JPS6290623A - 強誘電性液晶素子 - Google Patents
強誘電性液晶素子Info
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- JPS6290623A JPS6290623A JP60229973A JP22997385A JPS6290623A JP S6290623 A JPS6290623 A JP S6290623A JP 60229973 A JP60229973 A JP 60229973A JP 22997385 A JP22997385 A JP 22997385A JP S6290623 A JPS6290623 A JP S6290623A
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- JP
- Japan
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- liquid crystal
- electrode
- substrate
- ferroelectric liquid
- electrodes
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134336—Matrix
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は液晶表示素fや液晶−光シヤツター等に用いら
れる液晶素子に関し、さらに詳しくは、強誘電性液晶を
用いた液晶素f−のセル基板りの電極構成に関するもの
である。
れる液晶素子に関し、さらに詳しくは、強誘電性液晶を
用いた液晶素f−のセル基板りの電極構成に関するもの
である。
し開示の概要]
木IJl細占及び図面は1強請−R性液晶を用いた液晶
素子において、基板と透明′電極層の間に補助電極を設
けると共に、透明電極層の端部で接合し。
素子において、基板と透明′電極層の間に補助電極を設
けると共に、透明電極層の端部で接合し。
基板面の段差をなくすことにより、液晶を均一な七ノド
メイン配向とし、強誘電性液晶素子−の適正な駆!g特
性が得られるようにしたものである。
メイン配向とし、強誘電性液晶素子−の適正な駆!g特
性が得られるようにしたものである。
「従来の技術」
近年、強誘電性液晶を用いた液晶素子は、その高速応答
性とメモリー性から、高粘細大型ディスプレイへの応用
が考えられている。このようなディスプレイ装置に用い
る場合の構成としては、ストライプ状に形成された走査
電極群とイ、)す電極群とをモ面的に交差させ、その交
差部を画素とするいわゆる単純マトリクス方式がある。
性とメモリー性から、高粘細大型ディスプレイへの応用
が考えられている。このようなディスプレイ装置に用い
る場合の構成としては、ストライプ状に形成された走査
電極群とイ、)す電極群とをモ面的に交差させ、その交
差部を画素とするいわゆる単純マトリクス方式がある。
この単純マトリクス方式による液晶素f−は、高精細化
すると電極の幅が狭くなり、電極1う・イン当りの抵抗
値が高くなってしまう。このため、1ライン中において
も電圧値にパラつきが生じ、駆動に必要な適正電圧が各
画素に印加されないという問題点があった。そこで、透
明電極に金属補助電極を、1ジける方法が考えられてい
る。この方法によれば、各電極の抵抗値は下がり、電圧
のバラつきをなくすことができる。
すると電極の幅が狭くなり、電極1う・イン当りの抵抗
値が高くなってしまう。このため、1ライン中において
も電圧値にパラつきが生じ、駆動に必要な適正電圧が各
画素に印加されないという問題点があった。そこで、透
明電極に金属補助電極を、1ジける方法が考えられてい
る。この方法によれば、各電極の抵抗値は下がり、電圧
のバラつきをなくすことができる。
[発明が解決しようとする問題点」
現在、強誘電性液晶のうちで最も実用性が高いと考えら
れているのは、カイラルスメクティックC相(SIII
Cつ、■相(Sm1つ、G相(SmGつやH相(SmH
’)を持つものである。この液晶相は、液晶を保持する
基板に段差があると配向欠陥を生じやすく、均一なモノ
ドメインが得られない。すなわち前述した方法により透
明電極に補助配線を設けると、基板Eに段差が生じ、強
誘電性液晶を用いた場合、均一なモノドメインとならず
、適正な駆動特性が得られないという欠点があった。
れているのは、カイラルスメクティックC相(SIII
Cつ、■相(Sm1つ、G相(SmGつやH相(SmH
’)を持つものである。この液晶相は、液晶を保持する
基板に段差があると配向欠陥を生じやすく、均一なモノ
ドメインが得られない。すなわち前述した方法により透
明電極に補助配線を設けると、基板Eに段差が生じ、強
誘電性液晶を用いた場合、均一なモノドメインとならず
、適正な駆動特性が得られないという欠点があった。
本発明は前述した従来技術の欠点を除去し、適正な駆動
特性を得ることのできる強誘電性液晶素子を提供するこ
