JP3399159B2 - 赤外域用光学膜および光学素子 - Google Patents
赤外域用光学膜および光学素子Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外域用反射防止膜に
関するものである。 【０００２】 【従来の技術】最近の航空機、ミサイル、船舶、戦車な
どの防衛装備品に備えられる赤外線探知機や赤外線カメ
ラは高性能化の一途を辿っている。たとえば、探知装置
の広帯域化や複数の帯域を探知するマルチバンド化はそ
の１つであり、大気中において赤外線が透過しやすい
（大気による吸収の小さい）大気の窓と称する赤外線の
波長範囲（以下、帯域ともいう）３〜５μｍと８〜１２
μｍの両方か、または波長範囲３〜１２μｍのすべての
帯域に亘る探知能力を有することによって、その探知性
能と耐妨害性を大幅に向上することができる。しかしな
がら、これらの実現のためには装置の光学系を形成する
レンズの透過率やフィルタの特性の改良が重要である。
なお、本明細書においては、波長範囲３〜１２μｍを赤
外域という。 【０００３】従来の技術では、赤外域用の反射防止膜に
対しては、大気の窓のうちの波長範囲３〜５μｍ帯域内
のみの反射防止効果をねらったものやそれをわずかに拡
大したもの、または波長範囲８〜１２μｍ帯域内のみの
反射防止効果をねらったものやそれをわずかに拡大した
ものなどがあった。また、フィルタに対しても、帯域以
外の赤外線侵入の阻止を目的とした長波長透過フィルタ
や短波長透過フィルタ、またはバンドパスフィルタなど
があった。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】かかる従来の技術で
は、波長範囲３〜５μｍと８〜１２μｍの両方の帯域の
探知を１つの光学系で行うような光学装置のレンズやウ
ィンドウの反射防止膜として使うことはできないことは
自明である。またフィルタに対しても、このような光学
系は赤外線センサとして波長範囲３〜５μｍ用と８〜１
２μｍ用の２種類を具備することが多いが、入射した波
長範囲３〜５μｍと８〜１２μｍの赤外光を２つの波長
帯に分離し、波長範囲３〜５μｍ用のセンサと８〜１２
μｍ用のセンサとにそれぞれ分岐するような光学素子と
してもつかうことはできない。なお、波長範囲３〜５μ
ｍと８〜１２μｍの２つの波長帯域に分離する目的の光
学素子を、以下ビームスプリッタと称する。通常のビー
ムスプリッタが、所望する波長帯域に対して、５０％の
反射と５０％の透過特性を利用して光を分岐することと
は異なっていることを注意すべきである。 【０００５】本発明は、前述のような問題点を解消する
ためになされたものであり、波長範囲３〜５μｍと８〜
１２μｍの両方の帯域を透過するレンズ系と波長範囲３
〜５μｍ、８〜１２μｍの２つのセンサを有する光学装
置に対して、波長範囲３〜５μｍと８〜１２μｍの両方
の帯域の反射防止特性に優れた反射防止膜と、波長範囲
３〜５μｍを反射し、８〜１２μｍを透過することによ
りこの２つの帯域を分離するビームスプリッタ用の光学
多層膜、および波長範囲３．５〜５μｍを透過し、８〜
１１μｍを反射することによりこの２つの帯域を分離す
るビームスプリッタ用の光学多層膜、ならびにビームス
プリッタ素子を提供することを目的としている。本明細
書中では、かかる光学多層膜とは複数の薄膜を積層させ
て特定の波長の光を反射させたり透過させたりする性質
を有する多層膜のことをいう。なお、後者のビームスプ
リッタ用光学多層膜において、波長範囲３〜５μｍでは
なく３．５〜５μｍ、また波長範囲８〜１２μｍではな
く８〜１１μｍとしたのは、どのような膜の構成を考え
ても波長範囲３〜５μｍの透過と８〜１２μｍの反射の
両方の帯域を同時に満たすことが光学的に不可能なため
である。そのため、前者に比べて分離する帯域が狭くは
なるが、本発明の目的のためには充分有効なものであ
る。 【０００６】さらに強調すべきことは、従来技術におけ
るフィルタが本発明の目的にそのまま適用できないの
は、従来技術のフィルタのうち、たとえば長波長透過フ
ィルタにおいては、重要な課題は所望する透過帯域の短
波長側をなるべくシャープにカットすることである。そ
のため、光の透過を阻止する高反射帯と、光を透過させ
る透過帯とがちょうど隣りあって出現するような設計を
おこなったり、透過帯域から離れたところでは吸収によ
って阻止帯域を設けるようなことがある。すなわち、長
波長透過フィルタは所望する波長の透過率については高
い透過率を有するように設計を行うが、反射率について
はとくに考慮しないのが一般的である。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明の赤外域用反射防
止膜は、Ｇｅからなる基板上に形成される赤外域用光学
膜において前記基板からの第１層目がＺｎＳ、第２層目
がＳｉまたはＧｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層目がＹ 2
Ｏ 3 、Ｓｃ 2 Ｏ 3 、ＨｆＯ 2 、ＴｉＯ 2 またはＺｒＯ 2 から選
ばれる金属酸化物、第５層目がＹＦ 3 、ＣｅＦ 3 、ＣａＦ
2 またはクライオライト（Ｎａ 3 ＡｌＦ 6 ）から選ばれる
金属フッ化物であることを特徴とするものである。 【０００８】 【０００９】 【００１０】 【００１１】 【００１２】 【００１３】 【００１４】 【００１５】 【００１６】 【００１７】 【００１８】 【００１９】 【００２０】 【００２１】 【００２２】 【００２３】 【作用】本発明の反射防止膜は、基板をＧｅとして、基
板からの第１層目がＺｎＳ、第２層目がＳｉまたはＧ
ｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層目がＹ 2 Ｏ 3 、Ｓｃ 2 Ｏ 3 、
ＨｆＯ 2 、ＴｉＯ 2 またはＺｒＯ 2 から選ばれる金属酸化
物、第５層目がＹＦ 3 、ＣｅＦ 3 、ＣａＦ 2 またはクライ
オライト（Ｎａ 3 ＡｌＦ 6 ）から選ばれる金属フッ化物で
あるように形成したので、波長範囲３〜５μｍと８〜１
２μｍの両方の帯域で反射防止効果のある赤外域用反射
防止膜となる。 【００２４】 【００２５】 【００２６】 【００２７】 【００２８】 【００２９】 【００３０】 【００３１】 【００３２】 【００３３】 【００３４】 【００３５】 【００３６】 【００３７】 【実施例】以下、本発明の赤外域用光学膜および光学素
子について添付図面を参照して詳細に説明する。 【００３８】図１ないし図４は、本発明の赤外域用反射
防止膜の実施例および参考例の構造を示す断面説明図で
ある。図５および図６は、本発明のビームスプリッタ用
光学膜の参考例の構造を示す断面説明図である。図７お
よび図８は、本発明の参考例のビームスプリッタの説明
図である。図９は、本発明の赤外域用光学膜の製造に用
いられる蒸着装置の一例の断面説明図である。図１０な
いし図３２は、本発明の実施例１ないし実施例７および
参考例１ないし参考例１６でそれぞれえられた赤外域用
反射防止膜を有するＧｅ基板およびＺｎＳ基板の赤外線
分光透過率を示す図である。図３３ないし図４７は、本
発明の参考例１７ないし参考例３１でそれぞれえられた
ビームスプリッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線
分光透過率を示す図である。図４８ないし図４９は、本
発明の参考例３２ないし参考例３３でそれぞれえられた
ＺｎＳを基板とするビームスプリッタの入射角４５°の
赤外分光反射率および分光透過率を示す図である。 【００３９】まず、本発明の赤外域用反射防止膜は、図
１に示されるように、Ｇｅ製のレンズやウィンドウを基
板１として、順番にＺｎＳ層２、ＳｉまたはＧｅ層３、
ＺｎＳ層２、金属酸化物層４、金属フッ化物層５を配し
たことに特徴がある。なお、本発明における赤外域とは
波長３〜１２μｍの範囲を意味し、ばあいによっては大
気の窓である波長３〜５μｍと波長８〜１２μｍの２つ
の範囲に分けて取り扱う。 【００４０】また、本発明の一参考例の赤外域用反射防
止膜は、図２に示されるように、ＺｎＳ製のレンズやウ
ィンドウを基板６として、順番にＳｉまたはＧｅ層３、
ＺｎＳ層２、ＳｉまたはＧｅ層３、ＺｎＳ層２、金属酸
化物層４、金属フッ化物層５を配したことに特徴があ
る。 【００４１】また、本発明の別の参考例の赤外域用反射
防止膜は、図３に示されるように、Ｇｅ製のレンズやウ
ィンドウを基板１として、順番にＳｉ層７、ＺｎＳ層
２、金属酸化物層４、金属フッ化物層５を配したことに
特徴がある。 【００４２】また、本発明の別の参考例の赤外域用反射
防止膜は、図４に示されるように、ＺｎＳ製のレンズや
ウィンドウを基板６として、順番にＺｎＳｅ層８、Ｚｎ
ＳまたはＴｉＯ2層９、Ｙ2Ｏ3またはＳｃ2Ｏ3層１０、
金属フッ化物層５を配したことに特徴がある。 【００４３】これらの材料の配し方は、本発明者らが本
発明の目的に合致するように、コンピュータによる光学
多層膜の演算と試作を繰り返し、あらゆる組み合わせの
中から鋭意研究してきた結果として選ばれたものであ
る。 【００４４】前記金属酸化物層としては、たとえばＡｌ
2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｃ2
Ｏ3、ＳｉＯ、Ｔａ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、
ＴｈＯ2などの酸化物をあげることができ、そのうち、
波長３〜１２μｍの光に対して透明であることや、材料
