JPS63227621A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物

Info

Publication number
JPS63227621A
JPS63227621A JP62061631A JP6163187A JPS63227621A JP S63227621 A JPS63227621 A JP S63227621A JP 62061631 A JP62061631 A JP 62061631A JP 6163187 A JP6163187 A JP 6163187A JP S63227621 A JPS63227621 A JP S63227621A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
formula
resin composition
group
curing agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62061631A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0617458B2 (ja
Inventor
Toshio Shiobara
利夫 塩原
Kazutoshi Tomiyoshi
富吉 和俊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP62061631A priority Critical patent/JPH0617458B2/ja
Priority to KR1019880002704A priority patent/KR920009738B1/ko
Priority to DE3889950T priority patent/DE3889950T2/de
Priority to EP88104121A priority patent/EP0282977B1/en
Priority to US07/168,943 priority patent/US4859722A/en
Priority to CN88101396A priority patent/CN1014796B/zh
Publication of JPS63227621A publication Critical patent/JPS63227621A/ja
Publication of JPH0617458B2 publication Critical patent/JPH0617458B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
    • H01B3/30Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
    • H01B3/40Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/32Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
    • C08G59/3218Carbocyclic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/10Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 竜深上の利用分野 本発明は、ガラス転移温度が高く、しかも膨張係数が著
しく小さく、かつ耐クラツク性に優れている」−1低応
力の硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物に関し、特に半
導体装置封止用として好適に用いられるエポキシ樹脂組
成物に関する。
従来の技術及び発明が解決しよやとする問題点硬化性エ
ポキシ樹脂、硬化剤及びこれに各種添加削を配合したエ
ポキシ樹脂組成物は、−・般に他の熱硬化性樹脂に比べ
て成形性、接着性、電気特性、機械的特性、耐湿性等に
優れているため、エポキシ樹脂組成物で半導体装置を封
止することが多く行われている。
しかしながら、近年の半導体装置の分野においては、電
子機器の小型化、薄型化に伴いパッケージ形態も種々さ
まざましこなってきている。
また、半導体素子が直接固着されたプリント配線板或い
はヒートシンクをエポキシ(◇J脂組成物で封止した半
導体装置は年々その種類及び生産量が増加している。こ
