JP2000147205A - 赤外反射防止膜 - Google Patents
赤外反射防止膜Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外領域の光に対して優れた反射防止性能を
有する外反射防止膜を提供する。 【解決手段】 使用する波長領域の中心波長を設計主波
長λ0とし、λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合におい
て、λ0に対する屈折率ｎ1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有
する第１の領域の物質、２.０≦ｎ1＜３.０を有する第
２の領域の物質、および３.０≦ｎ1＜５.０を有する第
３の領域の物質を用いて、基板から数えて第１層を第１
の領域の物質とし、第２層以上には第偶数番目の層には
第３の領域の物質、第奇数番目の層には第２の領域の物
質を交互に積層し、最後の第２の領域の物質の層の上に
最外層として第１の領域の物質を積層した赤外反射防止
膜。第１層がＹ2Ｏ3またはＹＦ3である上記の赤外反射
膜。
有する外反射防止膜を提供する。 【解決手段】 使用する波長領域の中心波長を設計主波
長λ0とし、λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合におい
て、λ0に対する屈折率ｎ1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有
する第１の領域の物質、２.０≦ｎ1＜３.０を有する第
２の領域の物質、および３.０≦ｎ1＜５.０を有する第
３の領域の物質を用いて、基板から数えて第１層を第１
の領域の物質とし、第２層以上には第偶数番目の層には
第３の領域の物質、第奇数番目の層には第２の領域の物
質を交互に積層し、最後の第２の領域の物質の層の上に
最外層として第１の領域の物質を積層した赤外反射防止
膜。第１層がＹ2Ｏ3またはＹＦ3である上記の赤外反射
膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、赤外領域で使用さ
れる光学部品に用いられる赤外反射防止膜に関する。
れる光学部品に用いられる赤外反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズやプリズム等の光学部品の表面で
の光の反射率を低減するため、これらの光学部品の表面
に単層または多層の反射防止膜が施される。赤外波長領
域を対象とする光学系の場合にも、赤外領域に吸収の少
ないＧｅやＳｉ等が光学材料として用いられ、この基板
の上に反射防止膜が設けられる。赤外領域、特に波長２
μｍ〜１５μｍの範囲に対する反射防止膜が広く研究さ
れ、特により広い波長範囲で高い反射防止能を有するも
のが探求されてきた。
の光の反射率を低減するため、これらの光学部品の表面
に単層または多層の反射防止膜が施される。赤外波長領
域を対象とする光学系の場合にも、赤外領域に吸収の少
ないＧｅやＳｉ等が光学材料として用いられ、この基板
の上に反射防止膜が設けられる。赤外領域、特に波長２
μｍ〜１５μｍの範囲に対する反射防止膜が広く研究さ
れ、特により広い波長範囲で高い反射防止能を有するも
のが探求されてきた。
【０００３】このような光学特性に優れた赤外反射防止
膜は、主として反射防止膜を多層構造にすることによっ
て得られている。多層構造の場合、隣り合う層の材質関
係が重要であるが、基板と反射防止膜との間に位置する
反射防止膜第１層が特に重要である。従来の多層反射防
止膜では、この第１層には主としてＧｅまたはＺｎＳが
使用されてきた。しかし、ＺｎＳの場合は、基板に多層
膜成分を蒸着する際に基板温度が高いとＺｎＳが再蒸発
することが多く、製膜過程で膜厚をモニターしている
と、ＺｎＳが再蒸発していることが明瞭に観察され、一
旦膜が付き始めるまでは、再蒸発のためまったく膜が形
成されない。一旦膜の形成が始まると通常の材料と同様
に成膜が進行するが、その場合でも再蒸発のため、基板
との間で膜割れなどが生じる恐れがある。第１層として
Ｇｅを使用するとＺｎＳのような問題は生じないが、か
ならずしも十分な分光反射率が得られない。
膜は、主として反射防止膜を多層構造にすることによっ
て得られている。多層構造の場合、隣り合う層の材質関
