JP4433390B2 - 反射防止膜並びにこの反射防止膜を有する光学素子及び光学系 - Google Patents
反射防止膜並びにこの反射防止膜を有する光学素子及び光学系 Download PDFInfo
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Description
Rn × Rm ≦ 0.10[%]
を満足するように構成される。
+C4y4 + C6y6 + C8y8 + C10y10 (2)
f =18.500
Bf=38.272
面番号 r d νd nd
1 ∞ 3.000 64.1 1.51680 F
2 ∞ 2.500 1.00000
3 50.76 2.500 45.3 1.79500 L1
4 19.41 7.000 1.00000
5* 44.27 0.100 55.6 1.50625 L2
6 28.81 2.000 45.3 1.79500 L3
7 22.20 8.200 1.00000
8 -121.57 1.700 44.8 1.74400 L4
9 49.85 6.800 1.00000
10 58.05 4.500 28.6 1.79504 L5
11 -149.17 28.422 1.00000
12 51.03 1.000 47.4 1.78800 L6
13 23.03 3.800 56.4 1.50137 L7
14 -54.97 5.166 1.00000
15 ∞ 1.500 8.6 1.00000 P
16 17.65 14.200 59.5 1.53996 L8
17 -27.28 1.300 45.3 1.79500 L9
18 32.29 0.700 1.00000
19 110.45 1.300 37.4 1.83400 L10
20 14.03 5.300 82.5 1.49782 L11
21 -23.36 0.100 1.00000
22 138.28 1.600 59.5 1.53996 L12
23 -138.28 1.00000
(非球面データ)
第5面
κ=5.435
C4=7.1876E-06 C6=-3.6412E-09
C8=3.9918E-11 C10=-3.3225E-14
但し、Rn : 第n番目のゴースト発生面での反射率
Rm : 第m番目のゴースト発生面での反射率
1a 第1層
1b 第2層
1c 第3層
1d 第4層
2 光学部材
10 結像光学系
L1 負メニスカスレンズ
L2 負メニスカスレンズ
Claims (7)
- 光学部材の光学面に形成されて前記光学面に入射して反射した光線を低減させる反射防止膜であって、
前記反射防止膜は、1.52の屈折率を有する前記光学部材の前記光学面に形成され、
前記光線の基準波長λを550nmとするとき、
前記光学面上に形成される屈折率が1.65で且つ光学的膜厚が0.27λの第1層と、
前記第1層上に形成され、屈折率が2.12で且つ光学的膜厚が0.07λの第2層と、
前記第2層上に形成され、屈折率が1.65で且つ光学的膜厚が0.30λの第3層と、
前記第3層上に形成され、屈折率が1.25で且つ光学的膜厚が0.26λの第4層とから構成され、
前記第1層は酸化アルミニウムを真空蒸着法で形成し、前記第2層は酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物を真空蒸着法で形成し、前記第3層は酸化アルミニウムを真空蒸着法で形成し、前記第4層はフッ化マグネシウムをゾル−ゲル法で形成したことを特徴とする反射防止膜。 - 前記光学面が平面状若しくは曲面状に形成された前記光学部材と、前記光学面に形成された請求項1に記載の反射防止膜とから構成されることを特徴とする光学素子。
- 物体と像面との間に配設された光学素子から構成され、
前記光学素子が有する光学面のうち、少なくとも1面に請求項1に記載の反射防止膜が形成されていることを特徴とする光学系。 - 複数の光学面を有して構成され、
前記光学面のうち、n番目のゴースト発生面とm番目のゴースト発生面の少なくとも一方に請求項1に記載の反射防止膜が形成され、
前記n番目のゴースト発生面での反射率をRnとし、前記m番目のゴースト発生面での反射率をRmとしたとき、次式
Rn × Rm ≦ 0.10[%]
を満足することを特徴とする光学系。 - 波長域が400nm以上700nm以下の光線に対して使用されることを特徴とする請求項3または4に記載の光学系。
- 結像光学系として用いられることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載の光学系。
- 観察光学系として用いられることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載の光学系。
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