JPH03210503A - 多層膜干渉フィルタ - Google Patents
多層膜干渉フィルタInfo
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- JPH03210503A JPH03210503A JP2005321A JP532190A JPH03210503A JP H03210503 A JPH03210503 A JP H03210503A JP 2005321 A JP2005321 A JP 2005321A JP 532190 A JP532190 A JP 532190A JP H03210503 A JPH03210503 A JP H03210503A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、赤外線ガス分析計その他に使用される、高屈
折率材料膜と低屈折率材料膜とからなる光学用の多層膜
干渉フィルタに関するものである。
折率材料膜と低屈折率材料膜とからなる光学用の多層膜
干渉フィルタに関するものである。
（従来の技術）
赤外線ガス分析計その他に使用される多層膜干渉フィル
タは、例えば、第３図に示したものが知られている。
タは、例えば、第３図に示したものが知られている。
この多層膜干渉フィルタは、Ｓｔ、５ｉＯｚ、Ａ、ｊ！
２０３などからなる基板１に、光学膜厚を所要の透過中
心波長の１／４としたＧｅからなる高屈折率材料膜Ｈと
ＳｉＯからなる低屈折率材料膜りとが、次の構成で積層
されたものである。
２０３などからなる基板１に、光学膜厚を所要の透過中
心波長の１／４としたＧｅからなる高屈折率材料膜Ｈと
ＳｉＯからなる低屈折率材料膜りとが、次の構成で積層
されたものである。
５ｔｊＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ）２ＬＨまた、Ｇｅか
らなる高屈折率材料膜ＨとＺｎＳからなる低屈折率材料
膜とを、 Ｓｉ／ＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ）ＬＨの構成で積層し
た多層膜干渉フィルタも知られている。
らなる高屈折率材料膜ＨとＺｎＳからなる低屈折率材料
膜とを、 Ｓｉ／ＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ）ＬＨの構成で積層し
た多層膜干渉フィルタも知られている。
これら従来の多層膜干渉フィルタは、いずれも高屈折率
材料膜Ｈが最終層になっている。
材料膜Ｈが最終層になっている。
（発明が解決しようとする課題）
前記従来の多層膜干渉フィルタは、その使用期間の経過
に従って、設定された透過波長帯域の透過率が低下する
問題があった。
に従って、設定された透過波長帯域の透過率が低下する
問題があった。
この透過率低下の問題を解決するため、その多層膜干渉
フィルタを種々調べた結果、例えは、最軽層が空気との
接触による化学反応で変色していることを見出だした。
フィルタを種々調べた結果、例えは、最軽層が空気との
接触による化学反応で変色していることを見出だした。
また、このように変色した干渉フィルタの透過率が低下
していたので、最終層の経時変化のために前記透過率の
低下が生じるものと考えられる。
していたので、最終層の経時変化のために前記透過率の
低下が生じるものと考えられる。
本発明は上記の課題を解決するものであって、経時変化
による透過率低下を防ぐことができる多層膜干渉フィル
タをうろことを目的とするものである。
による透過率低下を防ぐことができる多層膜干渉フィル
タをうろことを目的とするものである。
（課題を解決するための手段）
本発明の多層膜干渉フィルタは、Ｇｅからなる高屈折率
材料膜とＳｉＯまたはＺｎＳからなる低屈折率材料膜と
か基板に積層され、かつ前記積層か高屈折率材料膜で終
わっている多層膜干渉フィルタにおいて、最終層を前記
低屈折率材料からなる光学膜厚の保護膜で被覆したこと
を特徴とするものである。
材料膜とＳｉＯまたはＺｎＳからなる低屈折率材料膜と
か基板に積層され、かつ前記積層か高屈折率材料膜で終
わっている多層膜干渉フィルタにおいて、最終層を前記
低屈折率材料からなる光学膜厚の保護膜で被覆したこと
を特徴とするものである。
前記保護膜の光学膜厚は７０ｕ］以上にすることか好適
である。
である。
（作 用）
この多層膜干渉フィルタは、その最終層を保護膜で保護
して、その経時変化を防ぐものである。
して、その経時変化を防ぐものである。
そして、この保護層は、干渉フィルタを構成した低屈折
率材料で光学膜厚に形成されており、干渉フィルタの分
光スペクトルに対する影響は生じない。
率材料で光学膜厚に形成されており、干渉フィルタの分
光スペクトルに対する影響は生じない。
（実施例）
本発明の多層膜干渉フィルタの第１実施例を第１図につ
いて説明する。
いて説明する。
この第１実施例は、光学膜厚を所要の透過中心波長の１
／４にしたＧｅからなる高屈折率材料膜ＨとＳｉＯから
