JP2005284040A5 - - Google Patents
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- 光学部材の光学面に形成されて前記光学面に入射して反射した光線を低減させる反射防止膜であって、
前記光学面に入射する波長域が400nm以上700nm以下の前記光線に対して、
前記光線の入射角が0度以上25度以下のときは反射率が0.5%以下であり、且つ、
前記光線の入射角が0度以上60度以下のときは反射率が3.5%以下であることを特徴とする反射防止膜。 - 前記反射防止膜は、複数の層を重ね合わせて構成され、前記複数層のうち、少なくとも一層がゾル−ゲル法を用いて形成された層であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 前記ゾル−ゲル法を用いて形成された層は、前記光学部材上の前記複数層のうち最上層であることを特徴とする請求項2に記載の反射防止膜。
- 前記ゾル−ゲル法を用いて形成された層は、フッ化マグネシウムで構成されていることを特徴とする請求項2または3に記載の反射防止膜。
- ほぼ1.52の屈折率を有する前記光学部材の前記光学面に形成される反射防止膜であって、
前記光線の基準波長λを550nmとするとき、
前記光学面上に形成される屈折率がほぼ1.65で且つ光学的膜厚がほぼ0.27λの第1層と、
前記第1層上に形成され、屈折率がほぼ2.12で且つ光学的膜厚がほぼ0.07λの第2層と、
前記第2層上に形成され、屈折率がほぼ1.65で且つ光学的膜厚がほぼ0.30λの第3層と、
前記第3層上に形成され、屈折率がほぼ1.25で且つ光学的膜厚がほぼ0.26λの第4層とから構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射防止膜。 - 前記第1層は酸化アルミニウムを真空蒸着法で形成し、前記第2層は酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物を真空蒸着法で形成し、前記第3層は酸化アルミニウムを真空蒸着法で形成し、前記第4層はフッ化マグネシウムをゾル−ゲル法で形成したことを特徴とする請求項5に記載の反射防止膜。
- 前記光学面が平面状若しくは曲面状に形成された前記光学部材と、前記光学面に形成された請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止膜とから構成されることを特徴とする光学素子。
- 物体と像面との間に配設された光学素子から構成され、
前記光学素子が有する光学面のうち、少なくとも1面に請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止膜が形成されていることを特徴とする光学系。 - 複数の光学面を有して構成され、
前記光学面のうち、n番目のゴースト発生面とm番目のゴースト発生面の少なくとも一方に請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止膜が形成され、
前記n番目のゴースト発生面での反射率をRnとし、前記m番目のゴースト発生面での反射率をRmとしたとき、次式
Rn × Rm ≦ 0.10[%]
を満足することを特徴とする光学系。 - 波長域が400nm以上700nm以下の光線に対して使用されることを特徴とする請求項8または9に記載の光学系。
- 結像光学系として用いられることを特徴とする請求項8〜10のいずれか1項に記載の光学系。
- 観察光学系として用いられることを特徴とする請求項8〜10のいずれか1項に記載の光学系。
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