の屈折率、毒性がないことなどからＹ2Ｏ3、Ｓｃ2Ｏ3、
ＨｆＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2から選ばれた１種であるこ
とが好ましい。 【００４５】また、前記の金属フッ化物としては、たと
えばＭｇＦ2、ＣｅＦ3、ＹＦ3、ＣａＦ2、クライオライ
ト、ＡｌＦ3、ＬｉＦ2、ＢａＦ2、ＴｈＦ4などの金属フ
ッ化物をあげることができ、そのうち波長３〜１２μｍ
の光に対し透明であることや、材料の屈折率や毒性、ま
た多層膜の最外層としての耐久性を考慮すれば、Ｙ
Ｆ3、ＣｅＦ3、ＣａＦ2またはクライオライトから選ば
れた１種であることが好ましい。 【００４６】一方、本発明の参考例のビームスプリッタ
用の光学多層膜は、図５に示されるように、ＺｎＳ製の
基板６上に、基板から順にＧｅ層１１とＺｎＳ層２を交
互に１７層以上７３層以下奇数回積層し、その上にさら
に金属酸化物層４を積層することに特徴がある。 【００４７】Ｇｅ層とＺｎＳ層の積層については、波長
範囲３〜５μｍの赤外線を反射するように膜厚と層数が
選ばれるならばいずれの構成であってもよく、前述した
コンピュータによる光学多層膜の演算による特性の予測
と試作を繰り返すことによって、膜厚と層数とを決める
ことができる。 【００４８】また、前記金属酸化物層は、ＧｅとＺｎＳ
の交互層による反射帯域の外側の透過帯におけるリップ
ルの低減を行うものである。かかる金属酸化物層として
は、たとえばＡｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｉｎ
2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｃ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｔａ2Ｏ3、ＴｉＯ
2、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｈＯ2などの酸化物をあげるこ
とができ、波長範囲３〜１２μｍで透明であることや、
材料の屈折率、毒性がないことなどからＹ2Ｏ3、Ｓｃ2
Ｏ3、ＨｆＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2のうちから選ばれた１
種であることが好ましい。 【００４９】なお、本発明の参考例の赤外域用光学多層
膜に波長範囲３〜５μｍでの良好な反射特性と、波長範
囲８〜１２μｍでの良好な透過特性を付与したいばあい
は、第１層目のＧｅの光学膜厚を０．５６μｍ、第２層
目からのＺｎＳとＧｅの交互層を少なくとも７層以上３
５層以下奇数回積層し、その光学膜厚をすべて１．１３
μｍ、その上のＧｅ層の光学膜厚を１．００μｍ、その
上からのＺｎＳとＧｅの交互層を少なくとも７層以上３
５層以下奇数回積層し、その光学膜厚をすべて０．８８
μｍ、その上のＧｅの光学膜厚を０．４４μｍ、さらに
その上の金属酸化物層の光学膜厚を２．６９μｍとする
ことが好ましい。 【００５０】これらの光学膜厚は、前述の数値になるべ
く近いことが特性上望まれるが、±８％程度の誤差が製
造上に発生したとしても、充分な特性がえられる。 【００５１】また、本発明の別の参考例の赤外域用光学
多層膜は、図６に示されるように、ＺｎＳ製の基板上６
に、基板からの第１層目にＴｉＯ2層またはＺｒＯ2層１
２を積層し、その上に順にＺｎＳ層とＧｅ層を交互に７
層以上５１層以下奇数回積層し、さらにその上に金属フ
ッ化物層を積層することを特徴とするものである。 【００５２】ＺｎＳ層とＧｅ層の積層については、波長
８〜１１μｍの範囲内の赤外線を反射するように膜厚と
層数が選ばれるならばいずれの構成であってもよく、前
述したコンピュータによる光学多層膜の演算による特性
の予測と試作を繰り返すことによって、膜厚と層数とを
決めることができる。 【００５３】ただし、ここでＺｎＳとＧｅの交互層を、
さらに広い帯域である波長８〜１２μｍの範囲内の赤外
線を反射するように選ぶと、光の反射率の高い高反射帯
域が波長範囲３〜４μｍのあいだにも発生し、この波長
帯域において高い透過率は望めない。波長範囲８〜１１
μｍの帯域に限定すると、高反射帯域は３．５μｍ以下
にとどまり、本発明の目的に対して完全ではないが充分
合致するものとなる。 【００５４】また、第１層のＴｉＯ2またはＺｒＯ2層と
最外層の金属フッ化物層は、ＧｅとＺｎＳの交互層によ
る高反射帯域の外側の透過帯のリップルの低減を行うも
のである。第１層としてＴｉＯ2またはＺｒＯ2が選ばれ
るのは、リップルの低減を行う上で好ましい屈折率を有
しているためである。また最外層の金属フッ化物層とし
ては、ＭｇＦ2、ＣｅＦ3、ＹＦ3、ＣａＦ2、クライオラ
イト、ＡｌＦ3、ＬｉＦ2、ＢａＦ2またはＴｈＦ4などの
金属フッ化物があげられるが、波長範囲３〜１２μｍで
透明であることや、材料の屈折率や毒性、また多層膜の
最外層としての耐久性を考慮すれば、ＹＦ3、ＣｅＦ3、
ＣａＦ2またはクライオライトのうちから選ばれた１種
であることが好ましい。 【００５５】なお、本発明の参考例の赤外域用光学多層
膜に波長３．５〜５μｍの範囲内での良好な透過特性
と、波長８〜１１μｍの範囲内での良好な反射特性を付
与したいばあいは、第１層目のＴｉＯ2またはＺｒＯ2の
光学膜厚を１．００μｍ、第２層目のＺｎＳ層を１．１
５μｍ、第３層目からのＧｅとＺｎＳ層の交互層を５層
以上４９層以下奇数回積層しその光学膜厚をすべて２．
３０μｍ、そのＺｎＳ層の光学膜厚を１．１５μｍ、そ
の上の金属フッ化物層の光学膜厚を０．５９μｍとする
ことが好ましい。 【００５６】これらの光学膜厚は、前述の数値になるべ
く近いことが特性上望まれるが、±８％程度の誤差が製
造上に発生したとしても、充分な特性がえられる。 【００５７】つづいて本発明の参考例の赤外域用ビーム
スプリッタについて説明する。 【００５８】本発明の参考例の赤外域用ビームスプリッ
タは、平行平板であるＺｎＳを基板として、基板の片面
に波長３〜５μｍの範囲内の赤外線を反射し、かつ波長
８〜１２μｍの範囲内の赤外線を透過する多層膜をコー
ティングし、他方の面に波長３〜５μｍの範囲内と８〜
１２μｍの範囲内の両方の帯域に反射防止特性を有する
多層膜をコーティングすることを特徴とするものであ
る。 【００５９】図７は、本ビームスプリッタの使用法の一
例を示したものである。ＺｎＳ基板１３の赤外線の入射
面側に波長３〜５μｍの範囲内の赤外線を反射し、か
つ、波長８〜１２μｍの範囲内の赤外線を透過する多層
膜１４を、また出射面側に波長３〜５μｍの範囲内と８
〜１２μｍの範囲内の両方の帯域に反射防止特性を有す
る多層膜１５を配したものである。そのため、入射した
赤外線１６のうち波長３〜５μｍの範囲内の赤外線１７
は反射、波長８〜１２μｍの範囲内の赤外線１８は透過
することにより、この２つの波長帯域が分離される。し
かも、出射面側の反射防止膜は波長３〜５μｍの範囲内
と８〜１２μｍの範囲内両方の帯域で反射防止特性を有
しているので、出射面側での赤外線の反射１９は小さく
（すなわち、基板の表裏２つの面のあいだの反射を繰り
返す多重反射の小さい）ビームスプリッタとして良好な
特性をうることができる。 【００６０】また、本発明の別の参考例の赤外域用ビー
ムスプリッタは、平行平板であるＺｎＳを基板として、
基板の片面に波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線を透
過し、かつ波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線を透過す
る多層膜をコーティングし、他方の面に波長３〜５μｍ
の範囲内と８〜１１μｍの範囲内の両方の帯域に反射防
止特性を有する多層膜をコーティングすることを特徴と
するものである。 【００６１】図８は、本ビームスプリッタの使用法の一
例を示したものである。ＺｎＳ基板１３の赤外線の入射
面側に波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線を透過し、
かつ、波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線を反射する多
層膜２０を、また出射面側に波長３〜５μｍの範囲内と
８〜１２μｍの範囲内の両方の帯域に反射防止特性を有
する多層膜２１を配したものである。そのため、入射し
た赤外線１６のうち波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線
２２は反射、波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線２３
は透過することにより、この２つの波長帯域が分離され
る。しかも、出射面側の反射防止膜は波長３〜５μｍと
８〜１２μｍの両方の帯域で反射防止特性を有している
ので、出射面側での赤外線の反射２４は小さく（すなわ
ち基板内の多重反射の小さい）ビームスプリッタとして
良好な特性をうることができる。 【００６２】なお、ＺｎＳ基板にコーティングされるこ
れらの特性を有する光学膜は、すでに述べてきた本発明
の赤外域用光学膜が適用できることはいうまでもない。 【００６３】赤外域用の光学膜の形成法については、と
くに限定されないが、たとえば真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などがあげ
られる。なかでも光学多層膜の形成を目的とした真空蒸
着法が膜厚のコントロールと膜厚の均一性の点から好ま
しい。以下、該方法および該方法を実施するばあいの真
