JPH0627180B2 - エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

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JPH0627180B2 JP63167117A JP16711788A JPH0627180B2 JP H0627180 B2 JPH0627180 B2 JP H0627180B2 JP 63167117 A JP63167117 A JP 63167117A JP 16711788 A JP16711788 A JP 16711788A JP H0627180 B2 JPH0627180 B2 JP H0627180B2
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    • C08L83/10Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、成形材料、粉体塗装用材料等の各種用途、特
に半導体の封止材料として好適に用いられるエポキシ樹
脂組成物及び該組成物の硬化物により封止された半導体
装置に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 エポキシ樹脂及びこれに無機充填剤等を配合したエポキ
シ樹脂組成物は、成形性,接着性,電気特性,機械特
性,耐湿性等に優れているため、各種成形材料、粉体塗
装用材料、電気絶縁材料などとして広く利用され、特に
最近においては半導体の封止材料として使用されてい
る。
しかしながら、従来のエポキシ樹脂組成物は硬化時にク
ラックが入り、そのため成形、塗装面の外観が損なわれ
たり、特に半導体装置の封止に使用した場合、半導体等
の素子や装置に欠陥を生じさせるものが多い。
このため、例えば、エポキシ樹脂組成物においては、芳
香族重合体とオルガノポリシロキサンとの共重合体を配
合することが提案されており(特開昭58-21417号公
報)、特に芳香族重合体としてアルケニル基含有ノボラ
ック型エポキシ樹脂を用いることも知られている(特開
昭62-84147号公報)。
ところが最近、半導体装置の実装方法として通常表面実
装が多用されるようになり、封止樹脂自体が赤外リフロ
ー、半田浴等の高温(215〜300℃)にさらされる機会が多
くなってきた。一方、半導体装置は樹脂封止をしてから
実装されるまでにかなりの期間放置される場合が多く、
この間に大気中の水分により吸湿してしまう。このた
め、赤外リフロー、半田浴等の浸漬されることにより、
吸湿したエポキシ樹脂成形体が急激に高温にさらされる
わけであり、この際に発生する蒸気圧によりクラックが
生じたり、外観が損なわれたり、半導体の素子や装置に
欠陥を与えるという問題がおこってきた。
従って、エポキシ樹脂組成物にとって、特に半導体装置
の封止に使用する場合、その成形硬化物が単に非吸湿時
の耐クラック性に優れているというだけでは足りず、吸
湿後の加熱時においても優れた耐クラック性を有すると
いうことが、特性上要求されるようになってきた。
本発明は上記要望に応えるためになされたもので、非吸
湿時の耐クラック性はもとより、吸湿後の加熱時におい
ても耐クラック性に優れ、しかも機械的強度等も良好
で、低膨張係数、高ガラス転移点を有する硬化物を与え
るエポキシ樹脂組成物及び該硬化物で封止された半導体
装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段及び作用 本発明者らは、上記目的を達成する手段につき鋭意検討
を行なった結果、アルケニル基含有エポキシ化ノボラッ
ク樹脂のアルケニル基と下記式(1)で示される を有するオルガノポリシロキサンの との付加反応によって得られる共重合体及びポリイミド
樹脂の両者を併用してエポキシ樹脂組成物に配合した場
合、得られる組成物の接着性及び熱時の強度を向上させ
ることができ、非吸湿時の耐クラック性は勿論、吸湿時
の耐クラック性も上記両成分の相乗的な作用でポリイミ
ド樹脂を単独使用した場合に比べて飛躍的に増大するこ
とを知見し、本発明をなすに至ったものである。
従って、本発明は、硬化性エポキシ樹脂と、硬化剤と、
無機充填剤とを含有するエポキシ樹脂組成物に、(イ)
アルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂のアルケニ
ル基と下記式(1) (但し、式中Rは置換又は非置換の1価の炭化水素基、
aは0.01〜0.1、bは1.8〜2.2、1.81
≦a+b≦2.3である。)で示される1分子中のけい
素原子の数が20〜400であり、 の数が1〜5であるオルガノポリシロキサンの との付加反応により得られる共重合体、及び(ロ)ポリ