なる低屈折率材料膜りどのそれぞれを、 Ｓｉ／／ＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ） ２ＬＨの構成で
、Ｓｉ−ＳｉＯ２、Ａｆ２０３などからなる基板１（こ
の実施例ではＳｔ）に蒸着で積層して干渉フィルタ２か
構成されている。そして、前記低屈折率材料１！ＩＬを
構成したＳｉＯを７５訂の光学膜厚で蒸着してなる保護
膜３で、前記干渉フィルタ２における最終層の高屈折率
材料膜Ｈを被覆し保護している。
／４にしたＧｅからなる高屈折率材料膜ＨとＳｉＯから
なる低屈折率材料膜りどのそれぞれを、 Ｓｉ／／ＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ） ２ＬＨの構成で
、Ｓｉ−ＳｉＯ２、Ａｆ２０３などからなる基板１（こ
の実施例ではＳｔ）に蒸着で積層して干渉フィルタ２か
構成されている。そして、前記低屈折率材料１！ＩＬを
構成したＳｉＯを７５訂の光学膜厚で蒸着してなる保護
膜３で、前記干渉フィルタ２における最終層の高屈折率
材料膜Ｈを被覆し保護している。
そして、この干渉フィルタ２の耐久性テストを次のよう
に行った。
に行った。
干渉フィルタ２の分光スペクトルをまず測定した。その
結果は、第２図に示すＡのとおりであった６次に、その
干渉フィルタ２を約０．４％の塩水に２４時間漬けた後
、その分光スペクトルを測定したが、それは前記Ａとほ
とんど同じであって、変化は認められなかった。
結果は、第２図に示すＡのとおりであった６次に、その
干渉フィルタ２を約０．４％の塩水に２４時間漬けた後
、その分光スペクトルを測定したが、それは前記Ａとほ
とんど同じであって、変化は認められなかった。
また、比較例として、前記従来例の多層膜干渉フィルタ
の分光スペクトルを測定したところ、それは前記実施例
の分光スペクトルＡとほぼ同じであった。次に、その干
渉フィルタを約０．４％の塩水に２４時間漬けた後、そ
の分光スペクトルを測定したところ、第２図に示すＢの
ように、透過率が大巾に低下していた。
の分光スペクトルを測定したところ、それは前記実施例
の分光スペクトルＡとほぼ同じであった。次に、その干
渉フィルタを約０．４％の塩水に２４時間漬けた後、そ
の分光スペクトルを測定したところ、第２図に示すＢの
ように、透過率が大巾に低下していた。
この耐久テストの結果から明らかなように、前記第１実
施例の干渉フィルタ２は、塩水に漬ける前と、２４時間
漬けたのちの分光スペクトルにほとんど差がなく、耐久
性にすぐれていることが明らかである。
施例の干渉フィルタ２は、塩水に漬ける前と、２４時間
漬けたのちの分光スペクトルにほとんど差がなく、耐久
性にすぐれていることが明らかである。
しかも、前記保護１！ＩＩ３か干渉フィルタ２の分光ス
ペクトルに影響を与えないことは、その分光スペクトル
Ａが、前記従来例の保護膜を備えていない干渉フィルタ
の塩水に漬ける前の分光スペクトルとほぼ同じであるこ
とから明らかである。
ペクトルに影響を与えないことは、その分光スペクトル
Ａが、前記従来例の保護膜を備えていない干渉フィルタ
の塩水に漬ける前の分光スペクトルとほぼ同じであるこ
とから明らかである。
したがって、前記干渉フィルタ２を、赤外線ガス分析計
その他に使用した場合において、経時変化のおそれがほ
とんどなく、設定された赤外線の波長帯域を効率よく透
過させることができる。
その他に使用した場合において、経時変化のおそれがほ
とんどなく、設定された赤外線の波長帯域を効率よく透
過させることができる。
この干渉フィルタ２の保護膜３は、低屈折率材料膜りと
同じＳｉＯで形成しているから、保護膜３の蒸着をわざ
わざ第３の材料を使用することなく、低屈折率材料膜り
の形成材料を使用して連続的に行うことが可能であり、
保護膜３を能率よく形成することが可能である。
同じＳｉＯで形成しているから、保護膜３の蒸着をわざ
わざ第３の材料を使用することなく、低屈折率材料膜り
の形成材料を使用して連続的に行うことが可能であり、
保護膜３を能率よく形成することが可能である。
しかし、保護１１３は低屈折率材料であるＺｎＳで形成
することも可能である。
することも可能である。
次に、第２実施例を示すか、その構造は第１図と同じで
あるから、第１図を参照して説明する。
あるから、第１図を参照して説明する。
この第２実施例は、Ｇｅからなる高屈折率材料ＭＨとＺ
ｎＳからなる低屈折率材料ＮＩＬとのそれぞれを、 Ｓｉ／ＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ）ＬＨの構成で、基板
１に！看で積層して干渉フィルタ２を構成する。そして
、前記低屈折率材料膜りを構成したＺｎＳを７５ｕ＋の
光学膜厚で蒸着してなる保護１１３で、前記干渉フィル
タにおける最終層の高屈折率材料膜Ｈを被覆している。
ｎＳからなる低屈折率材料ＮＩＬとのそれぞれを、 Ｓｉ／ＬＨＬ （ＬＨＬＨＬＨＬ）ＬＨの構成で、基板
１に！看で積層して干渉フィルタ２を構成する。そして
、前記低屈折率材料膜りを構成したＺｎＳを７５ｕ＋の
光学膜厚で蒸着してなる保護１１３で、前記干渉フィル
タにおける最終層の高屈折率材料膜Ｈを被覆している。
