JP2520604B2 - 液晶素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶素子及びその製造方法Info
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- JP2520604B2 JP2520604B2 JP61155149A JP15514986A JP2520604B2 JP 2520604 B2 JP2520604 B2 JP 2520604B2 JP 61155149 A JP61155149 A JP 61155149A JP 15514986 A JP15514986 A JP 15514986A JP 2520604 B2 JP2520604 B2 JP 2520604B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は液晶表示素子や液晶−光シャッター等に用い
られる液晶素子に関し、さらに詳しくは強誘電性液晶を
用いた液晶素子のセル基板上の電極構成に関するもので
ある。
られる液晶素子に関し、さらに詳しくは強誘電性液晶を
用いた液晶素子のセル基板上の電極構成に関するもので
ある。
［開示の概要］ 本明細書及び図面は、強誘電性液晶を用いた液晶素子
において、ストライプ電極間のスペース部に低抵抗金属
線を形成して遮光することにより、全面に渡って表示ム
ラのない鮮明な画像を得ることができ、高速表示も可能
とする技術を開示するものである。
において、ストライプ電極間のスペース部に低抵抗金属
線を形成して遮光することにより、全面に渡って表示ム
ラのない鮮明な画像を得ることができ、高速表示も可能
とする技術を開示するものである。
［従来の技術］ 従来、この種の液晶表示素子の構造としては、ガラス
基板上に蒸着した透明導電性膜をストライプ状に加工し
て透明電極とし、しかる後、前記ガラス基板上に液晶分
子の分子方向を一定とするための配向膜を塗布すると共
に、前記透明電極を対向させ、かつ直交する様に配置
し、２枚の基板間に強誘電性液晶を挟持した単純マトリ
ックス構造とするものであった。
基板上に蒸着した透明導電性膜をストライプ状に加工し
て透明電極とし、しかる後、前記ガラス基板上に液晶分
子の分子方向を一定とするための配向膜を塗布すると共
に、前記透明電極を対向させ、かつ直交する様に配置
し、２枚の基板間に強誘電性液晶を挟持した単純マトリ
ックス構造とするものであった。
［発明が解決しようとする問題点］ 強誘電性液晶は、初期配向時に２つの安定状態のうち
のどちから一方に配向する。しかしながら、駆動時に電
圧のかからない電極間のスペース部においては、この２
つの安定状態が常に混在したままとなるため、素子とし
ての表示特性が著しく低下してしまうという欠点があっ
た。
のどちから一方に配向する。しかしながら、駆動時に電
圧のかからない電極間のスペース部においては、この２
つの安定状態が常に混在したままとなるため、素子とし
ての表示特性が著しく低下してしまうという欠点があっ
た。
本発明は、このような従来例における欠点を鑑みなさ
れたもので、全面に渡って表示ムラのない鮮明な画像を
得ることができ、且つ表示面積を大きくしても高速表示
が可能な液晶素子を提供することを目的とするものであ
る。
れたもので、全面に渡って表示ムラのない鮮明な画像を
得ることができ、且つ表示面積を大きくしても高速表示
が可能な液晶素子を提供することを目的とするものであ
る。
［問題点を解決するための手段］及び［作用］ 上記問題点を解決するために成された本発明の手段
を、実施例に対応する第２図を用いて説明する。
を、実施例に対応する第２図を用いて説明する。
即ち本発明の第一は、ストライプ状に透明電極２が形
成された二枚の基板１間に、双安定性を有する液晶を挟
持してなるセル構造の液晶素子において、 基板１上には、透明電極２間のスペース部と当該スペ
ース部に隣接する少なくとも一方の透明電極２に跨がる
絶縁膜６が設けられており、 絶縁膜６上には、絶縁膜６によって当該スペース部に
隣接する一方の透明電極２とは絶縁され、且つ他方の透