イミド樹脂を配合したことを特徴とするエポキシ樹脂組
成物及び該組成圧の硬化物で封止された半導体装置を提
供する。
以下、本発明を更に詳しく説明する。
まず、本発明の組成物を構成する硬化性エポキシ樹脂は
1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂
であって、このエポキシ樹脂は後述するような各種硬化
剤によって硬化させることが可能な限り分子構造、分子
量等に特に制限はなく、従来から知られている種々のも
のを使用することができる。これには、例えばエピクロ
ルヒドリンとビスフェノールをはじめとする各種ノボラ
ック樹脂から合成されるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ
樹脂あるいは塩素や臭素原子等のハロゲン原子を導入し
たエポキシ樹脂等をあげることができ、これらの1種又
は2種以上を組み合わせて用いることができるが、これ
らの中ではエポキシ化フェノールノボラック樹脂、エポ
キシ化クレゾールノボラック樹脂、エポキシ化トリフェ
ノールメタン及びその重合体が好ましく使用される。
なお、上記エポキシ樹脂の使用に際して、モノエポキシ
化合物を適宜併用することは差支えなく、このモノエポ
キシ化合物としてはスチレンオキシド、シクロヘキセン
オキシド、プロピレンオキシド、メチルグリシジルエー
テル、エチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、アリルグリシジルエーテル、オクチレンオキ
シド、ドデセンオキシドなどが例示される。
また、硬化剤としては、ジアミノジフェニルメタン、ジ
アミノジフェニルスルホン、メタンフェニレンジアミン
等のアミン系硬化剤、無水フタル酸、無水ピロメリット
酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の酸無水物
系硬化剤、あるいはフェノールノボラック、クレゾール
ノボラック等の1分子中に2個以上の水酸基を有するフ
ェノールノボラック硬化剤などが使用される。
この場合、上記エポキシ樹脂と硬化剤との反応を促進す
る目的で、例えばイミダゾールあるいはその誘導体、第
三級アミン系誘導体、ホスフィン系誘導体、シクロアミ
ジン誘導体等の硬化促進剤を配合することができる。
なお、前記硬化剤の使用量は通常使用される量であり、
硬化促進剤の配合量も通常の範囲とすることができる。
更に、無機充填剤としては、エポキシ樹脂組成物の用途
に応じて適宜選択され、例えば結晶性シリカ、非結晶性
シリカ等の天然シリカ、合成高純度シリカ、合成球状シ
リカ、タルク、マイカ、窒化ケイ素、ボロンナイトライ
ド、アルミナなどから選ばれる1種又は2種以上を使用
することができる。この場合、無機充填剤の配合量は、
エポキシ樹脂と硬化剤の総量100重量部に対し100
〜1000重量部、特に250〜750重量部とすることが
好ましい。無機充填剤量が少な過ぎるとエポキシ樹脂組
成物が低応力となる場合があり、また耐クラック性など
の物性面でも満足する結果が得られない場合が生じ、一
方多過ぎると組成物の流動性が悪くなり、無機充填剤の
分散が困難となる場合がある。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上述した成分に(イ)
成分としてアルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂
のアルケニル基と下記式(1) で示される1分子中のけい素原子の数が20〜400、
好ましくは20〜300、より好ましくは30〜200
であり、 の数が1〜5、好ましくは2又は3であるオルガノポリ
シロキサンの との付加反応により得られる共重合体を配合する。
但し、式中Rは置換又は非置換の一価の炭化水素基(好
ましくは炭素数1〜10)であり、このような基として
は、例えばメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基
等の炭素数1〜10のアルキル基、フェニル基,トリル
基等の炭素数6〜10のアリール基、メトキシ基,エト
キシ基等の炭素数1〜5のアルコキシ基、 -CH2CH2Si(OCH3)3,-CH2CH2COOCH2Si(OCH3)3水素原子の1又は2以上をハロゲン原子で置換したCl
CH2−,CF3CH2CH2−, 等のアルキル基又はアリール基が挙げられる。なお、R
中におけるアルコキシ基の導入率は0〜10モル%とす
ることができる。上述した基の中ではメチル基、フェニ
ル基、2−トリメトキシシリルエチル基が好ましい。ま
た、aは0.01〜0.1、好ましくは0.01〜0.
