JPS61296306A - 赤外線多層膜干渉フイルタ - Google Patents
赤外線多層膜干渉フイルタInfo
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- JPS61296306A JPS61296306A JP14006585A JP14006585A JPS61296306A JP S61296306 A JPS61296306 A JP S61296306A JP 14006585 A JP14006585 A JP 14006585A JP 14006585 A JP14006585 A JP 14006585A JP S61296306 A JPS61296306 A JP S61296306A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、６μ−カットオンフィルタ、パイロセンサ等
に用いる赤外線多層膜干渉フィルタに関する。
に用いる赤外線多層膜干渉フィルタに関する。
この種赤外線多層膜干渉フィルタは、シリコンの如き赤
外線透過材より成る基板に、高屈折率物質及び低屈折率
物質を真空蒸着法によって交互に付着して多層膜を形成
するようにしている。
外線透過材より成る基板に、高屈折率物質及び低屈折率
物質を真空蒸着法によって交互に付着して多層膜を形成
するようにしている。
しかしながら、積層する層の数を増加すると、多層故に
応力に不均衡を生じてその結果、層が反り曲がる等して
眉間において剥離が生じ、これを避けるため層数を減ら
すとこの種干渉フィルタのアテネーション（ｔＩｉ衰）
レベルが低下して、遮断特性が悪くなり、このような干
渉フィルタを用いたパイロセンサにおいては、輝度の強
い光や太陽光が入射すると、誤動作することがあった。
応力に不均衡を生じてその結果、層が反り曲がる等して
眉間において剥離が生じ、これを避けるため層数を減ら
すとこの種干渉フィルタのアテネーション（ｔＩｉ衰）
レベルが低下して、遮断特性が悪くなり、このような干
渉フィルタを用いたパイロセンサにおいては、輝度の強
い光や太陽光が入射すると、誤動作することがあった。
本発明は上述の事柄に留意してなされたもので、その目
的とするところは多層膜の眉間における層同士の剥離を
なくし、遮断特性に優れた耐久性のある赤外線多層膜干
渉フィルタを提供することにある。
的とするところは多層膜の眉間における層同士の剥離を
なくし、遮断特性に優れた耐久性のある赤外線多層膜干
渉フィルタを提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明は赤外線透過性基板
の一方の面に、高屈折率物質層と低屈折率物質層の交互
層であり且つ所望の遮断特性を実現するに充分な層数よ
り成るスタックを２つ積層して長波長側カットオンフィ
ルタを形成すると共に、前記基板の他方の面に、前記交
互層より成るスタックを３〜４つ積層して短波長側カッ
トオンフィルタを形成したことを特徴としている。
の一方の面に、高屈折率物質層と低屈折率物質層の交互
層であり且つ所望の遮断特性を実現するに充分な層数よ
り成るスタックを２つ積層して長波長側カットオンフィ
ルタを形成すると共に、前記基板の他方の面に、前記交
互層より成るスタックを３〜４つ積層して短波長側カッ
トオンフィルタを形成したことを特徴としている。
基板の一方の面に約６μｍカットオンフィルタを形成し
、他方の面に約４μｍカットオンフィルタを形成してお
り且つ１つのスタックが所望の遮断特性を実現するに充
分な層数より成っているので、遮断特性が改善された。
、他方の面に約４μｍカットオンフィルタを形成してお
り且つ１つのスタックが所望の遮断特性を実現するに充
分な層数より成っているので、遮断特性が改善された。
そして、基板の両面にはそれぞれ交互層より成るスタッ
クをそれぞれの面の総膜厚が略々均衡するように配して
いるので、多層膜間の応力が均衡し、耐久性が向上する
。
クをそれぞれの面の総膜厚が略々均衡するように配して
いるので、多層膜間の応力が均衡し、耐久性が向上する
。
第１図は、本発明に係る赤外線多層膜干渉フィルタの一
構成例を示し、１は赤外線透過材料からなる基板で、例
えば比抵抗の大きいシリコン基板が用いられ、その厚み
は０．５１以下のものが好ましい。２は基板１の一方の
面（以下、Ａ面という）に形成された約６μｍカットオ
ンフィルタで、高屈折率物質層Ｈと低屈折率物質層りの
交互層より成る２つのスタック２１．２２を積層して形
成されている。３は基板１の他方の面（以下、Ｂ面とい
う）に形成された４μｍカットオンフィルタで、同様に
高屈折率物質Ｈと低屈折率物質りの交互層より成る４つ
のスタック３１３２．３３．３４を積層して形成されて
いる。
構成例を示し、１は赤外線透過材料からなる基板で、例
えば比抵抗の大きいシリコン基板が用いられ、その厚み
は０．５１以下のものが好ましい。２は基板１の一方の
面（以下、Ａ面という）に形成された約６μｍカットオ
ンフィルタで、高屈折率物質層Ｈと低屈折率物質層りの