空蒸着装置について説明する。 【００６４】図９は、その蒸着装置の一例の断面説明図
を示す。図９において、３３は高真空をうるための真空
容器、２５は蒸着すべき基板２６を取り付けるための基
板取り付けドームで、蒸着中は膜の均一性を向上させる
ために回転される。２７は蒸着物質を入れるるつぼで、
必要な材料と量をるつぼに入れたのち、るつぼ回転ステ
ージ２８に配置する。るつぼ２７はるつぼ回転ステージ
２８によって、蒸着されるべき物質の入ったるつぼが電
子銃２９から放出される電子ビームの当たる位置に移動
される。電子ビームによって加熱され、蒸発した物質は
基板２６の表面に蒸着され、膜となる。この蒸着膜の厚
さは、真空容器３３の上方に取り付けられた反射式光学
膜厚計３０により、モニタ用ガラス基板３１の膜厚を計
測することによって測定され、所望の厚さになったとき
シャッタ３２が閉じる。以下、同様にして順次異なる層
の蒸着膜を所定の厚さだけ形成することによって、本発
明の赤外域用光学膜がえられる。 【００６５】なお、後述する各実施例および参考例にお
ける電子ビーム蒸着法は、前記方法により行ったが、蒸
着物質の加熱には電子ビーム法だけでなく、金属製のる
つぼに電流を流して加熱する抵抗加熱法をも用いること
ができる。また、光学式膜厚計としても、反射式だけで
なく、真空容器の下部に光源を設けた透過式膜厚計をも
用いることができる。 【００６６】つぎに、具体的な実施例および参考例によ
り、本発明の赤外域用光学膜と光学素子について、さら
に詳細に説明する。 【００６７】［実施例１〜７］直径３０ｍｍφ、厚さ１
ｍｍの両面を研磨したＧｅ製の基板を、蒸着装置の基板
取り付けドームに取り付け、真空度１×１０-4ｔｏｒｒ
以下で、電子ビーム蒸着法によって基板から順に表１記
載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して赤外域用反射
防止膜を形成した。なお、光学膜厚を決めるための屈折
率値は赤外線の波長７．５μｍ近傍での値を使うことと
した。 【００６８】基板の反対の面についても同じ手順により
蒸着を行い、赤外域の反射防止膜を両面に形成したＧｅ
基板をそれぞれえた。 【００６９】えられた基板の透過率を、フーリエ変換赤
外分光光度計（日本電子（株）製ＪＩＲ−７０００）に
より測定した。その分光透過率曲線を図１０〜１６に示
す。 【００７０】［参考例１〜４］ 直径３０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＧｅ製の
基板を、実施例１〜７と同様の方法によって、基板の両
面に表２記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して赤
外域用反射防止膜を形成した。えられた基板の透過率
を、実施例１〜７と同様の方法により測定した。その分
光透過率曲線を図１７〜２０に示す。 【００７１】［参考例５〜１２］ 直径３０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、実施例１〜７と同様の方法によって、基板の
両面に表３記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して
赤外域用反射防止膜を形成した。えられた基板の透過率
を、実施例１〜７と同様の方法により測定した。その分
光透過率曲線を図２１〜２８に示す。 【００７２】［参考例１３〜１６］ 直径３０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、実施例１〜７と同様の方法によって、基板の
両面に表４記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して
赤外域用反射防止膜を形成した。えられた基板の透過率
を実施例１〜７と同様の方法により測定した。その分光
透過率曲線を図２９〜３２に示す。 【００７３】 【表１】【００７４】 【表２】 【００７５】 【表３】【００７６】 【表４】【００７７】図１０〜３２に示す透過率の測定結果か
ら、本発明の実施例および参考例のばあいには、所望す
る透過帯域において高い透過率がえられていることがわ
かる。 【００７８】［参考例１７〜２３］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、蒸着装置の基板取り付けドームに取り付け、
真空度１×１０-4ｔｏｒｒ以下で、電子ビーム蒸着法に
よって基板から順に表５〜７記載の材料と光学膜厚を有
する膜を積層してビームスプリッタ用の光学膜を基板の
片面に形成した。 【００７９】えられた基板の分光透過率と分光反射率
を、フーリエ変換赤外分光光度計（日本電子（株）製Ｊ
ＩＲ−７０００）と反射測定ホルダ（日本電子（株）製
ＩＲ−ＲＳＣ１００）により測定した。その分光透過率
曲線および分光反射率曲線を図３３〜３９に示す。 【００８０】［参考例２４〜３０］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、参考例１７〜２３と同様の方法によって、表
８〜１１記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層してビ
ームスプリッタ用の光学膜を形成した。えられた基板の
分光透過率と分光反射率を、参考例１７〜２３と同様の
方法により測定した。その分光透過率曲線および分光反
射率曲線を図４０〜４７に示す。 【００８１】 【表５】【００８２】 【表６】【００８３】 【表７】 【００８４】 【表８】【００８５】 【表９】【００８６】 【表１０】 【００８７】 【表１１】 【００８８】図３３〜３９に示す透過率と反射率の測定
結果から、本発明の参考例のばあいには、波長３〜５μ
ｍの範囲内で高い反射率を有し、かつ、波長８〜１２μ
ｍの範囲内で高い透過率を有するビームスプリッタ用の
光学膜がえられていることがわかる。 【００８９】また、図４０〜４７に示す透過率と反射率
の測定結果から、本発明の参考例のばあいには、波長
３．５〜５μｍの範囲内で高い透過率を有し、かつ、波
長８〜１１μｍの範囲内で高い反射率を有するビームス
プリッタ用の光学膜がえられていることがわかる。 【００９０】［参考例３２］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板に対し、基板の片面には参考例５にしたがった反
射防止膜、他の面には参考例１７にしたがった光学膜を
形成し、波長３〜５μｍの範囲内の赤外線を反射し、か
つ、波長８〜１２μｍの範囲内の赤外線を透過すること
により２つの波長帯域を分離するビームスプリッタを作
製した。 【００９１】作製したビームスプリッタの入射角４５°
の透過率と反射率を、フーリエ変換赤外分光光度計（日
本電子（株）製ＪＩＲ−７０００）と角度可変型反射測
定ホルダ（ＩＲ−ＲＳＣ１１０）により測定した。入射
角を４５°としたのは、反射光を透過光に対し９０°の
方向変換を行うことにより赤外線の分離を試みたためで
ある。測定結果を図４８に示す。 【００９２】［参考例３３］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板に対し、基板の片面には参考例６にしたがった反
射防止膜、他の面には参考例２４にしたがった光学膜を
形成し、波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線を透過
し、かつ、波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線を反射す
ることにより２つの波長帯域を分離するビームスプリッ
タを作製した。 【００９３】作製したビームスプリッタの入射角４５度
の透過率と反射率を、参考例３２と同様の方法により測
定した。測定結果を図４９に示す。 【００９４】図４８に示す透過率と反射率の測定結果か
ら、本発明の参考例のばあいには、入射角４５°の入射
赤外線の波長３〜５μｍの範囲を反射、波長８〜１２μ
ｍの範囲を透過し、反射光は透過光に対し９０°方向と
なるビームスプリッタがえられていることがわかる。 【００９５】また、図４９に示す透過率と反射率の測定
結果から、本発明の参考例のばあいには、入射角４５°
の入射赤外線の波長３．５〜５μｍの範囲を透過、波長
８〜１１μｍの範囲を反射し、反射光は透過光に対し９
０°方向となるビームスプリッタがえられていることが
わかる。 【００９６】 【発明の効果】本発明による反射防止膜によれば、基板
をＧｅとして、基板からの第１層目がＺｎＳ、第２層目
がＳｉまたはＧｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層目がＹ 2
Ｏ 3 、Ｓｃ 2 Ｏ 3 、ＨｆＯ 2 、ＴｉＯ 2 またはＺｒＯ 2 から選
ばれる金属酸化物、第５層目がＹＦ 3 、ＣｅＦ 3 、ＣａＦ
2 またはクライオライト（Ｎａ 3 ＡｌＦ 6 ）から選ばれる
金属フッ化物であるように形成したので、波長範囲３〜
５μｍと８〜１２μｍの両方の帯域で反射防止効果のあ
る赤外域用反射防止膜がえられる効果がある。 【００９７】 【００９８】 【００９９】 【０１００】 【０１０１】 【０１０２】 【０１０３】 【０１０４】 【０１０５】 【０１０６】 【０１０７】 【０１０８】 【０１０９】
関するものである。 【０００２】 【従来の技術】最近の航空機、ミサイル、船舶、戦車な
どの防衛装備品に備えられる赤外線探知機や赤外線カメ
ラは高性能化の一途を辿っている。たとえば、探知装置