08、より好ましくは0.01〜0.07の正数、bは
1.8〜2.2、好ましくは1.9〜2.2、より好ま
しくは2.0〜2.1の正数であり、1.81≦a+b
≦2.3、好ましくは1.91≦a+b≦2.3、より
好ましくは2.01≦a+b≦2.05である。
ここで、アルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂と
しては、アルケニル基含有フェノール樹脂をエピクロロ
ヒドリンによりエポキシ化したり、エポキシ樹脂に2−
アリルフェノールやアリルアルコールなどを部分的に反
応させたりすることなどにより得ることができ、具体的
には下記式 (2)〜(4) の化合物などが挙げられる。
式(2) 式(3) 式(4) (但し、上記式 (2)〜(4) において、p,qは1≦p≦
10,1≦q≦3で示される正数を表わす。) 他方、上記式(1)で示されるオルガノポリシロキサンと
しては、1分子中に1〜5個の をもつものであればよいが、特に両末端ハイドロジエン
ジメチルポリシロキサン、両末端ハイドロジエンメチル
フェニルポリシロキサン、両末端ハイドロジエンメチル
・(2−トリメトキシシリルエチル)ポリシロキサンが
好適である。具体的には下記 (5)〜(9) の化合物などが
挙げられる。
式(5) 式(6) 式(7) 式(8) 式(9) この場合、このオルガノポリシロキサンとしては、上記
式(9)に示したように、側鎖に -C2H4Si(OCH3)3,-CH2CH2COOCH2Si(OCH3)3などの基を導入することが分散性、密着性の点から推奨
される。
なお、上記式(1)で表わされるオルガノポリシロキサン
の重合度は20〜400、好ましくは30〜200であ
る。
本発明のエポキシ樹脂組成物に(イ)成分として配合す
る共重合体は、上記アルケニル基含有エポキシ化ノボラ
ック樹脂のアルケニル基と式(1)のSiH 基をもつオルガ
ノポリシロキサンのSiH 基とを従来公知の付加触媒、例
えば塩化白金酸のような白金系触媒の存在下で加熱反応
させることによって得ることができる。この場合、共重
合体の溶解度パラメーターを7.3〜8.5、特に7.
6〜8.2とすることが好ましい。上記溶解度パラメー
ターの共重合体を得るためには、オルガノポリシロキサ
ンの SiH当量をA、アルケニル基含有エポキシ樹脂の分
子量をBとした場合、0.7<A/B<7、特に好まし
くは1≦A/B≦5の範囲で反応させることが好まし
い。
上述した共重合体のエポキシ樹脂組成物中の配合量は、
エポキシ樹脂と硬化剤の総量100重量部に対して1重
量部より少ないとガラス転移点の向上、耐クラック性の
改良、アルミニウム配線移動の抑止等に対する効果が不
十分となる場合があり、また100重量部を越えると機
械的強度が低下する傾向を示すので、1〜100重量
部、特に2〜60重量部とすることが好ましい。
更に、本発明の組成物には、(ロ)成分として、ポリイ
ミド樹脂を配合するものであるが、ポリイミド樹脂とし
ては従来公知の各種ポリイミド樹脂が使用し得る。これ
らの中では融点150℃以下のポリイミド樹脂が好まし
く、更に好ましくはポリマレイミド樹脂であり、特にビ
スマレイミド樹脂が最も好ましく使用される。具体的に
は、N,N′−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N′−
フェニレンビスマレイミド、N,N′−ジフェニルエーテ
ルビスマレイミド、N,N′−エチレンビスマレイミド、
N,N′−キシリレンビスマレイミド、更に下記式 の化合物などが挙げられ、これらの1種又は2種以上を
使用することができる。
これらのポリイミド樹脂の配合量は、エポキシ樹脂と硬
化剤との総量100重量部に対して1〜100重量部、
特に2〜60重量部とすることが好ましい。1重量部よ
り少ないとポリイミド樹脂配合の効果が十分発揮され
ず、耐クラック性の改善が不十分になることがあり、1
00重量部より多いと組成物の硬化性が低下する傾向を
示す。
本発明の組成物には、更に必要によりその目的、用途な
どに応じ、各種の添加剤を配合することができる。例え
ばワックス類、ステアリン酸などの脂肪酸及びその金属
塩等の離型剤、カーボンブラック等の顔料、染料、酸化
防止剤、難燃化剤、表面処理剤(γ−グリコシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン等)、その他の添加剤を配合
することは差支えない。
本発明の組成物は、上述した成分の所定量を均一に攪
拌、混合し、予め70〜95℃に加熱してあるニーダ
ー、ロール、エクストルーダーなどで混練、冷却し、粉
砕するなどの方法で得ることができる。この場合、成分