係が重要であるが、基板と反射防止膜との間に位置する
反射防止膜第１層が特に重要である。従来の多層反射防
止膜では、この第１層には主としてＧｅまたはＺｎＳが
使用されてきた。しかし、ＺｎＳの場合は、基板に多層
膜成分を蒸着する際に基板温度が高いとＺｎＳが再蒸発
することが多く、製膜過程で膜厚をモニターしている
と、ＺｎＳが再蒸発していることが明瞭に観察され、一
旦膜が付き始めるまでは、再蒸発のためまったく膜が形
成されない。一旦膜の形成が始まると通常の材料と同様
に成膜が進行するが、その場合でも再蒸発のため、基板
との間で膜割れなどが生じる恐れがある。第１層として
Ｇｅを使用するとＺｎＳのような問題は生じないが、か
ならずしも十分な分光反射率が得られない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、赤外
領域の光に対して優れた反射防止性能を有する赤外反射
防止膜を提供することである。
領域の光に対して優れた反射防止性能を有する赤外反射
防止膜を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、使用する波長
領域の中心波長を設計主波長λ0とし、λ0が２μｍ＜λ
0＜１５μｍの場合において、λ0に対する屈折率ｎ
1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有する第１の領域の物質、
２.０≦ｎ1＜３.０を有する第２の領域の物質、および
３.０≦ｎ1＜５.０を有する第３の領域の物質を用い
て、基板から数えて第１層を第１の領域の物質とし、第
２層以上には第偶数番目の層には第３の領域の物質、第
奇数番目の層には第２の領域の物質を交互に積層し、最
後の第２の領域の物質の層の上に最外層として第１の領
域の物質を積層した赤外反射防止膜に関する。
領域の中心波長を設計主波長λ0とし、λ0が２μｍ＜λ
0＜１５μｍの場合において、λ0に対する屈折率ｎ
1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有する第１の領域の物質、
２.０≦ｎ1＜３.０を有する第２の領域の物質、および
３.０≦ｎ1＜５.０を有する第３の領域の物質を用い
て、基板から数えて第１層を第１の領域の物質とし、第
２層以上には第偶数番目の層には第３の領域の物質、第
奇数番目の層には第２の領域の物質を交互に積層し、最
後の第２の領域の物質の層の上に最外層として第１の領
域の物質を積層した赤外反射防止膜に関する。
【０００６】詳しくは、本発明は、第１層がＹ2Ｏ3また
はＹＦ3である上記の赤外反射膜に関する。更に詳しく
は、本発明は、基板物質がＧｅ、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、Ｚｎ
ＳおよびＡｌ2Ｏ3からなる群から選ばれる物質、第１の
領域の物質がＹ2Ｏ3、ＹＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2、Ｍｇ
Ｆ2およびＴｈＦ4からなる群から選ばれる物質、第２の
領域の物質がＺｎＳおよびＺｎＳｅからなる群から選ば
れる物質、第３の領域の物質がＧｅおよびＳｉからなる
群から選ばれる物質であることを特徴とする上記の赤外
反射防止膜に関する。
はＹＦ3である上記の赤外反射膜に関する。更に詳しく
は、本発明は、基板物質がＧｅ、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、Ｚｎ
ＳおよびＡｌ2Ｏ3からなる群から選ばれる物質、第１の
領域の物質がＹ2Ｏ3、ＹＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2、Ｍｇ
Ｆ2およびＴｈＦ4からなる群から選ばれる物質、第２の
領域の物質がＺｎＳおよびＺｎＳｅからなる群から選ば
れる物質、第３の領域の物質がＧｅおよびＳｉからなる
群から選ばれる物質であることを特徴とする上記の赤外
反射防止膜に関する。
【０００７】ひとつの態様として、本発明は、使用する
波長領域の中心波長を設計主波長λ0とし、λ0が２μｍ
＜λ0＜１５μｍの場合において、λ0に対する屈折率ｎ
1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有する第１の領域の物質、
２.０≦ｎ1＜３.０を有する第２の領域の物質、および
