JP2003098312A - 反射防止膜及び光学素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視波長域で良好な反射特性を有し、反射色
のむらの少ない反射防止膜を形成する。 【解決手段】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．４５
〜１．５０の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成であ
り、空気側から基板側へ向かって第１層、第３層及び第
５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲にある低屈折率
物質からなり、第２層、第４層及び第６層は屈折率１．
９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質からなり、か
つ、各層の光学的膜厚が以下の条件を満足することを特
徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７１２±０．０２５０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１４４３±０．０２３０）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０１９４±０．０１５２）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．４０９６±０．０３４７）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８８４±０．０１９３）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０７３９±０．０１４５）λ_０

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学ガラスなど光学
要素の表面に設けられ、その透過率を向上させるための
反射防止膜及び反射防止膜を形成した光学素子に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】光学ガラスからなるレンズやプリズムの
表面の反射特性を改善するために、光学ガラス基板上に
反射防止膜が設けられることは良く知られている。

【０００３】光学レンズ個々に対して単独で反射防止膜
を形成する場合は別として、量産を目的に反射防止膜を
形成する場合には、レンズの曲率半径あるいはレンズと
蒸発源の距離の影響を受けて、レンズを置いた場所や同
一レンズの異なる箇所によって異なった厚さの膜が形成
されることがある。そのため、レンズ内に反射防止有効
波長域のむらが生じる。

【０００４】従って、有効波長域が狭い反射防止膜の場
合、レンズ全面で同一波長域に有効な反射防止膜を一度
に多数のレンズ上に設けることはレンズ曲率がおおきく
なればなるほど、また反射防止有効波長域が狭くなれば
なるほど困難となる。この反射防止有効波長域のむら
は、レンズ内の反射色のむらを発生させ、外観品質上問
題となる場合がある。

【０００５】この問題を解決する一つの方法は、反射防
止有効波長域を広げることである。このため、特公平２
−６１００１号、同２−６１００２号、同２−６１００
３号、同２−６１００４号の各公報において開示された
６層構成の反射防止膜では、図１２に示すように、ガラ
ス基板１００上に空気側から基板側に向かって、第１層
１０１、第２層１０２、第３層１０３、第４層１０４、
第５層１０５、第６層１０６を順に積層している。そし
て、第１層、第３層及び第５層には低屈折率物質のＭｇ
Ｆ_２（屈折率＝１．３８）、第２層、第４層及び第６層
にはＺｒＴｉＯ _４（屈折率＝２．１０）、ＺｒＯ_２、Ｔ
ｉＯ_２ などの高屈折率物質を、各層の光学的膜厚が表
１８に示した膜厚になるように基板ガラスの屈折率に応
じて適切に設定することにより広帯域の反射防止膜を実
現している。

【０００６】

【表１８】

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術の反射防止膜は、可視波長域（４００〜７０
０ｎｍ）と近赤外波長域（８４０〜９００ｎｍ）の２つ
の領域の光に対して反射防止を行うようにした反射防止
膜であるため、６５０〜７００ｎｍの波長域で反射率が
１％以上となるピークが存在する。これに対し、カメラ
の撮影レンズや顕微鏡の対物レンズなど多数のレンズか
ら構成されるユニットに使用する場合には、どの一面の
反射率も可視波長域で１％以下であることが望ましい。
さらに、この従来技術の反射防止膜の色度座標を計算し
たところ、本来の膜厚における反射色はピンクである
が、膜厚が２０％薄くなった時には黄緑色へ変化する。
このため、レンズ表面に形成された膜厚にむらが生じた
場合には、反射色のむらが発生している。

【０００８】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、可視波長域で良好な反射特性
を備え、かつレンズ内の反射色のむらが少ない反射防止
膜及びこの反射防止膜を備えた光学素子を提供すること
を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明の反射防止膜は、波長４２０ｎｍに
おける反射率が１．５％以下であり、かつ波長４４０〜
６５０ｎｍの範囲内における反射率が１％以下であるこ
とを特徴とする。

