JP4104320B2 - 二フッ化カルボニルの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニル(COF2)の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
COF2の合成法は、一般に、二塩化カルボニルいわゆるホスゲンをフッ化水素、三フッ化アンチモン、三フッ化砒素、フッ化ナトリウム等の適当なフッ素化剤と反応させ、分子中の塩素原子を対応するフッ素原子にハロゲン交換する方法、一酸化炭素をフッ素、二フッ化銀等の適当なフッ素化剤と反応させて酸化する方法の2つに大別される。例えば、特開昭54−158396号公報には、ホスゲンをアセトニトリルの存在下でフッ化水素と反応させることでフッ化カルボニルを製造する方法が開示されている。フッ化カルボニルのその他の合成法として、フッ化エタンをオゾンと反応させる方法(J.Amer.Chem.Soc.,102,7572(1980))、また、一酸化炭素と四フッ化炭素の平衡反応を用いた方法(J.Amer.Chem.Soc.,62,3479(1940))が開示されている。しかしながら、ホスゲンを用いる反応では、原料に毒性の高いホスゲンを用いる必要があり、また合成されたCOF2も塩素由来の不純物であるフッ化塩化カルボニルやフッ素化剤等の水分由来の二酸化炭素との分離が困難である。また、一酸化炭素とフッ素との直接反応によりCOF2を合成する方法では、可燃性ガスの一酸化炭素と強力な支燃性ガスであるフッ素との反応であるため、反応が爆発的に生じたり、反応熱のため四フッ化炭素等の不純物が生じ、純度低下をもたらす。フッ化エタンとオゾンとの反応や、一酸化炭素と四フッ化炭素との平衡反応においては、収率、純度ともに低く工業的なプロセスとして使用するのは困難である。
【0003】
一酸化炭素と二フッ化銀とを反応させる方法は、比較的安全に高純度でCOF2を合成することが可能であるが、Inorg.Synth.,6,155(1960)に記載されているように収率も70〜85%で、純度も、二酸化炭素が不純物として混入する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように従来技術では、収率、純度、安全性の面で全てを満たした製造方法はなかった。一酸化炭素と二フッ化銀とを反応させる方法は、安全性の面では優れているが、二フッ化銀は極めて反応性に富むため、大気中では、水分等との反応で分解してフッ化銀となってしまう。このため、大気中で反応器に二フッ化銀を仕込むと、かなりの二フッ化銀がフッ化銀となるため、収率低下が起こる。また、二フッ化銀は吸湿性が高く、反応器への仕込みの時に吸湿した水分が原因で、一酸化炭素との反応によって生成した二フッ化カルボニルが加水分解を起こして二酸化炭素とフッ化水素を生成し、純度低下、収率低下を引き起こす。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、かかる問題点に鑑み鋭意検討の結果、二フッ化銀と一酸化炭素との反応の欠点を補い、二フッ化カルボニルの収率および純度を画期的に向上させる方法を見出し、本発明に至ったものである。
【0006】
すなわち、本発明は、一酸化炭素と金属フッ化物との反応により二フッ化カルボニルを製造するに際し、金属フッ化物として、三フッ化コバルト、四フッ化セリウム、または二フッ化銀を用い、同一反応器内で、反応温度が三フッ化コバルトにおいては100℃超300℃以下、四フッ化セリウムにおいては150℃超350℃以下、二フッ化銀においては室温以上200℃以下の条件下で、一酸化炭素と金属フッ化物とを反応させる工程と、金属フッ化物とフッ素を反応させる工程と、交互に繰り返すことを特徴とする二フッ化カルボニルの製造方法を提供するものである。
【0007】
本発明によれば、一酸化炭素との反応に使用する金属フッ化物を反応器の系外へ取り出さないため、大気と接触することもなく高純度でしかも高収率にCOF2を製造することが可能となる。また、二フッ化銀より反応性が低く、吸湿性も低い三フッ化コバルト、四フッ化セリウムを用いることによって、大気中の水分の影響を少なくすることで純度、収率を高めるものである。また、さらに、三フッ化コバルト、四フッ化セリウムを金属フッ化物として使用することにより、一酸化炭素との反応温度と、フッ素による再生の反応温度を同一にできる利点があり、反応−再生のサイクルでのヒーターの昇降温が不要となるためCOF2の製造における生産性が高くなる。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明において、使用可能な金属フッ化物としては、三フッ化コバルト(CoF3)、四フッ化セリウム(CeF4)、二フッ化銀(AgF 2 )が挙げられる。特に好ましいのは、三フッ化コバルト、四フッ化セリウムである。
【0009】
三フッ化コバルト、四フッ化セリウムは、前述のように大気中の水分の影響も少なく、更に一酸化炭素との反応温度と、フッ素による再生の反応温度を同一にできるため、高純度、高収率でしかも生産性良くCOF2を製造できる点において好ましい。
【0010】