とを目的とするものである。
特性を得ることのできる強誘電性液晶素子を提供するこ
とを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]及び[作用コ本発明の
基本構成を、実施例に対応する第1図を用いて説明する
。第1図は上下液晶基板の断面図である。第1図(a)
において、lはカラスやブラスチンク了のノ、(仮、2
はアルミニウム、クロム、鉗子のメタルによって形成し
た補助電極、3は5i02Tテ形成した絶縁j1り、4
はITO(Indium−Th i n−Ox id
e )Vで形成したストライブ状透明電極、5はポリイ
ミド、ポリビニルアルコール、ポリアミド笠で形成した
配向制御波11り、6はスペーサーである。本発明は、
)1板111に補助電極2とS i02笠の絶縁IIt
23を交rにに形成して北面をモ坦とし、さらにこのL
にストライプ状透明電極4を形成して、このストライブ
状透明電極4の一端と前記補助電極2とを接合(電気的
接続)させたものである。ポリイミド被++q 5はさ
らにこの基板りに一様に形成され、ストライブ状透明電
極4相M 1iilの四部はスペーサー6によってカバ
ーされる。このように、 ?l[i助゛市様相虻間の段
差を絶縁Hりによって埋め、配向面をモ坦とすることに
よって、均一なモノドメイン配向を得ることができる。
基本構成を、実施例に対応する第1図を用いて説明する
。第1図は上下液晶基板の断面図である。第1図(a)
において、lはカラスやブラスチンク了のノ、(仮、2
はアルミニウム、クロム、鉗子のメタルによって形成し
た補助電極、3は5i02Tテ形成した絶縁j1り、4
はITO(Indium−Th i n−Ox id
e )Vで形成したストライブ状透明電極、5はポリイ
ミド、ポリビニルアルコール、ポリアミド笠で形成した
配向制御波11り、6はスペーサーである。本発明は、
)1板111に補助電極2とS i02笠の絶縁IIt
23を交rにに形成して北面をモ坦とし、さらにこのL
にストライプ状透明電極4を形成して、このストライブ
状透明電極4の一端と前記補助電極2とを接合(電気的
接続)させたものである。ポリイミド被++q 5はさ
らにこの基板りに一様に形成され、ストライブ状透明電
極4相M 1iilの四部はスペーサー6によってカバ
ーされる。このように、 ?l[i助゛市様相虻間の段
差を絶縁Hりによって埋め、配向面をモ坦とすることに
よって、均一なモノドメイン配向を得ることができる。
この際、モノドメイン配向を得るにでラビング処理など
の・軸性配向処理が前述の配向制御波11λ5に施され
る。
の・軸性配向処理が前述の配向制御波11λ5に施され
る。
「実施例」
本発明の実施例を第1図と共に説明する。第1図は前述
したように上下液晶基板の断面図で、(a)、 (b)
共、ストライプ状電極に直交する線における断面図を示
したものである。第1図(a)はスペーサー6を配置し
たスペーサー基板、(b)はスペーサー基板と対向する
側の平面基板である。
したように上下液晶基板の断面図で、(a)、 (b)
共、ストライプ状電極に直交する線における断面図を示
したものである。第1図(a)はスペーサー6を配置し
たスペーサー基板、(b)はスペーサー基板と対向する
側の平面基板である。
実施例1
カラス7J、(板lにAj?を膜厚200OAで全面に
蒸着した。このAI!層によって250gmピッチ・幅
3oJL+8のストライブ状補助電極2を形成するため
、へ2層−1−にフォトレジスト剤を5000A 塗布
し、所望のパターニング露光後、エツチングを行いスト
ライプ状の補助電極2を形成した。この時点では電極」
二に500OAのレジスト剤が残されている。次に、そ
のにからEB蒸、?7法によりS i02膜200OA
を形成し、さらにエンチング液によってレジスト剤をリ
フトオフして絶縁膜3を形成した。υ上の工程によって
補助電極2と絶縁膜3の膜厚の差はなくなり、基板上は
V川となる。
蒸着した。このAI!層によって250gmピッチ・幅
3oJL+8のストライブ状補助電極2を形成するため
、へ2層−1−にフォトレジスト剤を5000A 塗布
し、所望のパターニング露光後、エツチングを行いスト
ライプ状の補助電極2を形成した。この時点では電極」
二に500OAのレジスト剤が残されている。次に、そ
のにからEB蒸、?7法によりS i02膜200OA
を形成し、さらにエンチング液によってレジスト剤をリ
フトオフして絶縁膜3を形成した。υ上の工程によって
補助電極2と絶縁膜3の膜厚の差はなくなり、基板上は
V川となる。
次に、ストライプ状のrTO電極(250g山ピッチ、
幅230μm)4を形成するため、補助電極2の上層全
体にITOをE看し、次いで補助電極端とITO電極端
が一致するように、 ITO電極のバターニングをエツ
チングにより行った。さらに、その上層に液晶配向用の
ポリイミド被n!25 (1000A )をスピーナー
塗布により形成し、硬化後電極にモ行なストライプ状の