【００１０】請求項２の発明は、請求項１記載の反射防
止膜であって、基板表面に反射色のむらがないことを特
徴とする。

【００１１】請求項３の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．４５〜１．５０の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ、各層の光学的膜厚が以下の条
件を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７１２±０．０２５０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１４４３±０．０２３０）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０１９４±０．０１５２）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．４０９６±０．０３４７）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８８４±０．０１９３）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０７３９±０．０１４５）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，…，６）、λ_０は可視波長域において
選択された設計波長である。

【００１２】請求項４の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．５０〜１．５５の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件
を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７３０±０．０２５０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５１０±０．０２４０）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０２１０±０．０１５５）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３９９６±０．０３８０）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８２６±０．０１７４）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０７６４±０．０２１７）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長である。

【００１３】請求項５の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．５５〜１．６０の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件
を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７８４±０．０２５４）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１６１３±０．０２１４）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０２６９±０．０１５４）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６９６±０．０４２０）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８８５±０．０７０６）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．１０９６±０．０８３０）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長である。

【００１４】請求項６の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．６０〜１．６５の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件
を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８２７±０．０２３１）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１６１５±０．０１９２）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３０８±０．０１７３）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６５４±０．０４０４）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０６５４±０．０１５４）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０８８５±０．０２８８）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長である。

【００１５】請求項７の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．６５〜１．７０の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件
を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８３０±０．０２４７）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５９７±０．０２１１）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３２４±０．０１５６）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６１９±０．０４９６）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０５７７±０．０１７３）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０８９７±０．０３５３）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長である。

【００１６】請求項８の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．７０〜１．７５の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件
を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８４７±０．０２３０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５６４±０．０２０５）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３４８±０．０１７１）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６０６±０．０５８６）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０４７８±０．０１７６）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０９１９±０．０４０８）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長である。

【００１７】請求項９の発明は、請求項１または２記載
の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が
１．７５〜１．８０の範囲にあるガラス、プラスチック
または結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構
成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって
第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０
の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及
び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈
折率物質からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件
を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８６９±０．０１８９）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５１４±０．０１９８）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３７９±０．０１５９）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６４１±０．０６０９）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０３８０±０．０１５９）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０９４７±０．０３９９）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長、

【００１８】請求項１０の発明は、請求項１または２記
載の反射防止膜であって、ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）
が１．８０〜１．８５の範囲にあるガラス、プラスチッ
クまたは結晶材料からなる基板の表面に形成された６層
構成の反射防止膜であって、空気側から基板側へ向かっ
て第１層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４
０の範囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層
及び第６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高
屈折率物質からなり、かつ、各層の光学的膜厚が以下の
条件を満足することを特徴とする。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８８１±０．０１５８）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１４７８±０．０１７６）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３９６±０．０２００）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６３４±０．０７５１）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０２７８±０．０１２６）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０９０３±０．０６１６）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
て選択された設計波長、

【００１９】請求項１１の発明は、請求項３〜１０のい
ずれかに記載の反射防止膜であって、第１層、第３層及
び第５層を構成する低屈折率物質がＭｇＦ_２であること
を特徴とする。

【００２０】請求項１２の発明は、請求項３〜１０のい
ずれかに記載の反射防止膜であって、第２層、第４層及
び第６層を構成する高屈折率物質がＺｒＯ_２ 、ＬａＴ
ｉＯ _２ 、Ｔａ_２Ｏ_５ あるいはこれらの混合物であるこ
とを特徴とする。

【００２１】請求項１３の発明の光学素子は、基板上に
請求項１〜１２のいずれかに記載の反射防止膜を形成し
たことを特徴とする。

【００２２】請求項１及び２の発明では、レンズを通過
する光量の減衰を無視でき、しかも色むらも発生せず高
い外観品質を保つことができる。

【００２３】請求項３〜１０の発明では、所定の高屈折
率物質と低屈折率物質とを所定の光学的膜厚に形成して
交互に６層積層することにより、波長４２０ｎｍにおけ
る反射率が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜
６５０ｎｍの範囲内における反射率が１％以下である反
射防止膜が得られ、カメラの撮影レンズや顕微鏡の対物
レンズのように多数のレンズを組み合わせてユニットと
して構成される場合であっても、レンズを通過する光量
の減衰を実用上無視できる。更に、色むらも発生せず高
い外観品質を保つことができる。