本発明において、反応温度は、使用する金属フッ化物によって適宜選択すればよいが、一酸化炭素との反応において300℃を越えると四フッ化炭素や二酸化炭素の副生が顕著になり、純度、収率が低下するため好ましくない。特に、三フッ化コバルトを一酸化炭素との反応に用いた場合、100℃以下の反応温度では反応速度が極端に低下するため、100〜300℃の温度範囲で使用することが好ましい。また、四フッ化セリウムを一酸化炭素との反応に用いた場合には、150℃以下の反応温度では反応速度が極端に低下するため、150〜350℃の温度範囲で使用することが好ましい。三フッ化コバルト、または四フッ化セリウムを一酸化炭素との反応に用いた後には、それぞれ、二フッ化コバルト、三フッ化セリウムが生成するが、これはフッ素との反応により元の三フッ化コバルト、四フッ化セリウムへ再生できる。この再生する時の温度は、二フッ化コバルトの場合100〜300℃の温度範囲、三フッ化セリウムの場合150〜350℃の温度範囲が好ましく、一酸化炭素との反応の場合と同一の反応温度が使用できる。これらの操作を交互に繰り返すことにより、長期に渡り金属フッ化物を系外に取り出すことなくCOF2を製造することができる。
【0012】
本発明において使用可能な反応器は、加熱できるような構造であれば特に限定されないが、反応器の材質には高温のフッ素に耐え得るようなニッケル、ニッケル基耐熱合金、銅、白金等を用いる。反応形式は、バッチ式、流通式のどちらを用いても良い。また、本発明では一酸化炭素との反応も、フッ素による再生反応も発熱反応であるため、除熱が十分にできる流動床方式のものも好ましい。
【0013】
反応器内に仕込んだ金属フッ化物を初めて一酸化炭素と反応させる場合には、反応させる前にあらかじめ金属フッ化物を反応器内でフッ素処理することが好ましい。金属フッ化物は、反応器に仕込んだ時点で程度の差はあるが吸湿しており、また、二フッ化銀のごとき金属フッ化物では反応性の高さのために一部がフッ化銀となっている。フッ素処理をすることで、金属フッ化物の水分を除去できるとともに、低次フッ化物となってしまった金属フッ化物を高次フッ化物へと戻すことができる。更に好ましくは、フッ素処理を終えた後にCOF2で処理する。これにより、金属フッ化物中の水分が完全に除去できるため、一酸化炭素との反応で生成されるCOF2中の不純物である二酸化炭素が減少し高純度のものが得られる。
【0014】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。
【0015】
参考例1
ヒータを取り付けた容量800mlのNi製反応器(φ100mm×100mm)にCoF3を7.0g仕込み、200℃に昇温した。反応器内を真空状態とした後、COを144KPa導入し、2hr放置した。反応後のガスを液体窒素で冷却した1Lのステンレス鋼製トラップへ捕集し、深冷脱気した。トラップ内のガスをGC−MS、FT−IRで分析した結果、主成分はCOF2であり、不純物としてCO2が1.0vol%、HFが0.66vol%含まれているだけであり、純度は98.3vol%、収率93%であった。
【0016】
実施例1
参考例1でCOと反応した後の反応器を真空に引き、200℃でF2を導入した。導入したF2は吸収されていき、吸収が止まった時点で再生終了とした。再生された反応器内をHeで置換した後、COを再度144KPa導入し、2hr放置した。反応器内のガスは、参考例1と同様にトラップ内に捕集し、分析した結果、CO2が0.32vol%、HFが0.17vol%含まれているだけであり、純度99.5vol%、収率98%であった。
【0017】
参考例2
参考例1と同様の反応器内にCeF4を22g仕込み、250℃に昇温した。反応器内を真空状態とした後、COを144KPa導入し、2hr放置した。反応器内のガスは、参考例1と同様にトラップ内に捕集し、分析した結果、CO2が1.8vol%、HFが1.1vol%含まれており、純度97.1vol%、収率92%であった。
【0018】
実施例2
参考例2でCOと反応した後の反応器を真空に引き、250℃でF2を導入した。導入したF2は吸収されていき、吸収が止まった時点で再生終了とした。再生された反応器内をHeで置換した後、COを再度144KPa導入し、2hr放置した。反応器内のガスは、参考例1と同様にトラップ内に捕集し、分析した結果、CO2が0.45vol%、HFが0.23vol%含まれているだけであり、純度99.3vol%、収率97%であった。
【0019】
比較例1
参考例1と同様の反応器内にAgF2を8.8g仕込み、反応器内を真空状態とした後、室温でCOを144KPa導入し、2hr放置した。反応器内のガスは、参考例1と同様にトラップ内に捕集し、分析した結果、CO2が5.3vol%、HFが6.7vol%含まれており、純度88.0vol%、収率75%であった。
【0020】
実施例3
比較例1でCOと反応した後の反応器を真空に引き、反応器を200℃に昇温した後、F2を導入した。導入したF2は吸収されていき、吸収が止まった時点で再生終了とした。再生された反応器内をHeで置換し、反応器温度を室温に戻した後、COを再度144KPa導入し、2hr放置した。反応器内のガスは、参考例1と同様にトラップ内に捕集し、分析した結果、CO2が0.51vol%、HFが0.25vol%含まれているだけであり、純度99.2vol%、収率98%であった。