のような形の半導体装置は、従来のエポキシ樹脂組成物
で封止すると、プリン1へ配線板とエポキシ樹脂組成物
の熱膨張係数の差により半導体素子が受ける応力が大き
く、素子のクラック、変形により機能が低■し易く、ま
た半導体装置の反りやねじわ等の外観上の問題が生じ易
いといった欠陥を有するものであった。
これらの問題に対し、本出願人は先に硬化性エポキシ樹
脂にオルガノポリシロキサンを配合したエボギシviJ
脂組成物(特開昭56 129246号)、更には芳香
族重合体とオルガノポリシロキサンとからなるブロック
−i+:重合体を添加したエポキシ樹脂組成物(特開昭
58−2141−7号)を完成し、低応力化されたエポ
キシ樹脂組成物を提案してその解決を計ってきた。
しかしながら、上述した低応力化エポキシ樹脂組成物を
用いても、近年の益々高度化した半導体装置の封止用材
料等への高度の要求を完全に満たすことは困難な場合が
あり、現在では更に低応力化さオ′シ、かつ高信頼性を
有する封止用材料の開発が望まれている。
本発明は−1−記事情に鑑みなされたもので、流動性に
優れ、またカラス転移温度が高く、膨張係数が小さく、
かつ耐クラツク性に優れ、しかも低応力化されたエポキ
シ樹脂組成物を提供することを目的とする。
■画点上邂涜j道糞yしゆ々−及μ芥則本発明者らは、
1−記に1的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下
記(1)式のトリフエノール=3− アルカン型樹脂或いはその重合体と下記(2)式の特定
のオルガノポリシロキサンとの反応により得られる共重
合体をエポキシ樹脂組成物に添加することにより、ガラ
ス転移温度が従来のエポキシ樹脂組成物よりも10〜2
0℃高く、かつ低膨張係数であるヒ、耐クラック性に優
れ、しかも低応力の硬化物を与えろことを見出した。特
に、このエポキシ樹脂組成物で封止した半導体装置は素
子特性に優れ、とりわけプリント配線板やヒートシンク
に素子が直接固着されるような半導体装置の封正にこの
エポキシ樹脂を使用した場合において、該半導体装置の
反り変形量が著しく少なく、それ故上記の共重合体を配
合したエポキシ樹脂組成物がDIP型、フラットパック
型、PLCC型、SO型の半導体装置、更にはプリン1
〜配線板やヒートシンクに半導体素子が直接固着された
半導体装置1;おいて好適に使用されることを知見し、
本発明をなすに至ったものである。
従って、本発明は硬化性エポキシ樹脂と硬化剤とを含有
し、更に下記一般式(1) 炭素数1〜10の同種又は異種の1価の炭化水素基を表
わし、又はハロゲン原子を表わす。また、Qは1又は2
の整数、m、nは各々0〜2の整数を表わし、Q + 
m +n≦5である。)で示されるトリフエノールアル
カン型樹脂或いはその重合体と下記一般式(2) %式%(2) (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アル
コキシ基又は置換−価炭化水素基を表ねし、R4は同種
或いは異種の1価の有機基を表わす。また、0.001
≦a≦2,1≦b〈3゜1.001−≦a+b≦3であ
る。)で示されるオルガノポリシロキサンとの反応によ
り得られたブロック共重合体を含有してなるエポキシ樹
脂組成物を提供するものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、上述したように、
硬化性エポキシ樹脂と硬化剤とを含有するエポキシ権脂
組成物中にトリフエノールアルカン型樹脂又はその重合
体とオルガノポリシロキサンとの反応による共重合体を
配合してなるものである。
ここで、この共重合体の製造に用いるトリフエノールア
ルカン型樹脂は、下記一般式(1)で示されるものであ
る。
炭素数1〜10の同種又は異種の1価の炭化水素基を表
わし、Xはハロゲン原子を表わす。また、Qは1又は2
の整数、m、nは各々O〜2の整数を表わし、Q 十m
 +n≦5である。)なお、R1のアルケニル基を含む
1価の有機基−CII2(、I(=CII7等が挙げら
れ、また1り2の1価の炭化水素基としては、メチルJ
1(、エチル基、プロピル基、アリル基、j−プロピル
基、し−ブチル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられ
る。
1−8述したような一般式(1)で表わされる1−リフ
エノールアルカン型樹脂の具体例としては、1;記の化
合物を挙げろことができる。
