゲ
ート電極、9け絶縁物を示す。
また、10は半導体基板1の外部に設けられているリセ
ットに庄原、11け同じく、半導体基板1の外部に設け
られている出力バッファ用の増幅器、21.22は駆動
信号φ工、φ2の入力端子、25はリセット信号φ1′
の入力端子、を示す。なお前記2〜5.21および22
は、電荷転送部を構成している。
ットに庄原、11け同じく、半導体基板1の外部に設け
られている出力バッファ用の増幅器、21.22は駆動
信号φ工、φ2の入力端子、25はリセット信号φ1′
の入力端子、を示す。なお前記2〜5.21および22
は、電荷転送部を構成している。
この第1図のC(、’Dは、一般によく用いられるNチ
ャネル2相駆動方式であシ、また。この動作原理は次の
ようである。すなわち、C’CDの入力ゲート(図示せ
ず)で注入された信号電荷電子が、ゲート電極4,5下
の電位井戸を経由して出力拡散層6へ転送され、その結
果、この出力拡散層6の容量により、前記信号電荷が、
出力電圧として取シ出されるのである。
ャネル2相駆動方式であシ、また。この動作原理は次の
ようである。すなわち、C’CDの入力ゲート(図示せ
ず)で注入された信号電荷電子が、ゲート電極4,5下
の電位井戸を経由して出力拡散層6へ転送され、その結
果、この出力拡散層6の容量により、前記信号電荷が、
出力電圧として取シ出されるのである。
また、CODは、次々と転送をれてくる信号電荷を、正
常(て出力電圧として取υ出丁ために、その載荷を、出
力拡散層6へ転送した陵、リセッ) FETのゲート電
極8へ、リセット信号φl′を印加し、リセッ)を庄原
10のリセットを圧VRで、出力拡散層60雇位井戸を
リセットしている。すなわち、このようにすることによ
シ、出力拡散層6の出力電圧は、例えば第2図に示すよ
うな波形となる。なお、CODの動作原理の詳し、い説
明は、近代科学社発行「電荷転送デバイス」などに紹介
されているので、ここでは省略する。
常(て出力電圧として取υ出丁ために、その載荷を、出
力拡散層6へ転送した陵、リセッ) FETのゲート電
極8へ、リセット信号φl′を印加し、リセッ)を庄原
10のリセットを圧VRで、出力拡散層60雇位井戸を
リセットしている。すなわち、このようにすることによ
シ、出力拡散層6の出力電圧は、例えば第2図に示すよ
うな波形となる。なお、CODの動作原理の詳し、い説
明は、近代科学社発行「電荷転送デバイス」などに紹介
されているので、ここでは省略する。
また、前記リセット動作を完全にするためには、前記リ
セッ)を圧Vnを、駆動信号φl、φ2の駆動電圧よシ
犬きくシ、リセットされた出力拡散層60電位井戸が、
リセット時に最も深くなるようにする必−要がある。そ
こで、通常は、φ!。
セッ)を圧Vnを、駆動信号φl、φ2の駆動電圧よシ
犬きくシ、リセットされた出力拡散層60電位井戸が、
リセット時に最も深くなるようにする必−要がある。そ
こで、通常は、φ!。
φ2の駆動電圧を9V 、VRを16Vに設定している
。
。
なお、第1図では、出力バッファ用の増幅器110亀源
も、リセッ21圧源10を使用している。
も、リセッ21圧源10を使用している。
以上の説明から明らかなように、従来のCODでは、こ
れを動作6せるために、半導体基板外部に、φ1.φ2
の駆動電圧源と、これよりも高い電圧を有するリセット
を庄原との2櫨類を設けなければならなかった。そのた
めに、従来のCCDでは、半導体基板外部の回路構成が
複雑となシその結果、CCD全体も大形化し、かつコス
ト的にも高価になるという欠点があった。
れを動作6せるために、半導体基板外部に、φ1.φ2
の駆動電圧源と、これよりも高い電圧を有するリセット