明電極２と接続する金属膜３が、当該スペース部を覆う
ようにして設けられていることを特徴とする液晶素子に
関する。
成された二枚の基板１間に、双安定性を有する液晶を挟
持してなるセル構造の液晶素子において、 基板１上には、透明電極２間のスペース部と当該スペ
ース部に隣接する少なくとも一方の透明電極２に跨がる
絶縁膜６が設けられており、 絶縁膜６上には、絶縁膜６によって当該スペース部に
隣接する一方の透明電極２とは絶縁され、且つ他方の透
明電極２と接続する金属膜３が、当該スペース部を覆う
ようにして設けられていることを特徴とする液晶素子に
関する。
また、本発明の第二は、ストライプ状に透明電極２が
形成された二枚の基板１間に双安定性を有する液晶を挟
持してなるセル構造の液晶素子の製造方法において、 基板１上にストライプ状の透明電極２を形成した後、
透明電極２間のスペース部と当該スペース部に隣接する
少なくとも一方の透明電極２に跨がるように絶縁膜６を
形成し、さらに、絶縁膜６によって当該スペース部に隣
接する一方の透明電極２とは絶縁され、且つ他方の透明
電極２と接続する金属膜３を、当該スペース部を覆うよ
うにして形成することを特徴とする液晶素子の製造方法
に関する。
形成された二枚の基板１間に双安定性を有する液晶を挟
持してなるセル構造の液晶素子の製造方法において、 基板１上にストライプ状の透明電極２を形成した後、
透明電極２間のスペース部と当該スペース部に隣接する
少なくとも一方の透明電極２に跨がるように絶縁膜６を
形成し、さらに、絶縁膜６によって当該スペース部に隣
接する一方の透明電極２とは絶縁され、且つ他方の透明
電極２と接続する金属膜３を、当該スペース部を覆うよ
うにして形成することを特徴とする液晶素子の製造方法
に関する。
本発明によれば、一方の透明電極と接続し且つ他方の
透明電極とは確実に絶縁された金属膜によって、当該透
明電極間のスペース部をほぼ完全に覆うことができる。
これにより、透明電極間のショートを防止できると共
に、強誘電性液晶の２つの安定状態が混在する領域をな
くし、且つスペース部を遮光することができる。この結
果、液晶の配向ムラをなくし、鮮明な画像を得ることが
できる。また、この低抵抗の金属膜を遮光層とすること
により、表示面積を大きくしても高速表示が可能にな
る。
透明電極とは確実に絶縁された金属膜によって、当該透
明電極間のスペース部をほぼ完全に覆うことができる。
これにより、透明電極間のショートを防止できると共
に、強誘電性液晶の２つの安定状態が混在する領域をな
くし、且つスペース部を遮光することができる。この結
果、液晶の配向ムラをなくし、鮮明な画像を得ることが
できる。また、この低抵抗の金属膜を遮光層とすること
により、表示面積を大きくしても高速表示が可能にな
る。
［実施例］ 第１図は本発明の参考例にかかる液晶素子に用いられ
る基板の断面図であり、第２図は本発明の実施例にかか
る液晶素子に用いられる基板の断面図である。第１図に
おいて、１はガラスまたはプラスチック等の基板、２は
In2O3,SnO2、またはITO（Indium-Tin-Oxide）等の透明
導電膜をスパッタリング蒸着法やイオンプレーティング
蒸着法等を用いて蒸着した後、通常のフォトリソグラフ
ィー及びエッチング技術を用いてストライプ状に形成し
た透明電極、３はAl,Cr,Au等の金属膜、４はSiO2,TiO2,
Ti2O5,ZrO2等の無機絶縁膜、５はポリイミド、ポリビニ
ルアルコール等の配向膜である。
る基板の断面図であり、第２図は本発明の実施例にかか
る液晶素子に用いられる基板の断面図である。第１図に
おいて、１はガラスまたはプラスチック等の基板、２は
In2O3,SnO2、またはITO（Indium-Tin-Oxide）等の透明
導電膜をスパッタリング蒸着法やイオンプレーティング
蒸着法等を用いて蒸着した後、通常のフォトリソグラフ
ィー及びエッチング技術を用いてストライプ状に形成し
た透明電極、３はAl,Cr,Au等の金属膜、４はSiO2,TiO2,
Ti2O5,ZrO2等の無機絶縁膜、５はポリイミド、ポリビニ
ルアルコール等の配向膜である。
第１図及び第２図に示すように、本発明は基板１上に
形成されたストライプ状の透明電極２に平行に接触し、
且つ電極間のスペース部（図中Ａ）を覆うように金属膜
３を形成して電極間を遮光したものである。このような
基板２枚を、電極が対向し、且つ互いに直交するよう配
置し、基板間に強誘電性液晶を封入することによりセル
を得ることができる。
形成されたストライプ状の透明電極２に平行に接触し、
且つ電極間のスペース部（図中Ａ）を覆うように金属膜
３を形成して電極間を遮光したものである。このような
基板２枚を、電極が対向し、且つ互いに直交するよう配
置し、基板間に強誘電性液晶を封入することによりセル
を得ることができる。
参考例 ガラス基板上に高周波スパッタ法によりITO膜1000Å
を蒸着し、ポジ型レジスト（AZ-1370Hoechst社製）をス
ピンナーを用いて１μｍ塗布し、プレベークした。この
レジスト層上にマスク巾80μｍ、マスク部のピッチ100
μｍのストライプ状マスクを用いて露光した、次いで現
像水洗してストライプパターンを形成した後、塩化第２
鉄と塩酸と水の混合液でITO膜をエッチングした。次い
でこの基板上にAlをEB蒸着機により500Åで蒸着した。
その後ガラス基板上にポジ型レジスト（AZ-1370Hoechst
社製）をスピンナーを用いて１μｍ塗布し、このレジス
ト層上にマスク巾20μｍ、マスク部のピッチ100μｍの
ストライプ状マスクを用いて、ITO膜のストライプパタ
ーンに５μｍ程度重なる様に露光した。次いで現像、水
洗してストライプパターンを形成した後、リン酸、硝
酸、酢酸、水の混合液でAlをエッチングした。
を蒸着し、ポジ型レジスト（AZ-1370Hoechst社製）をス
ピンナーを用いて１μｍ塗布し、プレベークした。この
レジスト層上にマスク巾80μｍ、マスク部のピッチ100
μｍのストライプ状マスクを用いて露光した、次いで現
像水洗してストライプパターンを形成した後、塩化第２
鉄と塩酸と水の混合液でITO膜をエッチングした。次い
でこの基板上にAlをEB蒸着機により500Åで蒸着した。
その後ガラス基板上にポジ型レジスト（AZ-1370Hoechst
社製）をスピンナーを用いて１μｍ塗布し、このレジス
ト層上にマスク巾20μｍ、マスク部のピッチ100μｍの
ストライプ状マスクを用いて、ITO膜のストライプパタ
ーンに５μｍ程度重なる様に露光した。次いで現像、水
洗してストライプパターンを形成した後、リン酸、硝
酸、酢酸、水の混合液でAlをエッチングした。
このようにして作製された２つの基板のそれぞれの表
面に、液晶配向膜として約500Åのポリビニルアルコー
ル層を形成し、ラビング処理を施した。次に２つの基板
を対向させ、間隙が約１μｍとなるようにビーズスペー
サーで調節し、強誘電性液晶〔p-η−オクチルオキシ安
息香酸‐ｐ′‐（２−メチルブチルオキシ）フェニルエ
ステルとp-η−メニルオキシ安息香酸‐ｐ′‐（2-メチ
ルブチルオキシ）フェニルエステルを主成分とした液晶
組成物〕を注入した。
面に、液晶配向膜として約500Åのポリビニルアルコー
ル層を形成し、ラビング処理を施した。次に２つの基板
を対向させ、間隙が約１μｍとなるようにビーズスペー
サーで調節し、強誘電性液晶〔p-η−オクチルオキシ安
息香酸‐ｐ′‐（２−メチルブチルオキシ）フェニルエ
ステルとp-η−メニルオキシ安息香酸‐ｐ′‐（2-メチ
ルブチルオキシ）フェニルエステルを主成分とした液晶
組成物〕を注入した。
このようにして形成した液晶セルの両側に、偏光板を
クロスニコルにして配設して、セルの駆動を行ったとこ
ろ、良好な表示特性を得ることができた。
クロスニコルにして配設して、セルの駆動を行ったとこ
ろ、良好な表示特性を得ることができた。
実施例 第２図に示すように、ITO膜の透明電極２をパターニ
ングした後に、電極間のスペース部にSiO2の絶縁膜６を
フォトリソグラフィーで堆積させ、その後にAlのストラ
イプパターンを形成した。それ以外は前記参考例と同様
の構成である。このような構成とすることにより、Alの
ストライプパターンの形成不良により生じる隣接するIT
O膜とのショートを防止することができ、電極間のスペ
ース部をほぼ完全に覆うことができる。この実施例でも
前記参考例と同様に良好な表示特性を得ることができ
た。
ングした後に、電極間のスペース部にSiO2の絶縁膜６を
フォトリソグラフィーで堆積させ、その後にAlのストラ
イプパターンを形成した。それ以外は前記参考例と同様
の構成である。このような構成とすることにより、Alの
ストライプパターンの形成不良により生じる隣接するIT
O膜とのショートを防止することができ、電極間のスペ
ース部をほぼ完全に覆うことができる。この実施例でも
前記参考例と同様に良好な表示特性を得ることができ
た。
上記参考例及び実施例において、透明電極間のスペー
ス部をAl等の低抵抗金属膜で覆うことにより例えば、ほ
ぼA4サイズの表示面積に、通常のTV規格で動画表示を行
う場合、走査線の密度を４本/mmとし、走査線の長さを
約300mmとすると、走査線がITOのみの場合、ITOのシー
ト抵抗が20Ω／口で、走査線の抵抗は約27KΩとなる。
ス部をAl等の低抵抗金属膜で覆うことにより例えば、ほ
ぼA4サイズの表示面積に、通常のTV規格で動画表示を行
う場合、走査線の密度を４本/mmとし、走査線の長さを
約300mmとすると、走査線がITOのみの場合、ITOのシー
ト抵抗が20Ω／口で、走査線の抵抗は約27KΩとなる。
一方、本発明によれば、金属としてAlを使用し、巾30
μｍ、厚さ0.1μｍで一部ITOに重ねて這わせると、この
金属の配線抵抗は約4KΩとなる。この結果、金属付きIT
Oの走査線の配線抵抗は約3.5KΩとなる。
μｍ、厚さ0.1μｍで一部ITOに重ねて這わせると、この
金属の配線抵抗は約4KΩとなる。この結果、金属付きIT
Oの走査線の配線抵抗は約3.5KΩとなる。
また、この走査線上に付設されている強誘電性液晶の
電気容量は約3.5×10-9Ｆである。
電気容量は約3.5×10-9Ｆである。
すなわち、このパネルの走査線に電圧信号を与えて液
晶を反転動作させる場合電圧信号の立上り時間は、走査
線の電気抵抗及び走査線上に付設された液晶の電気容量
に依存する。走査線がITOのみの場合には、この立上り
時間τは約94μＳとなるが、本発明による金属付きITO
線の場合にはτ＝14μＳとなる。
晶を反転動作させる場合電圧信号の立上り時間は、走査
線の電気抵抗及び走査線上に付設された液晶の電気容量
に依存する。走査線がITOのみの場合には、この立上り
時間τは約94μＳとなるが、本発明による金属付きITO
線の場合にはτ＝14μＳとなる。
通常のTV規格で動画表示を行う場合、一本の走査線に
許される走査時間は、63.5μＳであり、上述の様に走査
線がITOのみの場合には立上り時間が走査時間より長く
なるため、TV規格の動画表示は不可能である。これに対
し、本発明による金属付きITO線の場合には、走査時間
は立上り時間の約５倍あり、充分TV規格の動画表示が可
能となる。
許される走査時間は、63.5μＳであり、上述の様に走査
線がITOのみの場合には立上り時間が走査時間より長く
なるため、TV規格の動画表示は不可能である。これに対
し、本発明による金属付きITO線の場合には、走査時間
は立上り時間の約５倍あり、充分TV規格の動画表示が可
能となる。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、セルの全面に
渡って電極スペース部の配向ムラをなくすことができ、
全面均一に鮮明な画像を得ることができる。また、低抵
抗の金属膜を遮光層とすることにより、表示面積を大き
くした場合でも高速表示が可能となった。
渡って電極スペース部の配向ムラをなくすことができ、
全面均一に鮮明な画像を得ることができる。また、低抵
抗の金属膜を遮光層とすることにより、表示面積を大き
くした場合でも高速表示が可能となった。
第１図は本発明の参考例を示す基板の断面図、第２図は
本発明の実施例を示す基板の断面図である。 1:基板、2:透明電極、3:金属膜、4,6:絶縁膜、5:配向
膜。
本発明の実施例を示す基板の断面図である。 1:基板、2:透明電極、3:金属膜、4,6:絶縁膜、5:配向
膜。
Claims (3)
- 【請求項１】ストライプ状に透明電極が形成された二枚
の基板間に、双安定性を有する液晶を挟持してなるセル
構造の液晶素子において、 前記基板上には、前記透明電極間のスペース部と当該ス
ペース部に隣接する少なくとも一方の透明電極に跨がる
絶縁膜が設けられており、 該絶縁膜上には、該絶縁膜によって当該スペース部に隣
接する一方の透明電極とは絶縁され、且つ他方の透明電
極と接続する金属膜が、当該スペース部を覆うようにし
て設けられていることを特徴とする液晶素子。 - 【請求項２】前記双安定性を有する液晶が強誘電性液晶
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
液晶素子。 - 【請求項３】ストライプ状に透明電極が形成された二枚
の基板間に双安定性を有する液晶を挟持してなるセル構
造の液晶素子の製造方法において、 基板上にストライプ状の透明電極を形成した後、該透明
電極間のスペース部と当該スペース部に隣接する少なく
とも一方の透明電極に跨がるように絶縁膜を形成し、さ
らに、該絶縁膜によって当該スペース部に隣接する一方
の透明電極とは絶縁され、且つ他方の透明電極と接続す
る金属膜を、当該スペース部を覆うようにして形成する
ことを特徴とする液晶素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61155149A JP2520604B2 (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 液晶素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61155149A JP2520604B2 (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 液晶素子及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6311911A JPS6311911A (ja) | 1988-01-19 |
| JP2520604B2 true JP2520604B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=15599605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61155149A Expired - Fee Related JP2520604B2 (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 液晶素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2520604B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2514206Y2 (ja) * | 1988-09-28 | 1996-10-16 | 株式会社モリタ製作所 | 医療用緊張緩和装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS579977U (ja) * | 1980-06-16 | 1982-01-19 | ||
| JPS6125128A (ja) * | 1984-07-14 | 1986-02-04 | Canon Inc | カイラルスメクティック液晶素子 |
| JPS61143725A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-01 | Citizen Watch Co Ltd | カラ−液晶パネル |
-
1986
- 1986-07-03 JP JP61155149A patent/JP2520604B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6311911A (ja) | 1988-01-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |