JPS5917503A - 赤外反射防止膜 - Google Patents
赤外反射防止膜Info
- Publication number
- JPS5917503A JPS5917503A JP57127404A JP12740482A JPS5917503A JP S5917503 A JPS5917503 A JP S5917503A JP 57127404 A JP57127404 A JP 57127404A JP 12740482 A JP12740482 A JP 12740482A JP S5917503 A JPS5917503 A JP S5917503A
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- Japan
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- refractive index
- layer
- substrate
- layers
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
れるケゝルマニュウム基板の赤外反射防止膜に関する。
従来の色消し反射防止膜の構成の例としては、基板側か
ら数えて第１層ないし第３層をｎｌ ＋ ”２ 、ｎ３
＋空気及び基板の屈折′率を” Ｏ ＋ ｎＳとする
とき、ＴＬ１ｒＬ３−ｎ２２＝ルＯｎｓ を満たす屈折率の物質をλ／４の厚さで蒸着するものが
知られている。
ら数えて第１層ないし第３層をｎｌ ＋ ”２ 、ｎ３
＋空気及び基板の屈折′率を” Ｏ ＋ ｎＳとする
とき、ＴＬ１ｒＬ３−ｎ２２＝ルＯｎｓ を満たす屈折率の物質をλ／４の厚さで蒸着するものが
知られている。
従来の赤外線反射防止膜の例としては、米国特許第ａグ
乙＆左９７号に記載された三層反射防止膜が知られてお
り、これは基板側から数えて第７層が＆膜、第２層がＺ
ｎＳ 、第３層がＢａＦ２の各膜からなるものである。
乙＆左９７号に記載された三層反射防止膜が知られてお
り、これは基板側から数えて第７層が＆膜、第２層がＺ
ｎＳ 、第３層がＢａＦ２の各膜からなるものである。
ところで、この第７層のＳｉは活性があるため、蒸着の
際の蒸発源に電子銃を使用する必要があり、一方一定の
生産能率を上げるために蒸着速度をある程度高くする必
要がある。
際の蒸発源に電子銃を使用する必要があり、一方一定の
生産能率を上げるために蒸着速度をある程度高くする必
要がある。
しかし、蒸着速度を上げるために電子銃の出力を大きく
するとＳ（が不均一に加熱され、気体でないＳ（が飛散
して基板に付着するだめ、蒸着膜の品質の低下あるいけ
生産能率を向上させることができない等の問題を有する
。
するとＳ（が不均一に加熱され、気体でないＳ（が飛散
して基板に付着するだめ、蒸着膜の品質の低下あるいけ
生産能率を向上させることができない等の問題を有する
。
本発明は、上記従来の問題を鑑みなされたものであって
、赤外反射防止の効果が優れており、高速の蒸着が可能
で、かつ容易に高品質の蒸着膜を得ることができる赤外
反射防止膜を提供することを目的とする。
、赤外反射防止の効果が優れており、高速の蒸着が可能
で、かつ容易に高品質の蒸着膜を得ることができる赤外
反射防止膜を提供することを目的とする。
本発明は、上記目的を達成するために以下の構成上の特
徴を有する。すなわち、ケ゛ルマニュウム基板の多層反
射防止膜において、基板側から数えて第一層に中間屈折
率のＺｒＬＳ膜またはＺｎ５ｅ膜、第二層に高屈折率の
Ｇｅ膜、第三層に上記中間屈折率の膜、第四層に低屈折
率のｓａｌ”２ 、 ＬａＦ２ ＋ＣａＦ２ および
ＳｒＦ２ のうちのいずれかの膜からなることである
。寸だ、本発明の好捷しい実施態様は、上記第一層ない
し舗四層の各厚さをｄｌ、”２．ｄ３．ｄ４各屈折率を
”１．７Ｌ２１ｒＬ３＋ｎ４とするとき、ｎ １ｄ１
：ｎ２ｄ ２：ｎ５ｄｓ：ｎ４ｄ４ ＝ ／ ：
、２ ： ３ ＩＩ ： ＩＡ ＩＩ
である。
徴を有する。すなわち、ケ゛ルマニュウム基板の多層反
射防止膜において、基板側から数えて第一層に中間屈折
率のＺｒＬＳ膜またはＺｎ５ｅ膜、第二層に高屈折率の
Ｇｅ膜、第三層に上記中間屈折率の膜、第四層に低屈折
率のｓａｌ”２ 、 ＬａＦ２ ＋ＣａＦ２ および
ＳｒＦ２ のうちのいずれかの膜からなることである
。寸だ、本発明の好捷しい実施態様は、上記第一層ない
し舗四層の各厚さをｄｌ、”２．ｄ３．ｄ４各屈折率を
”１．７Ｌ２１ｒＬ３＋ｎ４とするとき、ｎ １ｄ１
：ｎ２ｄ ２：ｎ５ｄｓ：ｎ４ｄ４ ＝ ／ ：
、２ ： ３ ＩＩ ： ＩＡ ＩＩ
である。
以下、本発明の詳細な説明する。第１実施例は、 基
板 Ｇｅ 第１層 ＺｒＬＳ 光学膜厚 ０．’１３ｔｔ
ｍ第λ層 Ｇｅ 光学膜厚 ０９θμｍ第３層
Ｚｎ５ 光学膜厚 ２．’１３ｔｔｍ第ｑ層
ＢａＦ２ 光学膜厚 、２．００ｔｔｍである
。この分光特性は、計算値が第７図に示され、実験値が
第２図に示されるように、乙ｉｔｍ から／ｌＩμｍ
について高透過率を得ることができる。
板 Ｇｅ 第１層 ＺｒＬＳ 光学膜厚 ０．’１３ｔｔ
ｍ第λ層 Ｇｅ 光学膜厚 ０９θμｍ第３層
Ｚｎ５ 光学膜厚 ２．’１３ｔｔｍ第ｑ層
ＢａＦ２ 光学膜厚 、２．００ｔｔｍである
。この分光特性は、計算値が第７図に示され、実験値が
第２図に示されるように、乙ｉｔｍ から／ｌＩμｍ
について高透過率を得ることができる。
なお、第１図ないし第９図は、縦軸が波長（栄位二μｍ
）、横軸が透過率（単位：％）である。
）、横軸が透過率（単位：％）である。
第ユ実施例は、
基 板 Ｇｅ
第１層 Ｚｎ Ｓ ｅ 光学膜厚 ０． ’Ｉｓ
