JPS6265424A - エツチング終点検出方法 - Google Patents
エツチング終点検出方法Info
- Publication number
- JPS6265424A JPS6265424A JP20426485A JP20426485A JPS6265424A JP S6265424 A JPS6265424 A JP S6265424A JP 20426485 A JP20426485 A JP 20426485A JP 20426485 A JP20426485 A JP 20426485A JP S6265424 A JPS6265424 A JP S6265424A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- time
- spectral intensity
- intensity waveform
- end point
- offset
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、エツチング終点検出方法に関するものである
。
。
ガスプラズマを利用しエツチングさｎる試料のエツチン
グ終点を分光強度波形の変化をモニタして検出する方法
としては１例えば、特開昭５９−２８３４０号公報に記
載のような１分光強度波形をエツチング開始時よりモニ
タし終点検出時点までの間−こその都度オフセット量、
ゲイン量を調整するようにしたものが知られている。
グ終点を分光強度波形の変化をモニタして検出する方法
としては１例えば、特開昭５９−２８３４０号公報に記
載のような１分光強度波形をエツチング開始時よりモニ
タし終点検出時点までの間−こその都度オフセット量、
ゲイン量を調整するようにしたものが知られている。
しかし、このような方法では、１つの試料のエツチング
中にその都度オフセット量、ゲイン量を調整するため、
演算機能、アナログ値への変換速度の高走化が必要とな
り、エツチング終点検出操作が複雑化し装匠が高価番こ
なるといった問題がある。
中にその都度オフセット量、ゲイン量を調整するため、
演算機能、アナログ値への変換速度の高走化が必要とな
り、エツチング終点検出操作が複雑化し装匠が高価番こ
なるといった問題がある。
本発明の目的は、１つの試料のエツチング中にその都度
補正することなしに第１回目の分光強度波形とＩＪｎ回
目の分光強度波形とを比較しその差分な第ｎ＋１回目に
補正するようにすることで。
補正することなしに第１回目の分光強度波形とＩＪｎ回
目の分光強度波形とを比較しその差分な第ｎ＋１回目に
補正するようにすることで。
演算機能、アナログ値への変換速度の高速化を不要にで
きエツチング終点検出操作を容易化できるエツチング終
点検出方法を提供することにある。
きエツチング終点検出操作を容易化できるエツチング終
点検出方法を提供することにある。
本発明は、ガスプラズマを利用しエツチングさｎろ試料
の工雫チング終点を分光強度波形の変化をモニタして検
出する方法において、第１回目のＨ配分光強度波形と＠
ｎ１００オフセット、ゲインＷＩ４整徨の前配分光強度
波形とを比較し、該比較による差分で第ｎ＋１回目の前
配分光強度波形が第１回目の前配分光強度波形と一致す
るようにディジタル値を変化させオフセット、ゲインを
変更することを特徴とするもので、１つの試料のエツチ
ング中にその都度補正することなしに１１１回目の分光
強度波形と第ｎ回目の分光強度波形とを比較しその差分
な９５ ｎ ＋ １回目盛こ補正することにしたもので
ある。
の工雫チング終点を分光強度波形の変化をモニタして検
出する方法において、第１回目のＨ配分光強度波形と＠
ｎ１００オフセット、ゲインＷＩ４整徨の前配分光強度
波形とを比較し、該比較による差分で第ｎ＋１回目の前
配分光強度波形が第１回目の前配分光強度波形と一致す
るようにディジタル値を変化させオフセット、ゲインを
変更することを特徴とするもので、１つの試料のエツチ
ング中にその都度補正することなしに１１１回目の分光
強度波形と第ｎ回目の分光強度波形とを比較しその差分
な９５ ｎ ＋ １回目盛こ補正することにしたもので
ある。
え明
本年票の１実施例を第１図。第２図にて説明する。
第１図は回路構成で示し１分光強度波形人力１にアニュ
アルオフセット用可変抵抗器４よりの入力及びコンピュ
タ８よりのディジタル量をアナログ値に変換するＤ ／
Ａ変換器６よりの出力を加算し、その値を、アニュア
ル調整用可変抵抗器３を有するゲインアブブ２Ｉこ取嘔
〕込み、その出力をコンピュータ８からのテ゛ジタルｌ
＋こよりゲイルな変。
アルオフセット用可変抵抗器４よりの入力及びコンピュ
タ８よりのディジタル量をアナログ値に変換するＤ ／
Ａ変換器６よりの出力を加算し、その値を、アニュア
ル調整用可変抵抗器３を有するゲインアブブ２Ｉこ取嘔
〕込み、その出力をコンピュータ８からのテ゛ジタルｌ
＋こよりゲイルな変。
換するプログラマブルゲインアンプ５を経由してＡ／Ｄ
変換器７に入力する。Ａ／Ｄ変換″！Ａ７のデジタル出
力値はコンピュータ８Ｉこ取り込みコンピュータ８によ
り終点判定を行ない、出力９に終点判定結果、波形信号
等を出力する。
変換器７に入力する。Ａ／Ｄ変換″！Ａ７のデジタル出
力値はコンピュータ８Ｉこ取り込みコンピュータ８によ
り終点判定を行ない、出力９に終点判定結果、波形信号
等を出力する。
次に制御方法な男２図により説明でる。スタート特番ご
はマニュアルでオフセット、ゲインを調整し、その状態
で分光強度波形をモニタし、終点判定を実施する（終点
判定が出来る様マニュアルでゲイン、オフセットを調整
する）。
はマニュアルでオフセット、ゲインを調整し、その状態
で分光強度波形をモニタし、終点判定を実施する（終点
判定が出来る様マニュアルでゲイン、オフセットを調整
する）。
第２回目はＦ１回目と同一の条件で判定し、その時の終
点判定用の分光強度波形が第１回目と異なっていｎば、
その偏差をコンビ、−夕８で計算し、オフセット用Ｄ／
Ａ変換器６及びプログラマブルゲインアンプ５へのデー
タを変更し１分光強度波形が第１回目のそれと同一とな
る様補正する。
点判定用の分光強度波形が第１回目と異なっていｎば、
その偏差をコンビ、−夕８で計算し、オフセット用Ｄ／
Ａ変換器６及びプログラマブルゲインアンプ５へのデー
タを変更し１分光強度波形が第１回目のそれと同一とな
る様補正する。
補正したのち第３回目の判定を開始する。その後第３回
目での偏差を＄４回目用にフィードバックすることを行
ないｎ回目をｎ＋１回目にフィードバックし、分光強度
波形が変化した場合１こも第１回目の分光強度波形とほ
ぼ同一となる様にする。
目での偏差を＄４回目用にフィードバックすることを行
ないｎ回目をｎ＋１回目にフィードバックし、分光強度
波形が変化した場合１こも第１回目の分光強度波形とほ
ぼ同一となる様にする。
本実施例では１次のような効果が得られる。
（１）１つの試料のエツチング中にその都度補正するこ
となしに第１回目の分光強度波形と！Ｉｎ回目の分光強
度波形とを比較しその差分を第ｎ ＋ １回目に補正す
るようにしているので、エツチング終点検出操作を容易
化できると共に、装置価格を低減できる。
となしに第１回目の分光強度波形と！Ｉｎ回目の分光強
度波形とを比較しその差分を第ｎ ＋ １回目に補正す
るようにしているので、エツチング終点検出操作を容易
化できると共に、装置価格を低減できる。
（２）初期に分光強度波形なｍ察しながらオフセット、
ゲインを調整することができる。
ゲインを調整することができる。
（３）多数回のエツチングにおいてもモニタ入力がほぼ
一定となり終点検出が容易となる。
一定となり終点検出が容易となる。
本発明は１以上説明したように、１つの試料のエツチン
グ中にその都度補正することなしに第１回目の分光強度
波形と＠ｎ１００分光強度波形とを比較しその差分な第
ｎ ＋１回目に補正するようにしているので、演算機能
、アナログ値への便換速度の高速化を不要にで偽、ニラ
壬ング終点検出操作な容易化で卜るという効平ｔ、（あ
る。
グ中にその都度補正することなしに第１回目の分光強度
波形と＠ｎ１００分光強度波形とを比較しその差分な第
ｎ ＋１回目に補正するようにしているので、演算機能
、アナログ値への便換速度の高速化を不要にで偽、ニラ
壬ング終点検出操作な容易化で卜るという効平ｔ、（あ
る。
第１図は１本発明を実施したエツチング終点検出９％の
一例を示す回路構成図、第２図は、Ｎ１図の装置を用い
た制御方法の７０−チ、ｆ−）・である。
一例を示す回路構成図、第２図は、Ｎ１図の装置を用い
た制御方法の７０−チ、ｆ−）・である。
Claims (1)
- １ ガスプラズマを利用しエッチングされる試料のエッ
チング終点を分光強度波形の変化をモニタして検出する
方法において、第１回目の前記分光強度波形と第ｎ回目
のオフセット、ゲイン調整後の前記分光強度波形とを比
較し、該比較による差分で第ｎ＋１回目の前記分光強度
波形が第１回目の前配分光強度波形と一致するようにデ
ィジタル値を変化させオフセット、ゲインを変更するこ
とを特徴とするエッチング終点検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20426485A JPS6265424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | エツチング終点検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20426485A JPS6265424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | エツチング終点検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6265424A true JPS6265424A (ja) | 1987-03-24 |
Family
ID=16487583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20426485A Pending JPS6265424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | エツチング終点検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6265424A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63254732A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
| JPH01235336A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定装置 |
| JPH01241127A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
| US5118378A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting an end point of etching |
| JP2002329230A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 自動取引装置 |
-
1985
- 1985-09-18 JP JP20426485A patent/JPS6265424A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63254732A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
| JPH01235336A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定装置 |
| JPH01241127A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Hitachi Ltd | エッチング終点判定方法 |
| US5118378A (en) * | 1989-10-10 | 1992-06-02 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for detecting an end point of etching |
| JP2002329230A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 自動取引装置 |
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