スペーサー6を形成した。スペーサーは1.2 JLm
の高さでポリイミドで作製し、電極間の段差をうめるた
めに、電極間の間隙に配置した。以りのように作製され
た基板には。
幅230μm)4を形成するため、補助電極2の上層全
体にITOをE看し、次いで補助電極端とITO電極端
が一致するように、 ITO電極のバターニングをエツ
チングにより行った。さらに、その上層に液晶配向用の
ポリイミド被n!25 (1000A )をスピーナー
塗布により形成し、硬化後電極にモ行なストライプ状の
スペーサー6を形成した。スペーサーは1.2 JLm
の高さでポリイミドで作製し、電極間の段差をうめるた
めに、電極間の間隙に配置した。以りのように作製され
た基板には。
従来に比べ急激な段差はない。
一方、スペーサー基板に対向する平面ノ、(板の)、(
本構造は、前記スペーサー基板の場合と同様であるが、
ITOit!、極14の間隙に生じる段差を埋めるため
に5i02を基板全体に1000 A 蒸4した。この
S i02による絶縁層16を設けることにより基板間
の絶縁性も著しく改Hされた。さらに、この絶縁層16
の上層にスペーサー基板と同様にポリイミド被膜15を
100OAのIIり厚で形成した。
本構造は、前記スペーサー基板の場合と同様であるが、
ITOit!、極14の間隙に生じる段差を埋めるため
に5i02を基板全体に1000 A 蒸4した。この
S i02による絶縁層16を設けることにより基板間
の絶縁性も著しく改Hされた。さらに、この絶縁層16
の上層にスペーサー基板と同様にポリイミド被膜15を
100OAのIIり厚で形成した。
次に、この2枚の基板をラビング処理し、内基板の電極
がWにモ面的に直交し、ラビング方向かがいにモ行とな
るようにセル組みした。このようにして作製された液晶
セルに、以Fに示す3成分からなる強誘電性液晶を封入
した。
がWにモ面的に直交し、ラビング方向かがいにモ行とな
るようにセル組みした。このようにして作製された液晶
セルに、以Fに示す3成分からなる強誘電性液晶を封入
した。
CH。
CH。
CH。
偏光WJ微鏡による相観察から、 J二足3成分混合
液晶の5raC”相の温度範囲は4〜35℃であった。
液晶の5raC”相の温度範囲は4〜35℃であった。
この3成分混合液晶を前記液晶セルに封入、封止後、笠
方相まで昇温し、0.5°C/hで徐冷することにより
、配向処理を行った。液晶セルを顕微鏡で観察すると配
向欠陥の非常に少ないモノドメインが得られた。また、
液晶はこのセル厚で、第・と第二の安定状態を持つ双安
定性を示した。
方相まで昇温し、0.5°C/hで徐冷することにより
、配向処理を行った。液晶セルを顕微鏡で観察すると配
向欠陥の非常に少ないモノドメインが得られた。また、
液晶はこのセル厚で、第・と第二の安定状態を持つ双安
定性を示した。
さらに、このセルの基板端から導線を引き出し、各画)
3にパルス電圧印加して前記二状態の反転を行ったとこ
ろ、1 m5ecで±18Vの電圧で反転できた。
3にパルス電圧印加して前記二状態の反転を行ったとこ
ろ、1 m5ecで±18Vの電圧で反転できた。
このように、各画素は一定電圧で一様に反転し、■ライ
ン中での電圧のばらつきが実用りないことが確認された
。
ン中での電圧のばらつきが実用りないことが確認された
。
実施例2
液晶材料として以下に示すDOBAMB(1:を封入し
、それ以外はすべて前記実施例1と同様の実験を行った
ところ、七分均−なモノドメイン配向を得ることができ
た。また、反転に必要な駆動電圧は1 m5ecで±1
6Vであり、前記実施例1と同様に良好な駆動特性が得
られた。
、それ以外はすべて前記実施例1と同様の実験を行った
ところ、七分均−なモノドメイン配向を得ることができ
た。また、反転に必要な駆動電圧は1 m5ecで±1
6Vであり、前記実施例1と同様に良好な駆動特性が得
られた。
比較例1
液晶セルの基板を第2図のように構成した。すなわち、
ガラス基板21上にITO電M124を形成し。
ガラス基板21上にITO電M124を形成し。
このl−に補助電極22に形成した。前記実施例で用い
た膜厚200OAの5ifl;+からなる絶縁膜は構成
から除き、電極上にポリイミド被IQ 25、スペーサ
ー26を順に形成した。第2図は従来例に相当するもの
であり、このような構成にすると基板面の段差か顕著と
なり、段差部分から液晶の配向欠陥が起こりやすくなる
。この比較例では、上記基板からセルを作製し、前記し
た3成分混合液晶をJ’−)人した。このセルを用いて
前記実施例と同様な実験を行ったことろ、段差からジグ
ザグの配向欠陥が走り、この欠陥から双安定性が崩れ、
反転後、すぐに元の安定状態に戻ることが観察された。
た膜厚200OAの5ifl;+からなる絶縁膜は構成
から除き、電極上にポリイミド被IQ 25、スペーサ
ー26を順に形成した。第2図は従来例に相当するもの
であり、このような構成にすると基板面の段差か顕著と
なり、段差部分から液晶の配向欠陥が起こりやすくなる
。この比較例では、上記基板からセルを作製し、前記し