を庄原との2櫨類を設けなければならなかった。そのた
めに、従来のCCDでは、半導体基板外部の回路構成が
複雑となシその結果、CCD全体も大形化し、かつコス
ト的にも高価になるという欠点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を除去し、単
−電源で動作するCCDを提供するにある。
−電源で動作するCCDを提供するにある。
前記目的を達成するために1本発明では、電荷転送部と
、前記載荷転送部から信号電荷が転送部れる出力拡散層
を有するFETと、駆動信号用電源を所望値に昇圧する
昇圧回路と、前記昇圧回路の出力電圧を前記出力拡散層
のリセット電源とする手段と、そのしきい値電圧がほぼ
前記リセット電源の電圧および前記駆動信号用電源の差
よりも小さくない値であり、かつ前記出力拡散層および
そのゲート電極が接続されたFETを有する出カバソフ
ァ用ソースフォロワとを設けることとした。
、前記載荷転送部から信号電荷が転送部れる出力拡散層
を有するFETと、駆動信号用電源を所望値に昇圧する
昇圧回路と、前記昇圧回路の出力電圧を前記出力拡散層
のリセット電源とする手段と、そのしきい値電圧がほぼ
前記リセット電源の電圧および前記駆動信号用電源の差
よりも小さくない値であり、かつ前記出力拡散層および
そのゲート電極が接続されたFETを有する出カバソフ
ァ用ソースフォロワとを設けることとした。
以下、本発明の一実施例を第3図に示し、これについて
説明する。
説明する。
同図において、12け電圧Vsを有する駆動信号φ1.
φ2用壇、源(以下、単に電源という)、15は駆動信
号φl、φ2の発生部(駆動信号発生部)、14け電源
12の電圧VBを昇圧し、リセッ)[圧VRを発生する
昇圧回路、16.17はC’C,’Dの出力バッファ用
ソースフォロワ(以下、単にソースフォロワという)1
5を構成するNチャネルFET (以下、単にFPJと
いう)のソースおよびドレイン拡散層、18は前記FE
Tのグー)K極、19は前記FEJのしきい値岨圧制御
用のイオン打込層、201’を前記ソースフォロワ15
を構成する電流源を示す。なお、第1図と同一個所およ
び同等部分には同一符号を付しである。
φ2用壇、源(以下、単に電源という)、15は駆動信
号φl、φ2の発生部(駆動信号発生部)、14け電源
12の電圧VBを昇圧し、リセッ)[圧VRを発生する
昇圧回路、16.17はC’C,’Dの出力バッファ用
ソースフォロワ(以下、単にソースフォロワという)1
5を構成するNチャネルFET (以下、単にFPJと
いう)のソースおよびドレイン拡散層、18は前記FE
Tのグー)K極、19は前記FEJのしきい値岨圧制御
用のイオン打込層、201’を前記ソースフォロワ15
を構成する電流源を示す。なお、第1図と同一個所およ
び同等部分には同一符号を付しである。
本実施例では、電源12のR,iE、VBを、駆動信号
発生部13へ供給し、振幅がほぼVBに等しい駆動信号
φl、φ2を発生させている。また1本実施例では、前
記電源12の電圧VBを、JA圧回路14へ供給し、そ
こで、リセットに必要な電圧Vnまで昇圧し、この昇圧
された電圧Vp、をリセット電源としてドレイン電極(
ドレイン拡散層)7へ供給している。その結果、出力拡
散層6は、前記リセット電源によレリセットされること
となる。
発生部13へ供給し、振幅がほぼVBに等しい駆動信号
φl、φ2を発生させている。また1本実施例では、前
記電源12の電圧VBを、JA圧回路14へ供給し、そ
こで、リセットに必要な電圧Vnまで昇圧し、この昇圧
された電圧Vp、をリセット電源としてドレイン電極(
ドレイン拡散層)7へ供給している。その結果、出力拡