の広帯域化や複数の帯域を探知するマルチバンド化はそ
の１つであり、大気中において赤外線が透過しやすい
（大気による吸収の小さい）大気の窓と称する赤外線の
波長範囲（以下、帯域ともいう）３〜５μｍと８〜１２
μｍの両方か、または波長範囲３〜１２μｍのすべての
帯域に亘る探知能力を有することによって、その探知性
能と耐妨害性を大幅に向上することができる。しかしな
がら、これらの実現のためには装置の光学系を形成する
レンズの透過率やフィルタの特性の改良が重要である。
なお、本明細書においては、波長範囲３〜１２μｍを赤
外域という。 【０００３】従来の技術では、赤外域用の反射防止膜に
対しては、大気の窓のうちの波長範囲３〜５μｍ帯域内
のみの反射防止効果をねらったものやそれをわずかに拡
大したもの、または波長範囲８〜１２μｍ帯域内のみの
反射防止効果をねらったものやそれをわずかに拡大した
ものなどがあった。また、フィルタに対しても、帯域以
外の赤外線侵入の阻止を目的とした長波長透過フィルタ
や短波長透過フィルタ、またはバンドパスフィルタなど
があった。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】かかる従来の技術で
は、波長範囲３〜５μｍと８〜１２μｍの両方の帯域の
探知を１つの光学系で行うような光学装置のレンズやウ
ィンドウの反射防止膜として使うことはできないことは
自明である。またフィルタに対しても、このような光学
系は赤外線センサとして波長範囲３〜５μｍ用と８〜１
２μｍ用の２種類を具備することが多いが、入射した波
長範囲３〜５μｍと８〜１２μｍの赤外光を２つの波長
帯に分離し、波長範囲３〜５μｍ用のセンサと８〜１２
μｍ用のセンサとにそれぞれ分岐するような光学素子と
してもつかうことはできない。なお、波長範囲３〜５μ
ｍと８〜１２μｍの２つの波長帯域に分離する目的の光
学素子を、以下ビームスプリッタと称する。通常のビー
ムスプリッタが、所望する波長帯域に対して、５０％の
反射と５０％の透過特性を利用して光を分岐することと
は異なっていることを注意すべきである。 【０００５】本発明は、前述のような問題点を解消する
ためになされたものであり、波長範囲３〜５μｍと８〜
１２μｍの両方の帯域を透過するレンズ系と波長範囲３
〜５μｍ、８〜１２μｍの２つのセンサを有する光学装
置に対して、波長範囲３〜５μｍと８〜１２μｍの両方
の帯域の反射防止特性に優れた反射防止膜と、波長範囲
３〜５μｍを反射し、８〜１２μｍを透過することによ
りこの２つの帯域を分離するビームスプリッタ用の光学
多層膜、および波長範囲３．５〜５μｍを透過し、８〜
１１μｍを反射することによりこの２つの帯域を分離す
るビームスプリッタ用の光学多層膜、ならびにビームス
プリッタ素子を提供することを目的としている。本明細
書中では、かかる光学多層膜とは複数の薄膜を積層させ
て特定の波長の光を反射させたり透過させたりする性質
を有する多層膜のことをいう。なお、後者のビームスプ
リッタ用光学多層膜において、波長範囲３〜５μｍでは
なく３．５〜５μｍ、また波長範囲８〜１２μｍではな
く８〜１１μｍとしたのは、どのような膜の構成を考え
ても波長範囲３〜５μｍの透過と８〜１２μｍの反射の
両方の帯域を同時に満たすことが光学的に不可能なため
である。そのため、前者に比べて分離する帯域が狭くは
なるが、本発明の目的のためには充分有効なものであ
る。 【０００６】さらに強調すべきことは、従来技術におけ
るフィルタが本発明の目的にそのまま適用できないの
は、従来技術のフィルタのうち、たとえば長波長透過フ
ィルタにおいては、重要な課題は所望する透過帯域の短
波長側をなるべくシャープにカットすることである。そ
のため、光の透過を阻止する高反射帯と、光を透過させ
る透過帯とがちょうど隣りあって出現するような設計を
おこなったり、透過帯域から離れたところでは吸収によ
って阻止帯域を設けるようなことがある。すなわち、長
波長透過フィルタは所望する波長の透過率については高
い透過率を有するように設計を行うが、反射率について
はとくに考慮しないのが一般的である。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明の赤外域用反射防
止膜は、Ｇｅからなる基板上に形成される赤外域用光学
膜において前記基板からの第１層目がＺｎＳ、第２層目
がＳｉまたはＧｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層目がＹ 2
Ｏ 3 、Ｓｃ 2 Ｏ 3 、ＨｆＯ 2 、ＴｉＯ 2 またはＺｒＯ 2 から選
ばれる金属酸化物、第５層目がＹＦ 3 、ＣｅＦ 3 、ＣａＦ
2 またはクライオライト（Ｎａ 3 ＡｌＦ 6 ）から選ばれる
金属フッ化物であることを特徴とするものである。 【０００８】 【０００９】 【００１０】 【００１１】 【００１２】 【００１３】 【００１４】 【００１５】 【００１６】 【００１７】 【００１８】 【００１９】 【００２０】 【００２１】 【００２２】 【００２３】 【作用】本発明の反射防止膜は、基板をＧｅとして、基
板からの第１層目がＺｎＳ、第２層目がＳｉまたはＧ
ｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層目がＹ 2 Ｏ 3 、Ｓｃ 2 Ｏ 3 、
ＨｆＯ 2 、ＴｉＯ 2 またはＺｒＯ 2 から選ばれる金属酸化
物、第５層目がＹＦ 3 、ＣｅＦ 3 、ＣａＦ 2 またはクライ
オライト（Ｎａ 3 ＡｌＦ 6 ）から選ばれる金属フッ化物で
あるように形成したので、波長範囲３〜５μｍと８〜１
２μｍの両方の帯域で反射防止効果のある赤外域用反射
防止膜となる。 【００２４】 【００２５】 【００２６】 【００２７】 【００２８】 【００２９】 【００３０】 【００３１】 【００３２】 【００３３】 【００３４】 【００３５】 【００３６】 【００３７】 【実施例】以下、本発明の赤外域用光学膜および光学素
子について添付図面を参照して詳細に説明する。 【００３８】図１ないし図４は、本発明の赤外域用反射
防止膜の実施例および参考例の構造を示す断面説明図で
ある。図５および図６は、本発明のビームスプリッタ用
光学膜の参考例の構造を示す断面説明図である。図７お
よび図８は、本発明の参考例のビームスプリッタの説明
図である。図９は、本発明の赤外域用光学膜の製造に用
いられる蒸着装置の一例の断面説明図である。図１０な
いし図３２は、本発明の実施例１ないし実施例７および
参考例１ないし参考例１６でそれぞれえられた赤外域用
反射防止膜を有するＧｅ基板およびＺｎＳ基板の赤外線
分光透過率を示す図である。図３３ないし図４７は、本
発明の参考例１７ないし参考例３１でそれぞれえられた
ビームスプリッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線
分光透過率を示す図である。図４８ないし図４９は、本
発明の参考例３２ないし参考例３３でそれぞれえられた
ＺｎＳを基板とするビームスプリッタの入射角４５°の
赤外分光反射率および分光透過率を示す図である。 【００３９】まず、本発明の赤外域用反射防止膜は、図
１に示されるように、Ｇｅ製のレンズやウィンドウを基
板１として、順番にＺｎＳ層２、ＳｉまたはＧｅ層３、
ＺｎＳ層２、金属酸化物層４、金属フッ化物層５を配し
たことに特徴がある。なお、本発明における赤外域とは
波長３〜１２μｍの範囲を意味し、ばあいによっては大
気の窓である波長３〜５μｍと波長８〜１２μｍの２つ
の範囲に分けて取り扱う。 【００４０】また、本発明の一参考例の赤外域用反射防
止膜は、図２に示されるように、ＺｎＳ製のレンズやウ
ィンドウを基板６として、順番にＳｉまたはＧｅ層３、
ＺｎＳ層２、ＳｉまたはＧｅ層３、ＺｎＳ層２、金属酸
化物層４、金属フッ化物層５を配したことに特徴があ
る。 【００４１】また、本発明の別の参考例の赤外域用反射
防止膜は、図３に示されるように、Ｇｅ製のレンズやウ
ィンドウを基板１として、順番にＳｉ層７、ＺｎＳ層
２、金属酸化物層４、金属フッ化物層５を配したことに
特徴がある。 【００４２】また、本発明の別の参考例の赤外域用反射
防止膜は、図４に示されるように、ＺｎＳ製のレンズや
ウィンドウを基板６として、順番にＺｎＳｅ層８、Ｚｎ
ＳまたはＴｉＯ2層９、Ｙ2Ｏ3またはＳｃ2Ｏ3層１０、
金属フッ化物層５を配したことに特徴がある。 【００４３】これらの材料の配し方は、本発明者らが本
発明の目的に合致するように、コンピュータによる光学
多層膜の演算と試作を繰り返し、あらゆる組み合わせの
中から鋭意研究してきた結果として選ばれたものであ
る。 【００４４】前記金属酸化物層としては、たとえばＡｌ
2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｃ2
Ｏ3、ＳｉＯ、Ｔａ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、
ＴｈＯ2などの酸化物をあげることができ、そのうち、
波長３〜１２μｍの光に対して透明であることや、材料
の屈折率、毒性がないことなどからＹ2Ｏ3、Ｓｃ2Ｏ3、
ＨｆＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2から選ばれた１種であるこ
とが好ましい。 【００４５】また、前記の金属フッ化物としては、たと
えばＭｇＦ2、ＣｅＦ3、ＹＦ3、ＣａＦ2、クライオライ
ト、ＡｌＦ3、ＬｉＦ2、ＢａＦ2、ＴｈＦ4などの金属フ
ッ化物をあげることができ、そのうち波長３〜１２μｍ
の光に対し透明であることや、材料の屈折率や毒性、ま
