JPS623087B2 - - Google Patents

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JPS623087B2
JPS623087B2 JP54066924A JP6692479A JPS623087B2 JP S623087 B2 JPS623087 B2 JP S623087B2 JP 54066924 A JP54066924 A JP 54066924A JP 6692479 A JP6692479 A JP 6692479A JP S623087 B2 JPS623087 B2 JP S623087B2
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JP
Japan
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fluorination
phosgene
fluoride
mol
oxalyl
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JP54066924A
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English (en)
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JPS54158396A (en
Inventor
Furantsu Raimunto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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Publication of JPS54158396A publication Critical patent/JPS54158396A/ja
Publication of JPS623087B2 publication Critical patent/JPS623087B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/58Preparation of carboxylic acid halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 カルボニルの二弗化物である二弗化ホスゲン及
び弗化オキサリルは、有機弗素化合物、例えばハ
ロゲン化メタン(Beilstein E 3、P21参
照)又はパーフツ化エーテル(米国特許第
3250807号明細書参照)を製造するための有用な
出発物質である。
二弗化ホスゲン及び弗化オキサリルを製造する
ために、対応する二塩化物(ホスゲン及び塩化オ
キサリル)を弗素化することは知られている。こ
こで弗素化剤としては、概してアルカリ金属のフ
ツ化物特にNaFが用いられる(J.Org.
Chem.1960、P25及び2016−19;米国特許第
3088975号明細書参照)。該化合物は適当な非プロ
トン性媒体中に不均一に懸濁させて或は又、二弗
化ホスゲンの製造の場合には高温で溶融状態とし
て使用することができる。
しかし不均一系での弗素化は、弗化物の粒度と
乾燥度が反応の進行にかなり影響するという欠点
がある。更に不均一系での反応は、均一系での反
応に比べ一般により長時間を要し、そのため適当
な反応時間のためには比較的高い温度が必要にな
る。しかしかかる高温は熱に対して不安定な反応
原料又は生成物、例えば弗化オキサリルの場合に
は不都合である。例えば、技術水準に従い約120
℃までの温度でアルカリ金属の弗化物を用いて塩
化オキサリルを弗素化することによつて弗化オキ
サリルを製造する場合には、不都合な副生成物と
して常に弗化ホスゲンが生じる。
溶融したアルカリ金属弗化物による弗素化は、
弗化オキサリルの熱不安定性のために、これの製
造のためには不可能である。この方法は、熱に比
較的安定な二弗化ホスゲンの製造のためにのみ顧
慮される。この場合、適当な耐熱性及び耐腐蝕性
の装置が必要である。
更にカルボン酸弗化物が、対応するカルボン酸
塩化物から、弗化水素による弗素化により得られ
ることが知られている(Houben−weyl、
Methoden der Organischen Chemie.第4版、
/3巻、G.Thieme Verlag、Stuttgart 1962、
P119以下参照)。弗化水素は、実際、アルカリ金
属弗化物よりもかなり安価な弗素化剤であるが、
しかしホスゲンからの二弗化ホスゲンの製造のた
めには極めて使用困難であり、又、塩化オキサリ
ルからの弗化オキサリルの製造のためには実際上
全く使用できない。
ホスゲンと弗化水素とから二弗化ホスゲンを製