散層6は、前記リセット電源によレリセットされること
となる。
なお、この出力拡散層6は、その出力信号電圧を、ソー
スフォロワ15\供給するために、ゲート電極18と接
続爆れている。ここで、昇圧回路14を図面を用いて説
明する。
スフォロワ15\供給するために、ゲート電極18と接
続爆れている。ここで、昇圧回路14を図面を用いて説
明する。
第4図は、昇圧回路14の一例を示す回路図である。第
4図において、141は昇圧用コンデンサ、142,1
45は半導体で形成される第1および第2の切り換えス
イッチ(以下、単にスイッチという)、144は平滑用
コンデンサを示す。なお、12け第3図と同様に、電圧
Vsの電源である。
4図において、141は昇圧用コンデンサ、142,1
45は半導体で形成される第1および第2の切り換えス
イッチ(以下、単にスイッチという)、144は平滑用
コンデンサを示す。なお、12け第3図と同様に、電圧
Vsの電源である。
この回路における昇圧は1次のようにして行なわれる。
まず、第1のスイッチ142を電源12側へ、また第2
のスイッチ145をアース側にすると、昇圧用コンデン
サ141へは、電圧VBの電荷が蓄積される。次のタイ
ミングで、第1のスイッチ142を平滑用コンデンサ1
44側へ、また第2のスイッチ143を電源12側へ切
換えると、こんどは、前記昇圧用コンデンサ141の電
荷と。
のスイッチ145をアース側にすると、昇圧用コンデン
サ141へは、電圧VBの電荷が蓄積される。次のタイ
ミングで、第1のスイッチ142を平滑用コンデンサ1
44側へ、また第2のスイッチ143を電源12側へ切
換えると、こんどは、前記昇圧用コンデンサ141の電
荷と。
覗@12の電圧Vsとが平滑用コンデンサ144へ蓄積
されることとなる。すなわち、この回路では、上記動作
を繰返えすことによって、平滑用コンデンサ144へ、
電源12の直圧Vsのほぼ2倍の電圧を蓄積し、これを
リセッ)K圧VRとして取シ出しているのである。なお
、第4図の昇圧回路け、半導体基板1上に形成できるこ
とは勿論である。
されることとなる。すなわち、この回路では、上記動作
を繰返えすことによって、平滑用コンデンサ144へ、
電源12の直圧Vsのほぼ2倍の電圧を蓄積し、これを
リセッ)K圧VRとして取シ出しているのである。なお
、第4図の昇圧回路け、半導体基板1上に形成できるこ
とは勿論である。
また、第4図は、コンデンサ2個、スイッチ2個による
倍電圧昇圧回路であるが、さらにスイッチおよびコンデ
ンサを組み合わせ゛(,3倍圧、4倍圧回路とするもで
き、この、−合にも。
倍電圧昇圧回路であるが、さらにスイッチおよびコンデ
ンサを組み合わせ゛(,3倍圧、4倍圧回路とするもで
き、この、−合にも。
半導体基板1上に形成できることは勿論である。
さらにまた、昇圧litた電圧2Rを、〆Bの2倍。
6倍の値からずらす(減少させる)必要がある場合には
、平滑コンデンサ144の電荷を、抵抗トランジスタ1
工どで漏洩さ亡れば達成−jることができる。
、平滑コンデンサ144の電荷を、抵抗トランジスタ1
工どで漏洩さ亡れば達成−jることができる。
ぼた、昇圧回路14の他の同としては、第5図に示すよ
うな・インダクタンス145、半導体スイッチ146.
ダイオード147および平滑用コンデンサ144からな
る回路が考えられる。この回路では、半導体スイッチ1
46を、繰返しオン−オフ動作させれば、電源12の電
圧VBの倍這圧を得られることは明白である。7こだし
、この回路では1.インダクタンス145が、半導体基
板1への集積化が困難なために、第4図の回路例に比べ
、やや外部の回路が増加する不都合がある。
うな・インダクタンス145、半導体スイッチ146.