た多層膜の最外層としての耐久性を考慮すれば、Ｙ
Ｆ3、ＣｅＦ3、ＣａＦ2またはクライオライトから選ば
れた１種であることが好ましい。 【００４６】一方、本発明の参考例のビームスプリッタ
用の光学多層膜は、図５に示されるように、ＺｎＳ製の
基板６上に、基板から順にＧｅ層１１とＺｎＳ層２を交
互に１７層以上７３層以下奇数回積層し、その上にさら
に金属酸化物層４を積層することに特徴がある。 【００４７】Ｇｅ層とＺｎＳ層の積層については、波長
範囲３〜５μｍの赤外線を反射するように膜厚と層数が
選ばれるならばいずれの構成であってもよく、前述した
コンピュータによる光学多層膜の演算による特性の予測
と試作を繰り返すことによって、膜厚と層数とを決める
ことができる。 【００４８】また、前記金属酸化物層は、ＧｅとＺｎＳ
の交互層による反射帯域の外側の透過帯におけるリップ
ルの低減を行うものである。かかる金属酸化物層として
は、たとえばＡｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｉｎ
2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｃ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｔａ2Ｏ3、ＴｉＯ
2、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｈＯ2などの酸化物をあげるこ
とができ、波長範囲３〜１２μｍで透明であることや、
材料の屈折率、毒性がないことなどからＹ2Ｏ3、Ｓｃ2
Ｏ3、ＨｆＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2のうちから選ばれた１
種であることが好ましい。 【００４９】なお、本発明の参考例の赤外域用光学多層
膜に波長範囲３〜５μｍでの良好な反射特性と、波長範
囲８〜１２μｍでの良好な透過特性を付与したいばあい
は、第１層目のＧｅの光学膜厚を０．５６μｍ、第２層
目からのＺｎＳとＧｅの交互層を少なくとも７層以上３
５層以下奇数回積層し、その光学膜厚をすべて１．１３
μｍ、その上のＧｅ層の光学膜厚を１．００μｍ、その
上からのＺｎＳとＧｅの交互層を少なくとも７層以上３
５層以下奇数回積層し、その光学膜厚をすべて０．８８
μｍ、その上のＧｅの光学膜厚を０．４４μｍ、さらに
その上の金属酸化物層の光学膜厚を２．６９μｍとする
ことが好ましい。 【００５０】これらの光学膜厚は、前述の数値になるべ
く近いことが特性上望まれるが、±８％程度の誤差が製
造上に発生したとしても、充分な特性がえられる。 【００５１】また、本発明の別の参考例の赤外域用光学
多層膜は、図６に示されるように、ＺｎＳ製の基板上６
に、基板からの第１層目にＴｉＯ2層またはＺｒＯ2層１
２を積層し、その上に順にＺｎＳ層とＧｅ層を交互に７
層以上５１層以下奇数回積層し、さらにその上に金属フ
ッ化物層を積層することを特徴とするものである。 【００５２】ＺｎＳ層とＧｅ層の積層については、波長
８〜１１μｍの範囲内の赤外線を反射するように膜厚と
層数が選ばれるならばいずれの構成であってもよく、前
述したコンピュータによる光学多層膜の演算による特性
の予測と試作を繰り返すことによって、膜厚と層数とを
決めることができる。 【００５３】ただし、ここでＺｎＳとＧｅの交互層を、
さらに広い帯域である波長８〜１２μｍの範囲内の赤外
線を反射するように選ぶと、光の反射率の高い高反射帯
域が波長範囲３〜４μｍのあいだにも発生し、この波長
帯域において高い透過率は望めない。波長範囲８〜１１
μｍの帯域に限定すると、高反射帯域は３．５μｍ以下
にとどまり、本発明の目的に対して完全ではないが充分
合致するものとなる。 【００５４】また、第１層のＴｉＯ2またはＺｒＯ2層と
最外層の金属フッ化物層は、ＧｅとＺｎＳの交互層によ
る高反射帯域の外側の透過帯のリップルの低減を行うも
のである。第１層としてＴｉＯ2またはＺｒＯ2が選ばれ
るのは、リップルの低減を行う上で好ましい屈折率を有
しているためである。また最外層の金属フッ化物層とし
ては、ＭｇＦ2、ＣｅＦ3、ＹＦ3、ＣａＦ2、クライオラ
イト、ＡｌＦ3、ＬｉＦ2、ＢａＦ2またはＴｈＦ4などの
金属フッ化物があげられるが、波長範囲３〜１２μｍで
透明であることや、材料の屈折率や毒性、また多層膜の
最外層としての耐久性を考慮すれば、ＹＦ3、ＣｅＦ3、
ＣａＦ2またはクライオライトのうちから選ばれた１種
であることが好ましい。 【００５５】なお、本発明の参考例の赤外域用光学多層
膜に波長３．５〜５μｍの範囲内での良好な透過特性
と、波長８〜１１μｍの範囲内での良好な反射特性を付
与したいばあいは、第１層目のＴｉＯ2またはＺｒＯ2の
光学膜厚を１．００μｍ、第２層目のＺｎＳ層を１．１
５μｍ、第３層目からのＧｅとＺｎＳ層の交互層を５層
以上４９層以下奇数回積層しその光学膜厚をすべて２．
３０μｍ、そのＺｎＳ層の光学膜厚を１．１５μｍ、そ
の上の金属フッ化物層の光学膜厚を０．５９μｍとする
ことが好ましい。 【００５６】これらの光学膜厚は、前述の数値になるべ
く近いことが特性上望まれるが、±８％程度の誤差が製
造上に発生したとしても、充分な特性がえられる。 【００５７】つづいて本発明の参考例の赤外域用ビーム
スプリッタについて説明する。 【００５８】本発明の参考例の赤外域用ビームスプリッ
タは、平行平板であるＺｎＳを基板として、基板の片面
に波長３〜５μｍの範囲内の赤外線を反射し、かつ波長
８〜１２μｍの範囲内の赤外線を透過する多層膜をコー
ティングし、他方の面に波長３〜５μｍの範囲内と８〜
１２μｍの範囲内の両方の帯域に反射防止特性を有する
多層膜をコーティングすることを特徴とするものであ
る。 【００５９】図７は、本ビームスプリッタの使用法の一
例を示したものである。ＺｎＳ基板１３の赤外線の入射
面側に波長３〜５μｍの範囲内の赤外線を反射し、か
つ、波長８〜１２μｍの範囲内の赤外線を透過する多層
膜１４を、また出射面側に波長３〜５μｍの範囲内と８
〜１２μｍの範囲内の両方の帯域に反射防止特性を有す
る多層膜１５を配したものである。そのため、入射した
赤外線１６のうち波長３〜５μｍの範囲内の赤外線１７
は反射、波長８〜１２μｍの範囲内の赤外線１８は透過
することにより、この２つの波長帯域が分離される。し
かも、出射面側の反射防止膜は波長３〜５μｍの範囲内
と８〜１２μｍの範囲内両方の帯域で反射防止特性を有
しているので、出射面側での赤外線の反射１９は小さく
（すなわち、基板の表裏２つの面のあいだの反射を繰り
返す多重反射の小さい）ビームスプリッタとして良好な
特性をうることができる。 【００６０】また、本発明の別の参考例の赤外域用ビー
ムスプリッタは、平行平板であるＺｎＳを基板として、
基板の片面に波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線を透
過し、かつ波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線を透過す
る多層膜をコーティングし、他方の面に波長３〜５μｍ
の範囲内と８〜１１μｍの範囲内の両方の帯域に反射防
止特性を有する多層膜をコーティングすることを特徴と
するものである。 【００６１】図８は、本ビームスプリッタの使用法の一
例を示したものである。ＺｎＳ基板１３の赤外線の入射
面側に波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線を透過し、
かつ、波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線を反射する多
層膜２０を、また出射面側に波長３〜５μｍの範囲内と
８〜１２μｍの範囲内の両方の帯域に反射防止特性を有
する多層膜２１を配したものである。そのため、入射し
た赤外線１６のうち波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線
２２は反射、波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線２３
は透過することにより、この２つの波長帯域が分離され
る。しかも、出射面側の反射防止膜は波長３〜５μｍと
８〜１２μｍの両方の帯域で反射防止特性を有している
ので、出射面側での赤外線の反射２４は小さく（すなわ
ち基板内の多重反射の小さい）ビームスプリッタとして
良好な特性をうることができる。 【００６２】なお、ＺｎＳ基板にコーティングされるこ
れらの特性を有する光学膜は、すでに述べてきた本発明
の赤外域用光学膜が適用できることはいうまでもない。 【００６３】赤外域用の光学膜の形成法については、と
くに限定されないが、たとえば真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などがあげ
られる。なかでも光学多層膜の形成を目的とした真空蒸
着法が膜厚のコントロールと膜厚の均一性の点から好ま
しい。以下、該方法および該方法を実施するばあいの真
空蒸着装置について説明する。 【００６４】図９は、その蒸着装置の一例の断面説明図
を示す。図９において、３３は高真空をうるための真空
容器、２５は蒸着すべき基板２６を取り付けるための基
板取り付けドームで、蒸着中は膜の均一性を向上させる
ために回転される。２７は蒸着物質を入れるるつぼで、
必要な材料と量をるつぼに入れたのち、るつぼ回転ステ
ージ２８に配置する。るつぼ２７はるつぼ回転ステージ
２８によって、蒸着されるべき物質の入ったるつぼが電