造するためには、鉄のオートクレーブ中で活性炭
の存在下で、140℃〜150℃に加熱せねばならない
(Beilstein E 3、P22参照)。
弗化水素による塩化オキサリルの弗素化はうま
くいかない。というのは、反応成分を混合した
際、実際上反応が起らず温度を比較的高くすると
分解が起るからである。それ故、二弗化カルボニ
ルである二弗化ホスゲン及び弗化オキサリルのよ
り良い製造方法を見い出すことが望まれ、これが
課題であつた。
本発明によつて、この課題は、アセトニトリル
の存在下で弗化水素を用いてホスゲン又は塩化オ
キサリルを弗素化することにより解決されること
ができた。
従つて本発明の対象は、下記一般式 F−(CO)o−F (n=1又は2) で示される二弗化カルボニルを、対応する二塩化
カルボニルの弗素化により製造する方法であつ
て、この特徴とするところはその弗素化をアセト
ニトリルの存在下に弗化水素を用いて行うことに
在る。
一般式で、n=1のときは二弗化ホスゲンを意
味し、n=2のときは弗化オキサリルを意味す
る。二弗化ホスゲンを製造するためには、ホスゲ
ンCOCl2を出発物質とし、弗化オキサリルを製造
するためには塩化オキサリル(CO)2Cl2を出発物
質とする。もちろん、対応する臭素化合物(二臭
化ホスゲン又は臭化オキサリル)から出発するこ
ともできるが、これはなんらの利点をももたらさ
ない。なぜなら、臭化物は塩化物に比べより高価
であり、且つ又、熱に対しより不安定であるから
である。
使用する弗化水素の量は、少くとも理論量(即
ち、1モルの二弗化カルボニル当り少くとも2モ
ル)が必要である。しかし、好ましくは約50〜
200モル%の過剰量が用いられる。反応がうまく
いくためには、少量のアセトニトリルの存在で十
分である。しかし、弗化水素の濃度が約10〜99モ
ル%好ましくは約30〜40モル%である弗化水素と
アセトニトリルの混合物中で弗素化を行うのが好
都合である。この混合物中の弗化水素濃度が50モ
ル%より高くなければ、硼珪酸塩ガラス容器中で
も反応を行わせることができる。
反応が驚く程良好に行われるのは、多分、部分
的には特別の溶媒特性のため、また部分的にはア
セトニトリルの特殊な塩基度によるものである。
本発明による弗素化のための好都合な温度範囲
としては、約0〜50℃の間、好ましくは約10〜40
℃の間の温度が考慮される。
反応終了後、反応生成物を(場合により減圧下
で)蒸溜によつて後処理するのがよい。
塩化オキサリルの弗素化の場合、生成物である
ガス混合物は、塩化水素と弗化オキサリルからな
り、その中後者は沸点又は融点に基づいて、コー
ルドトラツプにより容易に凝縮させて取出すこと
ができる。
ホスゲンの弗素化の場合、反応生成混合物は、
二弗化ホスゲンと塩化水素とからなり、これは、
費用のかかる精留により又はこれに続いて行う適
当な酸結合剤との化学反応によつてのみ分離する
ことができる。従つて本発明による方法の好まし
い一態様は、塩化水素と結合する補助的な塩基
(反応原料とも反応生成物とも反応しないもの)
の存在下で弗素化を行うことである。そのような
補助的な塩基としては、第三アミン特にトリエチ
ルアミンが好ましい。用いられる補助的な塩基の
量は、全発生塩化水素が結合されるように決めら
れねばならない。形成された塩酸塩をアルカリ液
で後処理することによつて補助的な塩基は再び定
量的に回収できる。
本発明による方法により二弗化ホスゲン又は弗
化オキサリルが収率70%以上で得られる。本発明
による方法は、技術水準による従来の方法に比し
て利点をもつている。即ち、安価な弗素化剤によ
り簡単な方法で(場合によりガラス器具中で)、
副生成物又は分解生成物の発生を促進することの
ない条件下で弗素化が行なわれ得る。従つて例え
ば弗化オキサリルの製造の際、文献上公知の方法
とは逆に、反応生成混合物中に望ましくない弗化
ホスゲンは検出できない。以下の実施例は、本発
明を更に説明するためのものである。
実施例 1 硼珪酸塩ガラス製の2の撹拌フラスコに、
120gの弗化水素(6モル)及び約500gのアセト
ニトリルの混合物を入れ、冷却しながら202gの
トリエチルアミン(2モル)を滴下する。このよ
うにして得られた溶液に、室温でゆつくりと99g
のホスゲン(1モル)を加える。フラスコの上に
は還流冷却器(ドライアイス寒剤が入れられてい
る)が取付けられている。生成した二弗化ホスゲ
ンは、この冷却器を通つて流れ、これに接続した
コールドトラツプ(液体空気で冷却される)中で
凝縮される。反応は減圧の適用と最大40℃までの
反応混合物の加熱により完結する。コールドトラ
ツプ中に約60gの粗生成物が得られ、これは赤外
スペクトルとガスクロマトグラムにより、不純物
として15〜20%の二酸化炭素を含むにすぎない。
従つて収率は理論値の約72%である。
実施例 2 60gの弗化水素(3モル)を約250gのアセト
ニトリルに加えた溶液(これは還流冷却器(−78
℃)のついた硼珪酸塩ガラス製の1の撹拌フラ
スコ中にある)に、99gのホスゲン(1モル)を
10℃で加える。室温で2時間撹拌しついで反応混
合物を減圧にして3時間弱く沸騰させる。還流冷
却器に後接した、そして液体空気により冷却され
たコールドトラツプ中に60gの混合物が集められ
る。これは赤外スペクトルによれば主成分として
塩化水素と二弗化ホスゲンを、副成分として二酸
化炭素と弗化・塩化ホスゲンを含有する。
実施例 3 硼珪酸塩ガラス製の撹拌装置(フラスコ、−10
℃の塩水を伴う還流冷却器、ドライアイス中に直
列に配置した3個のコールドトラツプよりなる)
中に120gの弗化水素(6.0モル)と600mlのアセ
トニトリルとからなる溶液を入れ、次に約150℃
で254gの塩化オキサリル(2.0モル)を1時間で
滴加する。この間及びこれに続く一時間の撹拌の
間に、既に少量のガス発生が観察される。これは
減圧装置(水流ポンプ)に接続して強められる。
観察されるガス発生に従つて、約2時間で内部圧
を60〜70ミリバールに下げる。そして同時に、冷
却塩水の温度を−10℃から−40℃へ下げる。反応
の終了は、ガス発生の停止から判る。コールドト
ラツプ中にある凝縮物を集め精留する。沸点−2
℃の弗化オキサリル130〜140g(理論量の69〜74
%)が得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式 F−(CO)o−F (n=1又は2) で示される二弗化カルボニルを、対応する二塩化
    カルボニルの弗素化によつて製造する方法におい
    て、弗素化をアセトニトリルの存在下で弗化水素
    を用いて行うことを特徴とする上記二弗化カルボ
    ニルの製造方法。 2 弗化水素の濃度が約10〜99モル%特に約30〜
    40モル%であるところの、弗化水素とアセトニト
    リルとの混合物中で弗素化することより成る特許
    請求の範囲第1項記載の製造方法。 3 約0〜50℃特に約10〜40℃の温度で弗素化を
    行うことより成る特許請求の範囲第1項、第2項
    のいずれか一つに記載の製造方法。 4 塩化水素と結合する第三アミン特にトリエチ
    ルアミンを、弗素化に際し加えることより成る特
    許請求の範囲第1項より第3項のうちいずれか一
    つに記載の製造方法。
JP6692479A 1978-06-01 1979-05-31 Manufacture of carbonyl difluoride Granted JPS54158396A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19782823981 DE2823981A1 (de) 1978-06-01 1978-06-01 Verfahren zur herstellung von carbonyl-difluoriden

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54158396A JPS54158396A (en) 1979-12-14
JPS623087B2 true JPS623087B2 (ja) 1987-01-23

Family

ID=6040730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6692479A Granted JPS54158396A (en) 1978-06-01 1979-05-31 Manufacture of carbonyl difluoride

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US (1) US4260561A (ja)
EP (1) EP0005803B1 (ja)
JP (1) JPS54158396A (ja)
DE (2) DE2823981A1 (ja)

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Also Published As

Publication number Publication date
EP0005803B1 (de) 1981-05-13
JPS54158396A (en) 1979-12-14
DE2960345D1 (en) 1981-08-20
EP0005803A1 (de) 1979-12-12
DE2823981A1 (de) 1979-12-13
US4260561A (en) 1981-04-07

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