【0021】
上記の実施例および比較例からもわかるように、反応器に仕込んで最初に使用する金属フッ化物を用いると、純度、収率ともに明らかに低下する。本発明のように、一度反応に用いた金属フッ化物を反応器から外に取り出すことなく、F2で再生した金属フッ化物を用いると、純度、収率が改善されることがわかる。特に、反応性が高いAgF2においては、顕著であり、本発明での効果は高くなる。また、CoF3、CeF4においては、AgF2ほど反応性が高くないため、反応器へ仕込んで最初の反応から高収率で高純度なCOF2が得られる。また、CoF3、CeF4においては、COとの反応させる温度とその後のF2で再生させる反応温度が同一にすることができるため、ヒーターの昇降温が不要となり生産性が高くなる。AgF2を使用した場合、COとの反応の最適反応温度が室温であり、一方、F2での再生の最適反応温度が200℃程度となるためヒーターの昇降温が必要となる。すなわち、室温でF2により再生した場合には反応速度が遅いため時間がかかる。一方、200℃付近でCOと反応させた場合には、COの反応速度が200℃より急激に速くなるため反応が暴走してしまい、好ましくない。
【0022】
比較例2〜5、実施例4、5
実施例1と同様の反応−再生サイクルをCoF3、CeF4において、反応温度を変化させて実施した。結果を、実施例1、及び実施例2の結果と併せ、まとめて表1に示す。
【0023】
【表1】
【0024】
表1からわかるように、CoF3では、100℃以下では、反応速度が低くなり、ほとんど反応しなくなる。また、300℃以上になるとCF4の生成が顕著となり、CO2、HFの副生も多くなっている。CeF4においては150℃以下では、反応速度が低くなり、ほとんど反応しなくなる。また、350℃以上になるとCF4の生成が顕著となり、CO2、HFの副生も多くなっている。
【0025】
したがって、CoF3を用いる場合には反応温度を100〜300℃の範囲とすることが好ましく、CeF4を用いる場合には反応温度を150〜350℃の範囲とすることが好ましい。
【0026】
【発明の効果】
本発明の方法により、安全性が高く、高純度でかつ高収率に、しかも生産性良くCOF2を製造することができる。
Claims (1)
- 一酸化炭素と金属フッ化物との反応により二フッ化カルボニルを製造するに際し、金属フッ化物として、三フッ化コバルト、四フッ化セリウム、または二フッ化銀を用い、同一反応器内で、反応温度が三フッ化コバルトにおいては100℃超300℃以下、四フッ化セリウムにおいては150℃超350℃以下、二フッ化銀においては室温以上200℃以下の条件下で、一酸化炭素と金属フッ化物とを反応させる工程と、金属フッ化物とフッ素を反応させる工程と、交互に繰り返すことを特徴とする二フッ化カルボニルの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001350988A JP4104320B2 (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
TW091132602A TWI226325B (en) | 2001-11-16 | 2002-11-05 | Process for producing carbonyl difluoride |
KR10-2002-0068619A KR100490771B1 (ko) | 2001-11-16 | 2002-11-07 | 이불화카보닐의 제조방법 |
US10/289,443 US7417167B2 (en) | 2001-11-16 | 2002-11-07 | Process for producing carbonyl difluoride |
CN021496005A CN1216800C (zh) | 2001-11-16 | 2002-11-15 | 碳酰氟的生产方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001350988A JP4104320B2 (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003146620A JP2003146620A (ja) | 2003-05-21 |
JP4104320B2 true JP4104320B2 (ja) | 2008-06-18 |
Family
ID=19163377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001350988A Expired - Fee Related JP4104320B2 (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7417167B2 (ja) |
JP (1) | JP4104320B2 (ja) |
KR (1) | KR100490771B1 (ja) |