３.０≦ｎ1＜５.０を有する第３の領域の物質を用い
て、基板から数えて第１層は第１の領域の物質、第２層
は第３の領域の物質、第３層は第２の領域の物質、第４
層は第３の領域の物質、第５層は第２の領域の物質、第
６層は第１の領域の物質を順次積層した６層構成の赤外
反射防止膜に関する。
波長領域の中心波長を設計主波長λ0とし、λ0が２μｍ
＜λ0＜１５μｍの場合において、λ0に対する屈折率ｎ
1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有する第１の領域の物質、
２.０≦ｎ1＜３.０を有する第２の領域の物質、および
３.０≦ｎ1＜５.０を有する第３の領域の物質を用い
て、基板から数えて第１層は第１の領域の物質、第２層
は第３の領域の物質、第３層は第２の領域の物質、第４
層は第３の領域の物質、第５層は第２の領域の物質、第
６層は第１の領域の物質を順次積層した６層構成の赤外
反射防止膜に関する。
【０００８】特に、第１層にＹ2Ｏ3またはＹＦ3、第２
層にＧｅ、第３層にＺｎＳ、第４層にＧｅ、第５層にＺ
ｎＳ、第６層にＹＦ3を配した上記の赤外反射防止膜に
関する。
層にＧｅ、第３層にＺｎＳ、第４層にＧｅ、第５層にＺ
ｎＳ、第６層にＹＦ3を配した上記の赤外反射防止膜に
関する。
【０００９】上記の構成により、本発明の反射防止膜
は、上記波長領域において優れた反射防止性能を有す
る。
は、上記波長領域において優れた反射防止性能を有す
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜は、基板と薄
膜層からなり、両者の界面に当たる薄膜層の第１層とし
て、使用する波長領域の中心波長を設計主波長λ0と
し、λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合において、λ0
に対する屈折率ｎ1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有する第１
の領域の物質、特に酸化イットリウムＹ2Ｏ3またはフッ
化イットリウムＹＦ3、より特には酸化イットリウムＹ2
Ｏ3を使用するところに特徴がある。基板と薄膜層との
界面に上記第１の領域の物質を使用することにより、従
来にない優れた光学特性を有する反射防止膜を得ること
が可能になった。第１の領域の物質として酸化イットリ
ウムまたはフッ化イットリウムを使用すると、これは屈
折率が安定しており、且つ光学的特性に優れるため、更
に好ましい。加えて、酸化イットリウムは高い硬度と密
着性を有するため、反射防止膜に優れた耐久性を付与す
ることもできる。
膜層からなり、両者の界面に当たる薄膜層の第１層とし
て、使用する波長領域の中心波長を設計主波長λ0と
し、λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合において、λ0
に対する屈折率ｎ1が、１.２≦ｎ1＜２.０を有する第１
の領域の物質、特に酸化イットリウムＹ2Ｏ3またはフッ
化イットリウムＹＦ3、より特には酸化イットリウムＹ2
Ｏ3を使用するところに特徴がある。基板と薄膜層との
界面に上記第１の領域の物質を使用することにより、従
来にない優れた光学特性を有する反射防止膜を得ること
が可能になった。第１の領域の物質として酸化イットリ
ウムまたはフッ化イットリウムを使用すると、これは屈
折率が安定しており、且つ光学的特性に優れるため、更
に好ましい。加えて、酸化イットリウムは高い硬度と密
着性を有するため、反射防止膜に優れた耐久性を付与す
ることもできる。
【００１１】
【発明の実施の形態】酸化イットリウムは主に顆粒もし
くは錠剤の形態で市販され、どちらの形態でもよいが、
蒸着時の材料の飛散が少ない錠剤を用いるのが好まし
く、設計主波長での屈折率が１.７０から１.９０、好ま
しくは１.７０から１.８０となるように形成される。ま
た使用する厚さは、その屈折率およびその両側に配置さ
れる物質の屈折率によって変わり得るが、一般には０.
０２〜０.７μｍ、好ましくは０.０５〜０.３μｍであ
る。また、フッ化イットリウムは顆粒で提供されること
が多い。設計主波長での屈折率が１.４５〜１.６０、好
ましくは１.４７〜１.５５となるように形成される。ま
た、使用する厚さはその屈折率およびその両側に配置さ
れる物質の屈折率によって変わり得るが、一般には０.
０１〜１.０μm、好ましくは０.０２〜０.７μmであ
る。
くは錠剤の形態で市販され、どちらの形態でもよいが、
蒸着時の材料の飛散が少ない錠剤を用いるのが好まし
く、設計主波長での屈折率が１.７０から１.９０、好ま
しくは１.７０から１.８０となるように形成される。ま
た使用する厚さは、その屈折率およびその両側に配置さ
れる物質の屈折率によって変わり得るが、一般には０.
０２〜０.７μｍ、好ましくは０.０５〜０.３μｍであ
る。また、フッ化イットリウムは顆粒で提供されること
が多い。設計主波長での屈折率が１.４５〜１.６０、好
ましくは１.４７〜１.５５となるように形成される。ま
た、使用する厚さはその屈折率およびその両側に配置さ
れる物質の屈折率によって変わり得るが、一般には０.
０１〜１.０μm、好ましくは０.０２〜０.７μmであ
る。
【００１２】本発明の赤外反射防止膜を適用することの
できる基板には、Ｇｅ、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳおよび
Ａｌ2Ｏ3等がいずれも使用できる。
できる基板には、Ｇｅ、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳおよび
Ａｌ2Ｏ3等がいずれも使用できる。
【００１３】反射防止膜は、多層の材料を積層して、表
面および各層間での反射が極力少なくなるように構成さ
れる。そのため、本発明では、各層を構成する薄膜層は
使用する波長領域の中心波長を設計主波長λ0とし、設
計主波長λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合において、
λ0に対する屈折率ｎlが、１.２≦ｎl＜２.０を有する
第１の領域の物質、２.０≦ｎl＜３.０を有する第２の
領域の物質、および３.０≦ｎl＜５.０を有する第３の
領域の物質を上記のように組み合わせて構成される。本
発明では、第１層および最外層に使用する第１の領域の
物質として、酸化イットリウムまたはフッ化イットリウ
ムが使用されないところでは、ＢａＦ2、ＣａＦ2、Ｍｇ
Ｆ2、ＴｈＦ4の中から選ばれる物質が使用される。第２
の領域の物質として、ＺｎＳまたはＺｎＳｅが使用され
る。また第３の領域の物質としてはＧｅまたはＳｉが使
用される。
面および各層間での反射が極力少なくなるように構成さ
れる。そのため、本発明では、各層を構成する薄膜層は
使用する波長領域の中心波長を設計主波長λ0とし、設
計主波長λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合において、
λ0に対する屈折率ｎlが、１.２≦ｎl＜２.０を有する
第１の領域の物質、２.０≦ｎl＜３.０を有する第２の
領域の物質、および３.０≦ｎl＜５.０を有する第３の
領域の物質を上記のように組み合わせて構成される。本
発明では、第１層および最外層に使用する第１の領域の
物質として、酸化イットリウムまたはフッ化イットリウ
ムが使用されないところでは、ＢａＦ2、ＣａＦ2、Ｍｇ
Ｆ2、ＴｈＦ4の中から選ばれる物質が使用される。第２
の領域の物質として、ＺｎＳまたはＺｎＳｅが使用され
る。また第３の領域の物質としてはＧｅまたはＳｉが使
用される。
【００１４】
【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明する。実施例 １：Ｇｅ基板における３μｍ〜５μｍ帯６層反
射防止膜 Ｇｅ基板（屈折率４.００）上に、表１に記載した物質
を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜を形
成した。表１には、各層を構成する物質の屈折率
（ｎ1）、膜厚（ｄ）および光学的膜厚（ｎ1ｄ）を設計
主波長λ0で除した値（ｎ1ｄ／λ0）を示した。屈折率
はいずれも設計主波長λ0＝４μｍに対するものであ
る。また図１にはこの反射防止膜の分光反射率を示し
た。
明する。実施例 １：Ｇｅ基板における３μｍ〜５μｍ帯６層反
射防止膜 Ｇｅ基板（屈折率４.００）上に、表１に記載した物質
を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜を形
成した。表１には、各層を構成する物質の屈折率
（ｎ1）、膜厚（ｄ）および光学的膜厚（ｎ1ｄ）を設計
主波長λ0で除した値（ｎ1ｄ／λ0）を示した。屈折率
はいずれも設計主波長λ0＝４μｍに対するものであ
る。また図１にはこの反射防止膜の分光反射率を示し
た。
【００１５】
【表１】
【００１６】実施例 ２：Ｓｉ基板における３μｍ〜５
μｍ帯６層反射防止膜 Ｓｉ（屈折率３.４３）基板上に、表２に記載した物質
を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜を形
成した。表２には、各層を構成する物質の屈折率、膜厚
およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0＝４
μｍである。また図２にはこの反射防止膜の分光反射率
を示した。
μｍ帯６層反射防止膜 Ｓｉ（屈折率３.４３）基板上に、表２に記載した物質
を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜を形
成した。表２には、各層を構成する物質の屈折率、膜厚
およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0＝４
μｍである。また図２にはこの反射防止膜の分光反射率
を示した。
【００１７】
【表２】
【００１８】実施例 ３：ＺｎＳｅ基板における３μｍ
〜５μｍ帯６層反射防止膜 ＺｎＳｅ（屈折率２.４５）基板上に、表３に記載した
物質を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜
を形成した。表３には、各層を構成する物質の屈折率、
膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0
＝４μｍである。また図３にはこの反射防止膜の分光反
射率を示した。
〜５μｍ帯６層反射防止膜 ＺｎＳｅ（屈折率２.４５）基板上に、表３に記載した
物質を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜
を形成した。表３には、各層を構成する物質の屈折率、
膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0
＝４μｍである。また図３にはこの反射防止膜の分光反
射率を示した。
【００１９】
【表３】
【００２０】実施例 ４：Ｇｅ基板における８μｍ〜１
２μｍ帯６層反射防止膜 Ｇｅ基板（屈折率４.００）上に、表１に記載した物質
を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜を形
成した。表４には、各層を構成する物質の屈折率、膜厚
およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。屈折率はいずれも設計
主波長λ0＝４μｍに対するものである。また図４には
この反射防止膜の分光反射率を示した。
２μｍ帯６層反射防止膜 Ｇｅ基板（屈折率４.００）上に、表１に記載した物質
を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜を形
成した。表４には、各層を構成する物質の屈折率、膜厚
およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。屈折率はいずれも設計
主波長λ0＝４μｍに対するものである。また図４には
この反射防止膜の分光反射率を示した。
【００２１】
【表４】
【００２２】実施例 ５：ＺｎＳｅ基板における８μｍ
〜１２μｍ帯６層反射防止膜 ＺｎＳｅ（屈折率２.４５）基板上に、表５に記載した
物質を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜
を形成した。表５には、各層を構成する物質の屈折率、
膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0
＝４μｍである。また図５にはこの反射防止膜の分光反
射率を示した。
〜１２μｍ帯６層反射防止膜 ＺｎＳｅ（屈折率２.４５）基板上に、表５に記載した
物質を順次真空蒸着して積層し、６層の赤外反射防止膜
を形成した。表５には、各層を構成する物質の屈折率、
膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0
＝４μｍである。また図５にはこの反射防止膜の分光反
射率を示した。
【００２３】
【表５】
【００２４】比較例 １：Ｇｅ基板における３μｍ〜５
μｍ帯反射防止膜 Ｇｅ基板上に、表６に記載したように、第１層のＹＦ3
をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実施例
１と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表６には、
各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の
値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図１に
はこの反射防止膜の分光反射率を実施例１の反射防止膜
の分光反射率と対比して示した。
μｍ帯反射防止膜 Ｇｅ基板上に、表６に記載したように、第１層のＹＦ3
をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実施例
１と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表６には、
各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の
値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図１に
はこの反射防止膜の分光反射率を実施例１の反射防止膜
の分光反射率と対比して示した。
【００２５】
【表６】
【００２６】比較例 ２：Ｓｉ基板における３μｍ〜５
μｍ帯反射防止膜 Ｓｉ基板上に、表７に記載したように、第１層のＹ2Ｏ3
をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実施例
２と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表６には、
各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の
値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図２に
はこの反射防止膜の分光反射率を実施例２の反射防止膜
の分光反射率と対比して示した。
μｍ帯反射防止膜 Ｓｉ基板上に、表７に記載したように、第１層のＹ2Ｏ3
をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実施例
２と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表６には、
各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の
値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図２に
はこの反射防止膜の分光反射率を実施例２の反射防止膜
の分光反射率と対比して示した。
【００２７】
【表７】
【００２８】比較例 ３：ＺｎＳｅ基板における３μｍ
〜５μｍ帯反射防止膜 ＺｎＳｅ基板上に、表８に記載したように、第１層のＹ
2Ｏ3をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実
施例３と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表８に
は、各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／
λ0の値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図
３にはこの反射防止膜の分光反射率を実施例３の反射防
止膜の分光反射率と対比して示した。
〜５μｍ帯反射防止膜 ＺｎＳｅ基板上に、表８に記載したように、第１層のＹ
2Ｏ3をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実
施例３と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表８に
は、各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／
λ0の値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図
３にはこの反射防止膜の分光反射率を実施例３の反射防
止膜の分光反射率と対比して示した。
【００２９】
【表８】
【００３０】比較例 ４：Ｇｅ基板における８μｍ〜１
２μｍ帯６層反射防止膜 Ｇｅ基板上に、表９に記載したように、第１層のＹＦ3
をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実施例
４と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表９には、
各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の
値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図４に
はこの反射防止膜の分光反射率を実施例４の反射防止膜
の分光反射率と対比して示した。
２μｍ帯６層反射防止膜 Ｇｅ基板上に、表９に記載したように、第１層のＹＦ3
をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は実施例
４と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表９には、
各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の
値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍである。図４に
はこの反射防止膜の分光反射率を実施例４の反射防止膜
の分光反射率と対比して示した。
【００３１】
【表９】
【００３２】比較例 ５：ＺｎＳｅ基板における８μｍ
〜１２μｍ帯反射防止膜 ＺｎＳｅ基板上に、表１０に記載したように、第１層の
Ｙ2Ｏ3をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は
実施例５と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表１
０には、各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1
ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍであ
る。図５にはこの反射防止膜の分光反射率を実施例５の
反射防止膜の分光反射率と対比して示した。
〜１２μｍ帯反射防止膜 ＺｎＳｅ基板上に、表１０に記載したように、第１層の
Ｙ2Ｏ3をＺｎＳ（屈折率２.２５）に置き換えた以外は
実施例５と同じ構成の赤外反射防止膜を形成した。表１
０には、各層を構成する物質の屈折率、膜厚およびｎ1
ｄ／λ0の値を示した。設計主波長はλ0＝４μｍであ
る。図５にはこの反射防止膜の分光反射率を実施例５の
反射防止膜の分光反射率と対比して示した。
【００３３】
【表１０】
【００３４】実施例 ６：Ｇｅ基板における３μｍ〜５
μｍ帯６層反射防止膜 実施例１において、第１層としてＹＦ3の代わりにＹ2Ｏ
3を用いた以外は実施例１と同じ構成の赤外反射防止膜
を形成した。表１１には、各層を構成する物質の屈折
率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長は
λ0＝４μｍである。図６にはこの反射防止膜の分光反
射率を比較例１の反射防止膜の分光反射率と対比して示
した。
μｍ帯６層反射防止膜 実施例１において、第１層としてＹＦ3の代わりにＹ2Ｏ
3を用いた以外は実施例１と同じ構成の赤外反射防止膜
を形成した。表１１には、各層を構成する物質の屈折
率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長は
λ0＝４μｍである。図６にはこの反射防止膜の分光反
射率を比較例１の反射防止膜の分光反射率と対比して示
した。
【００３５】
【表１１】
【００３６】実施例 ７：Ｇｅ基板における８μｍ〜１
２μｍ帯６層反射防止膜 実施例４において、第１層としてＹＦ3の代わりにＹ2Ｏ
3を用いた以外は実施例４と同じ構成の赤外反射防止膜
を形成した。表１２には、各層を構成する物質の屈折
率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長は
λ0＝４μｍである。図７にはこの反射防止膜の分光反
射率を比較例４の反射防止膜の分光反射率と対比して示
した。
２μｍ帯６層反射防止膜 実施例４において、第１層としてＹＦ3の代わりにＹ2Ｏ
3を用いた以外は実施例４と同じ構成の赤外反射防止膜
を形成した。表１２には、各層を構成する物質の屈折
率、膜厚およびｎ1ｄ／λ0の値を示した。設計主波長は
λ0＝４μｍである。図７にはこの反射防止膜の分光反