なお、これらの化合物はUSP4394496号公報に
記載されている方法により合成することができる。
また、本発明で使用される共重合体の他方の原料である
オルガノポリシロキサンは下記式(2)%式% (式中、R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アル
コキシ基又は置換−価炭化水素基を表わし、R4は同種
或いは異種の1価の有機基を表わす。また、0.001
≦a≦2,1≦b〈3゜1.001≦a+b≦3である
。) ここで、R3の置換−価炭化水素基としては、−CH,
NI(2,−CI−LCH2CH2N I−I 2゜C
fl CH,CH2CI■、−等が挙げられる。また、
R4の1価の有機基としては、メチル基、エチル基、フ
ェニル基、ベンジル基等が挙げられる。
これら一般式(2)で表わされるオルガノポリシロキサ
ンは、1分子中に少なくとも1個の=siR”基を持つ
ものであり、その具体的な例として下記の如き化合物を
挙げることができる。
((CII3)2SiO)3 [:CH3I−lSi○
)2 CCcIIs 5103/2)S−11= この場合、本発明で使用される共重合体を得るに際し、
一般式(1)で表わされるトリフエノールアルカン型樹
脂或いはその重合体と一般式(2)で表わされるオルガ
ノポリシロキサンとの反応形態としては、下記の如きも
のを挙げることができる。
υII 上記式中、R5は−H1−CH2CH−CH2を表わし
、Yはハロゲン原子、−OH、アルコキシ基を表わす。
また、R6はメチレン、エチレン、プロピレン等の2価
の炭化水素基を表わし、pはO又は1である。
本発明のブロック共重合体は、上述したように硬化性エ
ポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物に添加
するものであるが、かかる共重合体のエポキシ樹脂組成
物中の配合量はエポキシ樹脂と硬化剤の総量100重量
部に対し1〜100重量部、特に2〜60重量部とする
ことが好ましい。共重合体の配合量を1重量部未満とす
るとエポキシ樹脂組成物のガラス転移点の向上、耐クラ
ツク性の改良、アルミニウム配線移動の抑止等に対する
効果が不十分となる場合があり、また100重量部を超
えるとエポキシ樹脂組成物の機械的強度が低下する場合
がある。
本発明において、硬化性エポキシ樹脂は1分子中に2個
以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であって、この
エポキシ樹脂は後述するような各種硬化剤によって硬化
させることが可能な限り分子構造、分子量等に制限はな
く、従来から知られている種々のも、のを使用すること
ができる。これには例えばエピクロルヒドリンとビスフ
ェノールをはじめとする各種ノボラック樹脂から合成さ
れるエポキシ樹脂、トリフエノールアルカン型エポキシ
樹脂及びその重合体、脂環式エポキシ樹脂あるいは塩素
や臭素原子等のハロゲン原子を導入したエポキシ樹脂な
どを挙げることができる。上記エポキシ樹脂は、その使
用にあたっては必ずしも1種類のみの使用に限定される
ものではなく、2種もしくはそれ以上を混合して使用し
てもよい。
なお、上記エポキシ樹脂の使用に際して、モノエポキシ
化合物を適宜併用することは差支えなく、このモノエポ
キシ化合物としてはスチレンオキシド、シクロヘキセン
オキシド、プロピレンオキシド、メチルグリシジルエー
テル、エチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、アリルグリシジルエーテル、オクチレンオキ
シド、ドデセンオキシドなどが例示される。
また、硬化剤としては、ジアミノジフェニルメタン、ジ
アミノジフェニルスルホン、メタフェニレンジアミン等
に代表されるアミン系硬化剤、無水フタル酸、無水ピロ
メリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の
酸無水物系硬化剤、フェノールノボラック、クレゾール
ノボラック等の1分子中に2個以上の水酸基を有するフ
ェノールノボラック硬化剤、或いはトリフエノールアル
カン類などが例示される。
更に、本発明においては上記した硬化剤とエポキシ樹脂
との反応を促進させる目的で各種硬化促進剤、例えばイ
ミダゾールあるいはその誘導体、三級アミン系誘導体、
ホスフィン系誘導体、シクロアミジン誘導体等を併用す
ることは何ら差支えない。
なお、前記硬化剤の使用量は通常使用される是であり、