CN (1) | CN1216800C (ja) |
TW (1) | TWI226325B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2898886B1 (fr) * | 2006-03-27 | 2008-12-12 | Conversion De L Uranium En Met | Tetrafluorure de cerium, ses procedes de synthese et ses utilisations |
AU2008348838A1 (en) * | 2008-01-23 | 2009-07-30 | Solvay Fluor Gmbh | Process for the manufacture of solar cells |
KR101254417B1 (ko) | 2008-10-06 | 2013-04-15 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 2불화카르보닐의 제조 방법 |
CN102815686B (zh) * | 2011-06-07 | 2016-03-23 | 大金工业株式会社 | 碳酰氟的制造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3461050A (en) * | 1967-11-02 | 1969-08-12 | Phillips Petroleum Co | Production of carbonyl fluoride |
IT978791B (it) * | 1973-02-05 | 1974-09-20 | Snam Progetti | Processo per la preparazione di carbonil derivati |
DE2823981A1 (de) | 1978-06-01 | 1979-12-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von carbonyl-difluoriden |
CA1181360A (en) * | 1981-05-15 | 1985-01-22 | National Research Council Of Canada | Production of carbonyl fluoride |
GB8616074D0 (en) * | 1986-07-01 | 1986-08-06 | Ici Plc | Chemical process |
US5648530A (en) * | 1994-12-22 | 1997-07-15 | Du Pont | Manufacture of carbonyl floride |
JP3707917B2 (ja) * | 1997-10-06 | 2005-10-19 | セントラル硝子株式会社 | フッ化カルボニルの製造方法 |
-
2001
- 2001-11-16 JP JP2001350988A patent/JP4104320B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-11-05 TW TW091132602A patent/TWI226325B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-11-07 KR KR10-2002-0068619A patent/KR100490771B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-11-07 US US10/289,443 patent/US7417167B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-11-15 CN CN021496005A patent/CN1216800C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1216800C (zh) | 2005-08-31 |
TW200300414A (en) | 2003-06-01 |
KR100490771B1 (ko) | 2005-05-19 |
CN1420080A (zh) | 2003-05-28 |
JP2003146620A (ja) | 2003-05-21 |
KR20030040062A (ko) | 2003-05-22 |
US7417167B2 (en) | 2008-08-26 |
TWI226325B (en) | 2005-01-11 |
US20030095911A1 (en) | 2003-05-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040902 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140404 Year of fee payment: 6 |
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