【００２４】請求項１１の発明では、低屈折率物質とし
てＭｇＦ_２を用いることにより、所定の屈折率を有した
膜を容易に形成でき、波長４２０ｎｍにおける反射率が
１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍ
の範囲内における反射率が１％以下である反射防止膜が
容易に得られるとともに、色むらを生じない。

【００２５】請求項１２の発明では、高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２、ＬａＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５あるいはこれら
の混合物を用いることにより、所定の屈折率を有した膜
を容易に形成でき、波長４２０ｎｍにおける反射率が
１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍ
の範囲内における反射率が１％以下である反射防止膜が
容易に得られるとともに、色むらを生じない。

【００２６】請求項１３の発明では、波長４２０ｎｍに
おける反射率が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎ
ｍ〜６５０ｎｍの範囲内における反射率が１％以下であ
るとともに、色むらを生じない光学素子が容易に得られ
る。

【００２７】

【発明の実施の形態】図１は、本発明により形成された
反射防止膜を示し、ガラス、プラスチックまたは結晶材
料から基板１が構成されている。基板の表面には、空気
側から基板１側へ向かって、第１層１１、第２層１２、
第３層１３、第４層１４、第５層１５及び第６層１６の
６層構成からなる反射防止膜が形成されている。この反
射防止膜は真空蒸着法により形成されるものである。ま
た、このように基板１上に反射防止膜を形成することに
より、レンズ、プリズム等の光学素子を作製することが
できる。以下、各実施の形態を具体的に説明する。

【００２８】（実施の形態１）表１は、実施の形態１の
反射防止膜における各層の構成材料及び光学的膜厚をで
ある。また、図２はこの実施の形態の反射防止膜の反射
率特性を測定した結果を示す。図２において、実線で示
す特性曲線ａは表１に示した膜厚における反射率特性、
破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で示す特性曲線ｃは、特
性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ１０％、２０％薄くな
ったときの反射率特性である。表２はこれらの特性曲線
ａ、ｂ、ｃに対応する膜厚における色度座標を測定した
結果を示す。

【００２９】図３は実施の形態１に対する比較例とし
て、上述した特公平２−６１００４号公報に開示された
反射防止膜の反射率特性であり、表３はその色度座標を
測定した結果である。

【００３０】図３において、特性曲線ａ’は表１８に示
す膜厚における反射率特性、特性曲線ｂ’及び特性曲線
ｃ’は特性曲線ａ’に対して膜厚がそれぞれ１０％、２
０％薄くなったときの反射率特性を示す。色度座標の測
定結果の表３におけるａ’、ｂ’及びｃ’も同様に、膜
厚が表１８に示す値のとき、１０％薄くなったとき、２
０％薄くなったときを示す。

【００３１】図２及び図３の反射率特性を比較すると、
図３では波長４２０ｎｍにおける反射率が１．５％以下
であるが、波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲で１％を
超える反射率を示す波長域が存在する。このことは反射
膜の膜厚が１０％、２０％と薄くなっても同様で、反射
率が１％を超える波長域が存在する。一方、図２から分
かるように、この実施の形態に係る反射防止膜は、波長
４２０ｎｍにおける反射率が１．５％以下であり、かつ
波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲内における反射率が
ほぼ０．５％と確実に１％以下であり、膜厚が１０％、
２０％と薄くなっても特性に大きな変化はない。

【００３２】色度座標の測定結果について説明する。図
４はＣＩＥｘｙ色度図であり、まずこのＣＩＥｘｙ色度
図について説明する。この色度図は国際照明学会により
定められたもので、図４のほぼ三角形状の直線及び曲線
で囲まれた領域の座標で全ての色は表現される。この座
標を色度座標と言う。色度座標では、例えば、純白はｘ
＝ｙ＝１／３の点になる。

【００３３】比較例の結果である表３の数値をこの色度
図にあてはめると、膜厚が薄くなって、ａ’からｂ’、
更にｃ’と変化するにつれ、その表す色がピンクから黄
色がかったピンク、更には黄緑色と変化することが分か
る。一方、この実施の形態の反射防止膜の測定結果であ
る表２からは、膜厚が薄くなってａからｂ、更にｃと変
化しても、白の領域内を遷移するだけなので大きな色の
変化はない。このことは、反射膜を蒸着する際に種々の
原因により膜厚にむらが生じても、見た目の色むらとし
ては殆ど目立たないことを意味する。