硬化促進剤の配合量も通常の範囲とすることができる。
本発明の組成物中には無機充填剤を配合することができ
る。この場合、無機充填剤の種類に制限はなく、エポキ
シ樹脂組成物の用途等に応じて適宜選択されるが、例え
ば結晶性シリカ、非結晶性シリカ等の天然シリカ、合成
高純度シリカ、合成球状シリカ、タルク、マイカ、窒化
ケイ素、ボロンナイl〜ライド、アルミナなどから選ば
れる1種又は2種以上を使用することができる。無機充
填剤の配合量も限定はないが、エポキシ樹脂と硬化剤と
の総量100重量部に対し100〜1000重量部とす
ることが好ましい。その使用量が100重量部未満では
得られるエポキシ樹脂組成物が低応力となる場合があり
、又は耐クラツク性などの物性面でも満足する結果が得
られない場合が生じ、一方1000重量部を超えると流
動性が悪くなり、無機充填剤の分散が困難となる場合が
ある。
本発明の組成物には、更にその目的、用途などに応じ、
各種の添加剤を配合することができる。
例えばワックス類、ステアリン酸などの脂肪酸及びその
金属塩等の離型剤、カーボンブラック等の顔料、染料、
酸化防止剤、難燃化剤、表面処理剤(γ−グリシドキシ
プロピル1−リメトキシシラン等)、その他の添加剤を
配合することは差支えななお、本発明組成物は、その硬
化物が25〜180°Cの膨張係数が2 、 Ox 1
0−5/℃以下、特に1.9X10−’/’C以下とな
るように組成することが好ましく、かかるエポキシ帰脂
組成物を用いて半導体装置、特にプリンlへ基板に半導
体素子が直接固着したような装置を封止することにより
、半導体装置に反り、ねしれが発生したり、半導体素子
に加わる応力が大きくなってチップ割れ、樹脂クラック
等による特性劣化が発生することが確実に防止される。
なおまた、本発明のエポキシ樹脂組成物は、その製造に
際し、上述した成分の所定量を均一に攪拌、混合し、予
め70〜95℃に加熱しであるニーダ−、ロール、エク
ストルーダーなどで混線、冷却し、粉砕するなどの方法
で得ることができる。
ここで、成分の配合順序に特に制限はない。
発明の効果 以」二説明したように本発明に係るエポキシ樹脂組成物
は、硬化型エポキシ樹脂と、硬化剤を含む組成物に(1
)式のトリフエノールアルカン型樹脂又はその重合体と
(2)式のオルガノポリシロキサンとの反応により得ら
れるブロック共重合体を配合したことにより、曲げ強度
、曲げ弾性率等の機械的強度を低下させることなく、し
かも低膨張係数を有し、高ガラス転移温度で耐クラツク
性に優れた硬化物を与えることができ、このためDIP
型、フラットバック型、PLCC型、S○型等のIC,
LSIのほか、1〜ランジスタ、サイリスタ、ダイオー
ド等の半導体装置封止用として好適に使用し得るもので
ある。また、本発明の組成物をヒートシンク或いはプリ
ント基板に半導体が直接固着された半導体装置に使用し
た場合に、樹脂封止後の反り量が著しく少なく、得られ
た半導体装置の寸法精度は極めて優れたものとなる。
更に、本発明の組成物はハイブリッドICのフルモール
ドタイプ等にも有効に使用し得る。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない
なお、実施例と比較例を示すのに先立ち、実施例及び比
較例にて使用したブロック共重合体の製造例を示す。
〔製造例1〜4〕 リフラックスコンデンサー、温度H1、攪拌機及び滴下
ロートを備えた内容積500 mQの四ロフラスコ内に
第1表に示した有機重合体(1〜リフエノールアルカン
型樹脂)j−iv75gを仕込み、2%白金濃度の2−
エチルヘキサノール変性塩化白金酸溶液0.10g及び
メチルイソブチルケ1〜ン(MIBK)100g、hル
ff−ン200 gを入れ、完全に」二記有機重合体樹
脂を溶解させた。1時間共沸脱水を行った後、還流温度
にて下記式で表わされるオルガノポリシロキサン 25gtil−滴下ロートを用いて2時間で滴下した。
滴下後、更に前記還流温度下で6時間反応を行ない、得
られた生成物を水洗し、溶剤を減圧下で留去することに
より、第1表に示すブロック共重合体1〜■を4.5だ
第   1   表 有機重合体(i) 有機重合体(」1) nII 有機重合体(iii) 有機重合体(iv) 但し、g / r = 1.2 / ]−〔製製造例〜
7〕 製造例1〜4と同様の反応装置を用い、四日フラスコ内
に第2表に示した有機重合体(トリフエノールアルカン
型樹脂)■−φ175g、トリフェニルホスフィン0.