ダイオード147および平滑用コンデンサ144からな
る回路が考えられる。この回路では、半導体スイッチ1
46を、繰返しオン−オフ動作させれば、電源12の電
圧VBの倍這圧を得られることは明白である。7こだし
、この回路では1.インダクタンス145が、半導体基
板1への集積化が困難なために、第4図の回路例に比べ
、やや外部の回路が増加する不都合がある。
次に、ソースフォロワの入出力電圧特性を、第6図に示
し、ソースフォロワ15について説明する。
し、ソースフォロワ15について説明する。
しきい値゛直圧が、0.6rの従来のソースフォロワ(
イオン代込層19が、設けられていないソースフォロワ
)の入出力電圧特性は、第6図の曲線αに示す通シであ
る。この曲線αから明らかなように、従来のノースフォ
ロワでは、その電源電圧、つまF) FETのドレイン
拡散層(ドレイン1極)16の直圧をra(通常9V)
とすると、入力直圧が、このVs付近以上では出力が飽
和して、正常な出力電圧が得られなかった。
イオン代込層19が、設けられていないソースフォロワ
)の入出力電圧特性は、第6図の曲線αに示す通シであ
る。この曲線αから明らかなように、従来のノースフォ
ロワでは、その電源電圧、つまF) FETのドレイン
拡散層(ドレイン1極)16の直圧をra(通常9V)
とすると、入力直圧が、このVs付近以上では出力が飽
和して、正常な出力電圧が得られなかった。
正常な出力電圧を得るには、ソースフォロワを、いわゆ
る5極管領域で動作させる必要があるので、前記ノース
フォロワのFElのゲート・ソース間電圧をVag、ソ
ース・ドレイy 間電圧をVos、しきい値電圧をVT
Rとすると式(1)の条件を満足しなければならない。
る5極管領域で動作させる必要があるので、前記ノース
フォロワのFElのゲート・ソース間電圧をVag、ソ
ース・ドレイy 間電圧をVos、しきい値電圧をVT
Rとすると式(1)の条件を満足しなければならない。
FD、? ≧Va、?−FTH−(1)ここで、アース
電位からの前記FETのゲート電圧、ドレイン電圧を、
それぞれVa、VDとして式(1)へ代入1−ると、式
(1)は式(2)のようになる。
電位からの前記FETのゲート電圧、ドレイン電圧を、
それぞれVa、VDとして式(1)へ代入1−ると、式
(1)は式(2)のようになる。
VD≧Va −VnI ・・(2)したかっ−C
,ソースフォロワの入力な圧として、出力拡散層60心
圧(この太き恣に、第6図から明らかなようにVn−e
oである。)を、ゲート電極18へ印加して、正常な出
力を得るには、例えばドレイン電圧Vo、つまシミ源G
;圧を、リセット電圧付近まで大きくてることが考えら
れる。すなわち、前記電源として、昇圧回路14で昇圧
された電圧IRを使用することが考えられる。
,ソースフォロワの入力な圧として、出力拡散層60心
圧(この太き恣に、第6図から明らかなようにVn−e
oである。)を、ゲート電極18へ印加して、正常な出
力を得るには、例えばドレイン電圧Vo、つまシミ源G
;圧を、リセット電圧付近まで大きくてることが考えら
れる。すなわち、前記電源として、昇圧回路14で昇圧
された電圧IRを使用することが考えられる。
しかし、ソースフォロワは、一般に、数10〜数+00
μA I) K流を必要と−rるので、Mε己のような
場合では、昇圧回路14のスイッチ・およびコンデンサ
などが大形化し、半導体基板1上に集積するのが困難と
なる不都合がある。
μA I) K流を必要と−rるので、Mε己のような
場合では、昇圧回路14のスイッチ・およびコンデンサ
などが大形化し、半導体基板1上に集積するのが困難と
なる不都合がある。
そこで、本実施例では、電源m圧より大きい入力直圧で
も、正常にソースフォロワ15を動作させるため、前記
ソースフォロワ15を構成するFEFのしきい値電圧1
1rnが、前記5極管領域で動作させるための条件式を
満足する値となるように、第5図に示す通シ、前記FE
Tに、イオン打込層19を設けることとした。なお、前
記Vryaの大きさを具体的に述べれば、昇圧回路14
で昇圧されたリセット用直圧Vnと、電源120電圧F
sとの差より小さくない値に設定逼れなければならない
。すなわち、その値VT■lは、通常1/’R−L6V
。
も、正常にソースフォロワ15を動作させるため、前記
ソースフォロワ15を構成するFEFのしきい値電圧1
1rnが、前記5極管領域で動作させるための条件式を
満足する値となるように、第5図に示す通シ、前記FE
Tに、イオン打込層19を設けることとした。なお、前
記Vryaの大きさを具体的に述べれば、昇圧回路14
で昇圧されたリセット用直圧Vnと、電源120電圧F
sとの差より小さくない値に設定逼れなければならない
。すなわち、その値VT■lは、通常1/’R−L6V
。
Ls−qvであるので、J/’TH≧7v となる。
以上のように、イオン打込層19を設けたことによシ、
本実施例のソースフォロワ入出力電圧特性圧特性は、第
6図の曲線Aに示すようになる。
本実施例のソースフォロワ入出力電圧特性圧特性は、第
6図の曲線Aに示すようになる。
すなわち、電源12の電圧Vaよ)大きな入力電圧でも