交互層より成る２つのスタック２１．２２を積層して形
成されている。３は基板１の他方の面（以下、Ｂ面とい
う）に形成された４μｍカットオンフィルタで、同様に
高屈折率物質Ｈと低屈折率物質りの交互層より成る４つ
のスタック３１３２．３３．３４を積層して形成されて
いる。
前記高屈折率物質層Ｈ及び低屈折率物質層りよりなる交
互層を形成するには、高屈折率の蒸発物質としてＧｅ
（ゲルマニウム）を、又、低屈折率の蒸発物質としてＺ
ｎＳ （硫化亜鉛）をそれぞれ用い、これを公知の真空
蒸着法によって基板ｌ上に交互に付着せしめて所定層数
（１８〜２２層）のスタック２１、２２．３１．３２．
３３．３４が形成されるものである。
互層を形成するには、高屈折率の蒸発物質としてＧｅ
（ゲルマニウム）を、又、低屈折率の蒸発物質としてＺ
ｎＳ （硫化亜鉛）をそれぞれ用い、これを公知の真空
蒸着法によって基板ｌ上に交互に付着せしめて所定層数
（１８〜２２層）のスタック２１、２２．３１．３２．
３３．３４が形成されるものである。
尚、１つのスタックの所定層数は所望の遮断レベルを達
成するよう考慮して決定されている。
成するよう考慮して決定されている。
６μｍカットオンフィルタ２を形成するため、基板１の
Ａ面には中心波長がそれぞれ３．６μｍ。
Ａ面には中心波長がそれぞれ３．６μｍ。
４．９ μｍの２つのスタック２１．２２が積層される
。
。
又、４μｍカットオンフィルタ３を形成するため、基板
１のＢ面には中心波長がそれぞれ３．６μｍ。
１のＢ面には中心波長がそれぞれ３．６μｍ。
２．７μｍ 、２．０μｍ 、１．５μｍの４つのスタ
ック３１゜３２、３３．３４が積層される。
ック３１゜３２、３３．３４が積層される。
第２図は基板１のＡ面に形成された４１層からなる６μ
ｍカットオンフィルタ２の分光特性を示す。
ｍカットオンフィルタ２の分光特性を示す。
又、第３図は基板１のＢ面に形成された７５層からなる
４μｍカットオンフィルタ３の分光特性を示す。第４図
はＡ面、Ｂ面にそれぞれ４１層からなる６μｍカットオ
ンフィルタ２，７５層からなる４μｍカットオンフィル
タ３を形成してなる赤外線多層膜干渉フィルタの分光特
性を示している。特に、第４図に示すように、本発明に
係る赤外線多層膜干渉フィルタは、そのアテネーション
レベルは平均０．０１％となり、これは従来の約１０倍
のレベルである（従来約０．１％）。つまりそれだＩＪ
遮断特性が改善されたこととなる。
４μｍカットオンフィルタ３の分光特性を示す。第４図
はＡ面、Ｂ面にそれぞれ４１層からなる６μｍカットオ
ンフィルタ２，７５層からなる４μｍカットオンフィル
タ３を形成してなる赤外線多層膜干渉フィルタの分光特
性を示している。特に、第４図に示すように、本発明に
係る赤外線多層膜干渉フィルタは、そのアテネーション
レベルは平均０．０１％となり、これは従来の約１０倍
のレベルである（従来約０．１％）。つまりそれだＩＪ
遮断特性が改善されたこととなる。
次に、上述の赤外線多層膜干渉フィルタに対して行った
接着強度試験の内容とその試験結果について説明する。
接着強度試験の内容とその試験結果について説明する。
まず、７１１角に切断したフィルタの両面に、接着剤（
セメダイン１５６５ ；商品名）を塗布した６Φ１Ｘ３
ＱＪｎ＋のステンレス棒をそれぞれ接着し、８０“Ｃ１
３時間以上で硬化させる。
セメダイン１５６５ ；商品名）を塗布した６Φ１Ｘ３
ＱＪｎ＋のステンレス棒をそれぞれ接着し、８０“Ｃ１
３時間以上で硬化させる。
次いで、引張り試験装置（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）に前記
ステンレス棒ヲセントして、２木のステンレス棒をゆっ
くりと引張りつつ、膜剥離及び接着剤剥離時の荷重を測
定した。試験結果は第１表に示す通りである。
ステンレス棒ヲセントして、２木のステンレス棒をゆっ
くりと引張りつつ、膜剥離及び接着剤剥離時の荷重を測
定した。試験結果は第１表に示す通りである。
（以下、余白）
第１表
上記第１表から次のことが判る。すなわち、接着剤より
も膜の方が先に剥離したのは１２例中１例であり、他の
１１例は膜が接着剤と同程度あるいはそれ以上の接着強
度を有していることを示している。従って、本発明に係
る赤外線多層膜干渉フィルタの各層の付着強度は接着剤
の接着強度と同等又はそれ以上であるといえる。
も膜の方が先に剥離したのは１２例中１例であり、他の
１１例は膜が接着剤と同程度あるいはそれ以上の接着強
度を有していることを示している。従って、本発明に係
る赤外線多層膜干渉フィルタの各層の付着強度は接着剤
の接着強度と同等又はそれ以上であるといえる。
更に、上記フィルタを塩水（７ｇ／ｉ’）に漬けて剥離
テストを行ったところ、塩水中で６ケ月経過しても剥離
を生じないという好結果を得た。
テストを行ったところ、塩水中で６ケ月経過しても剥離
を生じないという好結果を得た。
なお、フィルタ製作技術によればカットオンする波長が
与えられればそのような特性のフィルタを製作するのに
中心波長や層数をいくらかにするかについては適宜設定