た3成分混合液晶をJ’−)人した。このセルを用いて
前記実施例と同様な実験を行ったことろ、段差からジグ
ザグの配向欠陥が走り、この欠陥から双安定性が崩れ、
反転後、すぐに元の安定状態に戻ることが観察された。
[発明の効果J
以1−説明したように、本発明によれば補助配線による
基板」二の段差をなくし、均・なモノドメイン配向とす
ることができ、強誘電性液晶を用いた場合でも適正な駆
動特性を得ることかできる。
基板」二の段差をなくし、均・なモノドメイン配向とす
ることができ、強誘電性液晶を用いた場合でも適正な駆
動特性を得ることかできる。
第1図は実施例を示す基板断面図、第2図は比較例を示
す基板断面図である。 1.11.21・・・)、(板、2,12.22・・・
補助電極、3 、13.16・・・絶縁膜、 4.14.24・・・ストライプ状透明電極、5.15
.25・・・配向制御?II+公、6.26・・・ヌペ
ーサー。
す基板断面図である。 1.11.21・・・)、(板、2,12.22・・・
補助電極、3 、13.16・・・絶縁膜、 4.14.24・・・ストライプ状透明電極、5.15
.25・・・配向制御?II+公、6.26・・・ヌペ
ーサー。
Claims (2)
- (1)透明電極が形成された二枚の基板間に、強誘電性
液晶を挟持してなるセル構造の液晶素子において、前記
基板と透明電極層の間に補助電極が形成され、前記透明
電極層の端部で接合していることを特徴とする強誘電性
液晶素子。 - (2)前記強誘電性液晶がスメクティックC相であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の強誘電性液
晶素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60229973A JPH0685032B2 (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | カイラルスメクティック液晶素子 |
US06/918,377 US4728176A (en) | 1985-10-17 | 1986-10-14 | Ferroelectric liquid crystal device with metallic auxiliary electrodes provided adjacent to the transparent electrodes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60229973A JPH0685032B2 (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | カイラルスメクティック液晶素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6290623A true JPS6290623A (ja) | 1987-04-25 |
JPH0685032B2 JPH0685032B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16900605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60229973A Expired - Fee Related JPH0685032B2 (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | カイラルスメクティック液晶素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4728176A (ja) |
JP (1) | JPH0685032B2 (ja) |
Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
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WO2011111650A1 (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-15 | 太陽誘電株式会社 | 導体構造、透明デバイス及び電子機器 |
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US4932758A (en) * | 1987-09-17 | 1990-06-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Ferroelectric smectic liquid crystal device having a bistable alignment state providing two stable orientation states |
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