【００３４】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
の他、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独であるいはこれら
の物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。ま
た、基板の材質をガラスとしたが、これに限定されるも
のではなく、屈折率が１．４５〜１．５０の範囲であれ
ば、ガラスの他にプラスチック、結晶材料に適用でき
る。

【００３５】基板の形状も平板、レンズ、プリズム等あ
らゆる光学素子に適用可能である。さらに、反射防止膜
の形成を真空蒸着法以外のスパッタリング法、イオンプ
レーティング法等によって形成することができ、特に限
定するものではない。

【００３６】以上のように、この実施の形態に係る反射
防止膜によれば、波長４２０ｎｍでの反射率が１．５％
以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲内での
反射率が１％以下であり、また膜厚が１０％以上薄くな
るような形成むらが生じても反射色のむらが少ない反射
防止膜とすることができる。

【００３７】

【表１】

【００３８】

【表２】

【００３９】

【表３】

【００４０】（実施の形態２）実施の形態２の反射防止
膜において、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が
１．５０〜１．５５の範囲である１．５２である点と、
形成される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。
その他の点は実施の形態１と同様である。表４は、この
実施の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜
厚である。

【００４１】図５は、この実施の形態の反射防止膜の反
射率特性であり、表５はその色度座標である。図５にお
いて、実線で示す特性曲線ａは表４に示す膜厚における
反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で示す特性
曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ１０％、
２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表５の色度
座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同様に、膜厚
が表４に示す値のとき、１０％薄くなったとき、２０％
薄くなったときを示す。

【００４２】図５の反射率特性に示すように、この実施
の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射率
が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１％
以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、実
施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００４３】また、表５の色度座標に示すように、膜厚
が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の領
域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。この
ことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する際
に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の色
むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００４４】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００４５】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００４６】

【表４】

【００４７】

【表５】

【００４８】（実施の形態３）実施の形態３の反射防止
膜では、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が１．
５５〜１．６０の範囲である１．５８である点と、形成
される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。その
他の点は実施の形態１と同様である。表６は、この実施
の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜厚で
ある。

【００４９】図６は、この実施の形態の反射防止膜の反
射率特性であり、表７はその色度座標である。図５にお
いて、実線で示す特性曲線ａは表６に示す膜厚における
反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で示す特性
曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ１０％、
２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表７の色度
座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同様に、膜厚
が表６に示す値のとき、１０％薄くなったとき、２０％
薄くなったときを示す。

【００５０】図６の反射率特性に示すように、この実施
の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射率
が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１％
以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、実
施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００５１】また、表７の色度座標に示すように、膜厚
が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の領
域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。この
ことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する際
に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の色
むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００５２】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００５３】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００５４】

【表６】

【００５５】

【表７】

【００５６】（実施の形態４）実施の形態４の反射防止
膜では、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が１．
６０〜１．６５の範囲である１．６２である点と、形成
される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。その
他の点は実施の形態１と同様である。表８は、この実施
の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜厚で
ある。

【００５７】図７は、この実施の形態の反射防止膜の反
射率特性であり、表９はその色度座標である。図７にお
いて、実線で示す特性曲線ａは表８に示す膜厚における
反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で示す特性
曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ１０％、
２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表９の色度
座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同様に、膜厚
が表８に示す値のとき、１０％薄くなったとき、２０％
薄くなったときを示す。

【００５８】図７の反射率特性に示すように、この実施
の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射率
が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１％
以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、実
施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００５９】また、表９の色度座標に示すように、膜厚
が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の領
域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。この
ことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する際
に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の色
むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００６０】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００６１】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００６２】

【表８】

【００６３】

【表９】

【００６４】（実施の形態５）実施の形態５の反射防止
膜では、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が１．
６５〜１．７０の範囲である１．６６である点と、形成
される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。その
他の点は実施の形態１と同様である。表１０は、この実
施の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜厚
である。

【００６５】図８は、この実施の形態の反射防止膜の反
射率特性であり、表１１はその色度座標である。図８に
おいて、実線で示す特性曲線ａは表１０に示す膜厚にお
ける反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で示す
特性曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ１０
％、２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表１１
の色度座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同様
に、膜厚が表１０に示す値のとき、１０％薄くなったと
き、２０％薄くなったときを示す。