することができる。従って、上記実施例におけるスタッ
クの層数及び中心波長は一例を示したにすぎないもので
ある。
与えられればそのような特性のフィルタを製作するのに
中心波長や層数をいくらかにするかについては適宜設定
することができる。従って、上記実施例におけるスタッ
クの層数及び中心波長は一例を示したにすぎないもので
ある。
又、基板１のＢ面に形成するスタック数は３個であって
もよい。すなわち、基板１のＡ、Ｂ両面における多層膜
間の応力を略均衡させると同時に所望の遮断レヘルを得
るようにしてあればよいのである。
もよい。すなわち、基板１のＡ、Ｂ両面における多層膜
間の応力を略均衡させると同時に所望の遮断レヘルを得
るようにしてあればよいのである。
以上詳述したように、本発明によれば多層膜の眉間にお
ける層同士の剥離がなくなり、遮断特性に優れた耐久性
のある赤外線多層膜干渉フィルタが得られる。そして、
この種フィルタをパイロセンサに使用した場合、誤動作
を生じない優れたパイロセンサを得ることができる。
ける層同士の剥離がなくなり、遮断特性に優れた耐久性
のある赤外線多層膜干渉フィルタが得られる。そして、
この種フィルタをパイロセンサに使用した場合、誤動作
を生じない優れたパイロセンサを得ることができる。
第１図は本発明の一実施例を示す側面図、第２回は基板
のＡ面に形成された６μｍカットオンフィルタの分光特
性を示す図、第３図は基板のＢ面に形成された４μｍカ
ットオンフィルタの分光特性を示す図、第４図は本発明
に係る赤外線多層膜干渉フィルタの分光特性を示す図で
ある。 １・・・基板、２・・・長波長側カットオンフィルタ、
３・・・短波長側カットオンフィルタ、２１．２２．３
１゜３２、３３．３４・・・スタック、Ｈ・・・高屈折
率物質層、Ｌ・・・低屈折率物質層。 第１図 １−−−−一・狂
のＡ面に形成された６μｍカットオンフィルタの分光特
性を示す図、第３図は基板のＢ面に形成された４μｍカ
ットオンフィルタの分光特性を示す図、第４図は本発明
に係る赤外線多層膜干渉フィルタの分光特性を示す図で
ある。 １・・・基板、２・・・長波長側カットオンフィルタ、
３・・・短波長側カットオンフィルタ、２１．２２．３
１゜３２、３３．３４・・・スタック、Ｈ・・・高屈折
率物質層、Ｌ・・・低屈折率物質層。 第１図 １−−−−一・狂
Claims (1)
- 赤外線透過性基板の一方の面に、高屈折率物質層と低屈
折率物質層の交互層より成るスタックを２つ積層して長
波長側カットオンフィルタを形成すると共に、前記基板
の他方の面に、前記交互層より成るスタックを３〜４つ
積層して短波長側カットオンフィルタを形成してなる赤
外線多層膜干渉フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14006585A JPS61296306A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 赤外線多層膜干渉フイルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14006585A JPS61296306A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 赤外線多層膜干渉フイルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61296306A true JPS61296306A (ja) | 1986-12-27 |
Family
ID=15260158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14006585A Pending JPS61296306A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 赤外線多層膜干渉フイルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61296306A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH01108503A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-25 | Horiba Ltd | 帯域透過光学フィルター |
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| JPS58217901A (ja) * | 1982-06-14 | 1983-12-19 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 透過型光学部材 |
-
1985
- 1985-06-25 JP JP14006585A patent/JPS61296306A/ja active Pending
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