ｔｒｍ第ａ層 Ｇｅ 光学膜厚 ０９ μｍ第３層
ＺＴＬＳｅ 光学膜厚 ２．ゲタμｍ第グ層
ＢａＦ２光学膜厚 ２．θ μｍである。この分
光特性の計算値は、第３図に示されるように、６μｍか
ら７１７μｍについて高透過率を得ることができる。
ｔｒｍ第ａ層 Ｇｅ 光学膜厚 ０９ μｍ第３層
ＺＴＬＳｅ 光学膜厚 ２．ゲタμｍ第グ層
ＢａＦ２光学膜厚 ２．θ μｍである。この分
光特性の計算値は、第３図に示されるように、６μｍか
ら７１７μｍについて高透過率を得ることができる。
第３実施例は、
基 板 Ｇｅ
第１層 ＺｎＳ 光学膜厚 θ３μｍ第λ層
Ｇｅ 光学膜厚 ０乙μｍ第３層 ＺｎＳ
光学膜厚 ｉ ７ μｍ第ダ層 ＭｇＦ２ 光学膜
厚 ７７μｍである。この分光特性の計算値は、第１Ｉ
図に示されるように、りμｍから７０μｍについて高透
過率を得ることができる。
Ｇｅ 光学膜厚 ０乙μｍ第３層 ＺｎＳ
光学膜厚 ｉ ７ μｍ第ダ層 ＭｇＦ２ 光学膜
厚 ７７μｍである。この分光特性の計算値は、第１Ｉ
図に示されるように、りμｍから７０μｍについて高透
過率を得ることができる。
第１図は本発明の第１実施例の計算による分光特性を示
すグラフ、第２図は第１実施例の実験値の分光特性を示
すグラフ、第３図は第ス実施例の計算による分光特性を
示すグラフ、第７図は第３実施例の計算による分光特性
を示すグラフである。 特許出願人 東京光学機搏株式会社 第１医 第２１ 第３図 第４図 ：５ ；。 ；、５ コ。 ：、５ ：、。 ７．５ ＝。 ：、５ １８゜ ：：、５ １う、。 ｌ：二、 ／］１：二
すグラフ、第２図は第１実施例の実験値の分光特性を示
すグラフ、第３図は第ス実施例の計算による分光特性を
示すグラフ、第７図は第３実施例の計算による分光特性
を示すグラフである。 特許出願人 東京光学機搏株式会社 第１医 第２１ 第３図 第４図 ：５ ；。 ；、５ コ。 ：、５ ：、。 ７．５ ＝。 ：、５ １８゜ ：：、５ １う、。 ｌ：二、 ／］１：二
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ／）ケ゛ルマニュウム基板の多層反射防止膜において、
基板側から数えて第一層に中間屈折率のＺｎＳ膜まだは
ＺｒＬＳｅ膜、第ニーに高屈折率のＧｅ 膜、第三層に
上記中間屈折率の膜、第四層に低屈折率の”ａＦ２＋’
２Ｆ２．ＣａＦ２およびＳｒＦ２のうちのいずれかの膜
からなることを特徴とする赤外反射防止膜。 ２）上記第一層ないし第四層の各厚さをｄｌ 、 ｄ２
、ｄｚ、 。 ｄ４、各屈折率を′ｒＬ１１ｒＬ２ 、ｒＬ３１ｒＬ４
とするとき、ｎ１ｄｌ：ｒＬ２ｄ２：ｒＬ３ｄ３：ｒＬ
４ｄ４−／ ： ２ ： ！？ ’ｌ ： ’Ａ ４１
である特許請求の範囲第１項記載の赤外反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57127404A JPS5917503A (ja) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | 赤外反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57127404A JPS5917503A (ja) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | 赤外反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5917503A true JPS5917503A (ja) | 1984-01-28 |
| JPH0213761B2 JPH0213761B2 (ja) | 1990-04-05 |
Family
ID=14959146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57127404A Granted JPS5917503A (ja) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | 赤外反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5917503A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381401A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-12 | Horiba Ltd | 高出力ｃｏ↓２レ−ザ光用光学部品 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012160979A1 (ja) | 2011-05-24 | 2012-11-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
-
1982
- 1982-07-21 JP JP57127404A patent/JPS5917503A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381401A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-12 | Horiba Ltd | 高出力ｃｏ↓２レ−ザ光用光学部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0213761B2 (ja) | 1990-04-05 |
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