05g、ジエチレングリコールジメチルエーテル200
gを入れ、上記有機重合体を溶解させた後、四日フラス
コの内部温度を130±5℃に保ちながら下記式で表わ
されるオルガノボリシロキザン 25gを滴下ロー1〜を用いて約20分で滴下した。
滴下後、更に四日フラスコの内部温度を上記温度に保っ
て4時間反応を行なった。11)られた生成物を水洗し
、次いで溶剤を減圧下で留去することにより、第2表に
示すブロック共重合体V〜■を得た。
−23= 第    2   表 −X D 7342   (Doti  Chemj、
cal 製)有機重合体(vi) −XD905300■、 (Dow Chemic、1
1 g)有機重合体(vii) エポキシ化クレゾールノボラック ・ EOCN  1020−65  (日本化架装)〔
実施例1〜5.比較例1〜3〕 第3表に示す種類及び配合量の成分を熱二本ロールにて
均一に溶融混練し、8種のエポキシ樹脂組成物(実施例
1〜5.比較例1〜3)をネi)た。得られた」二記8
種類のエポキシ樹脂組成物につき、(イ)〜(へ)の諸
試験を行なった。
結果を第3表に併記する。
(イ)スパイラルフロj EMMI規格に準じた金型を使用して、1.60℃、7
0kg/cn!の条件で測定した。
(ロ)  的!度(げ  及び げ弾4率)JIS−に
6911に準じて160’C,70kg/(d、成形温
度3分の条件で1010X4X100の抗折捧を成形し
、180℃で4時間ボス1−キュアーしたものについて
測定した。
(ハ)膨張係数、ガラス転移温度 4mmφX15mmの試験片を用いて、ディラ1〜メー
ターにより毎分5℃の速さで昇温し九時の値を測定した
(ニ)耐クラツク性 9、OX4.5X0.5mmの大きさのシリコンチップ
を14PIN−ICフレーム(4270イ)に接着し、
これにエポキシ樹脂組成物を成形条件160℃×3分で
成形し、180℃で4時間ポストキュアーした後、−1
96℃×1分〜260℃×30秒の熱サイクルを繰返し
て加え、50サイクル後の樹脂クラック発生率を測定し
た(試験数=50)。
(ホ)アルミニウム変形量 3.4X10.2X0.3mmの大きさのシリコンチッ
プ−ににアルミニウl\電極を蒸着した変形量測定素子
を14ピンICフレーム(4270イ)にボンディング
し、これにエポキシ樹脂組成物を成形条件180℃×2
分で成形し、180℃で4時間ポストキュアーした後、
−196℃×1分〜270℃×30秒の熱サイクルを繰
り返して加え、200サイクル後のアルミニウム電極の
変形量を調べた。
(へ)反り量 図面に示したような半導体装置を165℃、70kg/
alt、2分の条件でトランスファー成形し、180℃
で4時間ポストキュアーした後の反り量(δ)を測定し
た。
ここで、図面において1はガラスエポキシ樹脂、2は半
導体素子、3は封止樹脂を示す。
−28= 第3表の結果より、本発明のエポキシ樹脂組成物はガラ
ス転移温度が高く、耐クラツク性に優れ、かつ膨張係数
が小さく、更にかかる組成物で封止された半導体装置の
アルミニウム変形量が小さく、反り是も小さいことが認
められる。
【図面の簡単な説明】
第1図は反り量を測定するために用いた半導体装置の概
略斜視図を示し、第2図は反りの発生した半導体装置の
断面図を示す。 1・・・ガラスエポキシ樹脂、 2・・・半導体素子、
3・・・封止樹脂、  δ・・・反り量。 出願人  信越化学工業株式会社 代理人  弁理士 小 島 隆 司 手続補正書輸鋤 昭和62年4月20日 特許庁長官   黒 1)明 雄  殿1、事件の表示 昭和62年特許願第61631号 2、発明の名称 エポキシ樹脂組成物 3、補正をする者 事件との関係    特許出願人 住  所  東京都千代田区大手町二丁目6番1号氏 
 名  (206)信越化学工業 株式会社代表者 小
坂雄太部 4、代理人 〒104 住  所  東京都中央区銀座3丁目11番14号明細