子銃２９から放出される電子ビームの当たる位置に移動
される。電子ビームによって加熱され、蒸発した物質は
基板２６の表面に蒸着され、膜となる。この蒸着膜の厚
さは、真空容器３３の上方に取り付けられた反射式光学
膜厚計３０により、モニタ用ガラス基板３１の膜厚を計
測することによって測定され、所望の厚さになったとき
シャッタ３２が閉じる。以下、同様にして順次異なる層
の蒸着膜を所定の厚さだけ形成することによって、本発
明の赤外域用光学膜がえられる。 【００６５】なお、後述する各実施例および参考例にお
ける電子ビーム蒸着法は、前記方法により行ったが、蒸
着物質の加熱には電子ビーム法だけでなく、金属製のる
つぼに電流を流して加熱する抵抗加熱法をも用いること
ができる。また、光学式膜厚計としても、反射式だけで
なく、真空容器の下部に光源を設けた透過式膜厚計をも
用いることができる。 【００６６】つぎに、具体的な実施例および参考例によ
り、本発明の赤外域用光学膜と光学素子について、さら
に詳細に説明する。 【００６７】［実施例１〜７］直径３０ｍｍφ、厚さ１
ｍｍの両面を研磨したＧｅ製の基板を、蒸着装置の基板
取り付けドームに取り付け、真空度１×１０-4ｔｏｒｒ
以下で、電子ビーム蒸着法によって基板から順に表１記
載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して赤外域用反射
防止膜を形成した。なお、光学膜厚を決めるための屈折
率値は赤外線の波長７．５μｍ近傍での値を使うことと
した。 【００６８】基板の反対の面についても同じ手順により
蒸着を行い、赤外域の反射防止膜を両面に形成したＧｅ
基板をそれぞれえた。 【００６９】えられた基板の透過率を、フーリエ変換赤
外分光光度計（日本電子（株）製ＪＩＲ−７０００）に
より測定した。その分光透過率曲線を図１０〜１６に示
す。 【００７０】［参考例１〜４］ 直径３０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＧｅ製の
基板を、実施例１〜７と同様の方法によって、基板の両
面に表２記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して赤
外域用反射防止膜を形成した。えられた基板の透過率
を、実施例１〜７と同様の方法により測定した。その分
光透過率曲線を図１７〜２０に示す。 【００７１】［参考例５〜１２］ 直径３０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、実施例１〜７と同様の方法によって、基板の
両面に表３記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して
赤外域用反射防止膜を形成した。えられた基板の透過率
を、実施例１〜７と同様の方法により測定した。その分
光透過率曲線を図２１〜２８に示す。 【００７２】［参考例１３〜１６］ 直径３０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、実施例１〜７と同様の方法によって、基板の
両面に表４記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層して
赤外域用反射防止膜を形成した。えられた基板の透過率
を実施例１〜７と同様の方法により測定した。その分光
透過率曲線を図２９〜３２に示す。 【００７３】 【表１】【００７４】 【表２】 【００７５】 【表３】【００７６】 【表４】【００７７】図１０〜３２に示す透過率の測定結果か
ら、本発明の実施例および参考例のばあいには、所望す
る透過帯域において高い透過率がえられていることがわ
かる。 【００７８】［参考例１７〜２３］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、蒸着装置の基板取り付けドームに取り付け、
真空度１×１０-4ｔｏｒｒ以下で、電子ビーム蒸着法に
よって基板から順に表５〜７記載の材料と光学膜厚を有
する膜を積層してビームスプリッタ用の光学膜を基板の
片面に形成した。 【００７９】えられた基板の分光透過率と分光反射率
を、フーリエ変換赤外分光光度計（日本電子（株）製Ｊ
ＩＲ−７０００）と反射測定ホルダ（日本電子（株）製
ＩＲ−ＲＳＣ１００）により測定した。その分光透過率
曲線および分光反射率曲線を図３３〜３９に示す。 【００８０】［参考例２４〜３０］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板を、参考例１７〜２３と同様の方法によって、表
８〜１１記載の材料と光学膜厚を有する膜を積層してビ
ームスプリッタ用の光学膜を形成した。えられた基板の
分光透過率と分光反射率を、参考例１７〜２３と同様の
方法により測定した。その分光透過率曲線および分光反
射率曲線を図４０〜４７に示す。 【００８１】 【表５】【００８２】 【表６】【００８３】 【表７】 【００８４】 【表８】【００８５】 【表９】【００８６】 【表１０】 【００８７】 【表１１】 【００８８】図３３〜３９に示す透過率と反射率の測定
結果から、本発明の参考例のばあいには、波長３〜５μ
ｍの範囲内で高い反射率を有し、かつ、波長８〜１２μ
ｍの範囲内で高い透過率を有するビームスプリッタ用の
光学膜がえられていることがわかる。 【００８９】また、図４０〜４７に示す透過率と反射率
の測定結果から、本発明の参考例のばあいには、波長
３．５〜５μｍの範囲内で高い透過率を有し、かつ、波
長８〜１１μｍの範囲内で高い反射率を有するビームス
プリッタ用の光学膜がえられていることがわかる。 【００９０】［参考例３２］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板に対し、基板の片面には参考例５にしたがった反
射防止膜、他の面には参考例１７にしたがった光学膜を
形成し、波長３〜５μｍの範囲内の赤外線を反射し、か
つ、波長８〜１２μｍの範囲内の赤外線を透過すること
により２つの波長帯域を分離するビームスプリッタを作
製した。 【００９１】作製したビームスプリッタの入射角４５°
の透過率と反射率を、フーリエ変換赤外分光光度計（日
本電子（株）製ＪＩＲ−７０００）と角度可変型反射測
定ホルダ（ＩＲ−ＲＳＣ１１０）により測定した。入射
角を４５°としたのは、反射光を透過光に対し９０°の
方向変換を行うことにより赤外線の分離を試みたためで
ある。測定結果を図４８に示す。 【００９２】［参考例３３］ 直径５０ｍｍφ、厚さ１ｍｍの両面を研磨したＺｎＳ製
の基板に対し、基板の片面には参考例６にしたがった反
射防止膜、他の面には参考例２４にしたがった光学膜を
形成し、波長３．５〜５μｍの範囲内の赤外線を透過
し、かつ、波長８〜１１μｍの範囲内の赤外線を反射す
ることにより２つの波長帯域を分離するビームスプリッ
タを作製した。 【００９３】作製したビームスプリッタの入射角４５度
の透過率と反射率を、参考例３２と同様の方法により測
定した。測定結果を図４９に示す。 【００９４】図４８に示す透過率と反射率の測定結果か
ら、本発明の参考例のばあいには、入射角４５°の入射
赤外線の波長３〜５μｍの範囲を反射、波長８〜１２μ
ｍの範囲を透過し、反射光は透過光に対し９０°方向と
なるビームスプリッタがえられていることがわかる。 【００９５】また、図４９に示す透過率と反射率の測定
結果から、本発明の参考例のばあいには、入射角４５°
の入射赤外線の波長３．５〜５μｍの範囲を透過、波長
８〜１１μｍの範囲を反射し、反射光は透過光に対し９
０°方向となるビームスプリッタがえられていることが
わかる。 【００９６】 【発明の効果】本発明による反射防止膜によれば、基板
をＧｅとして、基板からの第１層目がＺｎＳ、第２層目
がＳｉまたはＧｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層目がＹ 2
Ｏ 3 、Ｓｃ 2 Ｏ 3 、ＨｆＯ 2 、ＴｉＯ 2 またはＺｒＯ 2 から選
ばれる金属酸化物、第５層目がＹＦ 3 、ＣｅＦ 3 、ＣａＦ
2 またはクライオライト（Ｎａ 3 ＡｌＦ 6 ）から選ばれる
金属フッ化物であるように形成したので、波長範囲３〜
５μｍと８〜１２μｍの両方の帯域で反射防止効果のあ
る赤外域用反射防止膜がえられる効果がある。 【００９７】 【００９８】 【００９９】 【０１００】 【０１０１】 【０１０２】 【０１０３】 【０１０４】 【０１０５】 【０１０６】 【０１０７】 【０１０８】 【０１０９】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の赤外域用反射防止膜の実施例の構造
を示す断面説明図である。 【図２】 本発明の赤外域用反射防止膜の一参考例の構
造を示す断面説明図である。 【図３】 本発明の赤外域用反射防止膜の別の参考例の
構造を示す断面説明図である。 【図４】 本発明の赤外域用反射防止膜の別の参考例の
構造を示す断面説明図である。 【図５】 本発明のビームスプリッタ用光学膜の一参考
例の構造を示す断面説明図である。 【図６】 本発明のビームスプリッタ用光学膜の他の参
考例の構造を示す断面説明図である。 【図７】 本発明の参考例のビームスプリッタを説明す
る図である。 【図８】 本発明の他の参考例のビームスプリッタを説
明する図である。 【図９】 本発明の赤外域用光学膜の製造に用いられる