【００６６】図８の反射率特性に示すように、この実施
の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射率
が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１％
以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、実
施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００６７】また、表１１の色度座標に示すように、膜
厚が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の
領域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。こ
のことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する
際に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の
色むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００６８】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００６９】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００７０】

【表１０】

【００７１】

【表１１】

【００７２】（実施の形態６）実施の形態６の反射防止
膜では、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が１．
７０〜１．７５の範囲である１．７２である点と、形成
される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。その
他の点は実施の形態１と同様である。表１２は、この実
施の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜厚
である。

【００７３】図９は、この実施の形態の反射防止膜の反
射率特性であり、表１３はその色度座標である。図９に
おいて、実線で示す特性曲線ａは表１２に示す膜厚にお
ける反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で示す
特性曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ１０
％、２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表１３
の色度座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同様
に、膜厚が表１２に示す値のとき、１０％薄くなったと
き、２０％薄くなったときを示す。

【００７４】図９の反射率特性に示すように、この実施
の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射率
が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１％
以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、実
施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００７５】また、表１３の色度座標に示すように、膜
厚が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の
領域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。こ
のことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する
際に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の
色むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００７６】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００７７】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００７８】

【表１２】

【００７９】

【表１３】

【００８０】（実施の形態７）実施の形態７の反射防止
膜では、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が１．
７５〜１．８０の範囲である１．７８である点と、形成
される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。その
他の点は実施の形態１と同様である。表１４は、この実
施の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜厚
である。

【００８１】図１０は、この実施の形態の反射防止膜の
反射率特性であり、表１５はその色度座標である。図１
０において、実線で示す特性曲線ａは表１４に示す膜厚
における反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で
示す特性曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ
１０％、２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表
１５の色度座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同
様に、膜厚が表１４に示す値のとき、１０％薄くなった
とき、２０％薄くなったときを示す。

【００８２】図１０の反射率特性に示すように、この実
施の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射
率が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１
％以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、
実施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００８３】また、表１５の色度座標に示すように、膜
厚が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の
領域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。こ
のことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する
際に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の
色むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００８４】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００８５】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００８６】

【表１４】

【００８７】

【表１５】

【００８８】（実施の形態８）実施の形態８の反射防止
膜では、実施の形態１との相違点は基板の屈折率が１．
８０〜１．８５の範囲である１．８５である点と、形成
される反射防止膜の光学的膜厚が異なる点である。その
他の点は実施の形態１と同様である。表１６は、この実
施の形態の反射防止膜の各層の構成材料及び光学的膜厚
である。

【００８９】図１１は、この実施の形態の反射防止膜の
反射率特性であり、表１７はその色度座標である。図１
１において、実線で示す特性曲線ａは表１６に示す膜厚
における反射率特性、破線で示す特性曲線ｂ及び鎖線で
示す特性曲線ｃは、特性曲線ａに対して膜厚がそれぞれ
１０％、２０％薄くなったときの反射率特性を示す。表
１７の色度座標の判定結果において、ａ、ｂ及びｃも同
様に、膜厚が表１６に示す値のとき、１０％薄くなった
とき、２０％薄くなったときを示す。

【００９０】図１１の反射率特性に示すように、この実
施の形態の反射防止膜は、波長４２０ｎｍにおける反射
率が１．５％以下であり、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内における反射率がほぼ０．５％と確実に１
％以下であり、膜厚が１０％、２０％と薄くなっても、
実施の形態１と同様、特性に大きな変化はない。

【００９１】また、表１７の色度座標に示すように、膜
厚が薄くなって、ａからｂ、更にｃと変化しても、白の
領域内を遷移するだけなので大きな色の変化はない。こ
のことは実施の形態１と同様に、反射防止膜を蒸着する
際に種々の原因により膜厚にむらが生じても、見た目の
色むらとしては殆ど目立たないことを意味する。