書の「特許請求の範囲」の欄及び「発明の詳細な説明」
の欄。 6、補正の内容 (1)別紙の通り特許請求の範囲を訂正する。 (2)明細書第6頁第10行目及び第10頁第2行目に
それぞれr R” B R’ l) S i七■司■J
とあるのをいずれもr R’ a R’ b S i 
Oお(a+b)J と訂正する。 以上 特許請求の範囲 「1.硬化性エポキシ樹脂と硬化剤とを含有し、更に、
下記一般式(1) 1〜10の同種又は異種の1価の炭化水素基を表わし、
又はハロゲン原子を表わす。また、Qは1又は2の整数
、m、nは各々O〜2の整数を表わし、Q + m +
 n≦5である。)で示されるトリフエノールアルカン
型樹脂或いはその重合体と下記一般式(2) %式%(2) (式中、R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アル
コキシ基又は置換−価炭化水素基を表わし、R4は同種
或いは異種の1価の有機基を表わす。また、0.001
≦a≦2,1≦b<3.1.001≦a+b≦3である
。)で示されるオルガノポリシロキサンとの反応により
得られたブロック共重合体を含有してなることを特徴と
するエポキシ樹脂組成物。 2、ブロック共重合体の含有量が硬化性エポキシ樹脂と
硬化剤との合計量100重量部当り1〜100重量部で
ある特許請求の範囲第」1項記載のエポキシ樹脂組成物
。」

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、硬化性エポキシ樹脂と硬化剤とを含有し、更に、下
    記一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼…(1) (式中R^1は水素原子、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼又はア ルケニル基を含む1価の有機基を表わし、R^2は炭素
    数1〜10の同種又は異種の1価の炭化水素基を表わし
    、Xはハロゲン原子を表わす。また、lは1又は2の整
    数、m,nは各々0〜2の整数を表わし、l+m+n≦
    5である。)で示されるトリフエノールアルカン型樹脂
    或いはその重合体と下記一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2) (式中、R^3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ア
    ルコキシ基又は置換一価炭化水素基を表わし、R^4は
    同種或いは異種の1価の有機基を表わす。また、0.0
    01≦a≦2,1≦b<3,1.001≦a+b≦3で
    ある。)で示されるオルガノポリシロキサンとの反応に
    より得られたブロック共重合体を含有してなることを特
    徴とするエポキシ樹脂組成物。 2、ブロック共重合体の含有量が硬化性エポキシ樹脂と
    硬化剤との合計量100重量部当り1〜100重量部で
    ある特許請求の範囲第1項記載のエポキシ樹脂組成物。
JP62061631A 1987-03-16 1987-03-16 エポキシ樹脂組成物 Expired - Fee Related JPH0617458B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62061631A JPH0617458B2 (ja) 1987-03-16 1987-03-16 エポキシ樹脂組成物
KR1019880002704A KR920009738B1 (ko) 1987-03-16 1988-03-15 에폭시 수지 조성물
DE3889950T DE3889950T2 (de) 1987-03-16 1988-03-15 Epoxyharzzusammensetzung.