この第２実施例の干渉フィルタ２も、その保護膜３が干
渉フィルタ２の分光スペクトルに影響を与えることなく
、最終層の高屈折率材料１１ｇＨの経時変化を保′Ｗｉ
膜３で防ぐことが可能である。
渉フィルタ２の分光スペクトルに影響を与えることなく
、最終層の高屈折率材料１１ｇＨの経時変化を保′Ｗｉ
膜３で防ぐことが可能である。
前記保護１！１３は、低屈折率材料であるＳｉＯで形成
することも可能である。
することも可能である。
（発明の効果）
本発明の多層膜干渉フィルタは、上記のように。
Ｇｅからなる高屈折率材料膜とＳｉＯまたはＺｎＳから
なる低屈折率材料膜とが、高屈折率材料膜を最終層とし
て基板にＩｆ層され、かつ最終層を前記低屈折率材料か
らなる保護膜で被覆して、前記最終層に空気などが触れ
ないようにした。
なる低屈折率材料膜とが、高屈折率材料膜を最終層とし
て基板にＩｆ層され、かつ最終層を前記低屈折率材料か
らなる保護膜で被覆して、前記最終層に空気などが触れ
ないようにした。
そして、前記低屈折率材料からなる光学膜厚の保護膜は
、干渉フィルタの分光スペクトルに対してほとんど影響
しないものである。
、干渉フィルタの分光スペクトルに対してほとんど影響
しないものである。
したがって、この干渉フィルタが、例えば、空気と接触
する状態で使用されても、最終層である高屈折率材料膜
が経時的に変化するおそれはほとんどなく、使用期間の
長短に無関係に、干渉フィルタに設定された赤外線の透
過帯域を効率よく透過させることができる。
する状態で使用されても、最終層である高屈折率材料膜
が経時的に変化するおそれはほとんどなく、使用期間の
長短に無関係に、干渉フィルタに設定された赤外線の透
過帯域を効率よく透過させることができる。
また、保護膜は低屈折率材料膜と同じＳｉＯまなはＺｎ
Ｓで形成しているから、低屈折率材料膜と保Ｎｌｌどの
構成材を一致させて、わざわざ第３の材料を使用するこ
となく、低屈折率材料膜の形成材料を使用して保護膜の
蒸着を連続的に行うようにすることも可能であり、保護
膜を能率よく形成することができる。
Ｓで形成しているから、低屈折率材料膜と保Ｎｌｌどの
構成材を一致させて、わざわざ第３の材料を使用するこ
となく、低屈折率材料膜の形成材料を使用して保護膜の
蒸着を連続的に行うようにすることも可能であり、保護
膜を能率よく形成することができる。
第１図は本発明の干渉フィルタの一部を省略した拡大図
、第２図は干渉フィルタの分光スペクトル図、第３図は
一部を省略した従来例の拡大図である。 に基板、２：干渉フィルタ、３：保１１１！−Ｈ：高屈
折率材料膜、Ｌ：低屈折率材料膜。
、第２図は干渉フィルタの分光スペクトル図、第３図は
一部を省略した従来例の拡大図である。 に基板、２：干渉フィルタ、３：保１１１！−Ｈ：高屈
折率材料膜、Ｌ：低屈折率材料膜。
Claims (2)
- （１）Ｇｅからなる高屈折率材料膜とＳｉＯまたはＺｎ
Ｓからなる低屈折率材料膜とが基板に積層され、かつ前
記積層が高屈折率材料膜で終わっている多層膜干渉フィ
ルタにおいて、最終層を前記低屈折率材料からなる光学
膜厚の保護膜で被覆したことを特徴とする多層膜干渉フ
ィルタ。 - （２）保護膜の光学膜厚が７０ｎｍ以上である請求項（
１）記載の多層膜干渉フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005321A JP2724563B2 (ja) | 1990-01-14 | 1990-01-14 | 多層膜干渉フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005321A JP2724563B2 (ja) | 1990-01-14 | 1990-01-14 | 多層膜干渉フィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03210503A true JPH03210503A (ja) | 1991-09-13 |
| JP2724563B2 JP2724563B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=11607991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005321A Expired - Fee Related JP2724563B2 (ja) | 1990-01-14 | 1990-01-14 | 多層膜干渉フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2724563B2 (ja) |
Cited By (10)
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1990
- 1990-01-14 JP JP2005321A patent/JP2724563B2/ja not_active Expired - Fee Related
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