蒸着装置の一例の断面説明図である。 【図１０】 本発明の実施例１でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１１】 本発明の実施例２でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１２】 本発明の実施例３でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１３】 本発明の実施例４でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１４】 本発明の実施例５でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１５】 本発明の実施例６でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１６】 本発明の実施例７でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１７】 本発明の参考例１でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１８】 本発明の参考例２でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１９】 本発明の参考例３でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図２０】 本発明の参考例４でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図２１】 本発明の参考例５でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２２】 本発明の参考例６でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２３】 本発明の参考例７でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２４】 本発明の参考例８でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２５】 本発明の参考例９でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２６】 本発明の参考例１０でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図２７】 本発明の参考例１１でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図２８】 本発明の参考例１２でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図２９】 本発明の参考例１３でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３０】 本発明の参考例１４でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３１】 本発明の参考例１５でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３２】 本発明の参考例１６でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３３】 本発明の参考例１７でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３４】 本発明の参考例１８でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３５】 本発明の参考例１９でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３６】 本発明の参考例２０でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３７】 本発明の参考例２１でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３８】 本発明の参考例２２でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３９】 本発明の参考例２３でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４０】 本発明の参考例２４でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４１】 本発明の参考例２５でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４２】 本発明の参考例２６でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４３】 本発明の参考例２７でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４４】 本発明の参考例２８でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４５】 本発明の参考例２９でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４６】 本発明の参考例３０でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４７】 本発明の参考例３１でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４８】 本発明の参考例３２でえられたＺｎＳを基
板とするビームスプリッタの入射角４５°の赤外線分光
反射率および分光透過率を示す図である。 【図４９】 本発明の参考例３３でえられたＺｎＳを基
板とするビームスプリッタの入射角４５°の赤外線分光
反射率および分光透過率を示す図である。 【符号の説明】 １ Ｇｅ基板、２ ＺｎＳ層、３ ＳｉまたはＧｅ層、
４ 金属酸化物層、５ 金属フッ化物層、６ ＺｎＳ基
板、７ Ｓｉ層、８ ＺｎＳｅ層、９ ＺｎＳまたはＴ
ｉＯ2層、１０ Ｙ2Ｏ3またはＳｃ2Ｏ3層、１１ Ｇｅ
層、１２ ＴｉＯ2またはＺｒＯ2層、１３ ＺｎＳ基
板、１４ ３〜５μｍ反射および８〜１２μｍ透過の光
学膜、１５ ３〜５μｍおよび８〜１２μｍの反射防止
膜、１６ 入射赤外線、１７ 基板の入射面で反射した
３〜５μｍ赤外線、１８ 透過した８〜１２μｍ赤外
線、１９ 基板の出射面で反射した赤外線、２０ ３．
５〜５μｍ透過および８〜１１μｍ反射の光学膜、２１
３．５〜５μｍおよび８〜１１μｍの反射防止膜、２
２ 基板の入射面で反射した８〜１１μｍの赤外線、２
３ 透過した３．５〜５μｍ赤外線、２４ 基板の出射
面で反射した赤外線、２５ 基板取り付けドーム、２６
基板、２７ るつぼ、２８ 回転ステージ、２９ 電
子銃、３０ 反射式光学膜厚計、３１ モニタ用ガラス
基板、３２ シャッタ、３３ 真空容器。
を示す断面説明図である。 【図２】 本発明の赤外域用反射防止膜の一参考例の構
造を示す断面説明図である。 【図３】 本発明の赤外域用反射防止膜の別の参考例の
構造を示す断面説明図である。 【図４】 本発明の赤外域用反射防止膜の別の参考例の
構造を示す断面説明図である。 【図５】 本発明のビームスプリッタ用光学膜の一参考
例の構造を示す断面説明図である。 【図６】 本発明のビームスプリッタ用光学膜の他の参
考例の構造を示す断面説明図である。 【図７】 本発明の参考例のビームスプリッタを説明す
る図である。 【図８】 本発明の他の参考例のビームスプリッタを説
明する図である。 【図９】 本発明の赤外域用光学膜の製造に用いられる
蒸着装置の一例の断面説明図である。 【図１０】 本発明の実施例１でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１１】 本発明の実施例２でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１２】 本発明の実施例３でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１３】 本発明の実施例４でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１４】 本発明の実施例５でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１５】 本発明の実施例６でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１６】 本発明の実施例７でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１７】 本発明の参考例１でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１８】 本発明の参考例２でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図１９】 本発明の参考例３でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図２０】 本発明の参考例４でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＧｅ基板の赤外線分光透過率を示す図で
