JP2014032330A5 - 光束分割光学素子及びデジタル一眼レフカメラ - Google Patents
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Description
本発明は、デジタル一眼レフカメラに好適な光束分割光学素子、及びそれを具備するデジタル一眼レフカメラに関する。
従って本発明の目的は、可視域で平坦な反射特性を有する光束分割光学素子を提供することである。
本発明の別の目的は、かかる光束分割光学素子を有するデジタル一眼レフカメラを提供することである。
上記課題に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、所定の高屈折率膜と低屈折率膜を少なくとも10層交互に積層することにより、可視域で平坦な反射特性を有する光束分割光学素子が得られることを発見し、本発明に想到した。
即ち、本発明の光束分割光学素子及びデジタル一眼レフカメラは以下の特徴を有している。
[1] 波長587.56 nmの光に対する屈折率nd=1.45〜1.55の光学素子基材の一面に屈折率nd=2.00〜2.40の高屈折率膜と屈折率nd=1.35〜1.50の低屈折率膜とを少なくとも10層交互に積層してなる多層膜が設けられ、前記光学素子基材に接する膜が高屈折率膜であることを特徴とする光束分割光学素子。
[2] 上記[1] に記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材はガラス基板であることを特徴とする光束分割光学素子。
[3] 上記[1] 又は[2] に記載の光束分割光学素子であって、可視光波長域380〜780 nmにおいて、ランダム偏光反射率がランダム偏光平均反射率±3%の範囲にあり、S偏光反射率がS偏光平均反射率±7%の範囲にあり、P偏光反射率がP偏光平均反射率±7%の範囲にあることを特徴とする光束分割光学素子。
[4] 上記[1]〜[3] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、ランダム偏光反射率、S偏光反射率及びP偏光反射率のCIE色度座標が白色の座標から0.007の範囲内にあることを特徴とする光束分割光学素子。
[5] 上記[1]〜[4] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、ランダム偏光平均反射率が45〜55%であることを特徴とした光束分割光学素子。
[6] 上記[1]〜[5] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、入射角45°の光束を分岐させる45°入射用光束分割光学素子であることを特徴とするハーフミラー。
[7] 上記[1]〜[6] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材側から、
1層目の高屈折率膜の光学膜厚が40〜85 nmであり、
2層目の低屈折率膜の光学膜厚が35〜130 nmであり、
3層目の高屈折率膜の光学膜厚が110〜290 nmであり、
4層目の低屈折率膜の光学膜厚が50〜130 nmであり、
5層目の高屈折率膜の光学膜厚が50〜135 nmであり、
6層目の低屈折率膜の光学膜厚が100〜215 nmであり、
7層目の高屈折率膜の光学膜厚が125〜175 nmであり、
8層目の低屈折率膜の光学膜厚が150〜215 nmであり、
9層目の高屈折率膜の光学膜厚が150〜200 nmであり、
10層目の低屈折率膜の光学膜厚が70〜115 nmであることを特徴とする光束分割光学素子。
[8] 上記[1]〜[7] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記高屈折率膜がTiO2，Nb2O5，Ta2O5，CeO2，ZrO2，HfO2，SnO2，In2O3，ZnO，ZnS，La2O3及びSb2O3からなる群から選ばれた少なくとも１材料からなり、前記低屈折率膜がNaF，CaF2，LiF，MgF2及びSiO2からなる群から選ばれた少なくとも１材料からなることを特徴とする光束分割光学素子。
[9] 上記[1]〜[8] のいずれかに記載の光束分割光学素子において、前記光学素子基材の他方の面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする光束分割光学素子。
[10] 上記[1]〜[9] のいずれかに記載の光束分割光学素子をファインダー光学系光路中に具備することを特徴とするデジタル一眼レフカメラ。
[1] 波長587.56 nmの光に対する屈折率nd=1.45〜1.55の光学素子基材の一面に屈折率nd=2.00〜2.40の高屈折率膜と屈折率nd=1.35〜1.50の低屈折率膜とを少なくとも10層交互に積層してなる多層膜が設けられ、前記光学素子基材に接する膜が高屈折率膜であることを特徴とする光束分割光学素子。
[2] 上記[1] に記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材はガラス基板であることを特徴とする光束分割光学素子。
[3] 上記[1] 又は[2] に記載の光束分割光学素子であって、可視光波長域380〜780 nmにおいて、ランダム偏光反射率がランダム偏光平均反射率±3%の範囲にあり、S偏光反射率がS偏光平均反射率±7%の範囲にあり、P偏光反射率がP偏光平均反射率±7%の範囲にあることを特徴とする光束分割光学素子。
[4] 上記[1]〜[3] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、ランダム偏光反射率、S偏光反射率及びP偏光反射率のCIE色度座標が白色の座標から0.007の範囲内にあることを特徴とする光束分割光学素子。
[5] 上記[1]〜[4] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、ランダム偏光平均反射率が45〜55%であることを特徴とした光束分割光学素子。