、正常に出力電圧を出せることとなる。そのために、ソ
ースフォロワ15は、昇圧回路14から電源を取る必要
がなくなり、電源12から供給を受けることとなる。そ
の結果、昇圧回路14は、リセッ)MU源のみとなるの
で、半導体基板1上に集積することが可能となる。
、正常に出力電圧を出せることとなる。そのために、ソ
ースフォロワ15は、昇圧回路14から電源を取る必要
がなくなり、電源12から供給を受けることとなる。そ
の結果、昇圧回路14は、リセッ)MU源のみとなるの
で、半導体基板1上に集積することが可能となる。
なお、しきい値電圧Vraを犬きくするイオン打込層1
9は、ホウ素などの・イオンを用いて、P型シリコン<
si>層を作ることで形成するが、この場合、前述した
転送井戸を設りるためのP型イオン打込層3と同じ工程
で形成するようにすれば、容易に形成することができる
。
9は、ホウ素などの・イオンを用いて、P型シリコン<
si>層を作ることで形成するが、この場合、前述した
転送井戸を設りるためのP型イオン打込層3と同じ工程
で形成するようにすれば、容易に形成することができる
。
なお、以上の説明は、CCI)の出力部にNチャネルF
ETを面已して、これから出力を取り出した場合であっ
たが、前記NグヤネルFETの代ゎシに、PチャネルF
ETを用いても、出力を取シ出せることけ勿論である。
ETを面已して、これから出力を取り出した場合であっ
たが、前記NグヤネルFETの代ゎシに、PチャネルF
ETを用いても、出力を取シ出せることけ勿論である。
ただし、この場合には。
その出力は増幅されている。
以上の説明から明らかなように1本発明によれば、学−
の電源でCCDを動作させることができるとともに、同
一の半導体基板上に、リセット電圧発生用の昇圧回路お
よびソースフォロワを形成することができ、その結果、
半導体基板外部の回路構成が簡単となシ、CCD全体を
小形化できる効果がある。
の電源でCCDを動作させることができるとともに、同
一の半導体基板上に、リセット電圧発生用の昇圧回路お
よびソースフォロワを形成することができ、その結果、
半導体基板外部の回路構成が簡単となシ、CCD全体を
小形化できる効果がある。
また、コスト的にも、単一を源にしたことなどによシ、
安価となった。
安価となった。
第1図は従来のCCDを説明するためのCCDの出力部
の一例を示す一部断面図、第2図は第1図の出力拡散層
6の出力電圧の一例を示す波形図、第3図は本発明の詳
細な説明するためのCCLの出力部の一実施例を示す一
部断面図、第4図は第6図の昇圧回路14の一例を示す
回路図、第5図は昇圧回路14の他の例を示す回路図、
第6図はソースフォロワの入出力電圧特性の一例を示す
特性図である。 6・・・出力拡散層、 12・・・電源、14・・
・昇圧回路% 15・・・ソースフォロワ、16
・・・ドレイン拡散層、 17・・・ソース拡散層、1
B・・・ゲートを極、19・・・イオン打込層。 才 1 虐 埼山 オ 3[1 1′ 4 凹
の一例を示す一部断面図、第2図は第1図の出力拡散層
6の出力電圧の一例を示す波形図、第3図は本発明の詳
細な説明するためのCCLの出力部の一実施例を示す一
部断面図、第4図は第6図の昇圧回路14の一例を示す
回路図、第5図は昇圧回路14の他の例を示す回路図、
第6図はソースフォロワの入出力電圧特性の一例を示す
特性図である。 6・・・出力拡散層、 12・・・電源、14・・
・昇圧回路% 15・・・ソースフォロワ、16
・・・ドレイン拡散層、 17・・・ソース拡散層、1
B・・・ゲートを極、19・・・イオン打込層。 才 1 虐 埼山 オ 3[1 1′ 4 凹
Claims (1)
- (1)電荷転送部と、前記電荷転送部から信号電荷が転
送される出力拡散層を有するFETと、駆動信号用電源
を所望値に昇圧する昇圧回路と、前記昇圧回路の出力電
圧を前記出力拡散層のリセット電源とする手段と、その
しきい値電圧がほぼ前記リセソ)!源の電圧および前記
駆動信号用電源の電圧の差よりも小石くない値であp、
かつ前記出力拡散層およびそのグー)1極が接続された
FEZ”を有する出力バッファ用ソースフォロワとから
構成されたことを特許とする電荷転送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11975882A JPS5911680A (ja) | 1982-07-12 | 1982-07-12 | 電荷転送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11975882A JPS5911680A (ja) | 1982-07-12 | 1982-07-12 | 電荷転送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5911680A true JPS5911680A (ja) | 1984-01-21 |
JPS6251508B2 JPS6251508B2 (ja) | 1987-10-30 |
Family