【００９２】なお、この実施の形態では、第１層１１、
第３層１３及び第５層１５を形成する高屈折率物質とし
てＺｒＯ_２を用いたが、高屈折率物質としてはＺｒＯ_２
以外に、ＬａＴｉＯ_２、ＴａＯ_２を単独で、あるいはこ
れら物質の２種類以上を混合物にして用いてもよい。基
板の材質としては、ガラス、プラスチック、結晶材料等
に適用できるものは実施の形態１と同様である。また、
反射防止膜の形成は真空蒸着法以外に、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等を用いても良く、このこ
とも実施の形態１と同様である。

【００９３】以上のように、この実施の形態の反射防止
膜によれば、実施の形態１と同様に波長４２０ｎｍでの
反射率が１．５％以下で、かつ波長４４０ｎｍ〜６５０
ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であり、また膜厚が
１０％以上薄くなるような形成むらが生じても反射色の
むらが少ない反射防止膜とすることができる。

【００９４】

【表１６】

【００９５】

【表１７】

【００９６】

【発明の効果】請求項１及び請求項２の発明によれば、
レンズを通過する光量の減衰を無視でき、しかも色むら
も発生せず高い外観品質を保つことができる。

【００９７】請求項３〜請求項１０の発明によれば、波
長４２０ｎｍにおける反射率が１．５％以下であり、か
つ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲内における反射率
が１％以下である反射防止膜が得られ、カメラの撮影レ
ンズや顕微鏡の対物レンズのように多数のレンズを組み
合わせてユニットとして構成される場合であっても、レ
ンズを通過する光量の減衰を実用上無視できる。また、
色むらも発生せず高い外観品質を保つことができる。さ
らに、形成される膜厚が１０％以上薄くなってもこれら
の効果が失われないので、生産性に優れ、その実用的価
値は極めて高い。

【００９８】請求項１１及び請求項１２の発明によれ
ば、所定の屈折率を有した膜を容易に形成でき、しかも
波長４２０ｎｍにおける反射率が１．５％以下であり、
かつ波長４４０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲内における反射
率が１％以下である反射防止膜が容易に得られるととも
に、色むらを生じない。

【００９９】請求項１３の発明によれば、波長４２０ｎ
ｍにおける反射率が１．５％以下であり、かつ波長４４
０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲内における反射率が１％以下
であるとともに、色むらを生じない光学素子とすること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態において形成される反射防
止膜の構成を示す断面図である。

【図２】実施の形態１の反射防止膜の反射率特性を示す
特性図である。

【図３】従来の反射防止膜の反射率特性を示す特性図で
ある。

【図４】色度座標を示す座標図である。

【図５】実施の形態２の反射防止膜の反射率特性を示す
特性図である。

【図６】実施の形態３の反射防止膜の反射率特性を示す
特性図である。

【図７】実施の形態４の反射防止膜の反射率特性を示す
特性図である。

【図８】実施の形態５の反射防止膜の反射率特性を示す
特性図である。

【図９】実施の形態６の反射防止膜の反射率特性を示す
特性図である。

【図１０】実施の形態７の反射防止膜の反射率特性を示
す特性図である。

【図１１】実施の形態８の反射防止膜の反射率特性を示
す特性図である。

【図１２】従来の反射防止膜の構成を示す断面図であ
る。

フロントページの続き (72)発明者 鵜澤 邦彦 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 豊原 延好 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 和田 順雄 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 川俣 健 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA09 BB02 BB11 CC03 CC06 DD03 DD04 4F100 AA05 AA27 AG00A AK01A AR00B AR00C AR00D AR00E AT00A BA02 BA05 BA07 BA10A BA10C BA26 EH66 GB90 JN06B JN06C JN06D JN06E