[6] 上記[1]〜[5] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、入射角45°の光束を分岐させる45°入射用光束分割光学素子であることを特徴とするハーフミラー。
[7] 上記[1]〜[6] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材側から、
1層目の高屈折率膜の光学膜厚が40〜85 nmであり、
2層目の低屈折率膜の光学膜厚が35〜130 nmであり、
3層目の高屈折率膜の光学膜厚が110〜290 nmであり、
4層目の低屈折率膜の光学膜厚が50〜130 nmであり、
5層目の高屈折率膜の光学膜厚が50〜135 nmであり、
6層目の低屈折率膜の光学膜厚が100〜215 nmであり、
7層目の高屈折率膜の光学膜厚が125〜175 nmであり、
8層目の低屈折率膜の光学膜厚が150〜215 nmであり、
9層目の高屈折率膜の光学膜厚が150〜200 nmであり、
10層目の低屈折率膜の光学膜厚が70〜115 nmであることを特徴とする光束分割光学素子。
[8] 上記[1]〜[7] のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記高屈折率膜がTiO2，Nb2O5，Ta2O5，CeO2，ZrO2，HfO2，SnO2，In2O3，ZnO，ZnS，La2O3及びSb2O3からなる群から選ばれた少なくとも１材料からなり、前記低屈折率膜がNaF，CaF2，LiF，MgF2及びSiO2からなる群から選ばれた少なくとも１材料からなることを特徴とする光束分割光学素子。
[9] 上記[1]〜[8] のいずれかに記載の光束分割光学素子において、前記光学素子基材の他方の面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする光束分割光学素子。
[10] 上記[1]〜[9] のいずれかに記載の光束分割光学素子をファインダー光学系光路中に具備することを特徴とするデジタル一眼レフカメラ。
本発明の光束分割光学素子は、可視域において平坦な反射特性を示すので、デジタル一眼レフカメラ等のファインダー光学系光路中に配置するのに好適である。
Claims (10)
- 波長587.56 nmの光に対する屈折率nd=1.45〜1.55の光学素子基材の一面に屈折率nd=2.00〜2.40の高屈折率膜と屈折率nd=1.35〜1.50の低屈折率膜とを少なくとも10層交互に積層してなる多層膜が設けられ、前記光学素子基材に接する膜が高屈折率膜であることを特徴とする光束分割光学素子
- 請求項１に記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材はガラス基板であることを特徴とする光束分割光学素子。
- 請求項１又は２に記載の光束分割光学素子であって、可視光波長域380〜780 nmにおいて、ランダム偏光反射率がランダム偏光平均反射率±3%の範囲にあり、S偏光反射率がS偏光平均反射率±7%の範囲にあり、P偏光反射率がP偏光平均反射率±7%の範囲にあることを特徴とする光束分割光学素子。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、ランダム偏光反射率、S偏光反射率及びP偏光反射率のCIE色度座標が白色の座標から0.007の範囲内にあることを特徴とする光束分割光学素子。
- 請求項１〜４のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、ランダム偏光平均反射率が45〜55%であることを特徴とした光束分割光学素子。
- 請求項１〜５のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、入射角45°の光束を分岐させる45°入射用光束分割光学素子であることを特徴とする光束分割光学素子。
- 請求項１〜６のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材側から、
1層目の高屈折率膜の光学膜厚が40〜85 nmであり、
2層目の低屈折率膜の光学膜厚が35〜130 nmであり、
3層目の高屈折率膜の光学膜厚が110〜290 nmであり、
4層目の低屈折率膜の光学膜厚が50〜130 nmであり、
5層目の高屈折率膜の光学膜厚が50〜135 nmであり、
6層目の低屈折率膜の光学膜厚が100〜215 nmであり、
7層目の高屈折率膜の光学膜厚が125〜175 nmであり、
8層目の低屈折率膜の光学膜厚が150〜215 nmであり、
9層目の高屈折率膜の光学膜厚が150〜200 nmであり、
10層目の低屈折率膜の光学膜厚が70〜115 nmであることを特徴とする光束分割光学素子。 - 請求項１〜７のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記高屈折率膜がTiO2，Nb2O5，Ta2O5，CeO2，ZrO2，HfO2，SnO2，In2O3，ZnO，ZnS，La2O3及びSb2O3からなる群から選ばれた少なくとも１材料からなり、前記低屈折率膜がNaF，CaF2，LiF，MgF2及びSiO2からなる群から選ばれた少なくとも１材料からなることを特徴とする光束分割光学素子。
- 請求項１〜８のいずれかに記載の光束分割光学素子であって、前記光学素子基材の他方の面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする光束分割光学素子。
- 請求項１〜９のいずれかに記載の光束分割光学素子をファインダー光学系光路中に具備することを特徴とするデジタル一眼レフカメラ。
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