射率を比較例４の反射防止膜の分光反射率と対比して示
した。
【００３７】
【表１２】
【００３８】図１〜図７で示した分光反射率は次の設定
条件で計算したものである。 光源：白色光源 入射角：０゜
条件で計算したものである。 光源：白色光源 入射角：０゜
【００３９】
【発明の効果】本発明の赤外反射防止膜は、赤外領域で
使用する光学系に使用する基板上に積層して、２〜１５
μｍの範囲の入射光に対して優れた反射防止能を有す
る。
使用する光学系に使用する基板上に積層して、２〜１５
μｍの範囲の入射光に対して優れた反射防止能を有す
る。
【図１】 実施例１（実線）および比較例１（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
【図２】 実施例２（実線）および比較例２（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
【図３】 実施例３（実線）および比較例３（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
【図４】 実施例４（実線）および比較例４（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率。
【図５】 実施例５（実線）および比較例５（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率。
【図６】 実施例６（実線）および比較例１（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
【図７】 実施例７（実線）および比較例４（破線）の
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
反射防止膜による赤外領域の分光反射率の対比。
Claims (6)
- 【請求項１】 使用する波長領域の中心波長を設計主波
長λ0とし、λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合におい
て、λ0に対する屈折率ｎ1が、 １.２≦ｎ1＜２.０を有する第１の領域の物質、 ２.０≦ｎ1＜３.０を有する第２の領域の物質、および ３.０≦ｎ1＜５.０を有する第３の領域の物質を用い
て、 基板から数えて第１層を第１の領域の物質とし、第２層
以上には第偶数番目の層には第３の領域の物質、第奇数
番目の層には第２の領域の物質を交互に積層し、最後の
第２の領域の物質の層の上に最外層として第１の領域の
物質を積層した赤外反射防止膜。 - 【請求項２】 第１層がＹ2Ｏ3またはＹＦ3である請求
項１に記載の赤外反射膜。 - 【請求項３】 基板物質がＧｅ、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、Ｚｎ
ＳおよびＡｌ2Ｏ3からなる群から選ばれる物質、第１の
領域の物質がＹ2Ｏ3、ＹＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2、Ｍｇ
Ｆ2およびＴｈＦ4からなる群から選ばれる物質、第２の
領域の物質がＺｎＳおよびＺｎＳｅからなる群から選ば
れる物質、第３の領域の物質がＧｅおよびＳｉからなる
群から選ばれる物質であることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２に記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項４】 使用する波長領域の中心波長を設計主波
長λ0とし、λ0が２μｍ＜λ0＜１５μｍの場合におい
て、λ0に対する屈折率ｎ1が、 １.２≦ｎ1＜２.０を有する第１の領域の物質、 ２.０≦ｎ1＜３.０を有する第２の領域の物質、および ３.０≦ｎ1＜５.０を有する第３の領域の物質を用い
て、基板から数えて第１層は第１の領域の物質、第２層
は第３の領域の物質、第３層は第２の領域の物質、第４
層は第３の領域の物質、第５層は第２の領域の物質、第
６層は第１の領域の物質を順次積層した６層構成の赤外
反射防止膜。 - 【請求項５】 基板物質がＧｅ、Ｓｉ、ＺｎＳｅ、Ｚｎ
ＳおよびＡｌ2Ｏ3からなる群から選ばれる物質、第１の
領域の物質がＹ2Ｏ3、ＹＦ3、ＢａＦ2、ＣａＦ2、Ｍｇ
Ｆ2およびＴｈＦ4からなる群から選ばれる物質、第２の
領域の物質がＺｎＳおよびＺｎＳｅからなる群から選ば
れる物質、第３の領域の物質がＧｅおよびＳｉからなる
群から選ばれる物質であることを特徴とする請求項４に
記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項６】 第１層にＹ2Ｏ3またはＹＦ3、第２層に
Ｇｅ、第３層にＺｎＳ、第４層にＧｅ、第５層にＺｎ
Ｓ、第６層にＹＦ3を配した請求項４に記載の赤外反射
防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10315898A JP2000147205A (ja) | 1998-11-06 | 1998-11-06 | 赤外反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10315898A JP2000147205A (ja) | 1998-11-06 | 1998-11-06 | 赤外反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000147205A true JP2000147205A (ja) | 2000-05-26 |
Family
ID=18070943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10315898A Pending JP2000147205A (ja) | 1998-11-06 | 1998-11-06 | 赤外反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000147205A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298661A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Horiba Ltd | 赤外光用反射防止膜 |