の配合順序に特に制限はないが、上記(イ),(ロ)両
成分を予め溶融混合したものを配合すると、これらをそ
れぞれ単独に混合配合した場合に比べ、(ロ)成分の組
成物中への分散性が良好になるため好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、成形材料、粉体塗装用
材料等として好適に使用し得るほか、IC,LSI,ト
ランジスタ,サイリスタ,ダイオード等の半導体装置の
封止用、プリント回路板の製造などにも有効に使用でき
る。
なお、半導体装置の封止を行う場合は、従来より採用さ
れている成形方法、例えばトランスファ成形、インジェ
クション成形、注型法などを採用して行なうことができ
る。この場合、エポキシ樹脂組成物の成形温度は150
〜180℃、ポストキュアーは150〜180℃で2〜
16時間行うことが好ましい。
発明の効果 本発明のエポキシ樹脂組成物は硬化性エポキシ樹脂と、
硬化剤と、無機充填剤に加えて、アルケニル基含有エポ
キシ化ノボラック樹脂のアルケニル基と上記(1)式の 構造のオルガノポリシロキサンの 基との付加反応により得られる共重合体及びポリイミド
樹脂を併用して配合したことにより、非吸湿時はもとよ
り、吸湿時における耐クラック性に優れ、しかも曲げ強
度、曲げ弾性等の機械的強度を低下させることもなく、
低膨張係数、高ガラス転移点の硬化物を与えることがで
き、従って成形材料、粉体塗装用材料等、特に半導体の
封止材料として好適に用いられるものであり、またこの
硬化物で封止された半導体装置は信頼性に優れたもので
ある。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。なお下記の例において部は重量部を示す。
まず、実施例,比較例の説明に先立ち、同例で使用した
共重合体の製造例を参考例により示す。
〔参考例1〕 リフラックスコンデンサー,温度計,攪拌機および滴下
ロートを具備した内容積1の四つ口フラスコへ軟化点
80℃のエポキシ化フェノールノボラック樹脂(エポキ
シ当量195)300gを入れ、温度110℃で攪拌し
ながら2−アリルフェノール32gとトリブチルアミン
1gとの混合物を滴下時間10分にて滴下し、更に温度
110℃にて2時間撹拌を続けた。得られた内容物から
未反応の2−アリルフェノール及びトリブチルアミンを
減圧下で留去し、アリル基含有のエポキシ樹脂(アリル
当量1490、エポキシ当量235)を得た。
次に、上記と同様の四つ口フラスコに、上記方法で得た
アリル基含有のエポキシ樹脂120g,メチルイソブチ
ルケトン100g,トルエン200g、2%の白金濃度の
2−エチルヘキサノール変性塩化白金酸溶液0.04g
をそれぞれ入れ、1時間の共沸脱水を行ない、還流温度
にて第1表に示すオルガノポリシロキサン80gを滴下
時間30分にて滴下し、更に同一温度で4時間撹拌して
反応させた後、得られた内容物を水洗し、溶剤を減圧下
で留去することにより、第1表に示す反応生成物(共重
合体I,II,III)を得た。
〔参考例2〕 参考例1と同様の四つ口フラスコを用いて、この中にア
リルグリシジルエーテルで変性された軟化点100℃の
フェノールノボラック樹脂(フェノール当量125、ア
リル当量1100)200g,クロロメチルオキシラン
800g,セチルトリメチルアンモニウムブロマイド
0.6gをそれぞれ入れて加熱し、温度110℃で3時
間撹拌混合した。これを冷却して温度70℃とし、16
0mmHgに減圧してから、この中に水酸化ナトリウムの5
0%水溶液128gを共沸脱水しながら3時間かけて滴
下した。得られた内容物を減圧して溶剤を留去し、次い
でメチルイソブチルケトン300gとアセトン300g
の混合溶剤にて溶解させた後、水洗し、これを減圧下で
溶剤を留去してアリル基含有のエポキシ樹脂(アリル当
量1590,エポキシ当量190)を得た。これに第2
表に示すオルガノポリシロキサンを用い、参考例1と同
様にして第2表に示す反応生成物(共重合体IV,V)を
得た。
〔実施例,比較例〕 エポキシ当量200のエポキシ化クレゾールノボラック
樹脂(硬化性エポキシ樹脂I)、フェノール当量110
のフェノールノボラック樹脂、上記参考例で得られた共
重合体I〜V、下記に示すポリイミド樹脂I,II、トリ
フェニルホスフィン(TPP)、1,8−ジアザビシクロ
ウンデセン−7(DBU)をそれぞれ第3表に示す配合
量で使用し、これに臭素化エポキシノボラック樹脂10
部、石英粉末260部、3−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン1.5部、ワックスE1.5部、カーボ
ンブラック1.0部を加えて得られた配合物を熱2本ロ