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 波長４２０ｎｍにおける反射率が１．５
   ％以下であり、かつ波長４４０〜６５０ｎｍの範囲内に
   おける反射率が１％以下であることを特徴とする反射防
   止膜。
2. 【請求項２】 基板表面に反射色のむらがないことを特
   徴とする請求項１記載の反射防止膜。
3. 【請求項３】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．４５
   〜１．５０の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ、各層の光学的膜厚が以下の条件を満足
   することを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７１２±０．０２５０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１４４３±０．０２３０）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０１９４±０．０１５２）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．４０９６±０．０３４７）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８８４±０．０１９３）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０７３９±０．０１４５）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，…，６）、λ_０は可視波長域において
   選択された設計波長である。
4. 【請求項４】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．５０
   〜１．５５の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件を満足す
   ることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７３０±０．０２５０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５１０±０．０２４０）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０２１０±０．０１５５）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３９９６±０．０３８０）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８２６±０．０１７４）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０７６４±０．０２１７）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
   て選択された設計波長である。
5. 【請求項５】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．５５
   〜１．６０の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件を満足す
   ることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２７８４±０．０２５４）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１６１３±０．０２１４）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０２６９±０．０１５４）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６９６±０．０４２０）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０８８５±０．０７０６）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．１０９６±０．０８３０）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
   て選択された設計波長である。
6. 【請求項６】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．６０
   〜１．６５の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件を満足す
   ることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８２７±０．０２３１）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１６１５±０．０１９２）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３０８±０．０１７３）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６５４±０．０４０４）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０６５４±０．０１５４）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０８８５±０．０２８８）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
   て選択された設計波長である。
7. 【請求項７】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．６５
   〜１．７０の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件を満足す
   ることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８３０±０．０２４７）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５９７±０．０２１１）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３２４±０．０１５６）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６１９±０．０４９６）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０５７７±０．０１７３）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０８９７±０．０３５３）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
   て選択された設計波長である。
8. 【請求項８】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．７０
   〜１．７５の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件を満足す
   ることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８４７±０．０２３０）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５６４±０．０２０５）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３４８±０．０１７１）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６０６±０．０５８６）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０４７８±０．０１７６）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０９１９±０．０４０８）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
   て選択された設計波長である。
9. 【請求項９】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．７５
   〜１．８０の範囲にあるガラス、プラスチックまたは結
   晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反射
   防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１層、
   第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範囲に
   ある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第６層
   は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率物質
   からなり、かつ各層の光学的膜厚が以下の条件を満足す
   ることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止
   膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８６９±０．０１８９）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１５１４±０．０１９８）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３７９±０．０１５９）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６４１±０．０６０９）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０３８０±０．０１５９）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０９４７±０．０３９９）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
   ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
   厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
   て選択された設計波長、
10. 【請求項１０】 ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が１．８
    ０〜１．８５の範囲にあるガラス、プラスチックまたは
    結晶材料からなる基板の表面に形成された６層構成の反
    射防止膜であって、空気側から基板側へ向かって第１
    層、第３層及び第５層は屈折率１．３４〜１．４０の範
    囲にある低屈折率物質からなり、第２層、第４層及び第
    ６層は屈折率１．９０〜２．４０の範囲にある高屈折率
    物質からなり、かつ、各層の光学的膜厚が以下の条件を
    満足することを特徴とする請求項１または２記載の反射
    防止膜。 ｎ_１ｄ_１＝（０．２８８１±０．０１５８）λ_０ ｎ_２ｄ_２＝（０．１４７８±０．０１７６）λ_０ ｎ_３ｄ_３＝（０．０３９６±０．０２００）λ_０ ｎ_４ｄ_４＝（０．３６３４±０．０７５１）λ_０ ｎ_５ｄ_５＝（０．０２７８±０．０１２６）λ_０ ｎ_６ｄ_６＝（０．０９０３±０．０６１６）λ_０ ここで、ｎ_ｉは第ｉ層の構成物質の屈折率（ｉ＝１，
    ２，…，６）、ｎ_ｉｄ_ｉは第ｉ層の構成物質の光学的膜
    厚（ｉ＝１，２，‥・，６）、λ_０は可視波長域におい
    て選択された設計波長、
11. 【請求項１１】 第１層、第３層及び第５層を構成する
    低屈折率物質がＭｇＦ_２であることを特徴とする請求項
    ３〜１０のいずれかに記載の反射防止膜。
12. 【請求項１２】 第２層、第４層及び第６層を構成する
    高屈折率物質がＺｒＯ_２ 、ＬａＴｉＯ_２ 、Ｔａ_２Ｏ_５
    あるいはこれらの混合物であることを特徴とする請求
    項３〜１０のいずれかに記載の反射防止膜。
13. 【請求項１３】 基板上に請求項１〜１２のいずれかに
    記載の反射防止膜を形成したことを特徴とする光学素
    子。