ID=14769435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11975882A Granted JPS5911680A (ja) | 1982-07-12 | 1982-07-12 | 電荷転送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5911680A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59132668A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-07-30 | Toshiba Corp | 電荷転送素子の出力装置 |
JPS61131854U (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-18 | ||
JPS63300561A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Nec Corp | 半導体装置 |
US4996686A (en) * | 1987-05-21 | 1991-02-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charge transfer device with reset voltage generating circuit |
US5033068A (en) * | 1987-05-21 | 1991-07-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charge transfer device |
US5204989A (en) * | 1990-05-14 | 1993-04-20 | Nec Corporation | Charge sensing device |
US5247554A (en) * | 1987-01-16 | 1993-09-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charge detection circuit |
US5260591A (en) * | 1990-03-19 | 1993-11-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Solid-state image sensor for temporarily fixing a picture on a video screen |
US9036430B2 (en) | 2013-07-01 | 2015-05-19 | International Business Machines Corporation | FinFET-based boosting supply voltage circuit and method |
-
1982
- 1982-07-12 JP JP11975882A patent/JPS5911680A/ja active Granted
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59132668A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-07-30 | Toshiba Corp | 電荷転送素子の出力装置 |
JPH0263299B2 (ja) * | 1983-01-19 | 1990-12-27 | Tokyo Shibaura Electric Co | |
JPS61131854U (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-18 | ||
US5247554A (en) * | 1987-01-16 | 1993-09-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charge detection circuit |
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US9036430B2 (en) | 2013-07-01 | 2015-05-19 | International Business Machines Corporation | FinFET-based boosting supply voltage circuit and method |
US9135987B2 (en) | 2013-07-01 | 2015-09-15 | Internatinal Business Machines Corporation | FinFET-based boosting supply voltage circuit and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6251508B2 (ja) | 1987-10-30 |
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