| JP2010512655A (ja) * | 2006-12-11 | 2010-04-22 | アルプ ラゼール ソスィエテ アノニム | フッ化イットリウム層を含む反射防止膜を有する量子カスケードレーザー増幅器 |
| JP2011150286A (ja) * | 2009-12-23 | 2011-08-04 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 光学部品 |
| US20110244224A1 (en) * | 2010-04-02 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Anti-reflection film and infrared optical element |
| JP2013015562A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Nitto Kogaku Kk | 炭酸ガスレーザー光を透過させる光学素子および反射防止膜 |
| CN107179569A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-09-19 | 南京波长光电科技股份有限公司 | 一种近红外到中红外宽带增透膜及其制备方法 |
| JPWO2016203863A1 (ja) * | 2015-06-19 | 2017-12-07 | 三菱電機株式会社 | 光学部品及びレーザ加工機 |
| JPWO2017195603A1 (ja) * | 2016-05-13 | 2018-08-23 | 三菱電機株式会社 | 光学部品及びレーザ加工機 |
| CN115201941A (zh) * | 2021-04-13 | 2022-10-18 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种适用于空间环境的高效红外宽光谱减反射膜 |
-
1998
- 1998-11-06 JP JP10315898A patent/JP2000147205A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298661A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Horiba Ltd | 赤外光用反射防止膜 |
| JP2010512655A (ja) * | 2006-12-11 | 2010-04-22 | アルプ ラゼール ソスィエテ アノニム | フッ化イットリウム層を含む反射防止膜を有する量子カスケードレーザー増幅器 |
| JP2011150286A (ja) * | 2009-12-23 | 2011-08-04 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 光学部品 |
| US8535807B2 (en) * | 2010-04-02 | 2013-09-17 | Fujifilm Corporation | Anti-reflection film and infrared optical element |
| US20110244224A1 (en) * | 2010-04-02 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Anti-reflection film and infrared optical element |
| WO2012049888A1 (ja) * | 2010-10-12 | 2012-04-19 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 光学部品 |
| US9188706B2 (en) | 2010-10-12 | 2015-11-17 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Optical element |
| JP2013015562A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Nitto Kogaku Kk | 炭酸ガスレーザー光を透過させる光学素子および反射防止膜 |
| JPWO2016203863A1 (ja) * | 2015-06-19 | 2017-12-07 | 三菱電機株式会社 | 光学部品及びレーザ加工機 |
| JPWO2017195603A1 (ja) * | 2016-05-13 | 2018-08-23 | 三菱電機株式会社 | 光学部品及びレーザ加工機 |
| CN107179569A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-09-19 | 南京波长光电科技股份有限公司 | 一种近红外到中红外宽带增透膜及其制备方法 |
| CN115201941A (zh) * | 2021-04-13 | 2022-10-18 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种适用于空间环境的高效红外宽光谱减反射膜 |
| CN115201941B (zh) * | 2021-04-13 | 2023-09-12 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种适用于空间环境的高效红外宽光谱减反射膜 |
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