ある。 【図２１】 本発明の参考例５でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２２】 本発明の参考例６でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２３】 本発明の参考例７でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２４】 本発明の参考例８でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２５】 本発明の参考例９でえられた赤外域用反射
防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す図
である。 【図２６】 本発明の参考例１０でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図２７】 本発明の参考例１１でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図２８】 本発明の参考例１２でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図２９】 本発明の参考例１３でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３０】 本発明の参考例１４でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３１】 本発明の参考例１５でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３２】 本発明の参考例１６でえられた赤外域用反
射防止膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光透過率を示す
図である。 【図３３】 本発明の参考例１７でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３４】 本発明の参考例１８でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３５】 本発明の参考例１９でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３６】 本発明の参考例２０でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３７】 本発明の参考例２１でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３８】 本発明の参考例２２でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図３９】 本発明の参考例２３でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４０】 本発明の参考例２４でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４１】 本発明の参考例２５でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４２】 本発明の参考例２６でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４３】 本発明の参考例２７でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４４】 本発明の参考例２８でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４５】 本発明の参考例２９でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４６】 本発明の参考例３０でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４７】 本発明の参考例３１でえられたビームスプ
リッタ用光学膜を有するＺｎＳ基板の赤外線分光反射率
および分光透過率を示す図である。 【図４８】 本発明の参考例３２でえられたＺｎＳを基
板とするビームスプリッタの入射角４５°の赤外線分光
反射率および分光透過率を示す図である。 【図４９】 本発明の参考例３３でえられたＺｎＳを基
板とするビームスプリッタの入射角４５°の赤外線分光
反射率および分光透過率を示す図である。 【符号の説明】 １ Ｇｅ基板、２ ＺｎＳ層、３ ＳｉまたはＧｅ層、
４ 金属酸化物層、５ 金属フッ化物層、６ ＺｎＳ基
板、７ Ｓｉ層、８ ＺｎＳｅ層、９ ＺｎＳまたはＴ
ｉＯ2層、１０ Ｙ2Ｏ3またはＳｃ2Ｏ3層、１１ Ｇｅ
層、１２ ＴｉＯ2またはＺｒＯ2層、１３ ＺｎＳ基
板、１４ ３〜５μｍ反射および８〜１２μｍ透過の光
学膜、１５ ３〜５μｍおよび８〜１２μｍの反射防止
膜、１６ 入射赤外線、１７ 基板の入射面で反射した
３〜５μｍ赤外線、１８ 透過した８〜１２μｍ赤外
線、１９ 基板の出射面で反射した赤外線、２０ ３．
５〜５μｍ透過および８〜１１μｍ反射の光学膜、２１
３．５〜５μｍおよび８〜１１μｍの反射防止膜、２
２ 基板の入射面で反射した８〜１１μｍの赤外線、２
３ 透過した３．５〜５μｍ赤外線、２４ 基板の出射
面で反射した赤外線、２５ 基板取り付けドーム、２６
基板、２７ るつぼ、２８ 回転ステージ、２９ 電
子銃、３０ 反射式光学膜厚計、３１ モニタ用ガラス
基板、３２ シャッタ、３３ 真空容器。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平１−255801（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−135401（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−221901（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−313802（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−17503（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 1/10 - 1/12
G02B 5/28
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 Ｇｅからなる基板上に形成される赤外域
用光学膜において、前記基板からの第１層目がＺｎＳ、
第２層目がＳｉまたはＧｅ、第３層目がＺｎＳ、第４層
目がＹ2Ｏ3、Ｓｃ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＴｉＯ2またはＺｒＯ
2から選ばれる金属酸化物、第５層目がＹＦ3、Ｃｅ
Ｆ3、ＣａＦ2またはクライオライト（Ｎａ3ＡｌＦ6）か
ら選ばれる金属フッ化物であることを特徴とする赤外域
用反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14192795A JP3399159B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 赤外域用光学膜および光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14192795A JP3399159B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 赤外域用光学膜および光学素子 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002262034A Division JP2003149434A (ja) | 2002-09-06 | 2002-09-06 | 赤外域用光学膜および光学素子 |
| JP2002345148A Division JP3894107B2 (ja) | 2002-11-28 | 2002-11-28 | 赤外域用反射防止膜 |
| JP2002345149A Division JP3894108B2 (ja) | 2002-11-28 | 2002-11-28 | 赤外域用反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334603A JPH08334603A (ja) | 1996-12-17 |
| JP3399159B2 true JP3399159B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=15303395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14192795A Expired - Fee Related JP3399159B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 赤外域用光学膜および光学素子 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000058884A (ja) * | 1998-06-05 | 2000-02-25 | Fujitsu Ltd | 赤外線検出器 |
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1995
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