ールで均一に溶融混合してエポキシ樹脂組成物を製造し
た。
ポリイミド樹脂I: N,N′−ジフェニルメタンビスマレイミドポリイミド樹
脂II: 次に、これらのエポキシ樹脂組成物につき、以下の(イ)
〜 (ト)の諸試験を行なった。
(イ)スパイラルフロー値 EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃,70kg/
cm2の条件で測定した。
(ロ)機械的強度(曲げ強度及び曲げ弾性率) JIS K 6911に準じて175℃,70kg/cm2,成形
時間2分の条件で10×4×100mmの抗折棒を成形
し、180℃で4時間ポストキュアーしたものについて
測定した。
(ハ)膨張係数、ガラス転移温度 4mmφ×15mmの試験片を用いて、ディラトメーターに
より毎分5℃の速さで昇温した時の値を測定した。
(ニ)非吸湿時の耐クラック性 9.0×4.5×0.5mmの大きさのシリコンチップを
14PIN-ICフレーム(42アロイ)に接着し、これにエ
ポキシ樹脂組成物を成形条件180℃×2分で成形し、
180℃で4時間ポストキュアーした後、−196℃×
1分〜260℃×30秒の熱サイクルを繰返して加え、
50サイクル後の樹脂クラック発生率を測定した。(n
=50) (ホ)アルミニウム電極の変形量 3.4×10.2×0.3mmの大きさのシリコンチップ
上にアルミニウム電極を蒸着した変形量測定素子を14
ピンICフレーム(42アロイ)にボンディングし、こ
れにエポキシ樹脂組成物を成形条件180℃×2分で成
形し、180℃で4時間ポストキュアーした後、−19
6℃×1分〜260℃×30秒の熱サイクルを繰返して
加え、200サイクル後のアルミニウム電極の変形量を
調べた。(n=3) (ヘ)吸湿時の耐クラック性 10.0×8.0×0.3mmの大きさのシリコンチップ
を64PIN-QFPフレーム(42アロイ)に接着し、これ
にエポキシ樹脂組成物を成形条件180℃×2分で成形
し、180℃で4時間ポストキュアーした後、85℃,
85%RHの恒温恒湿槽中に72時間放置したものを2
60℃の半田浴に10秒間浸漬し、樹脂クラック発生率
を調べた。(n=20) (ト)LSIの耐湿性 256kビットDRAMメモリーLSI50個を上記組成物
により180℃×2分で成形し、180℃で4時間ポス
トキュアーした後、85℃85%RHの恒温恒湿槽中に
24時間放置したものを215℃のVPSに60秒間浸
漬し、次いで121℃,2気圧の飽和水蒸気中に200時
間および400時間放置し、その時のLSIの電気的動
作の不良発生率を測定した。
結果を第3表に示す。
第3表の結果から、アルケニル基含有エポキシ化ノボラ
ック樹脂とオルガノハイドロジエンポリシロキサンとの
付加反応による共重合体とポリアミド樹脂とを併用する
ことにより、これらをそれぞれ単独に使用した場合に比
べ、吸湿時の耐クラック性,LSIの耐湿性を顕著に増
大させることができ、また非吸湿時の耐クラック性も優
れていることが確認された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/29 23/31 (72)発明者 二ッ森 浩二 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社シリコーン電子材料技術研 究所内 (56)参考文献 特開 昭62−84147(JP,A) 特開 昭62−195015(JP,A) 特開 昭50−130851(JP,A)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】硬化性エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充
    填剤とを含有するエポキシ樹脂組成物に、(イ)アルケ
    ニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂のアルケニル基と
    下記式(1) (但し、式中Rは置換又は非置換の一価の炭化水素基、
    aは0.01〜0.1、bは1.8〜2.2、1.81
    ≦a+b≦2.3である。)で示される1分子中のけい
    素原子の数が20〜400であり、 の数が1〜5であるオルガノポリシロキサンの との付加反応により得られる共重合体、及び(ロ)ポリ
    イミド樹脂を配合したことを特徴とするエポキシ樹脂組
    成物。
  2. 【請求項2】請求項1記載のエポキシ樹脂組成物の硬化
    物により封止された半導体装置。
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