EP88104121A EP0282977B1 (en) 1987-03-16 1988-03-15 Epoxy resin composition
US07/168,943 US4859722A (en) 1987-03-16 1988-03-16 Epoxy resin composition
CN88101396A CN1014796B (zh) 1987-03-16 1988-03-16 环氧树脂组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62061631A JPH0617458B2 (ja) 1987-03-16 1987-03-16 エポキシ樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63227621A true JPS63227621A (ja) 1988-09-21
JPH0617458B2 JPH0617458B2 (ja) 1994-03-09

Family

ID=13176731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62061631A Expired - Fee Related JPH0617458B2 (ja) 1987-03-16 1987-03-16 エポキシ樹脂組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4859722A (ja)
EP (1) EP0282977B1 (ja)
JP (1) JPH0617458B2 (ja)
KR (1) KR920009738B1 (ja)
CN (1) CN1014796B (ja)
DE (1) DE3889950T2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02208314A (ja) * 1989-02-07 1990-08-17 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH0362844A (ja) * 1989-02-27 1991-03-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH04211422A (ja) * 1990-01-25 1992-08-03 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2015535814A (ja) * 2012-09-17 2015-12-17 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物、硬化物及びその用途
US11840601B2 (en) 2019-11-15 2023-12-12 Korea Institute Of Industrial Technology Composition of alkoxysilyl-functionalized epoxy resin and composite thereof

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2643518B2 (ja) * 1989-02-10 1997-08-20 東レ株式会社 プリプレグ
US5034445A (en) * 1989-05-26 1991-07-23 Genesee Polymers Corporation Stabilized polysiloxane fluids and a process for making same
US5034446A (en) * 1989-05-26 1991-07-23 Genesee Polymers Corporation Stabilized polysiloxane fluids and a process for making the same
US5102960A (en) * 1989-09-11 1992-04-07 Bayer Aktiengesellschaft Silicon-epoxy resin composition
US5037898A (en) * 1990-02-27 1991-08-06 Shell Oil Company Polysiloxane-polylactone block copolymer modified thermostat compositions
US5284938A (en) * 1990-02-27 1994-02-08 Shell Oil Company Polysiloxane modified thermoset compositions
JP2966463B2 (ja) * 1990-03-27 1999-10-25 信越化学工業株式会社 硬化性樹脂組成物
JPH0747622B2 (ja) * 1990-11-30 1995-05-24 信越化学工業株式会社 エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH04300914A (ja) * 1991-03-29 1992-10-23 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2526747B2 (ja) * 1991-05-21 1996-08-21 信越化学工業株式会社 エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
US5529847A (en) * 1992-06-10 1996-06-25 Eastman Kodak Company Cured epoxy polysiloxane coated articles useful in toner fusing members
US5952439A (en) * 1993-04-15 1999-09-14 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Epoxy group-containing silicone resin and compositions based thereon
JP3147677B2 (ja) * 1994-09-30 2001-03-19 株式会社村田製作所 液状エポキシ樹脂組成物
JPH08157561A (ja) * 1994-12-01 1996-06-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
US5652463A (en) * 1995-05-26 1997-07-29 Hestia Technologies, Inc. Transfer modlded electronic package having a passage means
US5609889A (en) * 1995-05-26 1997-03-11 Hestia Technologies, Inc. Apparatus for encapsulating electronic packages
SG59997A1 (en) * 1995-06-07 1999-02-22 Ibm Apparatus and process for improved die adhesion to organic chip carries
DE19523897C2 (de) * 1995-06-30 2002-10-24 Bosch Gmbh Robert Verwendung von Silicon-modifizierten Epoxidharzen als Vergußmassen für elektrotechnische oder elektronische Bauteile
US5689137A (en) * 1995-10-16 1997-11-18 Hestia Technologies, Inc. Method for transfer molding standard electronic packages and apparatus formed thereby
US5847929A (en) * 1996-06-28 1998-12-08 International Business Machines Corporation Attaching heat sinks directly to flip chips and ceramic chip carriers
US6495083B2 (en) 1997-10-29 2002-12-17 Hestia Technologies, Inc. Method of underfilling an integrated circuit chip
US6324069B1 (en) 1997-10-29 2001-11-27 Hestia Technologies, Inc. Chip package with molded underfill
US6038136A (en) * 1997-10-29 2000-03-14 Hestia Technologies, Inc. Chip package with molded underfill
US6128195A (en) * 1997-11-18 2000-10-03 Hestia Technologies, Inc. Transfer molded PCMCIA standard cards
DE69922577T2 (de) * 1998-05-07 2005-12-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxydharzzusammensetzungen und damit eingekapselte Halbleiteranordnungen
US6107370A (en) * 1999-01-04 2000-08-22 Aegis Coating Technologies Single pack siliconized epoxy coating
US6444489B1 (en) 2000-12-15 2002-09-03 Charles W. C. Lin Semiconductor chip assembly with bumped molded substrate
US6486549B1 (en) 2001-11-10 2002-11-26 Bridge Semiconductor Corporation Semiconductor module with encapsulant base
US6706405B2 (en) 2002-02-11 2004-03-16 Analytical Services & Materials, Inc. Composite coating for imparting particel erosion resistance
JP4931366B2 (ja) 2005-04-27 2012-05-16 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性シリコーン組成物および電子部品
DE102005060860A1 (de) * 2005-12-20 2007-06-28 Robert Bosch Gmbh Elektronikkomponente mit Vergussmasse
JP5285846B2 (ja) 2006-09-11 2013-09-11 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性シリコーン組成物および電子部品
JP2009043914A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Ishida Yukio 配線板の製造法および配線板
CN101696263B (zh) * 2009-10-29 2012-12-05 复旦大学 一种环氧树脂固化剂及其制备方法和应用
JP6026095B2 (ja) * 2011-10-31 2016-11-16 太陽インキ製造株式会社 熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物、並びにそれを用いたプリント配線板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50129699A (ja) * 1974-03-25 1975-10-14
JPS59129251A (ja) * 1983-01-14 1984-07-25 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂成形材料

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3407169A (en) * 1965-02-25 1968-10-22 Navy Usa Heat resistant adhesive
US4394496A (en) * 1971-08-19 1983-07-19 The Dow Chemical Company Epoxidation products of 1,1,1-tri-(hydroxyphenyl) alkanes
JPS6056171B2 (ja) * 1980-03-17 1985-12-09 信越化学工業株式会社 エポキシ樹脂組成物
JPS5821417A (ja) * 1981-07-29 1983-02-08 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性エポキシ樹脂組成物
JPS58198526A (ja) * 1982-05-17 1983-11-18 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 耐熱性エポキシ樹脂組成物
US4720515A (en) * 1985-05-17 1988-01-19 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor
JPS61285270A (ja) * 1985-06-12 1986-12-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 表面被覆剤

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50129699A (ja) * 1974-03-25 1975-10-14
JPS59129251A (ja) * 1983-01-14 1984-07-25 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂成形材料

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02208314A (ja) * 1989-02-07 1990-08-17 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH0362844A (ja) * 1989-02-27 1991-03-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH04211422A (ja) * 1990-01-25 1992-08-03 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2015535814A (ja) * 2012-09-17 2015-12-17 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物、硬化物及びその用途
US9725590B2 (en) 2012-09-17 2017-08-08 Korea Institute Of Industrial Technology Epoxy compound having alkoxysilyl group, method for preparing the same, composition including the same, cured product made from the composition, and use of the composition
US11840601B2 (en) 2019-11-15 2023-12-12 Korea Institute Of Industrial Technology Composition of alkoxysilyl-functionalized epoxy resin and composite thereof

Also Published As

Publication number Publication date
EP0282977A3 (en) 1989-07-26
DE3889950D1 (de) 1994-07-14
CN1014796B (zh) 1991-11-20
KR880011269A (ko) 1988-10-27
US4859722A (en) 1989-08-22
KR920009738B1 (ko) 1992-10-22
EP0282977A2 (en) 1988-09-21
EP0282977B1 (en) 1994-06-08
DE3889950T2 (de) 1995-01-12
CN88101396A (zh) 1988-10-05
JPH0617458B2 (ja) 1994-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63227621A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2000017150A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH0627180B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPS6284147A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP4380272B2 (ja) エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置
JPS63226951A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH062797B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2705493B2 (ja) 液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2003268071A (ja) エポキシ系樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置
JPH06256364A (ja) 有機ケイ素化合物、その製法及びそれを含有する樹脂組成物
JP3206317B2 (ja) エポキシ樹脂組成物の製造法及びエポキシ樹脂組成物
JP3479815B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2541015B2 (ja) 半導体装置封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH02302426A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP4639427B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPS63238123A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP3204706B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP3013511B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH0573768B2 (ja)
JP2001316566A (ja) 一液性エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH10176099A (ja) エポキシ樹脂組成物、およびこれを用いた樹脂封止型半導体装置
JP2500548B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH05105742A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2591373B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH01315424A (ja) フッ素含有シリコーン変性ノボラック樹脂の製造法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees